JPS5939775A - セラミツク射出成形体の脱脂方法 - Google Patents
セラミツク射出成形体の脱脂方法Info
- Publication number
- JPS5939775A JPS5939775A JP57149721A JP14972182A JPS5939775A JP S5939775 A JPS5939775 A JP S5939775A JP 57149721 A JP57149721 A JP 57149721A JP 14972182 A JP14972182 A JP 14972182A JP S5939775 A JPS5939775 A JP S5939775A
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- JP
- Japan
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- molded body
- injection molded
- degreasing
- ceramic
- ceramic injection
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本光明は、L!ラミック則出出成形体脱脂lJ法に関づ
る。
る。
レラミック祠利は、近イ[、自動小部品、耐熱月利、電
子月利等、その用途が急速に拡がりつつあり、それに伴
い、製品の形状も複雑化の傾向にある。
子月利等、その用途が急速に拡がりつつあり、それに伴
い、製品の形状も複雑化の傾向にある。
そのため、セラミック材料を、複雑な形状の成形品に、
精度良く、かつ能率的に成形する方法として、適当な有
機物とセラミック月オ゛31との混合物を成形する、い
わゆる射出成形法が採用されている。
精度良く、かつ能率的に成形する方法として、適当な有
機物とセラミック月オ゛31との混合物を成形する、い
わゆる射出成形法が採用されている。
しかし、射出成形法により成形した場合は、成形後に、
前記有機物の除去、即ち、脱脂をi)なわなければなら
ない。
前記有機物の除去、即ち、脱脂をi)なわなければなら
ない。
従来、かかるゼラミック射出成形体の脱脂は、空気中、
又は不活性ガス雰囲気中で、該成形体を加熱することに
よって行41っていた。
又は不活性ガス雰囲気中で、該成形体を加熱することに
よって行41っていた。
しかし、空気中で加熱する場合は、酸化反応により発生
Jるガスや、有機物の忠激な熱分解に起因する、該成形
体の変形、クラック等を防止りるため、昇温速度を)ヱ
くしなりればならず、能率が悪かった。また、いかに昇
温速度を遅−くしても、若干の不良品の発生を免れるこ
とはできなかった。
Jるガスや、有機物の忠激な熱分解に起因する、該成形
体の変形、クラック等を防止りるため、昇温速度を)ヱ
くしなりればならず、能率が悪かった。また、いかに昇
温速度を遅−くしても、若干の不良品の発生を免れるこ
とはできなかった。
−万年活性ガス雰囲気中で加熱する場合は、酸化反応は
生じないという利点はあるものの、有機物を熱分解し、
除去するlζめには説脂渇度を、空気中での1112脂
温度にす^くしなければなら4にいため、この方法もま
た能率が悪く、人種生産に不向きであった。
生じないという利点はあるものの、有機物を熱分解し、
除去するlζめには説脂渇度を、空気中での1112脂
温度にす^くしなければなら4にいため、この方法もま
た能率が悪く、人種生産に不向きであった。
さらに、空気中、不活性ガス雰囲気中、いづれの場合し
、41機物の分解生成物を揮発除去さぜる1、−めに、
一定のガス気流中(゛加熱Jる必要があるにもかかわら
ず、ガス流量の制御は困難であった。
、41機物の分解生成物を揮発除去さぜる1、−めに、
一定のガス気流中(゛加熱Jる必要があるにもかかわら
ず、ガス流量の制御は困難であった。
本発明は、かかる事情に鑑み案出されたものであり、脱
脂時におりるセラ・ミック射出成形体の変形、クラック
の発生等の不良を防止りるとともに、脱脂部間そのもの
を短縮し、作業能率の良い1111脂方法をL)えるも
のである。
脂時におりるセラ・ミック射出成形体の変形、クラック
の発生等の不良を防止りるとともに、脱脂部間そのもの
を短縮し、作業能率の良い1111脂方法をL)えるも
のである。
即ら、本発明のm>脂Ij法とは、セラミック射出成形
体を、真空条f’l+で加熱づることによって、脱脂す
るものである。ここに、真空条件は、10−1 mm1
−1!] 〜10−4mmHu稈瓜の1f力が良い。ま
た、加熱濡洩は、特殊な例外を除き、通常200〜35
0℃程度である。
体を、真空条f’l+で加熱づることによって、脱脂す
るものである。ここに、真空条件は、10−1 mm1
−1!] 〜10−4mmHu稈瓜の1f力が良い。ま
た、加熱濡洩は、特殊な例外を除き、通常200〜35
