JPS5929653A - N−ニトロソウレア誘導体 - Google Patents

N−ニトロソウレア誘導体

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Publication number
JPS5929653A
JPS5929653A JP14130782A JP14130782A JPS5929653A JP S5929653 A JPS5929653 A JP S5929653A JP 14130782 A JP14130782 A JP 14130782A JP 14130782 A JP14130782 A JP 14130782A JP S5929653 A JPS5929653 A JP S5929653A
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JP
Japan
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compound
group
general formula
lower alkyl
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP14130782A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadao Sato
佐藤 忠夫
Hitoshi Tone
利根 斉
Takashi Ueda
敬 上田
Kazuyuki Nakagawa
量之 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規なN−二トOソウレア誘導体に関する。 本発明のN−二ト0ソウレア誘導体は、下記一般式〔1
〕で表わされる。 2 〔式中R1は水素原子、アルカノイルオ十シ低級アル+
ル基、ベシゾイルオ士シ低級アル+ル基、)工二ル低級
アルケニルカルボニル才十シ低級アル+ル基、シクロ低
級アル+ルカルポニルオ十シ低級アル士ル基、低級アル
コ士ジカルボニル基又はルカノイル基を示す)を示す。 B2は水素原子及びR3は低級アル+ル基又はフェニル
基を示すか或はR2及びR3は酸素原子を介l〜もしく
は介することなく互に結合して5員もしくは6員の飽和
複素環基を形成してもよい。Xはへロゲy原子又は低級
アルカノイルオ+シ基を示す。〕 上記一般式〔1〕中R1、R2、R3及びXで定義され
る各基としては、夫々以下の各基を例示できる。 アルカノイルオ+シ低級アル+ル基としては、アセチル
オ+ジメチル、イソづチリルオ士ジメチル、2−アセチ
ルオ+ジエチル、2−アセチルオ+シづOピル、3−ア
セチルオ+シづ0ピル、4−アセチルオ士シづチル、3
−アセチルオ牛シづチル、5−アセチルオ十シベシチル
、6−アセチルオ十シヘ+シル、2−づOごオニルオ十
ジエチル、3−ホルミルオ十シラロビル、2−づチリル
オ+シづDピル、4−イソづチリルオ+シづチル、2−
ペシタノイルオ士ジエチル、tart−づチルカルボニ
ルオ十ジメチル、2−へ+サノイルオ+ジエチル、オク
タデカノイルメチル、2−へづタヂカノイルエチ)し、
l−へ十寸デカノイルエチル、べyタデカッイルメチル
、3−テトラデカノイルづOヒル、トリデカノイルメチ
ル、4−ドデカノイルづチル、ノナノイルメチル、オク
タノイルメチル、2−へづタノイルエチル基等の炭素数
1〜18のアルカノイル基を有する炭素数1〜6のアル
牛ル基を例示できる。 べ、7ソイルオ十シ低級アル+ル基としては、べ′Jジ
イルオ士レジメチル2−ベシジイルオ士ジエチル、3−
ベシジイルオ十シづ0ヒル、6−ベシソイルオ十シヘ+
シル、4−ベシジイルオ十シづチル、1.1−ジメチル
−2−ベシソイルオ十ジエチル、5−べ、7ジイルオ士
シペシチル、2−メチル−3−べ′−/ジイルオ士シづ
0ヒル基等のベシジイルオ十シ基を有する炭素数1〜6
のアル士ル基を例示できる。 フェニル低級アルケニル力ルボニルオ十シ低級アル士ル
基としては、シシナEイルオ士ジメチル、2−シシナt
イルオ士ジエチル、2−シシナ七イルオ十シづOヒル、
3−シシナ七イルオ十シづ0ピル、4−シシナtイルオ
士シづチル、3−シシナtイルオ士シづチル、5−シシ
ナ七イルオ十シベシチル、6−シシナtイルオ士シヘ士
シル、4−フェニル−3−づテノイルオ士ジメチル、2
−(4−フェニル−2−づテノイルオ牛シ)エチル、1
−(5−フェニル−4−ペシテノイルオ十シ)エチル、
3−(5−フェニル−3−ペシテノイルオ+シ)づ0ヒ
ル、(5−フェニル−2−ペシテノイルオ牛シ)メチル
、4−(6−フェニル−5−へ士セノイルオ+シ)づチ
ル、(6−フェニル−4−へ士セノイルオ十シ)メチル
、5−(6−フェニル−3−へ士セノイルオ士シ)ペシ
チル、2−(6−フェニル−2−へ+セノイルオ十シ)
エチル基等を例示できる。 シフD低級アル牛ルカルボニルオ牛シ低級アル十ル基と
しては、シフDへ+シルカルボニルオ士ジメチル、2−
シクロへ士シルカルボニルオ士ジエチル、2−シフDへ
士シルカルボニルオ十シづ0ピル、4−シフOへ士シル
