JPS593681B2 - パタ−ン検査方式 - Google Patents
パタ−ン検査方式Info
- Publication number
- JPS593681B2 JPS593681B2 JP53133610A JP13361078A JPS593681B2 JP S593681 B2 JPS593681 B2 JP S593681B2 JP 53133610 A JP53133610 A JP 53133610A JP 13361078 A JP13361078 A JP 13361078A JP S593681 B2 JPS593681 B2 JP S593681B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- inspected
- inspection method
- edge signal
- read
- Prior art date
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- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/10—Image acquisition
- G06V10/12—Details of acquisition arrangements; Constructional details thereof
-
- G—PHYSICS
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- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/10—Image acquisition
- G06V10/12—Details of acquisition arrangements; Constructional details thereof
- G06V10/14—Optical characteristics of the device performing the acquisition or on the illumination arrangements
- G06V10/145—Illumination specially adapted for pattern recognition, e.g. using gratings
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリント板フォトマスク等のパターン検査方式
に関する。
に関する。
一般にプリント板は、フォトレジストを施した銅張基板
にプリント板パターンを有するフォトマスクを密着して
露光した後、エッチング処理等を経て完成する。
にプリント板パターンを有するフォトマスクを密着して
露光した後、エッチング処理等を経て完成する。
従つて１枚のフォトマスクを基に多数のプリント板が作
成される場合があり、完成したフォトマスクが所定のパ
ターン形状およびパターン幅を有しているか否かを検査
する作業は重要である。
成される場合があり、完成したフォトマスクが所定のパ
ターン形状およびパターン幅を有しているか否かを検査
する作業は重要である。
従来、このようなフォトマスクの検査は顕微鏡等を使用
して人手による方法で行つており、また光で走査してパ
ターン形状を２値化信号に変換して記憶装置に読込み、
自動検査する方法も試みられているが、全て自動的に判
別する事はむずかしく、限定されたパターン形状のみに
限られている。つまり第、図に示すようなプリント板パ
ターンを検査する場合に、リード１部の線幅、またはラ
ンド２の大きさが規定値になつているか否か測長しなけ
ればならないが、リードが走つている方向を自動的に判
別して常に、そのリードが走つている方向に直角な方向
でリード線幅を測長する事ができなかつた。本発明の目
的は、被検査試料のパターン面を光ビームにより走査し
て、パターン状態を読出し、記憶装置へ記憶した後、こ
の記憶装置の内容を読出し、前記パターン状態を検査す
るパターン検査方式において、前記被検査試料のパター
ンを複数の角度方向に分離して読出す手段と、この読出
されたパターン情報を各角度方向に分離して記憶する複
数の記憶領域を有し、各領域毎に記憶されているパター
ンの走行方向に直角にパターン幅を測長する事により達
成される。
して人手による方法で行つており、また光で走査してパ
ターン形状を２値化信号に変換して記憶装置に読込み、
自動検査する方法も試みられているが、全て自動的に判
別する事はむずかしく、限定されたパターン形状のみに
限られている。つまり第、図に示すようなプリント板パ
ターンを検査する場合に、リード１部の線幅、またはラ
ンド２の大きさが規定値になつているか否か測長しなけ
ればならないが、リードが走つている方向を自動的に判
別して常に、そのリードが走つている方向に直角な方向
