JPS5936930A - ウエ−ハ乾燥装置 - Google Patents
ウエ−ハ乾燥装置Info
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- JPS5936930A JPS5936930A JP57146263A JP14626382A JPS5936930A JP S5936930 A JPS5936930 A JP S5936930A JP 57146263 A JP57146263 A JP 57146263A JP 14626382 A JP14626382 A JP 14626382A JP S5936930 A JPS5936930 A JP S5936930A
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H10P72/0408—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は溶剤、アルカリ洗浄液、酸洗浄液や純水を使
用してウェーハ全洗浄する分野においてウェーハ洗浄後
に使用するウェーハ乾燥装置に関する。
用してウェーハ全洗浄する分野においてウェーハ洗浄後
に使用するウェーハ乾燥装置に関する。
ウェーハの１８式洗浄工程では、最終工程でウェーハ表
面に残存する水分を完全に取シ除くことが・必要である
。このためにウェーハ収納容器を回転盤に取付け、この
回転盤ｆ、 １．００Ｏｒｐｍ前後で高速回転させ、ウ
ェーハ表面の液体を遠心脱水する方法が多用されている
。他にトリクレン、フレオン、アルコールといった薬品
による蒸気乾燥や赤外線ランプの熱を利用する方法もあ
るが、これらはそれぞれ次のような問題点を抱えている
。
面に残存する水分を完全に取シ除くことが・必要である
。このためにウェーハ収納容器を回転盤に取付け、この
回転盤ｆ、 １．００Ｏｒｐｍ前後で高速回転させ、ウ
ェーハ表面の液体を遠心脱水する方法が多用されている
。他にトリクレン、フレオン、アルコールといった薬品
による蒸気乾燥や赤外線ランプの熱を利用する方法もあ
るが、これらはそれぞれ次のような問題点を抱えている
。
イ 遠心脱水法二回転盤の高速回転により、回転盤が取
付けられた容器内に複雑力気流を発生させ、この気流が
原因となって容器内の微粒子の舞い上げや容器外部の汚
染物質の吸い込みを透起させ、ウェーハ表面を逆汚染さ
せる。
付けられた容器内に複雑力気流を発生させ、この気流が
原因となって容器内の微粒子の舞い上げや容器外部の汚
染物質の吸い込みを透起させ、ウェーハ表面を逆汚染さ
せる。
また異なったサイズのウェーハを乾燥する場合には、そ
の都度ウェーハ収納容器を保持する部品を交換しなけれ
ばならない不便さもある。
の都度ウェーハ収納容器を保持する部品を交換しなけれ
ばならない不便さもある。
口 蒸気乾燥法、ランプ加熱乾燥法：使用薬品や雰、囲
気からの逆汚染があって、乾燥前のウェーハ表面清浄度
を乾燥径寸で維持することは困難である。また乾燥に要
する時間は概【７て遠心脱水乾燥よりも長時間を要する
。
気からの逆汚染があって、乾燥前のウェーハ表面清浄度
を乾燥径寸で維持することは困難である。また乾燥に要
する時間は概【７て遠心脱水乾燥よりも長時間を要する
。
この発明は上述の、特に遠心脱水法に係るつ工−ハ乾燥
装置について欠点を除き改良するもので、遠心脱水容器
内の発塵を皆無とすることによって、ウェーハ全逆汚染
させることなく週２心脱水乾燥させるウェーハ乾燥装置
を提供することを目的とする０ 〔発明の概要） 即ちこの発明は本体と上蓋とｔ−備える乾燥容器と、こ
の容器内圧収納され、脱水口を設けられている円節面ガ
内側にウエーノ・を収納するウェーハキャリヤをバラン
ス良く放射状に配置させる有底円筒状回転盤とから成シ
、回転盤は、底面外側にとりつけられている回転軸が容
器底面を貫通して外部で駆動さ力ることにより回転する
ものであり、容器底面は強制吸気水管を開口させ、上蓋
は開口金偏え、この開口に円筒的雰囲気のサンプリング
管を案内させているウェーハ乾燥装置にある。
装置について欠点を除き改良するもので、遠心脱水容器
内の発塵を皆無とすることによって、ウェーハ全逆汚染