カルポニルオ士シづチル、3−シクロへ士シルカルポニ
ルオ牛シラチル、5−シフOへ士シルカルボニルオ士シ
ペシチ   ル、6−シク0へ士シル力ルポニルオ十シ
ヘ士シル、2−シフ0づ[]ヒル力ルボニルオ士ジエチ
ル、3−シクロづチルカルポニルオ十シブ[]ピル、2
−シクロペシチル力ルボニルオ十シづ0ピル、4−シフ
Dへづチルカルボニルオ+シづチル、2−シクロオクチ
ル力ルボニルオ士ジエチル、シクOペシチル力ルボニル
オ士ジメチル、2−シクロヘづチルカルボニルオ十ジエ
チル基等を例示できる。 低級アルコ+ジカルボニル基としては、メト士ジカルボ
ニル、エト中ジカルボニル、づ0ポ士ジカルボニル、イ
ソづ0ポ+ジカルボニル、づト士ジカルボニル、tar
t−づト十ジカルボニル、ペンチルオ士ジカルボニル、
へ士シルオ+ジカルボニル基等を例示できる。 低級アルカノイル基としては、ホルミル、アセチル、づ
0ヒオニル、づチリル、イソづチリル、ペシタノイル、
tart−づチルカルボニル、へ士すノイル基等を例示
できる。 低級アル士ル基としては、メチル、エチル、づOじル、
イソ″JjOヒル、づチル、tert−づチル、ペシチ
ル、へ士シル基等を例示できる。 R2とR3とが酸素原子を介しもしくは介することなく
互に結合して形成し得る5員もしくは6員の飽和複素環
基としては、ヒ0リジニル、ヒペリジニル、モルホリノ
基等を例示できる。 へ0ゲシ原子としては弗素、塩素、臭素及び沃素原子を
例示できる。 低級アルカノイルオ+シ基としては、ホルミルオ+シ、
アtチルオ十シ、づOe′オニルオ士シ、づチリルオ+
シ、イソづチリルオ士シ、ペシタノイルオ士シ、ter
t−づチルカルボニルオ士シ、へ+サノイルオ+シ基等
を例示できる。 本発明の上記一般式〔]〕で表わされる誘導体は、制ガ
シ作用を有し、制カシ剤として有用である。 一般にN−ニトロソウレア型の制カシ剤は、生体内で生
成するイソシアナートのために毒性が強いが、本発明の
誘導体はこのイソシアナートを分子内でトラップするた
め、低毒性で、特に遅延型骨髄毒性が少ないという特徴
を有している。また本発明誘導体は持続時間が長く、化
合物自体安定で製剤化が容易であるという利点をも有し
ている。 以下本発明誘導体の製造方法につき詳述する。 本発明誘導体は、例えば下記反応行程式−1に示す方法
により製造される。 〔反応行程式−I〕 1 J?2             B2[2〕[11 〔式中R1、R2、R3及びXは前記に同じ。〕一般式
〔2〕の化合物のニド0ソ化反応には、通常のN−ニド
Oソ化反応に採用される条件を広く採用することができ
る。該反応は、例えば適当な溶媒中、酸又は塩基性化合
物の存在下でニトロソ化剤を使用して実施することがで
きる。使用される溶媒としては、ニドOソ化反応に慣用
されるもの、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
づロバノール等の低級アルコール類;ジグ00メタシ、
クロロホルム、ジグ00エタン、四塩化炭素等のハOJ
fシ化炭化水素類;酢酸等の脂肪族カルボン酸類;無水
酢酸等の脂肪族酸無水物類;ピリジル、士ノリシ等の芳
香族アミシ類等を例示できる。使用される酸としては、
例えば塩酸、硝酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸類:酢酸
、蟻酸等の有機酸類を例示できる。使用される塩基性化
合物としては、例えばピリジル、十ノリシ、酢酸ナトリ
ウム等の有機塩基及び炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩基を
例示できる。使用されるニトロソ化剤としては、亜硝酸
ナトリウム、亜硝酸カリウム等のアルカリ金属の亜硝酸
塩、N2O3、N2O4等の窒素酸化物、ニドDシルク
0ライド等を例示できる。反応温度としては、通常−6
0℃〜15℃付近、好ましくは一20℃〜7℃付近を採
用でき、反応は5分〜16時間で終了する。ニトロソ化
剤の使用割合としては、一般式〔2〕の化合物に対して
等tル〜犬過剰量、好ましくは3倍モル〜25倍七ル量
とされる。酸又は塩基の使用量は、一般式〔2〕の化合
物に対して少なくとも等モル量、好ましくは大過剰量と
するのがよい。また上記反応行程式−1に示す反応にお
いて、出発原料としてXがへロゲシ原子である一般式〔
2〕の化合物を用いる場合、上記ニド日ソ化反応と同時
に置換反応が生起し、Xがへ0ゲシ原子である一般式〔
1〕の本発明誘導体と共に、Xが低級アルカノイルオ士
シ基である一般式〔1〕の本発明誘導体も副生ずる場合
がある。 上記において出発原料とする一般式〔2〕の化合物は、
新規な化合物を含み、これらは例えば下記反応行程式−
2に示す方法に従い製造することができる。 〔反応行程式−2〕 〔3〕〔2〕 〔式中R1、R2及びR3は前記に同じ。Xlはへロゲ
シ原子を示す。〕 一般式〔3〕の化合物と、一般式〔4〕のイソシアナー
ト化合物との反応は、適当な溶媒中で行なわれる。溶媒
としては、反応に悪影響を与えないものであればいずれ
も使用でき、例えば塩化メチレジ、り0ロホルム、1.
