JPS5938238A - 透明導電性フイルム - Google Patents
透明導電性フイルムInfo
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- JPS5938238A JPS5938238A JP14767582A JP14767582A JPS5938238A JP S5938238 A JPS5938238 A JP S5938238A JP 14767582 A JP14767582 A JP 14767582A JP 14767582 A JP14767582 A JP 14767582A JP S5938238 A JPS5938238 A JP S5938238A
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- film
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- electrically conductive
- conductive transparent
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Links
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Landscapes
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、改良された透明導電性フィルムに関する。
最近、著しい発展をとげているオプトエレクトロニクス
に不可欠な透明導電性フィルムとしてプラスチックフィ
ルムに金属又はその酸化物を蒸着したものが多く用いら
れる。特にポリエステルフィルムに酸化インジウム／酸
化スズ（ＩＴＯ）を蒸着したものが主に利用される。
に不可欠な透明導電性フィルムとしてプラスチックフィ
ルムに金属又はその酸化物を蒸着したものが多く用いら
れる。特にポリエステルフィルムに酸化インジウム／酸
化スズ（ＩＴＯ）を蒸着したものが主に利用される。
酸化インジウム／酸化スズをプラスチックフィルムに蒸
着する方法は、いくつか提案されている。
着する方法は、いくつか提案されている。
（１）インジウム（Ｉｎ）／スズ（Ｓｎ）金属を低圧酸
素中で反応蒸着する方法 特公昭４０−１４３０４、特公昭４３−８１３７（２）
インジウム／スズ金属の低酸化物を蒸着した後、酸化処
理する方法 特公昭５１−３５４３１ しかしながら、これらの方法で得られた透明導電性フィ
ルムは、種々の点で満足のいくものではなかった。
素中で反応蒸着する方法 特公昭４０−１４３０４、特公昭４３−８１３７（２）
インジウム／スズ金属の低酸化物を蒸着した後、酸化処
理する方法 特公昭５１−３５４３１ しかしながら、これらの方法で得られた透明導電性フィ
ルムは、種々の点で満足のいくものではなかった。
本発明者らは、さらにすぐれた透明導電性フィルムの開
発に努力し、本発明を完成したものである。
発に努力し、本発明を完成したものである。
すなわち、本発明はプラスチックフィルム上にスズの含
有量が８〜１４モル係の酸化インジウム／酸化スズの合
金をターゲットとしてスパッタリング法により蒸着した
ことを特徴とする透明導電性フィルムに関するものであ
る。
有量が８〜１４モル係の酸化インジウム／酸化スズの合
金をターゲットとしてスパッタリング法により蒸着した
ことを特徴とする透明導電性フィルムに関するものであ
る。
本発明で得られたフィルムの特徴は次のとおりである。
■ ＩＴＯ膜の厚み方向におけるＳｎ ／ Ｉ ｎ １
０２の比率がはｇ一定である。
０２の比率がはｇ一定である。
■ したがって、蒸着金属（ターゲット）のスズの含有
量が８〜１４ｍ０１％であること＼あいまって、エツチ
ング加工性にすぐれている。
量が８〜１４ｍ０１％であること＼あいまって、エツチ
ング加工性にすぐれている。
■ さらには、スパッタリング法のため、プラスチック
フィルムとの密着とがすぐれている。
フィルムとの密着とがすぐれている。
■ 又、本発明のＩＴＯ膜は、従来のものに比べ抵抗値
が比較的安定であり、且つ耐化学薬品性、耐機械性等に
もすぐれている。
が比較的安定であり、且つ耐化学薬品性、耐機械性等に
もすぐれている。
■ したがって、本発明のフィルムは、ＥＬ電極、タッ
チパネル、電機じゃへい板、透明導電性ノ・−ネス等の
透明性が要求されるエレクトロエックス材料に最適に用
いられる。
チパネル、電機じゃへい板、透明導電性ノ・−ネス等の
透明性が要求されるエレクトロエックス材料に最適に用
いられる。
本発明で用−・られるプラスチックフィルムとしては、
フィルム化できるプラスチックであれば、いかなるもの
でも良いが、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリイシド樹脂、。
フィルム化できるプラスチックであれば、いかなるもの
でも良いが、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリイシド樹脂、。
ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂などが用いられる。
可視光透過率が８０ｑ６以上、厚さが２０〜２００μの
フィルムが用いられる。
フィルムが用いられる。
又、ターゲットは、酸化インジウム／酸化スズの合金で
、合金中のスズの含有量は８〜１４モル係である。
、合金中のスズの含有量は８〜１４モル係である。
本発明の蒸着方法は、スパッタリング法でありＤＣおよ
び／又はＲＦスパッタリング法、又はＤＣおよび／又は
ＲＦ反応スパッタリング法である。
び／又はＲＦスパッタリング法、又はＤＣおよび／又は
ＲＦ反応スパッタリング法である。
スパッタリングの条件は、一般に用いられるもので゛良
い。
い。
本発明で得られた蒸着膜の内容は次のとおりである。
厚 み： ５０〜５００Ａ
表面抵抗：１００〜１００，０００Ω／口可視光線透過