でリード線幅を測長する事ができなかつた。本発明の目
的は、被検査試料のパターン面を光ビームにより走査し
て、パターン状態を読出し、記憶装置へ記憶した後、こ
の記憶装置の内容を読出し、前記パターン状態を検査す
るパターン検査方式において、前記被検査試料のパター
ンを複数の角度方向に分離して読出す手段と、この読出
されたパターン情報を各角度方向に分離して記憶する複
数の記憶領域を有し、各領域毎に記憶されているパター
ンの走行方向に直角にパターン幅を測長する事により達
成される。
次に図面により本発明の詳細を説明する。
第２図は本発明の実施例のパターン検査装置の構成を示
す。
す。
同図においてレーザ光源３よりのレーザ・ビームをガル
バノミラー４の如き光偏光手段により周期的に偏光させ
て、走査レンズ５を通して所定の測定方向に移動するス
テージ７に載置された被検査試料６のパターン上に投射
する。被検査試料６からの透過光を集光レンズ８を通し
、走査方向のパターン線幅を検出するために、透過光の
うちパターンによつて遮光された部分の長さを検出する
為の光検出器９およびパターン線走行方向と走査方向と
の角度を検出する角度検出用光検出器１０ＩＩＣ入射さ
せる。すなわち、光検出器９を中心にして複数の検出器
をリング状に密接して配置した光検出器１０の構成とす
れば、光検出器９は通常の検出器と同様に被検査パター
ンの透明、不透明をそのまま検出するので、読み取られ
た情報はパターンデータとなる。
バノミラー４の如き光偏光手段により周期的に偏光させ
て、走査レンズ５を通して所定の測定方向に移動するス
テージ７に載置された被検査試料６のパターン上に投射
する。被検査試料６からの透過光を集光レンズ８を通し
、走査方向のパターン線幅を検出するために、透過光の
うちパターンによつて遮光された部分の長さを検出する
為の光検出器９およびパターン線走行方向と走査方向と
の角度を検出する角度検出用光検出器１０ＩＩＣ入射さ
せる。すなわち、光検出器９を中心にして複数の検出器
をリング状に密接して配置した光検出器１０の構成とす
れば、光検出器９は通常の検出器と同様に被検査パター
ンの透明、不透明をそのまま検出するので、読み取られ
た情報はパターンデータとなる。
光ビームがパターン縁を通過した時、パターン縁に直角
方向、すなわ パターン縁が走つている方向と直角方向
に光が回折する現象が生じるので、その回折方向に配置
された角度検出用光検出器１０が、これを受光してパタ
ーン縁の走行方向の角度を検出することができる。
方向、すなわ パターン縁が走つている方向と直角方向
に光が回折する現象が生じるので、その回折方向に配置
された角度検出用光検出器１０が、これを受光してパタ
ーン縁の走行方向の角度を検出することができる。
次に、第３図の実施例により更に詳細に説明する。
パターン縁を通過した光は回折して、パターン縁に直角
な方向に広がる性質をもつている。従つて、光検出器９
の周囲に複数の光検出素子を扇形に配置して角度検出用
光検出器１０を構成し、これを回折光を受光し、パター
ン縁信号を４つの角度成分（０を，４５、，９０ン，１
３５４）に分離する。角度検出用光検出器１０のＡ，Ａ
′に配置された光検出素子からの出力はパターン角度検
出回路１１のコンパレータ１１−１に入力され、コンパ
レータ１１−１の出力はパターン縁信号メモリ回路１２
に導かれて、一定のタイミングでメモリ回路１２−１へ
順次“ビ，“０”の２値化された信号として記憶される
。このメモリ回路１２−１に記憶された内容は、０こ方
向に走つているパターンのパターン縁信号となる。角度
検出用光検出器１０のＢ，Ｂ′に配置されている光検出
素子からの出力はコンパレータ１１一２ＶＣ入力され、
コンパレータ１１−２の出力はパターンメモリ回路１２
−２に導かれて、４５力方向にパターンが走つているパ
ターン縁の信号として記憶される。
な方向に広がる性質をもつている。従つて、光検出器９
の周囲に複数の光検出素子を扇形に配置して角度検出用
光検出器１０を構成し、これを回折光を受光し、パター
ン縁信号を４つの角度成分（０を，４５、，９０ン，１
３５４）に分離する。角度検出用光検出器１０のＡ，Ａ
′に配置された光検出素子からの出力はパターン角度検
出回路１１のコンパレータ１１−１に入力され、コンパ
レータ１１−１の出力はパターン縁信号メモリ回路１２
に導かれて、一定のタイミングでメモリ回路１２−１へ
順次“ビ，“０”の２値化された信号として記憶される
。このメモリ回路１２−１に記憶された内容は、０こ方
向に走つているパターンのパターン縁信号となる。角度
検出用光検出器１０のＢ，Ｂ′に配置されている光検出
素子からの出力はコンパレータ１１一２ＶＣ入力され、
コンパレータ１１−２の出力はパターンメモリ回路１２
−２に導かれて、４５力方向にパターンが走つているパ
ターン縁の信号として記憶される。
同様に、Ｃ，Ｃ′｝よびＤ，Ｄ′に配置された光検出素