させることなく週２心脱水乾燥させるウェーハ乾燥装置
を提供することを目的とする０ 〔発明の概要） 即ちこの発明は本体と上蓋とｔ−備える乾燥容器と、こ
の容器内圧収納され、脱水口を設けられている円節面ガ
内側にウエーノ・を収納するウェーハキャリヤをバラン
ス良く放射状に配置させる有底円筒状回転盤とから成シ
、回転盤は、底面外側にとりつけられている回転軸が容
器底面を貫通して外部で駆動さ力ることにより回転する
ものであり、容器底面は強制吸気水管を開口させ、上蓋
は開口金偏え、この開口に円筒的雰囲気のサンプリング
管を案内させているウェーハ乾燥装置にある。
このようなこの発明は、容器内の排気、排水を同一管体
である吸気水管から強制的に行う手段を備えることによ
り、容器内の空気を常に無塵化して収容され乾燥される
ウェーハ表面が逆汚染することから免れさせる点を特徴
としている。また容器内の粉塵数を常時測定する手段や
、大きさの異なるウェーハ収納キャリヤを部品を交換す
ること力〈設置出来る手段を備えることも特徴として付
加されている。
である吸気水管から強制的に行う手段を備えることによ
り、容器内の空気を常に無塵化して収容され乾燥される
ウェーハ表面が逆汚染することから免れさせる点を特徴
としている。また容器内の粉塵数を常時測定する手段や
、大きさの異なるウェーハ収納キャリヤを部品を交換す
ること力〈設置出来る手段を備えることも特徴として付
加されている。
この発明の実施例について図面を用いて説明する。第１
図はこの例のウェーハ乾燥装置を示す断面図である。こ
の装置は、本体（１）と上蓋（２）からなるウェーハ乾
燥容器の内部に１ウエーハ（３）全収納するウェーハキ
ャリヤー（４）全保持する有底円筒状の回転盤（５）が
おかれている。この回転盤（５）は容器の下部に設けら
れたモータ（６） ｊｃよって回転軸（７）を経由して
高速回転する。容器下部には容器内部のは、給水の背水
圧によって排水、排気させるため上方及び下方に径路を
分岐させである。また、回転盤（５）にはその内側壁≠
・ら外側壁に通じる脱水口（９）が設けられている。脱
水口（９）の口径は外側壁側に対する内側壁側の口径比
が２倍以上の円錐型となっていて、本体（１１の内側壁
からの水のはね返りがウェーハ表面に付着することを防
いでいる。脱水口（９）の数は脱水効果を良くするため
ｒ回転盤（５）の円筒面全面に設けられている。吸気水
管（８）からの吸気は真空法を用い、真空源としては真
空ポンプ金使用してよいが、より安定に発塵を少なくす
るためには図例のように純水を使ったアスピレータ−を
用いると容器内の清浄度はより向上する。
図はこの例のウェーハ乾燥装置を示す断面図である。こ
の装置は、本体（１）と上蓋（２）からなるウェーハ乾
燥容器の内部に１ウエーハ（３）全収納するウェーハキ
ャリヤー（４）全保持する有底円筒状の回転盤（５）が
おかれている。この回転盤（５）は容器の下部に設けら
れたモータ（６） ｊｃよって回転軸（７）を経由して
高速回転する。容器下部には容器内部のは、給水の背水
圧によって排水、排気させるため上方及び下方に径路を
分岐させである。また、回転盤（５）にはその内側壁≠
・ら外側壁に通じる脱水口（９）が設けられている。脱
水口（９）の口径は外側壁側に対する内側壁側の口径比
が２倍以上の円錐型となっていて、本体（１１の内側壁
からの水のはね返りがウェーハ表面に付着することを防
いでいる。脱水口（９）の数は脱水効果を良くするため
ｒ回転盤（５）の円筒面全面に設けられている。吸気水
管（８）からの吸気は真空法を用い、真空源としては真
空ポンプ金使用してよいが、より安定に発塵を少なくす
るためには図例のように純水を使ったアスピレータ−を
用いると容器内の清浄度はより向上する。
また回転盤（５）の中央部分には、上蓋（２）に設けら
れている開孔Ｑｉ経て筒内の空気を採取するためのサン
プリング管０υが挿入され、開孔端から採取された空気
が付属され省略されている粉塵測定器内に送られて、常
時容器内の清浄度を監視し、異状が発生した際にＦｉ贅
ａを発することを可能にしている。
れている開孔Ｑｉ経て筒内の空気を採取するためのサン
プリング管０υが挿入され、開孔端から採取された空気