0℃程度である。
本発明の方法により脱脂し得るセラミック射出成形体の
セラミック材料は従来のヒラミック材料をそのま゛ま使
用できる。たとえば、窒化珪素(Si 3N4)、炭化
珪素(SiC)、アルミナ(A1203)、ジルコニア
(Zr02)、窒化アルミニウム(AIN)、窒化ホウ
素(BN)などである。窒化物等には、焼結助剤として
、マグネシア(MgO)、アルミナ(A1103)、イ
ン1−リア(Y2O2)、酸化ベリリウム(BcO)、
酸化セレン(CeO)等を混合したものであってもよい
。
セラミック材料は従来のヒラミック材料をそのま゛ま使
用できる。たとえば、窒化珪素(Si 3N4)、炭化
珪素(SiC)、アルミナ(A1203)、ジルコニア
(Zr02)、窒化アルミニウム(AIN)、窒化ホウ
素(BN)などである。窒化物等には、焼結助剤として
、マグネシア(MgO)、アルミナ(A1103)、イ
ン1−リア(Y2O2)、酸化ベリリウム(BcO)、
酸化セレン(CeO)等を混合したものであってもよい
。
また、混合される有機物としては、ボリア1」ピレン、
ポリエチレン、ポリスチレン、あるいはエチレン酢酸ビ
ニル共重合体、アタ、タテイックポリプロピレン、合成
ゴム等のポリマ、あるいは、パラフィン、ワックス、ス
デアリン酸、ジエヂルフタレート等がある。
ポリエチレン、ポリスチレン、あるいはエチレン酢酸ビ
ニル共重合体、アタ、タテイックポリプロピレン、合成
ゴム等のポリマ、あるいは、パラフィン、ワックス、ス
デアリン酸、ジエヂルフタレート等がある。
本発明の方法により脱脂を行なうと、加熱されてセラミ
ック射出成形体の表面に滲み出てくる有機物が、減圧下
でずみやかに揮発除去されるため、能率的に脱脂するこ
とができる。また、酸化反応も抑制されるため、不良品
の発生が防止される。
ック射出成形体の表面に滲み出てくる有機物が、減圧下
でずみやかに揮発除去されるため、能率的に脱脂するこ
とができる。また、酸化反応も抑制されるため、不良品
の発生が防止される。
以下、実施例に即し、本発明を具体的に説明する。
第1実施例
まず、内径2Qmm、外径50 mm、 (<さ50m
mの円筒状のセラミック射出成形体を多数用意した。
mの円筒状のセラミック射出成形体を多数用意した。
これは、窒化珪素(Si 3N4)粉末に、焼結助剤と
して、スピネル(MgAt 204 )及びイツトリア
(Y2O2)を、各4%加え、さらにアタクティックボ
リブロビレンを9%、1−チレン酢酸ビニル共重合体(
EVΔ)を6%添加し、200℃で111¥間、ニーダ
中で混練し、次に、二軸押出し機ににす、5IIIII
lφX101IIIIの円柱状ベレッ1〜とし、これを
、通常の射出成形機を用い一〇、樹脂4180℃、射出
圧900Kg/cm2の条f′1で1またものである。
して、スピネル(MgAt 204 )及びイツトリア
(Y2O2)を、各4%加え、さらにアタクティックボ
リブロビレンを9%、1−チレン酢酸ビニル共重合体(
EVΔ)を6%添加し、200℃で111¥間、ニーダ
中で混練し、次に、二軸押出し機ににす、5IIIII
lφX101IIIIの円柱状ベレッ1〜とし、これを
、通常の射出成形機を用い一〇、樹脂4180℃、射出
圧900Kg/cm2の条f′1で1またものである。
かかるセラミック射出成形体を、10−3 mm11g
の真空中で、常温から350℃よ′C−10”C/b。
の真空中で、常温から350℃よ′C−10”C/b。
旧゛の速度で!fiI渇した後、350て:に/I I
+、’l聞保ら、その後室温まで冷却した。
+、’l聞保ら、その後室温まで冷却した。
このにうにしで1!7られた脱脂品の表面及び切断面を
実体顕微鏡で、また、未切断品の内部をX線写真によっ
て、各50個観察したが、50個中いずれも、亀裂、ふ
くれ、剥離等の異常は認められなかった。
実体顕微鏡で、また、未切断品の内部をX線写真によっ
て、各50個観察したが、50個中いずれも、亀裂、ふ
くれ、剥離等の異常は認められなかった。
一方、真空度を10″″lmm1−1gとし、他の条件
はすべて同じくして脱脂した脱脂品について、同様に検
査したところ、表面に亀裂等の異常があったものは50
個中1個、内部に異常があったものは50個中10個で
あった。
はすべて同じくして脱脂した脱脂品について、同様に検
査したところ、表面に亀裂等の異常があったものは50
個中1個、内部に異常があったものは50個中10個で
あった。
次に、このようにして111だ脱脂品を、それぞれ窒素
(N2)雰囲気で4時間、1750℃に加熱して焼成し
、得られた焼結晶について、X線写薊[による検査を行
なった。その結果、10−31111118gで脱脂し
た後焼成したものは、50個すべてに異常は認められな
かったが、10− ’ mm1−1gで脱脂【)た後焼
成したものは、50個中25個に、異常が生じていた。
(N2)雰囲気で4時間、1750℃に加熱して焼成し
