JPS5932949B2 - 撮像装置 - Google Patents
撮像装置Info
- Publication number
- JPS5932949B2 JPS5932949B2 JP54078694A JP7869479A JPS5932949B2 JP S5932949 B2 JPS5932949 B2 JP S5932949B2 JP 54078694 A JP54078694 A JP 54078694A JP 7869479 A JP7869479 A JP 7869479A JP S5932949 B2 JPS5932949 B2 JP S5932949B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- light receiving
- amorphous silicon
- imaging device
- silicon layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
- H04N1/028—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
- H04N1/03—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up with photodetectors arranged in a substantially linear array
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はファクシミリ装置に適用して好適な撮像装置に
関する。
関する。
従来、ファクシミリ装置に適用し得る撮像装置として、
受光素子が単結晶シリコンを用いて構成されているとい
う撮像装置、受光素子が多結晶セレンを用いて構成され
ているという撮像装置、受光素子が無定形セレンを用い
て構成されているという撮像装置が提案されている。
受光素子が単結晶シリコンを用いて構成されているとい
う撮像装置、受光素子が多結晶セレンを用いて構成され
ているという撮像装置、受光素子が無定形セレンを用い
て構成されているという撮像装置が提案されている。
然し乍ら受光素子が単結晶シリコンを用いて構成されて
いるという撮像装置の場合、受光素子を、光学的画像情
報が光学的手段を用いて縮小投影される必要なしに投影
されるに十分な受光面積を有するものとして得るのが困
難であり、この為光学的画像情報を受光素子に投影する
につきその光学的画像情報を縮小投影する為の光学的手
段が不可欠であり、依つてその分撮像装置全体としての
構成が大型、複雑、高価となる欠点を有していた。
いるという撮像装置の場合、受光素子を、光学的画像情
報が光学的手段を用いて縮小投影される必要なしに投影
されるに十分な受光面積を有するものとして得るのが困
難であり、この為光学的画像情報を受光素子に投影する
につきその光学的画像情報を縮小投影する為の光学的手
段が不可欠であり、依つてその分撮像装置全体としての
構成が大型、複雑、高価となる欠点を有していた。
又受光素子が多結晶セレンを用いて構成されているとい
う撮像装置の場合、受光素子が単結晶シリコンを用いて
構成されているという撮像装置につき上述せる欠点はこ
れを回避し得るも、受光素子が多結晶セレンを用いて構
成されているが故にその受光素子を作動せしめるにつき
それに対するバイアス電源を要し、その分撮像装置全体
としての構成が大型、複雑、高価となると共に、受光素
子が多結晶セレンを用いて構成されているが故に感度が
不十分であるという欠点を有していた。更に受光素子が
無定形セレンを用いて構成されているという撮像装置の
場合、受光素子が多結晶セレンを用いて構成されている
という撮像装置の場合と同様に受光素子が単結晶シリコ
ンを用いて構成されている撮像装置につき上述せる欠点
はこれを回避し得、又受光素子が多結晶セレンを用いて
構成されているという撮像装置につき上述せる感度が不
十分であるという欠点もこれを回避し得るも、受光素子
が無定形セレンを用いて構成されているが故に受光素子
が多結晶セレンを用いて構成されているという撮像装置
につき上述せるバイアス電源を要するということに基く
欠点と同様の欠点を有すると共に、受光素子が無定形セ
レンを用いて構成され、そしてその無定形セレンが60