子からの出力はそれぞれコンバレータ１１一３，１１−
４ＶＣ入力され、この出力はメモリ回路１２−３，１２
−４に導かれて、９０は，１３５路方向に走つているパ
ターンのパターン縁信号を記録する。
子からの出力はそれぞれコンバレータ１１一３，１１−
４ＶＣ入力され、この出力はメモリ回路１２−３，１２
−４に導かれて、９０は，１３５路方向に走つているパ
ターンのパターン縁信号を記録する。
光検出器Ｅからの出力は試料パターンの透明、不透明を
そのまま示したもので、パターンデータメモリ１２−５
に記録される。
そのまま示したもので、パターンデータメモリ１２−５
に記録される。
上記各パターン縁信号メモリに卦けるパターン記録例を
第４図に示す。
第４図に示す。
第４図において、ａはパターンデータメモリ、ｃは００
方向パターン縁信号、ｂは４５モ方向のパターン縁信号
、ｄは９０Ｃ＞１ｕ向のパターン縁信号をそれぞれ示す
。
方向パターン縁信号、ｂは４５モ方向のパターン縁信号
、ｄは９０Ｃ＞１ｕ向のパターン縁信号をそれぞれ示す
。
第５図は本発明の実施例によるパターン幅測長回路１３
を示すものであり、第４図のパターン記録例をもとにパ
ターン幅測長方法を説明する。
を示すものであり、第４図のパターン記録例をもとにパ
ターン幅測長方法を説明する。
例えば、パターンデータメモリＡＶＣ訃いて、４５ば方
向に走つているリードの線幅を測長する場合を説明する
と、４５る方向のリード縁信号はパターンメモリｂの如
く記録されている。パターンメモリｂの内容を点線に示
すＢ−＋Ｂ′方向に読みとり、シフトレジスタ１４ＶＣ
格納する。
向に走つているリードの線幅を測長する場合を説明する
と、４５る方向のリード縁信号はパターンメモリｂの如
く記録されている。パターンメモリｂの内容を点線に示
すＢ−＋Ｂ′方向に読みとり、シフトレジスタ１４ＶＣ
格納する。
−方パターンデータメモリａ上でも点線で示すＡ→Ａ彷
向に同一部分を読みとり、これをシフトレジスタ１５１
１Ｃ格納する。シフトレジスタ１４の内容を並列に０Ｒ
回路１６１１Ｃ入力し、パターン縁信号の有無を検出す
る。
向に同一部分を読みとり、これをシフトレジスタ１５１
１Ｃ格納する。シフトレジスタ１４の内容を並列に０Ｒ
回路１６１１Ｃ入力し、パターン縁信号の有無を検出す
る。
同時にシフトレジスタ１５の内容を並列にビツト加算回
路１１に入力し、シフトレジスタ上の″１算のピツト数
を計数する。ピツト和算回路１７の出力は、パターン線
幅の長さを示すもので、この値はデイジタルウインドコ
ンパレータ１８ＶＣ入力され、予め設定されている最大
卦よび最小線幅基準値と比較されて、測定された線幅が
許容範囲であるか否かチエツクされる。
路１１に入力し、シフトレジスタ上の″１算のピツト数
を計数する。ピツト和算回路１７の出力は、パターン線
幅の長さを示すもので、この値はデイジタルウインドコ
ンパレータ１８ＶＣ入力され、予め設定されている最大
卦よび最小線幅基準値と比較されて、測定された線幅が
許容範囲であるか否かチエツクされる。
デイジタルウインドコンバレータ１８の出力と前記０Ｒ
回路１６の出力はアンドゲート１９に入力されてパター
ン縁信号が存在し、かつその線幅が許容値外であると、
アンドゲート１９よりエラーを出力する。
回路１６の出力はアンドゲート１９に入力されてパター
ン縁信号が存在し、かつその線幅が許容値外であると、
アンドゲート１９よりエラーを出力する。
な卦本発明のパターン検査方式はパターンメモリにおい
てパターン縁信号が対向して存在する場合に、その間の
線幅を自動的に、測長検査する方法である。従つて例え
ば第６図ａに示す如くパターンの一部が欠けたパターン
のりード幅を測長する場合ＶＣＯＯ方向パターン縁信号
メモリの内容は第６図ＢｌｆＣ示すように、０坊向パタ
ーン縁信号の一部が欠落するため対向パターン縁信号が
無くなり、その部分の測長が不可能となる。そこで、本
検査方式では欠落した部分をつなぎ合せて対向パターン
縁信号を補間して、測長可能としている。次に、パター
ン縁信号の補間方法の実施例を第７図により説明する。
てパターン縁信号が対向して存在する場合に、その間の
線幅を自動的に、測長検査する方法である。従つて例え
ば第６図ａに示す如くパターンの一部が欠けたパターン
のりード幅を測長する場合ＶＣＯＯ方向パターン縁信号
メモリの内容は第６図ＢｌｆＣ示すように、０坊向パタ
ーン縁信号の一部が欠落するため対向パターン縁信号が
無くなり、その部分の測長が不可能となる。そこで、本
検査方式では欠落した部分をつなぎ合せて対向パターン
縁信号を補間して、測長可能としている。次に、パター
ン縁信号の補間方法の実施例を第７図により説明する。
第７図ＡＶＣ示す被検査パターンを光ビームで走査し、
その回折光からパターン縁信号を読みとる。
その回折光からパターン縁信号を読みとる。
読みとつた信号をｂのシフトレジスタに順次入力し、そ
