JPS593698B2 - キヨウメンハンシヤリツソクテイソウチ - Google Patents
キヨウメンハンシヤリツソクテイソウチInfo
- Publication number
- JPS593698B2 JPS593698B2 JP50155367A JP15536775A JPS593698B2 JP S593698 B2 JPS593698 B2 JP S593698B2 JP 50155367 A JP50155367 A JP 50155367A JP 15536775 A JP15536775 A JP 15536775A JP S593698 B2 JPS593698 B2 JP S593698B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- light
- reflected
- incident
- measured
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
ｘ 本発明は、なめらかな平面を有する物体の反射率を
簡単に、精度高＜測定できる鏡面反射率測定装置に関す
るものである。
簡単に、精度高＜測定できる鏡面反射率測定装置に関す
るものである。
従来提案されている物体の平面反射率測定装置としては
色々の方式があるが、その例を第１図、第２図、第３図
に示す。３０第１図では反射プリズムＰにより光源Ｑか
らの光束を既知の反射率を有する標準試料Ｒ、又ぱ被測
定試料ｓに導き、その反射光を光検出素子ＰＭに入射さ
せて行う極めて一般的な方法である。
色々の方式があるが、その例を第１図、第２図、第３図
に示す。３０第１図では反射プリズムＰにより光源Ｑか
らの光束を既知の反射率を有する標準試料Ｒ、又ぱ被測
定試料ｓに導き、その反射光を光検出素子ＰＭに入射さ
せて行う極めて一般的な方法である。
具体的な測定法について説明すると、まず標準試料、■
５Ｒを図の位置にセットするが、一般的にはプリズムヘ
の入射光束がＬｉと出射光束Ｌｏが一致するようにセッ
トされる。このときの光検出素子ＰＭの出力ＥＲは？？
Ｔｎ９ｒｈ昌 として表わされる。
５Ｒを図の位置にセットするが、一般的にはプリズムヘ
の入射光束がＬｉと出射光束Ｌｏが一致するようにセッ
トされる。このときの光検出素子ＰＭの出力ＥＲは？？
Ｔｎ９ｒｈ昌 として表わされる。
ここでＫは定数、Ｉｉは入射光束Ｌｉの強度、Ｐ１はプ
リズムＰの反射率、？は標準試料Ｒの反射率である。次
に被測定試料Ｓを標準試料Ｒと同位置に置き替える。こ
のときの光検出素子ＰＭの出力Ｅｓは（２）式のように
示される。Ｌ） 話 轟 １Ｉ１ｒ階１，．
ここでＳ，は被測定試料Ｓの反射率である。
リズムＰの反射率、？は標準試料Ｒの反射率である。次
に被測定試料Ｓを標準試料Ｒと同位置に置き替える。こ
のときの光検出素子ＰＭの出力Ｅｓは（２）式のように
示される。Ｌ） 話 轟 １Ｉ１ｒ階１，．
ここでＳ，は被測定試料Ｓの反射率である。
（１），（２）より〜
故に Ｓ，＝〔！／ＥＲ）・・Ｒ，となシ〜Ｅｓ゜ＥＲ
は測定値、Ｒｒは既知であるから、被測定試料Ｓの反射
率Ｓｒｌが求められる。
は測定値、Ｒｒは既知であるから、被測定試料Ｓの反射
率Ｓｒｌが求められる。
この方法は構造が簡単である反面、標準試料の反射率と
の相対値を求めるため、安定で高精度の標準試料を必要
とし、又標準試料と被測ｊ定試料との反射率に大きな差
がある場合、誤差が拡大されて正確な測定が困難で更に
入射角も固定されてしまう欠点がある。第２図に卦いて
は、平面反射鏡Ｍは実線で示した位置ど破線で示した位
置に、互に被測定試料面に対し対称になるように移動可
能となつている。測定に際して、まず平面反射鏡Ｍを実
線で示した位置に置いて１００％合わせを行い、次に破
線の位置に平面反射鏡Ｍを移動すると共に、被測定試料
Ｓ″をセツトし、両者の光検出素子の出力の比をとれば
、被沖定試料の反射率の自乗が求められる。この方式で
は第１図のような標準試料Ｒとの比較ではなく、絶対反
射率の測定が可能であるが、装置の構造が複雑とな）、