が付属され省略されている粉塵測定器内に送られて、常
時容器内の清浄度を監視し、異状が発生した際にＦｉ贅
ａを発することを可能にしている。
ウェーハ（３）は通常ウェーハキャリヤ（４）に装架さ
れた状態で洗浄処理工程を経過し最後にこのウェーハ乾
燥装置に移される。ｌまずウェーハ乾燥装置の上蓋（２
）を除き、ウェーハキャリヤ（４）を回転盤（５）の内
側に＃〈。但しバランスを保つためウェーハ ゛キャリ
ヤの配置個所を適宜回転盤にめもりおき、複数個を置く
必要がある。その後上蓋（２）を閉じ、回転盤（５）を
５００〜４．００Ｏｒｐｍで高速回転させて、ウェーハ
（３）の表面に残存し７ている液体の遠心脱水を行う。
れた状態で洗浄処理工程を経過し最後にこのウェーハ乾
燥装置に移される。ｌまずウェーハ乾燥装置の上蓋（２
）を除き、ウェーハキャリヤ（４）を回転盤（５）の内
側に＃〈。但しバランスを保つためウェーハ ゛キャリ
ヤの配置個所を適宜回転盤にめもりおき、複数個を置く
必要がある。その後上蓋（２）を閉じ、回転盤（５）を
５００〜４．００Ｏｒｐｍで高速回転させて、ウェーハ
（３）の表面に残存し７ている液体の遠心脱水を行う。
吸＾（８）は常時真空ポンプまたはこの例で部に排出さ
れる。外部からの空気は上蓋（２）の開孔端から供給さ
れるが、乾燥装置全体金クリーンペンチ内に設置して、
常にクラス１００以内の清浄空気を乾燥装置内に供給す
ることが必要である。容器内の清浄度はサンプリング管
ａυの開孔端から採取された空気中の粉塵測定を行うこ
とにより管理される。
れる。外部からの空気は上蓋（２）の開孔端から供給さ
れるが、乾燥装置全体金クリーンペンチ内に設置して、
常にクラス１００以内の清浄空気を乾燥装置内に供給す
ることが必要である。容器内の清浄度はサンプリング管
ａυの開孔端から採取された空気中の粉塵測定を行うこ
とにより管理される。
第２図に、このウェーハ乾燥装置を稼動させ、０．３μ
ｍ以上の粉塵数を測定して示す。但し折線イけこの発明
の装置による測定値、口は従来の方式である強制排気を
行なわない乾燥装置による測定値である。前者では常時
粉塵数が１個／ １００ｃｃ以内に管理され、容器内で
の発塵がほとんど発生していないことを示しているが後
者においては最高１７個／ＣＣの容器内発塵が発生し、
ウェーハを逆汚染している。
ｍ以上の粉塵数を測定して示す。但し折線イけこの発明
の装置による測定値、口は従来の方式である強制排気を
行なわない乾燥装置による測定値である。前者では常時
粉塵数が１個／ １００ｃｃ以内に管理され、容器内で
の発塵がほとんど発生していないことを示しているが後
者においては最高１７個／ＣＣの容器内発塵が発生し、
ウェーハを逆汚染している。
ｒ発明の効果〕
このようなこの発明の装置によると、排気、排水を同一
の管体から強制的に行うので、容器内の無塵化を可能に
し、乾燥によってウェーハ表面を逆汚染することから防
止できる。従来の装置では排気、排水をそれぞれ別の管
体から行っているが、これらの装置では排気時に排水ラ
インの逆流による汚染が発生することがある。又ウェー
ハキャリヤは回転盤上でバランスよく円筒内壁に立てか
けるようにおくだけなので、部品の交換なしＫあらゆる
サイズのウェーハキャリヤを乾燥出来る。又乾燥装置稼
動時の容器内の清浄度を常時監視することができ、ウェ
ーハ表面の逆汚染を未然に防止できる。更に又回転盤側
壁に設けられている脱水口の口径は、内側が大きく外側
が小さい円錐形となっているので、ウェーハ表面への水
のはね返りは全く発生しない。
の管体から強制的に行うので、容器内の無塵化を可能に
し、乾燥によってウェーハ表面を逆汚染することから防
止できる。従来の装置では排気、排水をそれぞれ別の管
体から行っているが、これらの装置では排気時に排水ラ
インの逆流による汚染が発生することがある。又ウェー
ハキャリヤは回転盤上でバランスよく円筒内壁に立てか
けるようにおくだけなので、部品の交換なしＫあらゆる
サイズのウェーハキャリヤを乾燥出来る。又乾燥装置稼
動時の容器内の清浄度を常時監視することができ、ウェ
ーハ表面の逆汚染を未然に防止できる。更に又回転盤側
壁に設けられている脱水口の口径は、内側が大きく外側