〜7『C程度の比較的低い温度で結晶化するが故に、使
用温度の限界が低過ぎるという欠点を有していた。叙上
に鑑み本発明者等は種々の実験の結果、撮像装置に用い
られる受光素子が相対向する電極間に無定形シリコン層
を用いてPN接合を形成せしめてなる構成を有する場合
、その受光素子が無定形シリコンを用いて構成されてい
るが故に、受光素子が単結晶シリコンを用いて構成され
ている撮像装置、受光素子が多結晶セレンを用いて構成
されている撮像装置、受光素子が無定形セレンを用いて
構成されている撮像装置につき上述せる欠点のない撮像
装置を得ることが出来ることを確認するに到つた。
う撮像装置の場合、受光素子が単結晶シリコンを用いて
構成されているという撮像装置につき上述せる欠点はこ
れを回避し得るも、受光素子が多結晶セレンを用いて構
成されているが故にその受光素子を作動せしめるにつき
それに対するバイアス電源を要し、その分撮像装置全体
としての構成が大型、複雑、高価となると共に、受光素
子が多結晶セレンを用いて構成されているが故に感度が
不十分であるという欠点を有していた。更に受光素子が
無定形セレンを用いて構成されているという撮像装置の
場合、受光素子が多結晶セレンを用いて構成されている
という撮像装置の場合と同様に受光素子が単結晶シリコ
ンを用いて構成されている撮像装置につき上述せる欠点
はこれを回避し得、又受光素子が多結晶セレンを用いて
構成されているという撮像装置につき上述せる感度が不
十分であるという欠点もこれを回避し得るも、受光素子
が無定形セレンを用いて構成されているが故に受光素子
が多結晶セレンを用いて構成されているという撮像装置
につき上述せるバイアス電源を要するということに基く
欠点と同様の欠点を有すると共に、受光素子が無定形セ
レンを用いて構成され、そしてその無定形セレンが60
〜7『C程度の比較的低い温度で結晶化するが故に、使
用温度の限界が低過ぎるという欠点を有していた。叙上
に鑑み本発明者等は種々の実験の結果、撮像装置に用い
られる受光素子が相対向する電極間に無定形シリコン層
を用いてPN接合を形成せしめてなる構成を有する場合
、その受光素子が無定形シリコンを用いて構成されてい
るが故に、受光素子が単結晶シリコンを用いて構成され
ている撮像装置、受光素子が多結晶セレンを用いて構成
されている撮像装置、受光素子が無定形セレンを用いて
構成されている撮像装置につき上述せる欠点のない撮像
装置を得ることが出来ることを確認するに到つた。
依つて此処に本発明を提案するに到つたもので、以下図
面を伴なつて詳述する所より明らかとなるであろう。
面を伴なつて詳述する所より明らかとなるであろう。
第1図は本発明による撮像装置に適用される受光板の原
理的な一例を示し、全体として符号1で示され、例えば
ガラスでなる透光性基板2上に、例えば酸化インジニウ
ム系、酸化錫系の材料でなる層状乃至膜状の透明電極3
、P型の無定形シリコン層4、i型の無定形シリコン層
5、N型の無定形シリコン層6、及び例えばアルミニウ
ムでなる電極7がそれ等の順に順次積層されてなる構成
を有する受光素子の複数N個Ml,M2・・・・・・M
Nを一次元的に又は二次元的に順次並置配列せしめてな
る構成を有する。
理的な一例を示し、全体として符号1で示され、例えば
ガラスでなる透光性基板2上に、例えば酸化インジニウ
ム系、酸化錫系の材料でなる層状乃至膜状の透明電極3
、P型の無定形シリコン層4、i型の無定形シリコン層
5、N型の無定形シリコン層6、及び例えばアルミニウ
ムでなる電極7がそれ等の順に順次積層されてなる構成
を有する受光素子の複数N個Ml,M2・・・・・・M
Nを一次元的に又は二次元的に順次並置配列せしめてな
る構成を有する。
実際上斯る受光板1は、基板2の主面上に透明電極3の
複数N個を一次元的に又は二次元的に並置配夕1ルて形
成せしめ、次に斯く主面上に複数N個の透明電極3を形
成せしめてなる基板2を硼化水素を3%程度、シランを
10%程度含む減圧された第1のアルゴン雰囲気内に3
00℃程度の温度に加熱せしめて配した状態で、その第
1のアルゴン雰囲気でのグロー放電を得ることによつて
、基板2の主面上に複数N個の透明電極3を覆つて爾后
無定形シリコン層4となるP型無定形シリコン層を積層
形成せしめ、次に第1のアルゴン雰囲気をシランを10
%程度含む減圧された第2のアルゴン雰囲気に代え、そ