2− ’;り00エタシ、四塩化炭素等のへ0ゲン化炭
化水素類;べ、7ゼシ、トルエン、+シレシ等の芳香族
炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒト0フラジ、
ジオ十サシ、1.2−ジメト士シエタシ、ジクライム、
トリクライム等のエーテル類;酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類; N、N−ジメチルホルムアミド、N
−メチルビ0リドシ、ジメチルホルホ+シト、へ十すメ
チルリシ酸トリアミド等の非’10)シ性極性溶媒等を
例示できる。一般式〔3〕の化合物に対する一般式〔4
〕のイソシアナート化合物の使用量は、特に限定されず
広い範囲から適宜選択するととができるが、通常少なく
とも等モル量、好ましくけ等tルー1.5倍七ル量用い
るのがよい。反応は通常0〜50℃、好ましくは室温付
近で進行し、約1〜20時間で完結する。 上記において出発原料とする一般式〔3〕の化合物は、
一部に新規化合物を包含しており、これらは例えば下記
反応行程式−3及び−4に示す方法に従い製造すること
ができる。 〔反応行程式−3〕 [:51              C7]
〔9〕 3−NH CH−A−OR” 2 〔3α〕 〔式中X1、R2及びR3は前記に同じ。R5は)工二
ル低級アル+ルオ十ジカルボニル基、Aは低級アル士レ
ジ基及びR6は低級アルカノイル基、ベシジイル基、フ
ェニル低級アルケニルカルボニル基又はシフ0アル+ル
カルボニル基を夫々示す。〕一般式〔5〕の化合物と一
般式〔6〕の化合物との反応は、適当な溶媒中、塩基性
化合物の存在下で行なうことができる。使用される溶媒
としては、反応に悪影響を与えない各種のもの、例えば
メタノール、エタノール、イソづ0パノール、づタノー
ル等のアルコール類;塩化メチレジ、りOOホルム、1
,2−ジクOOエタシ、四塩化炭素等のへ〇ゲシ化炭化
水素類;ジエチルエーテル、1,2−ジメト+シエタシ
1.;クライム、トリづライム、テトラヒドロフラン、
ジオ士サン等のエーテル類;べ、7+!ン、トルニジ、
+シレシ等の芳香族炭化水素類:酢酸メチル、酢酸エチ
ル等のエステル類; N、N−ジメチルホルムアミド、
N−メチルビ0リドシ、ジメチルスルホ+シト、へ+サ
メチルリシ酸トリア三ド等の非うロトシ性極性溶媒;ピ
リジシ、アセトυ、アセトニトリル等を例示できる。 塩基性化合物としては、例えばトリメチルア三シ、トリ
エチルアミン、トリづロヒルアミシ、N、N−ジメチル
アニリシ、ヒリジシ、ビペリジシ、4−ジメチルアミノ
ヒリジシ、N−メチル七ルポリシ、1.5−ジアザピシ
クOC4,3,0]]ノネンー5DBN)、1.5−ジ
アザピシクO〔5,今、0〕ウシヂセシ−5(DEU)
、1,4−ジアザビシクロ〔2゜2.2〕オクタy(D
ABCO)等の有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、炭酸銀等の無機塩基の他、ナトリウムメチラ
ート、ナトリウムエチラート等のアルコラード等を例示
できる。一般式〔5〕の化合物に対する一般式〔6〕の
化合物の使用割合は、特に限定されず適宜に選択できる
が、一般に前者に対して後者を少なくとも等t JL、
量、好ましくけ等七ル〜2倍七ル量とすればよい。塩基
性化合物の使用割合としては、一般式〔5〕の化合物に
対して、通常等tル〜10倍モル量、好ましくは等tル
ー5倍モル量を採用できる。反応は一般に一30℃〜1
80℃、好ましくはO℃〜150℃にて、5分〜30時
間を要して行表われる。 一般式〔7〕の化合物と一般式〔8α〕又は〔8b〕の
化合物との反応は、適当な溶媒中又は溶媒の不存在下、
塩基性化合物の存在下に行なうことができる。塩基性化
合物としては前記一般式〔5〕の化合物と一般式〔6〕
の化合物との反応において例示したものと同様のものを
いずれも使用できる。溶媒としては、例えばアセトシ、
メチルエチルケトン等のケトン類:エーテル、ご才子サ
ン等のエーテル類;ベシt!シ、トルニジ、士シLJ′
J等の芳香族炭化水素類;水、ヒリジシ等を例示できる
。一般式〔7〕の化合物に対する一般式〔8α〕又は〔
8h〕の化合物の使用割合は、通常少なくとも等モル量
、一般Kld等モル〜太過剰量とされる。反応は0〜1
50℃で進行するが、好ましくは0〜80℃で行なわれ
、0.5〜10時間程時間路了する。 上記で得られる一般式
〔9〕の化合物の脱フェニル低級
アル士ルオ十ジカルボニル反応は、通常の接触還元条件
下に行なわれる。具体的には、例えば水、メタノール、
エタノール、イソづロバノール等の低級アルコール類;
ジオ十サシ、テトラしドロフラジ等のエーテル類;酢酸