が小さい円錐形となっているので、ウェーハ表面への水
のはね返りは全く発生しない。
第１図はこの発明の実施例ウェーハ乾燥袋ぼの簡略断面
図、第２図はウェーハ乾燥装置稼動時の容器内の粉塵数
測定値である。 第１図で （１）・・・本体、（２）・・・上蓋。 （９）・・・脱水口、（３）・・・ウェーハ。 （４）・・・ウェーハキャリヤ、（５）・・・回転盤。 （７）・・・回転軸、（６）・・・モータ。 （８）・・・吸気水管、Ｏｌ・・・上蓋開口。 αト・・雰囲気サンプリング管 代理人 弁理士 井 上 −男 第 １ 図 第２ｖＩ！Ｊ クエーへ乾大東装置＃φ力時の序分湘り教イ、ル’；ａ
ｏｃｃ 月３≧ａ ｌ
ｐ ４場ト・ ρ−Ｊ）ｔグ・態餞通ｇ！−呵 手続補正書（自発） ５８．４２２ 昭和 年 月 日 特許庁長官 若 杉 和犬 殿 １、事件の表示 昭和５７年特許Ｈ第１４６２６３号 ２、発明の名称 ウェーハ乾燥装置 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 （３０７） 東京芝浦電気株式会社 ４、代理人 〒１４４ 東京都大田区蒲田４丁目４１番１１号 第−津野田ビル 弁上特許事務所内 電話７３６−３５５８ （３２５７） 弁理士 井 上 −男ｊｊ、、
ｌ１１□Ｋ 明細書全文 Ｕ 図 面 ６、補正の内容 ！ 別へのとおり ■ 図面のうち第１図を別紙図面の第１図に補正する。 以上 訂正明細書 １、発明の名称 ウェーハ乾燥装置 ２、 ％ｌｒ！ｒ−精求の範囲 れた排気兼排水管とを具備したウェーハ乾燥装置。 ３、発明の詳細な説明 〔発明の技術分野〕 この発明に溶剤、アルカリ洗浄液、酸洗浄液や純水を使
用してウェーハを洗浄する分野においてウェーハ洗浄後
に使用するウェーハ乾燥装置に関する。 〔発明の技術的背景〕 ウェー−・の湿式洗浄工程では、最終工程でウェーハ表
面に残存する水分を完全に増す除くことが必要である、
このためにウェーハ収納容器を円筒状の回転ず、４−に
取付け、この回転体’ｋ １．ＯＯＯｒｐｍ 前後で高
速回転させ、ウェーハ表面の液体を遠心脱水する方法が
多く用いられている。また、トリクレン、フレオン、ア
ルコールなどの薬品による蒸気乾燥や赤外線ランプの熱
を利用する方法もあるが、これらにはそれぞれ次のよう
な問題点がちる。 （ａ）遠心脱水法二回転体の高速回転により、回転体が
増付けられた容器内に複雑な気流を発生させ、この気流
が原因となって容器内の微粒子の舞い上げや容器外部の
汚染物質の吸い込みを生じさせ、ウェーハ表面を逆汚染
させる。また、異なったサイズのウェーハを乾燥する場
合には、その都ＩＷウェーハ収納容器を保持する部品を
交換しなければならない不便もある。 申）蒸愁乾燥法、ランプ加熱乾燥法二側用薬品や雰囲気
からの逆汚染がおって、乾燥前のウェーハ表面清浄度を
乾燥後まで維持することは困難である。 また乾燥に要する時間は概して遠心脱水乾燥よりも長時
間を要する。 〔発明の目的〕 この発明は上述の、特に遠心脱水法に係るウエ−ハ乾燥
装置の欠点を改良するもので、遠心脱水容器内の塵を皆
無とすることによって、ウェーハを逆汚染させることな
く遠心脱水乾燥させるウェーハ乾燥装置ｌｌ提供するこ
とを目的とする。 〔発明の概要〕 この発明にかかるウェーハ乾燥装置は、容器と、この容
器内に回転自在に収納されウェーハキャリヤを設けた回
転体と、この回転体を回転させる駆！１（）１手段と、
前記回転体の上方の前記容器に設けられた空気供給口と
、前記容器に接続された排気兼排水管とを具備したもの
である。 すなわち、この発明は容器内の排気、排水を同一管体で
ある吸気水管から強制的に行う手段を備えることにより
、容器内の空気を常に無塵化し、ここに収容１．乾燥さ
れるウェーノー表面が逆汚染するのを避けるようにして
いる。また容器内の粉塵数を常時測定する手段や、大き
さの異なるウェーハ収納キャリアを部品を交換すること
なく設置出呆る手段を備えることも付加されている。 〔発明の実施例〕 この発明の実施例について図面を用いて説明する。第１
図はこの例のウェーハ乾燥装置の断面図である。この装
置は、本体（１）と上蓋（２）から々るウェーハ乾燥容
器の内部に、ウエーノ・（３）全収納するウェーハキャ
リヤ（４）全保持する有底円筒状の回転体ｔ５）におか