又入射角が固定され〜被測定試料の面積が小さく出来な
い等の欠点がある。第３図に卦いては、Ｑ′は光源、Ｐ
Ｍ５は光検出素子であジ、ｘは光源Ｑ″と光検出素子Ｐ
Ｍ５を結ぶ光軸上の任意の点である。測定に際しては、
まず光源Ｑ′と光検出素子ＰＭ′を二直線に置き１００
９６合わせを行う。次に被測定試料Ｓｌｌを反射面が点
Ｘの位置にくるようにセツトし、且つ光検出素子ＰＭ″
を点ｘを中心に回転させ、点線の位置に移動して光電出
力を得る。両者の光検出素子出力の比をとれば、被測定
試料の反射率が求めることができる。この方式は上記例
第１図，第２図の入射角が固定される、被測定試料を小
さくできない等の欠点を改善しているが、光検出素子を
回転させなければならない為、構造が複雑となり、又そ
のため後に説明する現在最も一般的で精度高く、更に信
頼性のあるダブルビーム型分光光度計のような他の機器
への応用が困難である。本発明は上記の如き従来の反射
率測定装置の欠点を解決すると共に、操作及び構造が簡
単で又他の機器への応用が容易な高精度の鏡面反射率測
定装置の提供を目的とするもので、以下図面によう詳細
に説明する。
の相対値を求めるため、安定で高精度の標準試料を必要
とし、又標準試料と被測ｊ定試料との反射率に大きな差
がある場合、誤差が拡大されて正確な測定が困難で更に
入射角も固定されてしまう欠点がある。第２図に卦いて
は、平面反射鏡Ｍは実線で示した位置ど破線で示した位
置に、互に被測定試料面に対し対称になるように移動可
能となつている。測定に際して、まず平面反射鏡Ｍを実
線で示した位置に置いて１００％合わせを行い、次に破
線の位置に平面反射鏡Ｍを移動すると共に、被測定試料
Ｓ″をセツトし、両者の光検出素子の出力の比をとれば
、被沖定試料の反射率の自乗が求められる。この方式で
は第１図のような標準試料Ｒとの比較ではなく、絶対反
射率の測定が可能であるが、装置の構造が複雑とな）、
又入射角が固定され〜被測定試料の面積が小さく出来な
い等の欠点がある。第３図に卦いては、Ｑ′は光源、Ｐ
Ｍ５は光検出素子であジ、ｘは光源Ｑ″と光検出素子Ｐ
Ｍ５を結ぶ光軸上の任意の点である。測定に際しては、
まず光源Ｑ′と光検出素子ＰＭ′を二直線に置き１００
９６合わせを行う。次に被測定試料Ｓｌｌを反射面が点
Ｘの位置にくるようにセツトし、且つ光検出素子ＰＭ″
を点ｘを中心に回転させ、点線の位置に移動して光電出
力を得る。両者の光検出素子出力の比をとれば、被測定
試料の反射率が求めることができる。この方式は上記例
第１図，第２図の入射角が固定される、被測定試料を小
さくできない等の欠点を改善しているが、光検出素子を
回転させなければならない為、構造が複雑となり、又そ
のため後に説明する現在最も一般的で精度高く、更に信
頼性のあるダブルビーム型分光光度計のような他の機器
への応用が困難である。本発明は上記の如き従来の反射
率測定装置の欠点を解決すると共に、操作及び構造が簡
単で又他の機器への応用が容易な高精度の鏡面反射率測
定装置の提供を目的とするもので、以下図面によう詳細
に説明する。
第４図において１は光源、２は半透鏡、３は平面反射鏡
４は光検出素子、５は被測定試料〜３゛は３と同特性の
平面反射鏡である。
４は光検出素子、５は被測定試料〜３゛は３と同特性の
平面反射鏡である。
第３図イは被測定試料５を挿入せず、１００％合わせの
場合を示す。光源１からの光束は半透鏡２で反射され、
平面反射鏡３に垂直に入射し、その反射光は半透鏡２を
透過して光検出素子４に入射する。このときの光電出力
をＩＯとすると、ＩＯ峨３）式で表わされ、又説明を容
易にするために光検出素子４の光電出力と光量は比例す
るものとする。１０ゞ且ν五Ｖ１↓ＶＺ▲１
ド′ここにｈは定数、Ｌは
光源からの放射光束、Ｒ１は半透鏡２の反射率、Ｔ１は
半透鏡２の透過率、Ｒ２は平面反射鏡３の反射率である
。
場合を示す。光源１からの光束は半透鏡２で反射され、
平面反射鏡３に垂直に入射し、その反射光は半透鏡２を
透過して光検出素子４に入射する。このときの光電出力
をＩＯとすると、ＩＯ峨３）式で表わされ、又説明を容
易にするために光検出素子４の光電出力と光量は比例す