の第2のアルゴン雰囲気でのグロー放電を得ることによ
つてP型無定形シリコン層上に爾后無定形シリコン層5
となるi型無定形シリコン層を積層形成せしめ、次に第
2のアルゴン雰囲気を燐化水素を3%程度、シランを1
0%程度含む減圧された第3のアルゴン雰囲気に代え、
その第3のアルゴン雰囲気でのグロー放電を得ることに
よつてi型無定形シリコン層上に爾后無定形シリコン層
6となるN型無定形シリコン層を積層形成せしめ、次に
斯く基板2の主面上に複数N個の透明電極を覆つて積層
形成されたP型無定形シリコン層、i型無定形シリコン
層及びN型無定形シリコン層による積層体に対する例え
ばHF−HNO3−CH3COOH系エツチヤントを用
いたエツチング処理によつて複数N個の透明電極3の夫
々上にP型の無定形シリコン層4、1型の無定形シリコ
ン層5及びN型の無定形シリコン層6による積層体を形
成せしめてなる構成を得、次にその積層体を構成せる無
定形シリコン層6上に電極7を附してなる構成を得るこ
とによつて得ることが出来るものである。
複数N個を一次元的に又は二次元的に並置配夕1ルて形
成せしめ、次に斯く主面上に複数N個の透明電極3を形
成せしめてなる基板2を硼化水素を3%程度、シランを
10%程度含む減圧された第1のアルゴン雰囲気内に3
00℃程度の温度に加熱せしめて配した状態で、その第
1のアルゴン雰囲気でのグロー放電を得ることによつて
、基板2の主面上に複数N個の透明電極3を覆つて爾后
無定形シリコン層4となるP型無定形シリコン層を積層
形成せしめ、次に第1のアルゴン雰囲気をシランを10
%程度含む減圧された第2のアルゴン雰囲気に代え、そ
の第2のアルゴン雰囲気でのグロー放電を得ることによ
つてP型無定形シリコン層上に爾后無定形シリコン層5
となるi型無定形シリコン層を積層形成せしめ、次に第
2のアルゴン雰囲気を燐化水素を3%程度、シランを1
0%程度含む減圧された第3のアルゴン雰囲気に代え、
その第3のアルゴン雰囲気でのグロー放電を得ることに
よつてi型無定形シリコン層上に爾后無定形シリコン層
6となるN型無定形シリコン層を積層形成せしめ、次に
斯く基板2の主面上に複数N個の透明電極を覆つて積層
形成されたP型無定形シリコン層、i型無定形シリコン
層及びN型無定形シリコン層による積層体に対する例え
ばHF−HNO3−CH3COOH系エツチヤントを用
いたエツチング処理によつて複数N個の透明電極3の夫
々上にP型の無定形シリコン層4、1型の無定形シリコ
ン層5及びN型の無定形シリコン層6による積層体を形
成せしめてなる構成を得、次にその積層体を構成せる無
定形シリコン層6上に電極7を附してなる構成を得るこ
とによつて得ることが出来るものである。
以上にて本発明に適用される受光板の原理的一例構成が
明らかとなつたが、斯る受光板1の受光素子Mi(1−
1,2・・・・・・N)は、それが電極3、P型無定形
シリコン層4、i型無定形シリコン層5、N型無定形シ
リコン層6及び電極7のそれ等の順に積層されてなる構
成を有し、従つて電極3及び7間に無定形シリコン層を
用いてPN接合(厳密にはPiN接合)を形成せしめて
なる構成を有することにより、等価的にみて点線図示の
如く電極3及び7間に接続されている容量Ciを内部に
有するものである。
明らかとなつたが、斯る受光板1の受光素子Mi(1−
1,2・・・・・・N)は、それが電極3、P型無定形
シリコン層4、i型無定形シリコン層5、N型無定形シ
リコン層6及び電極7のそれ等の順に積層されてなる構
成を有し、従つて電極3及び7間に無定形シリコン層を
用いてPN接合(厳密にはPiN接合)を形成せしめて
なる構成を有することにより、等価的にみて点線図示の
如く電極3及び7間に接続されている容量Ciを内部に
有するものである。
又受光板1の受光素子Miはそれが電極3及び7間に無
定形シリコン層を用いてPN接合を形成せしめてなる構
成を有することにより、電極3及び7間でみて、光の入
射が全くない場合は、第2図にて曲線Aに示す如き、電
圧Vの値が零である場合電流1の値が零を採り、又これ
より電圧Vの値が正方向の電圧Vaとなる迄の間に於て
はその電圧Vの値が正方向に大となつても電流1の値は
大とならず実質的に零を採り、然し乍らこれより電圧V
の値が正方向に大となれば電流1の値が急激に大となる
値を採り、更に電圧Vの値が零より負方向に大となれば
これに応じて電流1の値が十分小なる値ではあるが徐徐