れている。この回転体（５）は容器の下部に設けられた
モータ（６）によって回転軸（７）全経由して高速回転
する。容器下部には容器内部の排水、排気を同一管体に
よって強制的に行うための排気兼排水管（８）が形成さ
れている。なお、この排気兼排水管は、給水の背水圧に
よって排水、排気させるため上方及び下方に径路を分岐
させである。また、回転体（５）にはその内側壁から外
側壁に通じる脱水口（９）が設けられている。脱水口（
９）の口径は外側壁側に対する内側壁側の口径比が２倍
以上の円錐型となっていて、本体（１）の内側壁からの
水のはね返りがウエーノ・表面に付着するのを防いでい
る。 脱水口（９）の数は脱水効果を良くするために回転体（
５）の円筒面全面に設けられている。排気兼排水管（８
）からの吸気は真空法を用い、真空源としては真空ポン
プを使用してもよいが、より安定に発塵を少なくするた
めには図例のように純水を使ったアスピレータを用いる
と容器内の清浄度はより向上する。また回転体（５）の
中央部分には、上蓋（２）に設けられている開孔（Ｉｌ
ｅ経て筒内の空気を採取するためのサンプリング管（Ｉ
Ｄが挿入され、開孔端から採取された空気が付属され省
略されている粉塵測定器内に送られて、常時容器内の清
浄度を監視し、異状が発生［７た際には警報を発するこ
とを可能にしている。 ウェーハ（３）は通常ウエーノ・キャリヤ（４）に装架
された状態で洗浄処理工程全経過し最後にこのウェーハ
乾燥装置に移される。ますウエーノ・乾燥装置の上蓋（
２）ヲ除き、ウェー／・キャリヤ（４）ヲ回転体（５）
の内側に置く。ただし、バランスを保つためウェーハキ
ャリヤの配置個所を適宜回転盤にめも９おき、独数個装
置く必要がある。その後上蓋（２）を閉じ、回転体（５
）全５００〜４，１ｌ１００ｒｐで高速回転させて、ウ
エーノ・（３）の表面に残存している液体の遠心脱水を
行う。排気兼排水管（８）は常時真空ポンプまたはこの
例ではアスピレータにより強制吸引されているので、遠
心脱水された液体は空気と共に排気兼排水管（８）から
外部に排出される。外部からの空気は上蓋（２）の開孔
員から供給されるので、乾燥装置全体をクリーンベンチ
内に設置し、例えばＡＳＴＭ（Ａｍｅｒｉｃａｎ ５ｏ
ｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅ＋ｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａ
ｔｅｒｉａｌｇ）の規格のクラス１００以内の清浄空気
を乾燥装置内に供給することが必要である。容器内の清
浄度はサンプリング管００の開孔端から採取された空気
中の粉塵測定を行うことにより管理される。 第２図はこ９ウエーハ乾燥装置を稼動させたときの０３
μｍ以上の粉塵数の測定結果を示す。ただし、折線（イ
）はこの発明の装置による測定値、１口）は従来の方式
である強制排気を行なわない乾燥装置による測定値であ
る。前者では常時粉塵数が１個／ １ｏｏｃｃ以内に管
理され容器内での発塵がほとんど発生していないことを
示しているが、後者においては最高１７個／ＣＣの容器
内発塵が発生しウェーハを逆汚染していることが示され
ている。 〔発明の効果〕 この発明の装置によると、排気、排水を同一の管体から
強制的に行うので、容器内の無塵化を可能にし、乾燥に
よってウェーハ表面が逆汚染されるのを防止できる。従
来の装置で＃ｉ排気、排水をそれぞれ別の管体から行っ
ているが、これらの襞間では排気時に排水ラインの逆流
による汚染が発生することがある。又ウェーハキャリヤ
性回転体上にバランスよく円筒内壁に立てかけるように
おくだけでよいので、部品を交換することなくあらゆる
サイズのウェーハキャリヤを乾燥できる。また、乾燥装
置稼動時の容器内の清浄度を常時監視することができ、
ウェーハ表面の逆汚染を未然に防止できる。さらに回転
体側壁に設けられている刀！ン水口の口径は内側が大き
く外側が小さい円錐形となっているので、ウェーハ表面
への水のはね返りが全く発生しない利点もある。 ４、図面の簡単な説明 第１図はこの発明の突施例ウェーハ乾燥装置の要部を示
す断面図、第２図はウェーハ乾燥Ｒ＆稼動時の容器内の
