JPS5940340A - 情報記録担体の製造方法 - Google Patents
情報記録担体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5940340A JPS5940340A JP57150553A JP15055382A JPS5940340A JP S5940340 A JPS5940340 A JP S5940340A JP 57150553 A JP57150553 A JP 57150553A JP 15055382 A JP15055382 A JP 15055382A JP S5940340 A JPS5940340 A JP S5940340A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- disk
- resin base
- information recording
- base materials
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光学的記録あるいは再生方式に使用される円
盤状の情報記録担体の製造方法に関するもので、面振れ
の高周波成分を軽減除去せんとするものである。
盤状の情報記録担体の製造方法に関するもので、面振れ
の高周波成分を軽減除去せんとするものである。
従来例の構成とその問題点
光学的記録再生方式においては、回転駆動される円盤状
情報記録担体(以下ディスクと呼ぶ)の光記録層に、情
報信号に対応したレーザ光を照射することにより、光記
録層に光学的な濃淡あるいは凹凸を設けて情報の記録・
再生を行うもので、数μmの微小信号を記録することが
でき、原理的には光の波長程度の高密度記録が可能な方
式である。まだ、記録・再生時にレーザ光のピックアッ
プとディスクが接触しないので摩耗がなく、静止画、高
速検索等の多機能が得られるものであるだめ、静止画フ
ァイル、文書ファイル等、産業用。
情報記録担体(以下ディスクと呼ぶ)の光記録層に、情
報信号に対応したレーザ光を照射することにより、光記
録層に光学的な濃淡あるいは凹凸を設けて情報の記録・
再生を行うもので、数μmの微小信号を記録することが
でき、原理的には光の波長程度の高密度記録が可能な方
式である。まだ、記録・再生時にレーザ光のピックアッ
プとディスクが接触しないので摩耗がなく、静止画、高
速検索等の多機能が得られるものであるだめ、静止画フ
ァイル、文書ファイル等、産業用。
業務用としても実用化されつつある。
このような用途のディスクの場合、例えばディスクの円
周方向に生じる波状の面振れが局部的に高い周波数成分
(以下シワと呼ぶ)を持っていると、ピンクアンプが記
録面に対して焦点制御しきれないことがある。その場合
、信号の記録不良となって再生時の画面に乱れを生じた
り、カラー画像の場合には、色の濃淡となって現れたり
するため、正常な記録・再生ができなくなる。この周波
数成分は周波数が高ければ高いほど面振れ量が小さくて
も問題になり易く、シワはディスク製造上歩留シを大き
く左右する要因となる。
周方向に生じる波状の面振れが局部的に高い周波数成分
(以下シワと呼ぶ)を持っていると、ピンクアンプが記
録面に対して焦点制御しきれないことがある。その場合
、信号の記録不良となって再生時の画面に乱れを生じた
り、カラー画像の場合には、色の濃淡となって現れたり
するため、正常な記録・再生ができなくなる。この周波
数成分は周波数が高ければ高いほど面振れ量が小さくて
も問題になり易く、シワはディスク製造上歩留シを大き
く左右する要因となる。
また、ディスクの保存状態としても、通常の使用環境下
のみならず、仮に高温高湿な環境下に置かれた場合に経
時的な変形を生じてシワが増大することが考えられる。
のみならず、仮に高温高湿な環境下に置かれた場合に経
時的な変形を生じてシワが増大することが考えられる。
このとき製造時には問題とならなかったディスクでも時
間の経過とともに記録・再生に影響を生じ、場合によっ
ては大切な情報をなくする危険性もあるため、経時的な
変形は最小限に押えると同時に機械的な強度は充分なも
のが必要である。
間の経過とともに記録・再生に影響を生じ、場合によっ
ては大切な情報をなくする危険性もあるため、経時的な
変形は最小限に押えると同時に機械的な強度は充分なも