又はこれらの混合溶媒等の適当な溶媒中、パラジウム炭
素、パラジウム黒等の接触還元触媒の存在下に、o℃〜
100℃付近にて、水素圧1〜10気圧で、0.5〜3
時間程度を要して実施される。 カくシて一般式〔3α〕の化合物を得る。これは通常の
分離操作により単離するか又は単離することなく前記反
応行程式−2の出発原料とすることができる。 〔反応行程式−4〕 〔7〕 〔11〕 〔3b〕 〔式中R2、R3、R1″、R5、A及びXlは前記に
同じ。〕 一般式〔7〕の化合物と一般式〔IO3の化合物との反
応は、へDゲン受容体及び乾燥剤の存在下に追補な溶媒
中で実施される。用いられるへロゲシ受容体としては、
炭酸銀、過塩素酸銀、酸化銀等の銀塩、ジアジ化第二水
銀、塩化第二水銀等の水銀塩、塩化アルミニウム、塩化
亜鉛、塩化第二鉄、塩化第二錫、三臭化硼素、三弗化硼
素等のルイス酸等を例示できる。乾燥剤としては、硫酸
カルシウム、硫酸マクネシウム、硫酸ナトリウム、モし
+ニラーシーづ等を例示でき、之等のうちで硫酸カルシ
ウムやモレ士ニラーシーづ等は短時間に水分を吸収する
ため好ましい。溶媒としては、反応に悪影響を与えない
各種のもの、例えば前記一般式〔5〕の化合物と一般式
〔6〕の化合物との反応において例示したものと同様の
ものを使用できる。 一般式〔7〕の化合物に対する一般式〔lO〕の化合物
の使用割合は、通常少カくとも等fル量、好ましくけ等
七ル〜1.5倍tル量とするのがよい。ハo)fシ受容
体の使用割合は、一般式〔7〕の化合物に対して通常少
なくとも触媒量、好ましくは触媒量〜2倍七ル量とすれ
ばよい。また乾燥剤は、通常一般式〔7〕の化合物に対
して大過剰量使用するのが望ましい。反応温度は約0〜
50℃、好ましくは室温付近とされ、反応は約10〜2
0時間で終了する。 一般式〔11〕の化合物の脱フェニル低級アル士ルオ+
ジカルボニル反応は、前記一般式
〔9〕の化合物のそれ
と同様の操作及び反応条件下に行なうことができる。 かぐして得られる一般式〔3h〕の化合物は、前記一般
式〔3α〕の化合物と同様に、反応系より常法に従い単
離するか又は単離すること寿ぐ、反応行程式−2の出発
原料として用いることができる。 かくして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、希釈法、再結晶法
、カラムタロマドクラフィー、づレバラテイづ薄層りO
マドクラフィー等を例示できる。 尚、本発明は光学異性体も当然に包含するものである。 以下に、参考例及び実施例を挙げる。 参考例 l N−カルボベンツ士シーN−メチル−N−(2−ア七ト
士ジエチル)アミル2.21S’をジオ+サン3QTn
/に溶解し、10%パラジウム炭素0.302を加え、
室温攪拌下に接触還元した。触媒を沢去し、ろ液にβ−
りDロエチルイソシアナート0.93fを加え、室温で
2時間放置した。溶媒を減圧下、40℃以下で留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマドクラフィーで精製して
、1−(2−クロロエチル)−3−(2−アセ1士ジエ
チル)−3−メチルウレア1.52?を得た。油状物質
。 該化合物の生成は下記赤外線吸収スペクトル(IR)分
析及び核磁気共鳴スペクトル(NMR)分析より同定さ
れた。 IRνrrtax (ルCαt+m)。 3370、l735.1640.153ONMRδPp
77L (CDC13) :5.35 (hr、?、 
I H、−NH−)4.15(t、2H8J=4H2,
−CH2−0−AC)3.40〜3.70C襠、6H) 2.92 (& 、 3H,N−CH3’)2.04(
& 、3H、CH3CO−)参考例1と同様にして、適
渦な出発原料より以下の各化合物を得た。 01−(#−(2−りOOエチル)カルバtイル〕−2
−メト+シカルボニルピロリジシ IRシフ7L(Zjc (”ate Cm−1) :3
360.1740.1640.154ONMRδppm
 (CDCl2) : 5.33 (hr、!?、IH,−ff−)1 4.30〜4.60 (m 、 IH,ンN−CH−C
oo )3.73 (JP、 311 、0CH3)3
.00〜3.90 (m 、 6H、−NHCbCH,
CL 。 1.80〜2.50(m、4H,ヒ0す、;シ環)○I
 −CN−(2−りDロエチル)カルバ七イル〕−2−
ペンリイルオ士シメチルピペリジシIRνmax (n
eat 、 crnl ) 。 3350、+710,1620.152ONMRδpp
オ(CDC13) ニ ア、90〜8.07 (m 、 2H、芳香環)7.2
3〜7.63 Cm 、 3H,芳香環)5.28 (
br、?、 I H、−NH−)2.77−3.13 
(m 、 IH,;N−Cll−CH20CO−)1.