粉塵数測定値である。 （９）・・・脱水口 （３）・・・ウェーハ（
４）・・・ウェーハキャリヤ （５）・・・回転体 （７）・・・回転軸（６
）・・・モータ （８）・・・排気兼排水管イ
１ト上蓋開口 ０ト、サンプリング管代理人 弁
理士 井 上 −男
図、第２図はウェーハ乾燥装置稼動時の容器内の粉塵数
測定値である。 第１図で （１）・・・本体、（２）・・・上蓋。 （９）・・・脱水口、（３）・・・ウェーハ。 （４）・・・ウェーハキャリヤ、（５）・・・回転盤。 （７）・・・回転軸、（６）・・・モータ。 （８）・・・吸気水管、Ｏｌ・・・上蓋開口。 αト・・雰囲気サンプリング管 代理人 弁理士 井 上 −男 第 １ 図 第２ｖＩ！Ｊ クエーへ乾大東装置＃φ力時の序分湘り教イ、ル’；ａ
ｏｃｃ 月３≧ａ ｌ
ｐ ４場ト・ ρ−Ｊ）ｔグ・態餞通ｇ！−呵 手続補正書（自発） ５８．４２２ 昭和 年 月 日 特許庁長官 若 杉 和犬 殿 １、事件の表示 昭和５７年特許Ｈ第１４６２６３号 ２、発明の名称 ウェーハ乾燥装置 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 （３０７） 東京芝浦電気株式会社 ４、代理人 〒１４４ 東京都大田区蒲田４丁目４１番１１号 第−津野田ビル 弁上特許事務所内 電話７３６−３５５８ （３２５７） 弁理士 井 上 −男ｊｊ、、
ｌ１１□Ｋ 明細書全文 Ｕ 図 面 ６、補正の内容 ！ 別へのとおり ■ 図面のうち第１図を別紙図面の第１図に補正する。 以上 訂正明細書 １、発明の名称 ウェーハ乾燥装置 ２、 ％ｌｒ！ｒ−精求の範囲 れた排気兼排水管とを具備したウェーハ乾燥装置。 ３、発明の詳細な説明 〔発明の技術分野〕 この発明に溶剤、アルカリ洗浄液、酸洗浄液や純水を使
用してウェーハを洗浄する分野においてウェーハ洗浄後
に使用するウェーハ乾燥装置に関する。 〔発明の技術的背景〕 ウェー−・の湿式洗浄工程では、最終工程でウェーハ表
面に残存する水分を完全に増す除くことが必要である、
このためにウェーハ収納容器を円筒状の回転ず、４−に
取付け、この回転体’ｋ １．ＯＯＯｒｐｍ 前後で高
速回転させ、ウェーハ表面の液体を遠心脱水する方法が
多く用いられている。また、トリクレン、フレオン、ア
ルコールなどの薬品による蒸気乾燥や赤外線ランプの熱
を利用する方法もあるが、これらにはそれぞれ次のよう
な問題点がちる。 （ａ）遠心脱水法二回転体の高速回転により、回転体が
増付けられた容器内に複雑な気流を発生させ、この気流
が原因となって容器内の微粒子の舞い上げや容器外部の
汚染物質の吸い込みを生じさせ、ウェーハ表面を逆汚染
させる。また、異なったサイズのウェーハを乾燥する場
合には、その都ＩＷウェーハ収納容器を保持する部品を
交換しなければならない不便もある。 申）蒸愁乾燥法、ランプ加熱乾燥法二側用薬品や雰囲気
からの逆汚染がおって、乾燥前のウェーハ表面清浄度を
乾燥後まで維持することは困難である。 また乾燥に要する時間は概して遠心脱水乾燥よりも長時
間を要する。 〔発明の目的〕 この発明は上述の、特に遠心脱水法に係るウエ−ハ乾燥
装置の欠点を改良するもので、遠心脱水容器内の塵を皆
無とすることによって、ウェーハを逆汚染させることな
く遠心脱水乾燥させるウェーハ乾燥装置ｌｌ提供するこ
とを目的とする。 〔発明の概要〕 この発明にかかるウェーハ乾燥装置は、容器と、この容
器内に回転自在に収納されウェーハキャリヤを設けた回
転体と、この回転体を回転させる駆！１（）１手段と、
前記回転体の上方の前記容器に設けられた空気供給口と
、前記容器に接続された排気兼排水管とを具備したもの
である。 すなわち、この発明は容器内の排気、排水を同一管体で
ある吸気水管から強制的に行う手段を備えることにより
、容器内の空気を常に無塵化し、ここに収容１．乾燥さ
れるウェーノー表面が逆汚染するのを避けるようにして
いる。また容器内の粉塵数を常時測定する手段や、大き
さの異なるウェーハ収納キャリアを部品を交換すること
なく設置出呆る手段を備えることも付加されている。 〔発明の実施例〕 この発明の実施例について図面を用いて説明する。第１
図はこの例のウェーハ乾燥装置の断面図である。この装