に負方向に大となる値を採るという電圧V一電流1特性
を呈するも、光の人射がある場合は、第2図にて曲線B
に示す如き、電圧Vの値が零である場合電流1の値が負
方向の比較的大なる値−1bを採り、又これより電圧V
の値が正方向に大となればこれに応じて電流の値が正方
向に比較的急激に大となる値をとり、そして電流の値が
零の場合電圧Vの値がVaに近い値Vbを採るという電
圧V一電流1特性を呈するものである。従つて受光素子
M1はそれに基板2側から外部よりの光の人射を受けた
場合、その受光素子Miの電極3及び7間に、バイアス
電源を接続する要なしに、電極3及び7間に入射された
光の量に応じた起電力を発生するものである。以上にて
本発明に適用し得る受光板の原理的一例が明らかとなつ
たが、本発明の一例は斯る第1図にて上述せる受光板1
を用いた第3図にて以下述べる構成を有するものである
。
定形シリコン層を用いてPN接合を形成せしめてなる構
成を有することにより、電極3及び7間でみて、光の入
射が全くない場合は、第2図にて曲線Aに示す如き、電
圧Vの値が零である場合電流1の値が零を採り、又これ
より電圧Vの値が正方向の電圧Vaとなる迄の間に於て
はその電圧Vの値が正方向に大となつても電流1の値は
大とならず実質的に零を採り、然し乍らこれより電圧V
の値が正方向に大となれば電流1の値が急激に大となる
値を採り、更に電圧Vの値が零より負方向に大となれば
これに応じて電流1の値が十分小なる値ではあるが徐徐
に負方向に大となる値を採るという電圧V一電流1特性
を呈するも、光の人射がある場合は、第2図にて曲線B
に示す如き、電圧Vの値が零である場合電流1の値が負
方向の比較的大なる値−1bを採り、又これより電圧V
の値が正方向に大となればこれに応じて電流の値が正方
向に比較的急激に大となる値をとり、そして電流の値が
零の場合電圧Vの値がVaに近い値Vbを採るという電
圧V一電流1特性を呈するものである。従つて受光素子
M1はそれに基板2側から外部よりの光の人射を受けた
場合、その受光素子Miの電極3及び7間に、バイアス
電源を接続する要なしに、電極3及び7間に入射された
光の量に応じた起電力を発生するものである。以上にて
本発明に適用し得る受光板の原理的一例が明らかとなつ
たが、本発明の一例は斯る第1図にて上述せる受光板1
を用いた第3図にて以下述べる構成を有するものである
。
則ち第1図及び第2図にて上述せる受光板1を有し、而
してその受光素子Ml,M2・・・・・・MNの電極7
が例えばMOS電界効果トランジスタ8を以つて構成せ
る複数N個のスイツチ素子Ql,Q2・・・・・・QN
を夫々通じてそれ等に共通の画像情報処理回路10の一
方の入力端11aに到る出力線9aに接続され、又受光
素子Ml,M2・・・・・・MNの電極3がそれ等に共
通の画像情報処理回路10の他方の入力端11bに到る
出力線9bに接続され、方複数N個の出力端子Tl,T
2・・・・・・TNを有し、それ等出力端子Tl,T2
・・・・・・TNにて順次走査用パルスPl,P2・・
・・・・PNが得られる様になされたそれ自体は公知の
走査用パルス発生回路12を有し、而してスイツチ素子
Ql,Q2・・・・・・QNが走査用パルス発生回路1
2の出力端子Tl,T2・・・・・・TNより順次得ら
れる走査用パルスPl,P2・・・・・・PNにて順次
開閉制御される様になされている。
してその受光素子Ml,M2・・・・・・MNの電極7
が例えばMOS電界効果トランジスタ8を以つて構成せ
る複数N個のスイツチ素子Ql,Q2・・・・・・QN
を夫々通じてそれ等に共通の画像情報処理回路10の一
方の入力端11aに到る出力線9aに接続され、又受光
素子Ml,M2・・・・・・MNの電極3がそれ等に共
通の画像情報処理回路10の他方の入力端11bに到る
出力線9bに接続され、方複数N個の出力端子Tl,T
2・・・・・・TNを有し、それ等出力端子Tl,T2
・・・・・・TNにて順次走査用パルスPl,P2・・
・・・・PNが得られる様になされたそれ自体は公知の
走査用パルス発生回路12を有し、而してスイツチ素子
Ql,Q2・・・・・・QNが走査用パルス発生回路1
2の出力端子Tl,T2・・・・・・TNより順次得ら
れる走査用パルスPl,P2・・・・・・PNにて順次
開閉制御される様になされている。
以上が本発明による撮像装置の一例構成であるが、斯る