率： ５０％以上（波長５５０ｔｒＬμ）本発明の蒸着
膜の厚み方向のＳ ｎ ／ Ｉ ｎ ／ ０２ の比
率はＥＳＣＡＳＣ上よれば、はｇ一定である。
率： ５０％以上（波長５５０ｔｒＬμ）本発明の蒸着
膜の厚み方向のＳ ｎ ／ Ｉ ｎ ／ ０２ の比
率はＥＳＣＡＳＣ上よれば、はｇ一定である。
又、蒸着膜のＳ ｎ ／ Ｉ ｎの比率を螢光Ｘ線分析
法により求めると、０．０４〜０．１０である。
法により求めると、０．０４〜０．１０である。
以下実施例及び比較例により本発明を説明する。
実施例１
厚さ１００μのポリエチレンテレフタレートフィルムを
基板とし、ＤＣスパッタリング法により酸化スズ／酸化
インジウム合金をターゲットとして、透明導電性フィル
ムを形成した。
基板とし、ＤＣスパッタリング法により酸化スズ／酸化
インジウム合金をターゲットとして、透明導電性フィル
ムを形成した。
スパッタリング条件は次の＼とおり。
■ ターゲット： 酸化インジウム ８９ｍｏ １％
酸化スズ ｌ１ｍｏｌ係 ■ガ ス：アルゴン１（１０係 ■圧 カニ ｌＸ１ｏ Ｔｏｒｒ得られた透明導
電性フィルムの性能は次のとおり。
酸化スズ ｌ１ｍｏｌ係 ■ガ ス：アルゴン１（１０係 ■圧 カニ ｌＸ１ｏ Ｔｏｒｒ得られた透明導
電性フィルムの性能は次のとおり。
■蒸着膜の厚み＝ ２００ＯＡ
■表面抵抗二８０００／口
■ 可視光透過率二 ８５％（波長５５ｏｆｎμ）
参考例 得られた透明導電性フィルム上に、通常良（使用される
フォトレジストを用い、線巾１ ｍｍのパターンを現像
し、次に塩酸酸性塩化第二鉄溶液（濃度４２ Ｂｅ’
）中に３０秒浸してエツチングし、次にレジストを剥離
した。
参考例 得られた透明導電性フィルム上に、通常良（使用される
フォトレジストを用い、線巾１ ｍｍのパターンを現像
し、次に塩酸酸性塩化第二鉄溶液（濃度４２ Ｂｅ’
）中に３０秒浸してエツチングし、次にレジストを剥離
した。
エツチングは非常にやりやすく、得られたものもエツチ
ング性が良好であった。′ 一方、本特許請求範囲外のＳｎ濃度をもつターゲットを
使用して蒸着したフィルムでは、すぐれたエツチング性
は得られなかった。
ング性が良好であった。′ 一方、本特許請求範囲外のＳｎ濃度をもつターゲットを
使用して蒸着したフィルムでは、すぐれたエツチング性
は得られなかった。
特許出願人
ダイセル化学工業株式会社
Claims (1)
- プラスチックフィルム上に、スズの含有量が８〜１４重
量係重量化インジウム／酸化スズの合金をターゲットと
してスパッタリング法により蒸着したことを特徴とする
透明導電性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14767582A JPS5938238A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | 透明導電性フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14767582A JPS5938238A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | 透明導電性フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5938238A true JPS5938238A (ja) | 1984-03-02 |
Family
ID=15435733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14767582A Pending JPS5938238A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | 透明導電性フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5938238A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1595696A3 (en) * | 1998-05-15 | 2006-02-01 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Transparent conductive films and touch panels |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53118417A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-16 | Asahi Glass Co Ltd | Production of glass with transparent* electrically conductive coat of sno2 |
-
1982
- 1982-08-27 JP JP14767582A patent/JPS5938238A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53118417A (en) * | 1977-03-25 | 1978-10-16 | Asahi Glass Co Ltd | Production of glass with transparent* electrically conductive coat of sno2 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1595696A3 (en) * | 1998-05-15 | 2006-02-01 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Transparent conductive films and touch panels |
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