置は、本体（１）と上蓋（２）から々るウェーハ乾燥容
器の内部に、ウエーノ・（３）全収納するウェーハキャ
リヤ（４）全保持する有底円筒状の回転体ｔ５）におか
れている。この回転体（５）は容器の下部に設けられた
モータ（６）によって回転軸（７）全経由して高速回転
する。容器下部には容器内部の排水、排気を同一管体に
よって強制的に行うための排気兼排水管（８）が形成さ
れている。なお、この排気兼排水管は、給水の背水圧に
よって排水、排気させるため上方及び下方に径路を分岐
させである。また、回転体（５）にはその内側壁から外
側壁に通じる脱水口（９）が設けられている。脱水口（
９）の口径は外側壁側に対する内側壁側の口径比が２倍
以上の円錐型となっていて、本体（１）の内側壁からの
水のはね返りがウエーノ・表面に付着するのを防いでい
る。 脱水口（９）の数は脱水効果を良くするために回転体（
５）の円筒面全面に設けられている。排気兼排水管（８
）からの吸気は真空法を用い、真空源としては真空ポン
プを使用してもよいが、より安定に発塵を少なくするた
めには図例のように純水を使ったアスピレータを用いる
と容器内の清浄度はより向上する。また回転体（５）の
中央部分には、上蓋（２）に設けられている開孔（Ｉｌ
ｅ経て筒内の空気を採取するためのサンプリング管（Ｉ
Ｄが挿入され、開孔端から採取された空気が付属され省
略されている粉塵測定器内に送られて、常時容器内の清
浄度を監視し、異状が発生［７た際には警報を発するこ
とを可能にしている。 ウェーハ（３）は通常ウエーノ・キャリヤ（４）に装架
された状態で洗浄処理工程全経過し最後にこのウェーハ
乾燥装置に移される。ますウエーノ・乾燥装置の上蓋（
２）ヲ除き、ウェー／・キャリヤ（４）ヲ回転体（５）
の内側に置く。ただし、バランスを保つためウェーハキ
ャリヤの配置個所を適宜回転盤にめも９おき、独数個装
置く必要がある。その後上蓋（２）を閉じ、回転体（５
）全５００〜４，１ｌ１００ｒｐで高速回転させて、ウ
エーノ・（３）の表面に残存している液体の遠心脱水を
行う。排気兼排水管（８）は常時真空ポンプまたはこの
例ではアスピレータにより強制吸引されているので、遠
心脱水された液体は空気と共に排気兼排水管（８）から
外部に排出される。外部からの空気は上蓋（２）の開孔
員から供給されるので、乾燥装置全体をクリーンベンチ
内に設置し、例えばＡＳＴＭ（Ａｍｅｒｉｃａｎ ５ｏ
ｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｔｅ＋ｓｔｉｎｇ ａｎｄ Ｍａ
ｔｅｒｉａｌｇ）の規格のクラス１００以内の清浄空気
を乾燥装置内に供給することが必要である。容器内の清
浄度はサンプリング管００の開孔端から採取された空気
中の粉塵測定を行うことにより管理される。 第２図はこ９ウエーハ乾燥装置を稼動させたときの０３
μｍ以上の粉塵数の測定結果を示す。ただし、折線（イ
）はこの発明の装置による測定値、１口）は従来の方式
である強制排気を行なわない乾燥装置による測定値であ
る。前者では常時粉塵数が１個／ １ｏｏｃｃ以内に管
理され容器内での発塵がほとんど発生していないことを
示しているが、後者においては最高１７個／ＣＣの容器
内発塵が発生しウェーハを逆汚染していることが示され
ている。 〔発明の効果〕 この発明の装置によると、排気、排水を同一の管体から
強制的に行うので、容器内の無塵化を可能にし、乾燥に
よってウェーハ表面が逆汚染されるのを防止できる。従
来の装置で＃ｉ排気、排水をそれぞれ別の管体から行っ
ているが、これらの襞間では排気時に排水ラインの逆流
による汚染が発生することがある。又ウェーハキャリヤ
性回転体上にバランスよく円筒内壁に立てかけるように
おくだけでよいので、部品を交換することなくあらゆる
サイズのウェーハキャリヤを乾燥できる。また、乾燥装
置稼動時の容器内の清浄度を常時監視することができ、
ウェーハ表面の逆汚染を未然に防止できる。さらに回転
体側壁に設けられている刀！ン水口の口径は内側が大き
く外側が小さい円錐形となっているので、ウェーハ表面
への水のはね返りが全く発生しない利点もある。 ４、図面の簡単な説明 第１図はこの発明の突施例ウェーハ乾燥装置の要部を示