構成によれば、その受光板1に対しその基板2側より光
学的画像情報Lを投影せしめ、従つて受光素子Miに光
学的画像情報Lを構成せる光学的画素情報Liを投影せ
しめれば、受光素子Miの電極3及び7間に光学的画素
情報Liの光量に応じた起電力が発生し、これが電気的
画素情報Siとして受光素子Miの容量Ciに充電され
て得られるものである。従つて斯る状態が得られた后(
実際上は光学的画像情報Lを受光板1に投影せしめて后
僅かな時間を経た后)走査用パルス発生回路12の出力
端子Tl,T2・・・・・・TNより順次走査用パルス
Pl,P2・・・・・・PNを得れば、出力線9a及び
9b間に順次電気的画素情報Sl,S2・・・・・・S
Nが得られ、而してこれ等順次に得られる電気的画素情
報Sl,S2・・・・・・SNが受光板1に投影された
光学的画像情報Lを表わす電気的時系列画像情報Sとし
て画像情報処理回路10に供給されるものである。依つ
て第3図にて上述せる撮像装置によれば、撮像装置とし
ての機能が得られるものであるが、この場合受光板1を
構成せる受光素子Miが単結晶シリコン、多結晶セレン
、及び無定形セレンの何れでもない無定形シリコンを用
いて構成されているので、その受光板1を、光学的画像
隋報Lが光学的手段を用いて縮小投影される必要なしに
投影されるに十分な大なる受光面積を有するものとして
得ることが容易であり、この為光学的画像情報Lを受光
板1に投影するにつきその光学的画像情報Lを縮小投影
する為の光学的手段を必ずしも要さず、依つて撮像装置
全体を簡易、小型、廉価に構成し得るものである。
構成によれば、その受光板1に対しその基板2側より光
学的画像情報Lを投影せしめ、従つて受光素子Miに光
学的画像情報Lを構成せる光学的画素情報Liを投影せ
しめれば、受光素子Miの電極3及び7間に光学的画素
情報Liの光量に応じた起電力が発生し、これが電気的
画素情報Siとして受光素子Miの容量Ciに充電され
て得られるものである。従つて斯る状態が得られた后(
実際上は光学的画像情報Lを受光板1に投影せしめて后
僅かな時間を経た后)走査用パルス発生回路12の出力
端子Tl,T2・・・・・・TNより順次走査用パルス
Pl,P2・・・・・・PNを得れば、出力線9a及び
9b間に順次電気的画素情報Sl,S2・・・・・・S
Nが得られ、而してこれ等順次に得られる電気的画素情
報Sl,S2・・・・・・SNが受光板1に投影された
光学的画像情報Lを表わす電気的時系列画像情報Sとし
て画像情報処理回路10に供給されるものである。依つ
て第3図にて上述せる撮像装置によれば、撮像装置とし
ての機能が得られるものであるが、この場合受光板1を
構成せる受光素子Miが単結晶シリコン、多結晶セレン
、及び無定形セレンの何れでもない無定形シリコンを用
いて構成されているので、その受光板1を、光学的画像
隋報Lが光学的手段を用いて縮小投影される必要なしに
投影されるに十分な大なる受光面積を有するものとして
得ることが容易であり、この為光学的画像情報Lを受光
板1に投影するにつきその光学的画像情報Lを縮小投影
する為の光学的手段を必ずしも要さず、依つて撮像装置
全体を簡易、小型、廉価に構成し得るものである。
又受光板1を構成せる受光素子M1が無定形シリコンを
用いて構成され、そしてそれがバイアス電源を要さずし
て作動するので、受光板1より時系列画像情報Sを得る
につきそれに対するバイアス電源を別途要しないもので
ある。更に受光素子Miが無定形シリコンを用いて構成
され、そしてその受光素子Miで得られる起電力が、受
光素子が単結晶シリコン又は多結晶セレン若しくは無定
形セレンを用いて構成されている場合に比し格段的に大
であるので、受光板1より得られる時系列画像情報Sが
十分高い感度を以つて得られることとなるものである。
又受光素子Miが無定形シリコンを用いて構成され、そ
してその受光素子Miが比較的高い温度が与えられても
S/N良く作動するので、受光板1より得られる時系列
画像情報Sが比較的高い使用温度でもS/N良く得られ
る等の大なる特徴を有するものである。依つて上述せる
本発明による撮像装置はこれをフアクシミリ装置に適用
して好適なものである。
用いて構成され、そしてそれがバイアス電源を要さずし
て作動するので、受光板1より時系列画像情報Sを得る
につきそれに対するバイアス電源を別途要しないもので