、得られた焼結晶について、X線写薊[による検査を行
なった。その結果、10−31111118gで脱脂し
た後焼成したものは、50個すべてに異常は認められな
かったが、10− ’ mm1−1gで脱脂【)た後焼
成したものは、50個中25個に、異常が生じていた。
また、比較のために人気中で脱脂した後、焼成したもの
について検査したところ、50個すべてに異常が生じて
いた。
について検査したところ、50個すべてに異常が生じて
いた。
なお、本実施例では、脱脂は、図に示す装置を用い0行
41っだ。
41っだ。
即し、減圧十でもが温可能イ1加熱炉木休10内の棚1
01 、J二に、しラミック射出成形品2を載置し、真
空ポンプ12で炉内を10−3 mm1l (J又はl
Q −1+nn日1gに減圧し、加熱ヒーター100
r350 ℃J:で、前)ホの如く加熱したのC゛あ
る。なお、真空ポンプ12ど、加熱炉本体10どの間に
は、トラッパ11が設置され、41機物の分解生成物を
吸収づるようになっている。;−ジッパ11の内部には
、スアンレス×はレフミツクのフilイバ110が充填
され、また、1ヘラツバ11の周囲GjTは、冷却バイ
ブ111が巻かれ−(いる。
01 、J二に、しラミック射出成形品2を載置し、真
空ポンプ12で炉内を10−3 mm1l (J又はl
Q −1+nn日1gに減圧し、加熱ヒーター100
r350 ℃J:で、前)ホの如く加熱したのC゛あ
る。なお、真空ポンプ12ど、加熱炉本体10どの間に
は、トラッパ11が設置され、41機物の分解生成物を
吸収づるようになっている。;−ジッパ11の内部には
、スアンレス×はレフミツクのフilイバ110が充填
され、また、1ヘラツバ11の周囲GjTは、冷却バイ
ブ111が巻かれ−(いる。
第2実茄例
第2実施例では、レフミツクロ1出成形品の月オ゛)1
として、アルミナ(Δ1203)粉末を用い、これに有
機物として、ポリエチレン9%、1−チレン酢酸ビニル
Jl−小合体;5%、バラ−ツイン1%を添加し lこ
。
として、アルミナ(Δ1203)粉末を用い、これに有
機物として、ポリエチレン9%、1−チレン酢酸ビニル
Jl−小合体;5%、バラ−ツイン1%を添加し lこ
。
他の条件は、リベて第1実施例と同じである。
即ら、該成形品の形状は、内径2Qmm、外径1)0m
I111長さ5脂mmの円筒であり、これを10−3
mmH(]又(よ10− ’ mm1−1gの減圧下で
、350℃まで10℃/hourで加熱し、350℃に
4115間保った後、冷却した。
I111長さ5脂mmの円筒であり、これを10−3
mmH(]又(よ10− ’ mm1−1gの減圧下で
、350℃まで10℃/hourで加熱し、350℃に
4115間保った後、冷却した。
その結果、10−3 mn+I−toで脱脂した成形品
は、表面、及び内部のX線写真のいずれにムまったく異
常は認められなかった。
は、表面、及び内部のX線写真のいずれにムまったく異
常は認められなかった。
一方、10 ”−1mm1−1o −(1152脂L
タB 脂品”(” GEL、50個細巾個の表面に亀裂
等の異常があり、J、た、X線検査ににす、内部に異常
が認められたしのは50個中12個であった。
タB 脂品”(” GEL、50個細巾個の表面に亀裂
等の異常があり、J、た、X線検査ににす、内部に異常
が認められたしのは50個中12個であった。
次に、このようにして得た成形品を第1実施例と同様、
窒素雰囲気で4時間、1750℃に加熱して焼成し、得
られた焼結晶につさ゛、X線写真による検査を行なった
。
窒素雰囲気で4時間、1750℃に加熱して焼成し、得
られた焼結晶につさ゛、X線写真による検査を行なった
。
その結果、10−3 mm1−19で脱脂後焼結したし
のは、50個すべてに、まったく異常は認められなかっ
たが、10−1 mm1−19で脱脂後焼結(ノたbの
は、50個中23個に異常が認められた。
のは、50個すべてに、まったく異常は認められなかっ
たが、10−1 mm1−19で脱脂後焼結(ノたbの
は、50個中23個に異常が認められた。
以上、実施例により詳述したところからし明らかな如く
、本発明の方法にJ、す;192脂を行なうと、変形、
クラックの発生等の不良を右列に防止り−ることがC・
ぎる。また、不活性ガス雰囲気下での脱脂に比し、低温
で脱脂eきるため、能率的かつ、経済的である。
、本発明の方法にJ、す;192脂を行なうと、変形、
クラックの発生等の不良を右列に防止り−ることがC・
ぎる。また、不活性ガス雰囲気下での脱脂に比し、低温
で脱脂eきるため、能率的かつ、経済的である。
図は、本発明の11;2脂を行なう装買の模式図である
。 10・・・加熱炉本体 100・・・加熱ヒーター1
01・・・棚 2・・・セラミックIJJ出成形品1
1・・・1〜ラツパ 12・・・真空ポンプ特51出
願人 1〜]夕自動車株式会社代理人 弁理丁1
大 川 広