るものとする。１０ゞ且ν五Ｖ１↓ＶＺ▲１
ド′ここにｈは定数、Ｌは
光源からの放射光束、Ｒ１は半透鏡２の反射率、Ｔ１は
半透鏡２の透過率、Ｒ２は平面反射鏡３の反射率である
。
第４図口は測定状態を示し、光源１からの光束が半透鏡
２で反射され、被測定試料５に入射し、その反射光がイ
図の位置から移動した平面反射鏡３に垂直に入射し、反
射されて再び被測定試料５に入射しその反射光が半透鏡
２を透過して光検出素子４に入射する。このときの光電
出力をＩとすると、Ｉは（４）式のように表わされ、（
３）式と（４）式から被測定試料５の反射率ＲｘはＲｘ
ＶＣＶＩ／ＩＯとして求められる。− − −一
−９，．．−ー一 −ーーー一１Ａ１ここにＲｘは
被測定試料５の反射率である。
２で反射され、被測定試料５に入射し、その反射光がイ
図の位置から移動した平面反射鏡３に垂直に入射し、反
射されて再び被測定試料５に入射しその反射光が半透鏡
２を透過して光検出素子４に入射する。このときの光電
出力をＩとすると、Ｉは（４）式のように表わされ、（
３）式と（４）式から被測定試料５の反射率ＲｘはＲｘ
ＶＣＶＩ／ＩＯとして求められる。− − −一
−９，．．−ー一 −ーーー一１Ａ１ここにＲｘは
被測定試料５の反射率である。
第４図ハは平面反射鏡３を移動させず、該平面反射鏡３
と反射率が同特性の平面反射鏡３゛を使用した場合を示
し、可動部を必要としないから装置を簡単な構造にする
ことができる。尚上記のように反射率特性の同じ複数個
の反射鏡は同時蒸着によう容易に得ることが可能で、以
後の説明にも度々反射率が同じ反射鏡を複数個使用する
が、何ら本装置の実施を阻害するものではない。試料か
らの反射光が垂直に入射するように平面反射鏡３又は３
゛がセツトしてあれば、被測定試料への入射角度を任意
にでき、更に第４図口の如くセツトすれば一眼レフカメ
ラなどに使用されるベンツプリズム５′の透過率測定も
容易に可能である。又光源１を白色光源と分光器で構成
すれば、分光反射率の測定が可能なことは勿論である。
次に第５図により本発明をダブルビーム型分光光度計の
分光反射率アノツチメントとして応用した場合について
説明する。
と反射率が同特性の平面反射鏡３゛を使用した場合を示
し、可動部を必要としないから装置を簡単な構造にする
ことができる。尚上記のように反射率特性の同じ複数個
の反射鏡は同時蒸着によう容易に得ることが可能で、以
後の説明にも度々反射率が同じ反射鏡を複数個使用する
が、何ら本装置の実施を阻害するものではない。試料か
らの反射光が垂直に入射するように平面反射鏡３又は３
゛がセツトしてあれば、被測定試料への入射角度を任意
にでき、更に第４図口の如くセツトすれば一眼レフカメ
ラなどに使用されるベンツプリズム５′の透過率測定も
容易に可能である。又光源１を白色光源と分光器で構成
すれば、分光反射率の測定が可能なことは勿論である。
次に第５図により本発明をダブルビーム型分光光度計の
分光反射率アノツチメントとして応用した場合について
説明する。
第５図イは公知のダブルビーム型分光光度計の光学系を
示す。６は試料室、７は分光器、８は光検出素子、９ａ
，９ｂは固定反射鏡、１０ａ，１０ｂは回転セクター反
射鏡であり、交互に光路上に出入する。
示す。６は試料室、７は分光器、８は光検出素子、９ａ
，９ｂは固定反射鏡、１０ａ，１０ｂは回転セクター反
射鏡であり、交互に光路上に出入する。
このような構造によう、分光器７よシ出た単色光は実線
で示す参照側光束１１ａ１点線で示す試料側光束１１ｂ
となつて試料室６を通過し光検出素子８に入射する。こ
のような構成の分光光度計では通常透過率を測定し、試
料側光束１１ｂの光路中に試料を置けば、参照側光束と
の比によシ透過率を測定することができる。第５図口は
分光反射率測定アタッチメントの側面図、ハは上方から
見た図で、共に試料室６にセツトされた状態を示す。第
５図口，ハにおいて１２，１３，１４，１５，１６は平
面反射鏡、１７は半透鏡であり１色々の参照側光束１１
ａと試料側光束１１ｂの反射、又は透過する部分は同特
性を有するものである。但し平面反射鏡１６は試料側光