ある。更に受光素子Miが無定形シリコンを用いて構成
され、そしてその受光素子Miで得られる起電力が、受
光素子が単結晶シリコン又は多結晶セレン若しくは無定
形セレンを用いて構成されている場合に比し格段的に大
であるので、受光板1より得られる時系列画像情報Sが
十分高い感度を以つて得られることとなるものである。
又受光素子Miが無定形シリコンを用いて構成され、そ
してその受光素子Miが比較的高い温度が与えられても
S/N良く作動するので、受光板1より得られる時系列
画像情報Sが比較的高い使用温度でもS/N良く得られ
る等の大なる特徴を有するものである。依つて上述せる
本発明による撮像装置はこれをフアクシミリ装置に適用
して好適なものである。
尚上述に於ては本発明の一例を示したに留まり、詳細説
明はこれを省略するも、受光板1の受光素子Ml,M2
・・・・・・MNの電極3及び7間に夫々容量素子Fl
,F2・・・・・・FNを接続し、依つて受光素子Mi
の電極3及び7間に内部容量Ciによる容量と容量素子
F1による容量とによる内部容量Ciの容量に比し大な
る容量を接続せる構成とし、受光素子Miにて得られる
電気的画素情報Siを大なる電力を有するものとして得
る様になすことも出来るものである。又例えば第3図に
て上述せる構成に於てその受光板1の基板2及び受光素
子M1の電極3が透光性を有するものであるに代え、受
光素子Miの電極7を透光性を有するものとし、之に応
じて光学的画像情報Lを受光板1にその基板2側とは反
対側より投影する様になすことも出来、又受光素子Mi
をi型無定形シリコン層5を有さず電極3及び7間にP
型無定形シリコン層4及びN型無定形シリコン層6のみ
が存するという構成とすることも出来、更にある場合は
受光素子M1を電極3及び7間にP型無定形シリコン層
4、i型無定形シリコン層5及びN型無定形シリコン層
6の積層体の複数が積層されて存するという構成として
前述せる場合に比し大なる起電力の得られる様にするこ
とも出来、その他本発明の精神を脱することなしに種々
の変型変更をなし得るであろう。
明はこれを省略するも、受光板1の受光素子Ml,M2
・・・・・・MNの電極3及び7間に夫々容量素子Fl
,F2・・・・・・FNを接続し、依つて受光素子Mi
の電極3及び7間に内部容量Ciによる容量と容量素子
F1による容量とによる内部容量Ciの容量に比し大な
る容量を接続せる構成とし、受光素子Miにて得られる
電気的画素情報Siを大なる電力を有するものとして得
る様になすことも出来るものである。又例えば第3図に
て上述せる構成に於てその受光板1の基板2及び受光素
子M1の電極3が透光性を有するものであるに代え、受
光素子Miの電極7を透光性を有するものとし、之に応
じて光学的画像情報Lを受光板1にその基板2側とは反
対側より投影する様になすことも出来、又受光素子Mi
をi型無定形シリコン層5を有さず電極3及び7間にP
型無定形シリコン層4及びN型無定形シリコン層6のみ
が存するという構成とすることも出来、更にある場合は
受光素子M1を電極3及び7間にP型無定形シリコン層
4、i型無定形シリコン層5及びN型無定形シリコン層
6の積層体の複数が積層されて存するという構成として
前述せる場合に比し大なる起電力の得られる様にするこ
とも出来、その他本発明の精神を脱することなしに種々
の変型変更をなし得るであろう。
第1図は本発明による撮像装置に適用し得る受光板の一
例を示す路線的側面図、第2図はその受光素子の電圧V
一電流1特性を示す曲線図、第3図は第1図に示す受光
板を用いた本発明による撮像装置の一例を示す系統図で
ある。 図中1は受光板、2は基板、M1〜MNは受光素子、3
及びTCま電極、4はP型無定形シリコン層、5はi型
無定形シリコン層、6はN型無定形シリコン層、C1〜
CNは容量、8はMOS電界効果トランジスタ、Q1〜
QNはスイツチ素子、10は画像情報処理回路、12は
走査用パルス発生回路、F1〜FNは容量素子を夫々示
す。
例を示す路線的側面図、第2図はその受光素子の電圧V
一電流1特性を示す曲線図、第3図は第1図に示す受光
板を用いた本発明による撮像装置の一例を示す系統図で
ある。 図中1は受光板、2は基板、M1〜MNは受光素子、3
及びTCま電極、4はP型無定形シリコン層、5はi型
無定形シリコン層、6はN型無定形シリコン層、C1〜
CNは容量、8はMOS電界効果トランジスタ、Q1〜