40〜2.00 (m 、 6H,eペリ、;シ環)0
1−4A’−(2−り0[]エチル)カルバ七イル〕−
2−シンナtイルオ士シメチルヒペリ、;シIRνma
jc(rL6αt 、 cm−” ) :3350.1
710.+640.+630,1535NMRappm
 (CDCl2) ニ ア−66(d、 IH,J=I 5Hz 、−CH=C
H−)7.10〜7.67 (m 、 5H,芳香環)
6.38(d、IH,J=I5H1,−CH=CH−)
5.27 (、? 、 211 、−0−CH2−ph
 )3.28〜3.77 (m、 4H,−NH−cH
2CH2C1)2.56〜3.06 (m 、 IH,
ンy−crt−)1.20〜2.07 (m 、6H,
ピペリジン環)01−(JV−(2−りOOエチル)カ
ルバtイル〕−2−オクタヂカノイルオ士シメチルピペ
リジシ IRνma、2:(rLeatIc−In−1):33
80.1740.1620.+535NMRδpp□(
CDCl2) : 5.22 (hrs 、 I H、−NH−)3.47
〜3.70 (m、 4H,−Nll−cH2C112
C1)2.60−3.06(m、 IH,ンN−CH−
0−)2.29(t、2H1J=6H2,−〇〇−CH
2−)1.30〜2.00 (m 、6H,ピペリジン
環)1.23 (hrs 、 30 H、−(CH2)
□5CH3)C)、87 < t 、 3H,J=6H
2、−(CH2)□5crr3)01−[#−(2−り
00エチル)カルバ七イル〕−2−アtト+シメチルヒ
ベリジシ IRν□。(neat + cm−’ ) :3360
.1735.+625,153ONMRδpPnL(C
DC13): 5.27 (hrs 、 I H、−NH−)3.77
〜4.53 (m 、 4H)3.37〜3.73 (
−4H、−NHCl72CH2C1)2.60〜3.0
0 (m 、 I H,ンN−CH−0−)2.03 
(、? 、 3H、−COCH3)1.17〜1.90
 (m、6H,ピペリジン環)IRvmax(rLea
tlcrrl−1):3370.1735.1630.
1535NMRappm (CDC13) ’ 5.30 (hrs 、 l H、−NU −)3.3
7〜3.77 (m 、 4H、−nHcH2cH2C
t )2.57〜3.06 (m −I H、>N−C
H−0−)2.29(t、2H9J=7Hz、−〇〇C
H2−)1.94 (t 、 3H,J=7Hz 、−
(CH2)2CH3)1.30〜2.00 (m 、 
8H、ヒペリ、;シ環及び−Co −CH2CH2CH
3) 01− [#−(2−りoc+エチル)カルバ七イル〕
−2−イソづチリルオ士シメチルピペリジシIRシフ’
n(Lf (neQi 、 tyn”−1) :336
0.1735.1630.1535NMRδpprn 
(cnct3) :5.31 (hr、?、 I H、
−NH−)3.40〜3.70 (yl! 、 4H,
−NHCH2CH2C1)1− 2.60〜3.00 (m 、 l H、′:N−CH
−0−)2−30〜2.73 (rn、 、 l H、
−CH(CH3’)2)1.47〜2.00 (m 、
 6H、ヒペリジシ環)1、+5 (d、61:T、J
=lHz、−CH(CH3)2)01−[#−(2−ク
ロロエチル)カルバモイル〕−2−シクロへ士シルカル
ボニルオ士シメチルピペリジシ IRシー” (KBr+ Cm−1) :3360.1
725.1620.1535NMRapprn (CD
Cl2) :。 5.27 (hr、?、 I H、、−ff−)3、3
7〜3.77 (yx 、 4H,−NHCH2CH2
CL )2.57〜3..+o < m 、 1g 、
 >n−1:g−o−)2.02〜2.53 (m 、
 lx 、 H′)C))+、oo −2,o6(m、
 16g、シクロへ士シル環及びヒペリジシ環) ○1−(2−クロロエチル)−3−フェニル−3−(2
−アセト+ジエチル)ウレア IRνITL(L3c(rLeat+ (1n ’ )
 :3390.1735.1660.152ONMRδ
pp□(CDC13) ニ ア、15〜7.53(m、 5H,芳香環)4.67 
(hrs 、 I H、−NH−)4.18 (t、2
 H、J−5Hz 、CH2−OAc )3.90(t
、2H1J=5Hz、7N−CH2−)3.30〜3.
67 (m、 4H,−NHCH2CH2CL )1.