の出力を更にｃのシフトレジスタに入力する。ｃのシフ
トレジスタの出力をｂの次のレジスタ入力段に入力する
。ｂの最終段の出力をパターン縁信号メモリ１２−１に
順次入力する。シフトレジスタｂ！ＩＣ順次信号が入力
されると、ある時点で第７図のシフトレジスタＢｆ）Ａ
点に信号が現われ、そのときにある距離をもつたＢ，Ｃ
，Ｄ点に縁信号が１個でもあればパターン縁信号補間回
路ｄのシフトレジスタ２０に６ビが入力され、フＮＯＲ
ゲート２１、ＮＡＮＤゲート２２を経てレジスタＣＶＣ
Ａ−Ｃ間を全で゛ビにする信号が送られる。
の出力を更にｃのシフトレジスタに入力する。ｃのシフ
トレジスタの出力をｂの次のレジスタ入力段に入力する
。ｂの最終段の出力をパターン縁信号メモリ１２−１に
順次入力する。シフトレジスタｂ！ＩＣ順次信号が入力
されると、ある時点で第７図のシフトレジスタＢｆ）Ａ
点に信号が現われ、そのときにある距離をもつたＢ，Ｃ
，Ｄ点に縁信号が１個でもあればパターン縁信号補間回
路ｄのシフトレジスタ２０に６ビが入力され、フＮＯＲ
ゲート２１、ＮＡＮＤゲート２２を経てレジスタＣＶＣ
Ａ−Ｃ間を全で゛ビにする信号が送られる。
以上の操作をシフトレジスタｂ上のＡ点に注目して順次
判定する。
判定する。
この結果がシフトレジスタｂの出力として現われ、シフ
トレジスタｃに送られ、最終的には、パターン縁信号メ
モリ１２−１にパターン縁が補間された信号が記憶され
る。
トレジスタｃに送られ、最終的には、パターン縁信号メ
モリ１２−１にパターン縁が補間された信号が記憶され
る。
このパターン縁信号メモリ１２−１の内容により、パタ
ーン測長回路が動作して、パターン幅の測長が行なわれ
る。以上説明した如く、本発明のパターン検査方式によ
ると、パターン縁の走行方向が自動的に判定でき、その
結果パターン幅の自動測長が可能になる。
ーン測長回路が動作して、パターン幅の測長が行なわれ
る。以上説明した如く、本発明のパターン検査方式によ
ると、パターン縁の走行方向が自動的に判定でき、その
結果パターン幅の自動測長が可能になる。
第１図はプリント板パターン例、第２図は本発明の実施
例によるパターン検査装置の構成図、第３図はパターン
角度検出回路およびパターン縁信号メモリ回路の詳細図
、第４図は、パターン縁信号メモリにおける記録例、第
５図は本発明の実施例によるパターン幅測長回路、第６
図は一部欠落のあるパターン例、第７図はパターン縁信
号補間回路を示す。 図において１はリード部、２はランド部、３はレーザ光
源、４はガルバノミラー、５は走査レンズ、６は被検査
試料、７はステージ、８は集光レンズ、９は光検出器、
１０は角度検出用光検出器、１１はパターン角度検出回
路、１２はパターン縁信号メモリ回路、１３はパターン
幅測長回路、１４，１５，２０はシフトレジスタ、１６
は０Ｒ回路、１７はビツト和算回路、１８はウインドコ
ンパレータ、１９はアンドゲート、２１はＮＯＲ回路、
２２はＮＡＮＤ回路を示す。
例によるパターン検査装置の構成図、第３図はパターン
角度検出回路およびパターン縁信号メモリ回路の詳細図
、第４図は、パターン縁信号メモリにおける記録例、第
５図は本発明の実施例によるパターン幅測長回路、第６
図は一部欠落のあるパターン例、第７図はパターン縁信
号補間回路を示す。 図において１はリード部、２はランド部、３はレーザ光
源、４はガルバノミラー、５は走査レンズ、６は被検査
試料、７はステージ、８は集光レンズ、９は光検出器、
１０は角度検出用光検出器、１１はパターン角度検出回
路、１２はパターン縁信号メモリ回路、１３はパターン
幅測長回路、１４，１５，２０はシフトレジスタ、１６
は０Ｒ回路、１７はビツト和算回路、１８はウインドコ
ンパレータ、１９はアンドゲート、２１はＮＯＲ回路、
２２はＮＡＮＤ回路を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検査試料のパターン面を光ビームにより走査して
、パターン状態を読出し、記憶装置へ記憶した後、この
記憶装置の内容を読出し、前記パターン状態を検査する
パターン検査方式において、前記被検査試料のパターン
を複数の角度方向に分離して読出す手段と、この読出さ
れたパターン情報を各角度方向に分離して記憶する複数
の記憶領域を有し、各領域に記憶されているパターンの
走行方向に直角にパターン幅を測長する手段を設けたこ
とを特徴とするパターン検査方式。 ２ 読み取つたパターン縁信号の一部が所定幅以内で欠
落している場合、この欠落部分を補間するよう記憶装置
内容を変更する事を特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のパターン検査方式。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53133610A JPS593681B2 (ja) | 1978-10-30 | 1978-10-30 | パタ−ン検査方式 |