QNはスイツチ素子、10は画像情報処理回路、12は
走査用パルス発生回路、F1〜FNは容量素子を夫々示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板上に相対向する電極間に無定形シリコン層を用
いてPN接合を形成せしめてなる受光素子の複数を並置
配列せしめてなる光学的画像情報の投影される受光板を
有し、該受光板の複数の受光素子が複数のスイッチ素子
を夫々通じてそれ等に共通の出力線に接続され、上記受
光板の複数の受光素子に対するバイアス電源を要するこ
となしに上記複数のスイッチ素子を順次開閉制御せしめ
ることにより上記出力線にて上記光学的画像情報を表わ
す電気的時系列画像情報が得られる様になされた事を特
徴とする撮像装置。 2 特許請求の範囲第1項所載の撮像装置に於て、上記
受光板の複数の受光素子と並列関係に複数の容量素子が
夫々接続されてなる事を特徴とする撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54078694A JPS5932949B2 (ja) | 1979-06-22 | 1979-06-22 | 撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54078694A JPS5932949B2 (ja) | 1979-06-22 | 1979-06-22 | 撮像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS562784A JPS562784A (en) | 1981-01-13 |
| JPS5932949B2 true JPS5932949B2 (ja) | 1984-08-11 |
Family
ID=13668966
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54078694A Expired JPS5932949B2 (ja) | 1979-06-22 | 1979-06-22 | 撮像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932949B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58125865A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 感光装置 |
| JPS58125867A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 色センサ− |
| JPS58125866A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 色センサ− |
| JPS58125868A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-07-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 色センサ− |
| JPS59177964A (ja) * | 1983-03-28 | 1984-10-08 | Fujitsu Ltd | イメ−ジ・センサ |
| JPS60161664A (ja) * | 1984-02-01 | 1985-08-23 | Sharp Corp | 密着型二次元画像読取装置 |
| EP0698817A1 (en) | 1994-08-22 | 1996-02-28 | Agfa-Gevaert N.V. | Assortment of silver halide photographic industrial X-ray films and method of processing said assortment |
-
1979
- 1979-06-22 JP JP54078694A patent/JPS5932949B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS562784A (en) | 1981-01-13 |
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