92 (J 、 3H、−COCH3)参考例 2 1−カルボベシソ士シー2−しドロ+シメチルピペリジ
シ5.28F、炭酸銀8.78?、過塩素酸銀0.21
?、硫酸マジネシウム241及びジグ00メタン+50
−の混合物を遮光して、2時間攪拌した。この混合物に
アセトプロ上クルコース10.74 fを加え、更に室
温で15時間攪拌した。 不溶物を炉去後、炉液を減圧濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマドクラフィー(溶出液;り00ホ
ルム:メタノ−+1/=t60:l)で精製して、l−
カルボベシジ士シー2−β−D−テトラアセチルグルコ
ピラノシルオ士シメチルピぺり、:;、75.55rを
得た。無色油状物。 IRνnL、、、 (ngat 、 c’m−1) :
1755.1745.170O NMRδpPnL(CDCl2)ニ ア、28 (& 、 5H,芳香環) 2.04 、1.99 、1.97 (s 、 12H,−ocoCH3) 1.23〜l1−83C,6H,ヒペリジシ環)参考例
 3 1−カルボベ′Jす+シー2−β−D−テトラアセチル
クルコヒラノシルオ士ジメチルピペリジン3、12 F
をジオ牛サシ60Tnlに溶解し、5チパラジウム炭素
0160fを加え、室温、攪拌下に1時間接触還元した
。その後溶液にβ−り00エチルイソシアナート0.5
7Fを加え、更に室温で15時間放置した。触媒を炉去
し、ろ液を40℃以下で減圧濃縮した。得られた残渣を
シリカゲルカラムク0マドクラフイー(溶出液;クロロ
ホルム:メタノール−160:I)で精製して、I−[
:A’−(2−り00エチル)カルバ七イル〕−2−β
−D−テトラアセチルジルコピラノシルオ士シメチルヒ
ベリジン2.17fを得た。 IRvm。(フィルム(CH2C22)゛、cm ’ 
) :3420.1755.1745.1630.15
3ONMRapprn (CDCl2) :4.49 
(d 、 J=7.5H1、1’4)4.77〜5.3
0C屏、 4H、2’−H、3’−H。 4’−H,5’4) 2.0? 、 2.02 、2.00 、1..98(
s −12H,0COCH3) 1.33〜1.90Cm、6H,ヒペリジン環)参考例
2及び3と同様にして、適姥な出発原料より以下の各化
合物を得た。 0l−(2−900エチル)−3−メチル−3−β−D
−クルコヒラノシルオ士ジエチルウレアIRνmax 
(neat 、 cml ) :3350.1630.
1540 01−(2−り00エチル)−3−メチル−3−β−D
−テトラアセチルグルコごラノシルオ士ジエチルウレア I Rl’−cL、2.(ne(Lt 、 (ypH−
1) :3420.1740.1630.152ONM
Rδppm、(CDC13) ’ 4.83〜5.+3 Cm、 4H,糖環2’−H。 3’−H,4’−H、5’−1 4,48(d−、IH,J=7.5H1,I’−H)4
.10〜4.23 (m 、  2H,6’−H)2.
88 (s 、 3H,y−CH,)2、12 、2.
02 、2.00 、1.98(z 、 12g、−c
ocx3) 実施例 1 l−(2−り0ロエチル)−3−(2−アセト十ジエチ
ル)−3−メチルウレア1.52Fを99%蟻酸]01
nlに溶解し、それに水冷攪拌下、亜硝酸ナトリウム1
.9Ofを含む水溶液20mを滴下した。0℃で2時間
攪拌後、反応液をジクロロメタンで抽出し、飽和食塩水
で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、室温で減圧留去
して、1−(2−クOOエチル)−3−(2−ア七ト士
ジエチル)=3−メチル−1−ニトロソウレア0.60
fを得た。 油状物質 JR2m(1,2,(”a、tp 0n−1) ’。 1735.1695.148O NMRδppm (CDCl2) : 4−32 (t、 J=3.8Hz 、 2H1−y(
No) −CH2−) 4.08(t、J=4.0H2,2H9−cH2oAc
)3.74 (t 、 J=3.8H2、2H,−CH
2C1)3.55 (t 、J=4.OH1,2H,−
N(CH3)CH2−)3.17 (J 、 3H,N
−CH5)2.04 (# 、 3 H、CH3CO−
)実施例1と同様にして、適当な出発原料より下記各化
合物を得た。 01−[#−ニドOソーN−(2−り00エチル)カル
バモイル〕−2−メト士シカルポニルピロリジシ IRシ17L(lz (n”tp Cm−1) :17
40.164O NMRδppm (CDCl2) : 4.33〜4.72 (m 、 I H、>N −CH
−)4.02(t、2H2J=6H2,−N(NO)−
〇H2−)3.77 (、? 、 3H、−0CH3)
3.41(t、2H9J=6H2,−CH2Cl)1.
70〜2.40(m、4H,ピ0す”tシ環)01− 
CN−ニトロソ−N−(2−り00エチJL、)カルバ
七イル〕−2−ベシソイルオ士シメチルヒペリ、l;シ NMRδpP、、 (CDC13) ニア、83〜8.