。 10・・・加熱炉本体 100・・・加熱ヒーター1
01・・・棚 2・・・セラミックIJJ出成形品1
1・・・1〜ラツパ 12・・・真空ポンプ特51出
願人 1〜]夕自動車株式会社代理人 弁理丁1
大 川 広
Claims (2)
- (1)ヒラミックと41機物の混合物をD=J出成形成
形得たセラミック剣山成形体を、加熱()、該ヒラミツ
ク射出成形体より該有機物を除去づる、セラミック射出
成形体の脱脂方法において、前記加熱を、減圧上でtr
1.’cい、11;2脂りることを特徴どりる、しラ
ミック削出成形体の++b脂yj法。 - (2)前記減圧が10 3 mm1l g程度より高度
の真空であることを特徴とする特61請求の範囲第1項
記載の脱脂り法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57149721A JPS5939775A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | セラミツク射出成形体の脱脂方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57149721A JPS5939775A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | セラミツク射出成形体の脱脂方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5939775A true JPS5939775A (ja) | 1984-03-05 |
Family
ID=15481360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57149721A Pending JPS5939775A (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | セラミツク射出成形体の脱脂方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5939775A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61205672A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-11 | 株式会社日本製鋼所 | 非酸化物系セラミツクス焼結体の製造方法 |
| JPS62202873A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | 株式会社 リケン | セラミツクス焼結体の製造方法 |
| US4873208A (en) * | 1985-06-10 | 1989-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Holder for sealing member |
| US5087594A (en) * | 1988-12-24 | 1992-02-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic material for injection molding and method of injection molding using the same |
-
1982
- 1982-08-27 JP JP57149721A patent/JPS5939775A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61205672A (ja) * | 1985-03-06 | 1986-09-11 | 株式会社日本製鋼所 | 非酸化物系セラミツクス焼結体の製造方法 |
| US4873208A (en) * | 1985-06-10 | 1989-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Holder for sealing member |
| JPS62202873A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-07 | 株式会社 リケン | セラミツクス焼結体の製造方法 |
| US5087594A (en) * | 1988-12-24 | 1992-02-11 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic material for injection molding and method of injection molding using the same |
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