束の光路上にのみあればよく、その特性は平面反射鏡１
５と同特性を有するものである。参照側光束及び試料側
光束は分光器７より１１１，１１もとなつてアタツチメ
ントに入射し、その射出光は１１ｄ′，１１１／′ と
なつて光検出素子８に入射する。１８は被測定試料４５
度入射の場合を示しておシ〜反射鏡１６のセツトは被測
定試料１７からの反射光が垂直に入射するように調整し
てある。
で示す参照側光束１１ａ１点線で示す試料側光束１１ｂ
となつて試料室６を通過し光検出素子８に入射する。こ
のような構成の分光光度計では通常透過率を測定し、試
料側光束１１ｂの光路中に試料を置けば、参照側光束と
の比によシ透過率を測定することができる。第５図口は
分光反射率測定アタッチメントの側面図、ハは上方から
見た図で、共に試料室６にセツトされた状態を示す。第
５図口，ハにおいて１２，１３，１４，１５，１６は平
面反射鏡、１７は半透鏡であり１色々の参照側光束１１
ａと試料側光束１１ｂの反射、又は透過する部分は同特
性を有するものである。但し平面反射鏡１６は試料側光
束の光路上にのみあればよく、その特性は平面反射鏡１
５と同特性を有するものである。参照側光束及び試料側
光束は分光器７より１１１，１１もとなつてアタツチメ
ントに入射し、その射出光は１１ｄ′，１１１／′ と
なつて光検出素子８に入射する。１８は被測定試料４５
度入射の場合を示しておシ〜反射鏡１６のセツトは被測
定試料１７からの反射光が垂直に入射するように調整し
てある。
測定方法を以下に説明すると、まず被測定試料を置かず
に、一般のダブルビーム型分光光度計を使川して透過率
を測定する際の零点合わせ、１００％合わせ等の予備操
作を行つた後、第５図口の如く被測定試料１８をセツト
して通常の透過率測定のときと同様操作で測定を行えば
、この測定結果の平方根が反射率となるのは第４図で説
明したとおうである。
に、一般のダブルビーム型分光光度計を使川して透過率
を測定する際の零点合わせ、１００％合わせ等の予備操
作を行つた後、第５図口の如く被測定試料１８をセツト
して通常の透過率測定のときと同様操作で測定を行えば
、この測定結果の平方根が反射率となるのは第４図で説
明したとおうである。
又あらかじめ分光光度計を演算出力の平方根が出て〈る
ようにしておけば、直読で反射率が求められよシ測定が
簡単になるｏ一般に光源からの光束は平行光ではなく、
広がＤをもつ為、例えばペン汐プリズム１９の透過率の
測定のように、１００％合わせ時と被測定試料を光路に
入れた時とで光路長が異なる鴨合、光検出素子の入射光
の面積が各々異なるので、光検出素子として光電子増倍
管のように受光面が極値性を有するものを使用する場合
、入力が常に同一場所同一面積に入射しなければ誤差を
生じる。
ようにしておけば、直読で反射率が求められよシ測定が
簡単になるｏ一般に光源からの光束は平行光ではなく、
広がＤをもつ為、例えばペン汐プリズム１９の透過率の
測定のように、１００％合わせ時と被測定試料を光路に
入れた時とで光路長が異なる鴨合、光検出素子の入射光
の面積が各々異なるので、光検出素子として光電子増倍
管のように受光面が極値性を有するものを使用する場合
、入力が常に同一場所同一面積に入射しなければ誤差を
生じる。
これを防ぐには１００チ合わせ時と測定時の光路長とが
等しくなるようにすればよく、第４図口，ハにおける３
，３′、第５図における１６の平面反射鏡を被測定試料
からの入射光の光軸方向に移動可能の構造にして光路長
が同じになるように調整すればよい。この構造による光
路長の調整を第５図の場合について説明する。まず１０
０％合わせ時、平面反射鏡１５の反射面の位置にスリガ
ラスのようなスクリーンを置き、光束の面積を測定する
。次に被測定試料例えばペンタプリズム１９をセツトし
、平面反射鏡１６の反射面の位置に同様にスクリーンを
置き、光束の面噴を測定し、、先に測定した面積と等し
くなるようにスクリーンを光軸方向に移動する。面積が
等しくなつた位置に表面反射鏡１６をセツトすれば１０
０％合わせ時と測定時の光路長を等しくすることができ