| US06/197,345 US4392120A (en) | 1978-10-30 | 1979-10-25 | Pattern inspection system |
| PCT/JP1979/000271 WO1980001002A1 (en) | 1978-10-30 | 1979-10-25 | Pattern inspection system |
| DE19792953303 DE2953303C2 (de) | 1978-10-30 | 1979-10-25 | Musterüberprüfungssystem |
| ES79485536A ES485536A1 (es) | 1978-10-30 | 1979-10-30 | Perfeccionamientos en sistemas de inspeccion de patrones pa-ra fotomascaras de circuitos impresos |
| US06/428,605 US4547895A (en) | 1978-10-30 | 1982-09-30 | Pattern inspection system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53133610A JPS593681B2 (ja) | 1978-10-30 | 1978-10-30 | パタ−ン検査方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5560806A JPS5560806A (en) | 1980-05-08 |
| JPS593681B2 true JPS593681B2 (ja) | 1984-01-25 |
Family
ID=15108821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53133610A Expired JPS593681B2 (ja) | 1978-10-30 | 1978-10-30 | パタ−ン検査方式 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593681B2 (ja) |
| DE (1) | DE2953303C2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6052021A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-23 | Canon Inc | 位置検出方法 |
| GB2560888B (en) | 2017-03-22 | 2020-04-08 | Dyson Technology Ltd | Support for a hair care appliance |
| GB2560889B (en) | 2017-03-22 | 2020-09-23 | Dyson Technology Ltd | Support for a hair care appliance |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5324233A (en) | 1976-08-19 | 1978-03-06 | Fujitsu Ltd | Pattern examination system |
| US4242702A (en) * | 1976-12-01 | 1980-12-30 | Hitachi, Ltd. | Apparatus for automatically checking external appearance of object |
| DE2700252C2 (de) * | 1977-01-05 | 1985-03-14 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zum Prüfen definierter Strukturen |
-
1978
- 1978-10-30 JP JP53133610A patent/JPS593681B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-10-25 DE DE19792953303 patent/DE2953303C2/de not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2953303T1 (de) | 1980-12-18 |
| DE2953303C2 (de) | 1987-04-16 |
| JPS5560806A (en) | 1980-05-08 |
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