03 (m 、 2H、芳香環)7.30−7.53 
(m 、 3H,芳香環)3.46 (t、2 H、J
−6Hz −CH2Cl )1.50〜2tIO(m、
6H,ごペリジシ環)01−[#−、T、トUJ’)−
N−(2−り00エチル)カルバtイル〕−2−シシナ
tイルオ十シメチルヒベリジシ  ゛ IRνmax (”at、 cPn−1) :+710
,1690.1640.1495NMRδpp□(CD
C13) ニ ア、62 (d 、 IH,J=15J7z、 −CH
=CH−)7.07〜7.60 (n 、 5H、芳香
環)6.32 (d 、 I H,J=15Hz 、 
−CII=CH−)4.03(t、2H1J=6Hz、
−N(NO)−〇H2−)1.40〜2.00(m、6
H,ごペリジシ環)3.52 (t、2 H、J =6
 Hz −−CH2Cl )01− [#−ニド0ソー
N−(2−り[]’[1エチル)カルバ七イル〕−2−
オクタヂカノイルオ十ジメチルピペリ、l;シ JR’ma:r:(ルCαt+ Crn  1)  :
1740.1690.1495 NAfRδppm (CDCl2) :4.11(t、
2H,J=6Hz、 −#(Nの一〇H2−)3.59
(t、2H9J=6H2,−CH2C4)3.02〜3
.47 < m 、 1g、 >y−cm−CH2CH
2)2.29(t、2H1J−6H2,−〇−CH2−
)1 1.30〜2.10(m、6H,ピペリジシ環)1 、
26 (hrs 、 30H,−(CH2)15CH3
)0.89 (t 、 3H,J= 6H2、−(CH
2)□5C1へ)01−[#−ニトロソーN−(2−ク
ロロエチル)カルバtイル〕−2−アtト十シメチルピ
ペリジシ IRν□。(”cttr Crn−’ ) :1740
.1690.1495 NMRδpp工(cnct3) : 3.77〜4.80 (m 、4H) 4.07(t、2H1J=6H2,−N(NO)−CH
2−)3.54 (t 、 2H,J = 6H2、−
CH2CH2C1)3.00〜3.44 (m、 IH
,ンN−CH−CH20Ac )2.00 (5,3H
、CH3CO−)1.40〜1.93 (771、6H
、ヒペリジシ環)ol−〔N−ニド0ソーN−(2−ク
ロ0エチル)カルバ七イル〕−2−づチリルオ士シメチ
ルピペリジシ IRνm(zx(”” a Crn−’ ) ”173
5.1690.1495 NMRδppm (CDC13) 4.05(t、2H1J=6H2,−N(NO)−CH
2−)3.53 (’ 、2H、J−6Hz −−〇H
2cZ )2.94〜3.40 (m、 IH,ンN−
CH−CH20Ac)2.23(t、2H1J=7H2
,−〇〇CH2)1.40〜1.90 (m 、 8H
,ごペリジシ環及び−CH2CH2CH3) 0.90 (t 、 3H,J=7H1、−CH2CH
3)01−[#−ニド0ソーN−(2−クロロエチル)
カルt<、 ’Eイル〕−2−イソっ子ルオ+シメチル
ヒペリジシ J R’77L、ZJ (ne(Lt 、 crn’ 
) :1735.1690.149O NMRδppm (CDC43) : 4.03 (t、2 H、/ 〜6 Hz 、# (N
O) −CH2)3.53 (t 、 2H,J=6H
1、−CH2C1)2.90〜3.43 (71L、 
IH,ンN−Cl1CH20Ac )2.23〜2.7
0 (m、 IH,−CH(CH3)2)1.40〜1
.90 (771,6H,ピペリジシ環)1、 II 
(d 、 6H,J= 7H1、−CH(CH3)2)
ol−〔N−ニド0ソーN−(2−り00エチル)カル
バ七イル〕−2−シク0へ士シルカルボニルオ士シメチ
ルヒペリジシ IRν  (rLaat 、 cm−’ ) ”ax 1735.1695.1495 NMRδppm (CDC13) : 4.05(t、2H2J=6H2,−N(NO)−CH
2−)3.53 (t−2H−7−6Hz 、−CH2
CZ )2.90〜3.43 (77L71 H−ンN
 −CIIC’H2OAc )2.00〜2.53(m
、 IH,、>○)1.00〜2.06(7N、16H
,シフ0へ士tン及びピペリジシ環) 01=(2−りOOエチル)−3−フェニル−3−(2
−アセトキジエチル)−1−ニド0ソウレア IRνmar (neat 、 、、−1) 。 1740.1695.1495 NMRδpp□(cnct3) 7.03〜7.43 (m 、 5H、芳香環)4.3
3 (t 、 2H,J= 5Hz 、 −C112−
OAc )4−13 (’ −2H1/ 〜5 Hz 
、; N−CH2−)4−02 (t= 2H、/ 〜
6 Hz −−N(NO) CH;a  )3.43(
t、2H2J=6H2,−CH2C1)1.94 (g
 、 3g 、 −cocg、 )実施例 2 1−(#−(2−クロ0エチル)カルバtイル〕−2−
β−D−テトラアtチルクルコピラノシルオ士シメチル
ヒペリジシ0.66Fを氷酢酸2ゴ及び無水酢酸10m
1に溶解し、水冷下撹拌しながら、亜硝酸ナトリウム3
.02を2.5時間の間に数回に分けて添加した。添加
終了後、0℃で更に5時間攪拌し、反応液を氷水中に移
し、ジクロ0メタシで抽出した。抽出液を飽和食塩水、
飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去後、残渣をシリカ
ゲルカラムク0マドタラフイー(溶出液:り00ホルム
)で精製して、l−[#−ニトロソーN−(2−りOロ
エチル)カルバ七イル]−2−β−D−テトラアセチル
クルコヒラノシルオ士シメチルヒペリ、;yo、36り
及び1−〔N−二ト0ソーN−(2−アセト+ジエチル
)カルバtイル〕−2−β−D−テトラアセチルクルコ
ピラノシルオ士ジメチルピペリジ>O,18Fとを得た
。之等各化合物はいずれも油状物質であシ、下記JR分
析、NMR分析及び旋光度測定により同定された。 01− [#−ニド(1’/−#−(2−りOO工1L
)カルバ七イル]−2−β−D−テトラアセチルタルコ
ごラノシルオ士シメチルビペリジシIRνmax(フィ
ルム、 CH2Ct2t cm−’ ) :1760.