る。以上に述べた如く、本発明の構成によれば、絶対反
射率の測定が可能で、標準試料を必要とせず光束を絞れ
ば微小面積の測定が可能で、入射角も０度及び９０度の
近くを除〈任意の角度が可能であジ、又受光部等の移動
を必要としないので構造が簡単となｂダブルビーム型分
光光度計への応用も容易で、且つ参照側、試料側で反射
鏡、半透鏡による反射、透過の回数、角度が等しく構成
でき、光路長も簡単にあわせることが可能なので、参照
側、試料側の光学的特性、光検出素子の光電面の入射条
件が等しい為、高精度の測定ができ、更に平面鏡の反射
率に限らず、ペンタプリズムの反射率も含めた総合透過
率の測定も容易に行うことが可能でその効果は大きい。
等しくなるようにすればよく、第４図口，ハにおける３
，３′、第５図における１６の平面反射鏡を被測定試料
からの入射光の光軸方向に移動可能の構造にして光路長
が同じになるように調整すればよい。この構造による光
路長の調整を第５図の場合について説明する。まず１０
０％合わせ時、平面反射鏡１５の反射面の位置にスリガ
ラスのようなスクリーンを置き、光束の面積を測定する
。次に被測定試料例えばペンタプリズム１９をセツトし
、平面反射鏡１６の反射面の位置に同様にスクリーンを
置き、光束の面噴を測定し、、先に測定した面積と等し
くなるようにスクリーンを光軸方向に移動する。面積が
等しくなつた位置に表面反射鏡１６をセツトすれば１０
０％合わせ時と測定時の光路長を等しくすることができ
る。以上に述べた如く、本発明の構成によれば、絶対反
射率の測定が可能で、標準試料を必要とせず光束を絞れ
ば微小面積の測定が可能で、入射角も０度及び９０度の
近くを除〈任意の角度が可能であジ、又受光部等の移動
を必要としないので構造が簡単となｂダブルビーム型分
光光度計への応用も容易で、且つ参照側、試料側で反射
鏡、半透鏡による反射、透過の回数、角度が等しく構成
でき、光路長も簡単にあわせることが可能なので、参照
側、試料側の光学的特性、光検出素子の光電面の入射条
件が等しい為、高精度の測定ができ、更に平面鏡の反射
率に限らず、ペンタプリズムの反射率も含めた総合透過
率の測定も容易に行うことが可能でその効果は大きい。
第１，２，３図は従来の鏡面反射率測定装置。
第４図は本発明の鏡面反射率測定装置。第５図は本発明
によるダブルビーム型分光光度計用鏡面反射率測定装置
。Ｑ，Ｑ″ ：光源、ＰＭ，ＰＭ′：光検出素子、Ｓ，
Ｓ′ ：Ｓ″：被測定試料、Ｒ：標準試料、Ｍ：反射鏡
、１：光源、２：半透鏡、３，３／：反射鏡、４：光検
出素子、５，５′ ：被測定試料、６：分光光度計試料
室、７：分光器、８：光検出素子、９ａ，９ｂ：反射鏡
、１０ａ，１０ｂ：回転セクター反射鏡、１１ａ，１１
ｂ：光束、１１ａ′１１ｂ５：光束、１２，１３，１４
，１５，１６：反射鏡、１７：半透鏡、１８，１９：被
測定試料。
によるダブルビーム型分光光度計用鏡面反射率測定装置
。Ｑ，Ｑ″ ：光源、ＰＭ，ＰＭ′：光検出素子、Ｓ，
Ｓ′ ：Ｓ″：被測定試料、Ｒ：標準試料、Ｍ：反射鏡
、１：光源、２：半透鏡、３，３／：反射鏡、４：光検
出素子、５，５′ ：被測定試料、６：分光光度計試料
室、７：分光器、８：光検出素子、９ａ，９ｂ：反射鏡
、１０ａ，１０ｂ：回転セクター反射鏡、１１ａ，１１
ｂ：光束、１１ａ′１１ｂ５：光束、１２，１３，１４
，１５，１６：反射鏡、１７：半透鏡、１８，１９：被
測定試料。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ １００％更正時には光源１からの光束が半透鏡２で
反射され、反射鏡３に垂直に入射し、その反射鏡が入射
光と同一光路を逆行し、半透鏡２を透過して光検出素子
４に入射する光録を構成し、測定時には光源１からの光
束が半透鏡２で反射され、被測定試料５に入射し、その
反射光が反射鏡３に垂直に入射し、その反射光が入射光
と同一光路を逆行し、被測定試料５で反射され、半透鏡
２を透過して光検出素子４に入射する光路を構成して、
該１００％更正時の光検出素子に入射する光束と該測定
時の光検出素子に入射する光束との比により、被測定試