す断面図、第２図はウェーハ乾燥Ｒ＆稼動時の容器内の
粉塵数測定値である。 （９）・・・脱水口 （３）・・・ウェーハ（
４）・・・ウェーハキャリヤ （５）・・・回転体 （７）・・・回転軸（６
）・・・モータ （８）・・・排気兼排水管イ
１ト上蓋開口 ０ト、サンプリング管代理人 弁
理士 井 上 −男
Claims (1)
- 本体と上蓋とを備える乾燥容器と、この容器内に収納さ
れ、脱水口を設けられている円筒面の内側に、ウェーハ
を収納するウェーハキャリヤをバランス良く放射状に配
置させる有底円筒状回転盤とから成り、回転盤は、底面
外側にとりつけられている回転軸が容器底面を貫通！−
で外部で駆動されることにより回転するものであり、容
器底面は強制吸気水管を開口させ、上蓋は開口を備え、
この開口に円筒内界囲気のサンプリング管を案内させて
いること全特徴とするウェーハ乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57146263A JPS5936930A (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | ウエ−ハ乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57146263A JPS5936930A (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | ウエ−ハ乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5936930A true JPS5936930A (ja) | 1984-02-29 |
Family
ID=15403782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57146263A Pending JPS5936930A (ja) | 1982-08-25 | 1982-08-25 | ウエ−ハ乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5936930A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6232530U (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-26 | ||
| US4777732A (en) * | 1986-06-12 | 1988-10-18 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Wafer centrifugal drying apparatus |
| JPH01107544A (ja) * | 1987-10-21 | 1989-04-25 | Dan Kagaku:Kk | ウェハ乾燥装置 |
| KR20020087307A (ko) * | 2001-05-15 | 2002-11-22 | 삼성전자 주식회사 | 분무형 스핀 드라이어 |
| KR100905226B1 (ko) | 2008-11-04 | 2009-07-01 | 주식회사 동해씨엔텍 | 도금설비용 탈액장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4918614U (ja) * | 1972-05-20 | 1974-02-16 | ||
| JPS5528419A (en) * | 1978-08-16 | 1980-02-29 | Ihara Chikuro Kogyo Kk | Conveyor of matter to be incinerated in incinerator |
-
1982
- 1982-08-25 JP JP57146263A patent/JPS5936930A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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