1750.1695、I495NMRδPpm(CDC
l2): 4.80〜5.30(m、4H,2’−H,3’−H。 4’−H,5’−1 4,49(d、 IH,J=7.5Hz 、 I’−H
)3.53 (’ 、2 H−1−6Hz 、 −CH
2CZ )2.80〜3.40 (m 、 IH,ンN
−CH−CH2O−)2.07 、2.02 、2.0
0 、1.97(s 、 12H,−ococx、 )
1.37〜1.97 (m、6H,ピペリジシ環)〔α
’:1.=−15y2°(C= 1.23 、 CHC
l3〕01−CM−ニトロソ−N−(2−アセト+ジエ
チル)カルバ七イル〕−2−β−D−テトラアセチルク
ルコピラノシルオ士シメチルピペリジシ 11?  νmar (”αt、cm)。 1760.1740.1695.149ONMRδpp
m(CDCl3): 4.77〜5.37 (m、 4H,2’−H,3’−
H。 4’−H,5’−H) 2.07 、2.02 、1.98 (s= 、 15
H,0COCH3)1.33〜2.00(m、6H,ピ
ベリジシ環)〔α:]ニア= −13,8°(C=o、
96 、 crrct3)実施例2と同様にして、適当
な出発原料より、下記各化合物を得た。 0l−(2−りOoエチル)−3−メチル−3−β−D
−タル]ピラノシルオ牛ジニジエチル−二トOソウレア I RJ’、C3:(neat 、 cnl−1) :
3360、1695、1495 NMRδppm(CDC23): 4.31 (d 、 ] H,J= 7.5Hz 、 
I’−H)4.02(t、2H9J−6H2,−N(N
O)−〇H2−)3.60 (’ = 2 H、/ =
6 Hz 、 −CH2Cl )〔α)25−−11.
 I’ (C=3.0 、メタノール)0l−(2−り
00エチル)−3−メチル−3−β−D−テトラアセチ
ルグルコピラノシルオ士ジニジエチル−二トDソウレア IRνrnax (xBr 、 cWl−1) :17
60.1745.1695.1495融点:131〜1
33℃ 無色プリズム状晶 [α)ニア=−5,0°(C= 1.Q 、 CHCL
3)NMRリpm(CDC13): 4.83〜5.20 (m 、 4H、2’−H、3’
−H。 4’−H,5’4) 4.48 (d 、 LM、 J= 7.5 Hz 、
 t’−H)4.10〜4.23Cm、2H,6’4)
4.07 (t−2H、J−6Hz 、−N(#O) 
−CH2−)3.53(t、2H1J−6H2,−CH
2Cl)3.12 (St 3H,;N−CH5)2.
05 、2.00 、1.98 (、?、 12H,−
COCH3)(以 上)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ■ 一般式 〔式中R1は水素原子、アルカノイルオ+シ低級アル+
    ル基、ベシジイルオ士シ低級アル中ル基、フェニル低級
    アルケニル力ルボニルオ十シ低級アル士ル基、シフ0低
    級アル+ルカルポニルオ士シ低級アル+ル基、低級アル
    コ+シカルボニ子又は低級アルカノイル基を示す)を示
    す。R2は水素原子及びR3は低級アル+ル基又はフェ
    ニル基を示すか或はR2及びR3は酸素原子を介しもし
    くは介することなく互に結合して5員も[7くは6員の
    飽和複素環基を形成してもよい。XはハO)f′XJ原
    子又は低級アルカノイルオ十シ基を示す。〕 で表わされることを特徴とするN−二トDソウレア誘導
    体。
JP14130782A 1982-08-13 1982-08-13 N−ニトロソウレア誘導体 Pending JPS5929653A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53130621A (en) * 1977-04-20 1978-11-14 Meiji Seika Kaisha Ltd Stabilization of nitrosourea compound
JPS5427526A (en) * 1977-07-29 1979-03-01 Tanabe Seiyaku Co Ltd Nitrosourea compounds and their preparation
JPS5448717A (en) * 1977-09-22 1979-04-17 Tanabe Seiyaku Co Ltd Nitrosourea compounds and their preparation

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