料５の反射率を求めることを特徴とする鏡面反射率測定
装置。 ２ １００％更正時には光源１からの光束が半透鏡２で
反射され、反射鏡３に垂直に入射し、その反射光が入射
光と同一光路を逆行し、半透鏡２を透過して光検出素子
４に入射する光路を構成し、測定時には光源１からの光
束が半透鏡２で反射され、被測定試料５に入射し、その
反射光が反射鏡３に垂直に入射し、その反射光が入射光
と同一光路を逆行し、被測定試料５で反射され、半透鏡
２を透過して光検出素子４に入射する光録を構成して、
該１００％更正時の光検出素子に入射する光束と該測定
時の光検出素子に入射する光束との比により、被測定試
料５の反射率を求める装置において、ダブルビーム型分
光光度計の試料室内の参照側に前記１００％更正時の光
路、試料側に前記測定時の光路をそれぞれ置いたことを
特徴とする鏡面反射率測定装置。 ３ １００％更正時には光源１からの光束が半透鏡２で
反射され、反射光３に垂直に入射し、その反射光が入射
光と同一光路を逆行し、半透鏡２を透過して光検出素子
４に入射する光路を構成し、測定時には光源１からの光
束が半透鏡２で反射され、被測定試料５に入射し、その
反射光が反射鏡３に垂直に入射し、その反射光が入射光
と同一光路を逆行し、被測定試料５で反射され、半透鏡
２を透過して光検出素子４に入射する光路を構成して、
該１００％更正時の光検出素子に入射する光束と該測定
時の光検出素子に入射する光束との比により、被測定試
料５の反射率を求める装置において、前記反射鏡３が被
測定試料５からの反射光の光軸方向に移動可能となし、
前記１００％更正時の光路長と前記測定の光路長を同一
とすることを特徴とする鏡面反射率測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50155367A JPS593698B2 (ja) | 1975-12-25 | 1975-12-25 | キヨウメンハンシヤリツソクテイソウチ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50155367A JPS593698B2 (ja) | 1975-12-25 | 1975-12-25 | キヨウメンハンシヤリツソクテイソウチ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5278484A JPS5278484A (en) | 1977-07-01 |
| JPS593698B2 true JPS593698B2 (ja) | 1984-01-25 |
Family
ID=15604363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50155367A Expired JPS593698B2 (ja) | 1975-12-25 | 1975-12-25 | キヨウメンハンシヤリツソクテイソウチ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593698B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2115141B (en) * | 1982-02-19 | 1985-09-04 | Ici Plc | Surface coating characterisation |
| WO2012157190A1 (ja) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | コニカミノルタオプティクス株式会社 | 反射特性測定装置用光学系および反射特性測定装置 |
-
1975
- 1975-12-25 JP JP50155367A patent/JPS593698B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5278484A (en) | 1977-07-01 |
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