のが必要である。
一般に、2つのディスク樹脂基材を使ったディスクの接
合は、接合されるディスク面に接着剤を塗布した後に両
者を重ね合せて外表面から力を加え、圧接して硬化させ
る場合が多い。このとき、接合部に対する厚さ規制を行
わないで単に外表面から加圧をする時は、接合部の厚さ
にムラを生じたり、機械的にアンバランスな力が加わっ
たりすることが多く、これらがディスクのシワの原因と
なることが多い。
合は、接合されるディスク面に接着剤を塗布した後に両
者を重ね合せて外表面から力を加え、圧接して硬化させ
る場合が多い。このとき、接合部に対する厚さ規制を行
わないで単に外表面から加圧をする時は、接合部の厚さ
にムラを生じたり、機械的にアンバランスな力が加わっ
たりすることが多く、これらがディスクのシワの原因と
なることが多い。
また、第1図すのごとく、ディスク1の最外周からはみ
出した接着剤2が不規則な状態で残ったまま硬化させる
と、硬化時に内部応力がアンバランスな状態で生じ、特
にディスク外周部のシワの原因となることが数多くある
。
出した接着剤2が不規則な状態で残ったまま硬化させる
と、硬化時に内部応力がアンバランスな状態で生じ、特
にディスク外周部のシワの原因となることが数多くある
。
さらにはみ出した接着剤2が、第1図す、cのごとくデ
ィスク1の外表面と加圧部材3,3′の間に浸み込んだ
状態で硬化させると、ディスクの総合厚さにムラを生じ
たり、局部的に内部応力を発生して、はみ出しあるいは
浸み込んだ接着剤4の処理後にも残留応力として残り、
シワの発生する原因となる。
ィスク1の外表面と加圧部材3,3′の間に浸み込んだ
状態で硬化させると、ディスクの総合厚さにムラを生じ
たり、局部的に内部応力を発生して、はみ出しあるいは
浸み込んだ接着剤4の処理後にも残留応力として残り、
シワの発生する原因となる。
発明の目的
本発明は以上のような欠点を除去し、シワの発生を防止
して、情報記録担体の製造方法を提供するものである。
して、情報記録担体の製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、2つのディスク樹脂基材を接合部に対する厚
さ規制部材を用いて接合し、ディスク外周部にはみ出し
た接着剤を予め前処理を施してから硬化させることによ
りディスクのシワの発生を防止し、商品質で信頼性が高
く、かつ低コストで形状安定性にすぐれた情報記録担体
の製造方法である。
さ規制部材を用いて接合し、ディスク外周部にはみ出し
た接着剤を予め前処理を施してから硬化させることによ
りディスクのシワの発生を防止し、商品質で信頼性が高
く、かつ低コストで形状安定性にすぐれた情報記録担体
の製造方法である。
実施例の説明
本発明の第1の実施例を図面とともに説明する。
第2図において、合成樹脂からなる第1のディスク樹脂
基材5に光硬化性樹脂の付加層6が設けてあり、さらに
その表面にレーザ光によって記録・再生のできる光記録
層7が蒸着されている。また第1のディスク樹脂基材5
と同一の材質を用いた第2のディスク樹脂基材5′に、
同様な光硬化性樹脂の付加層6′が設けられ、両者が加
圧板3゜3′の間にスペーサ8をはさんだ状態で、光硬
化型接着剤9によって全面接合されている。
基材5に光硬化性樹脂の付加層6が設けてあり、さらに
その表面にレーザ光によって記録・再生のできる光記録
層7が蒸着されている。また第1のディスク樹脂基材5
と同一の材質を用いた第2のディスク樹脂基材5′に、
同様な光硬化性樹脂の付加層6′が設けられ、両者が加
圧板3゜3′の間にスペーサ8をはさんだ状態で、光硬
化型接着剤9によって全面接合されている。
このとき、光記録層または付加層を含む2つのディスク
樹脂基板10,10′の接合は、予め一方の基板の中周
部に光硬化型接着剤9を塗布した後、他方の基板を気泡
が入らないように重ね合せて、まず光硬化型接着剤9を
ほぼ全面に広がらせる。さらに、加圧板3,3′ではさ
んで両面から所定の圧力を一定時間加えた後、その圧力
を解除し加圧板3′を取りはずして、紫外線を第2のデ
ィスク樹脂基板10′の側から服射することにより光硬
化型接着剤9を硬化させる。
樹脂基板10,10′の接合は、予め一方の基板の中周
部に光硬化型接着剤9を塗布した後、他方の基板を気泡
が入らないように重ね合せて、まず光硬化型接着剤9を
ほぼ全面に広がらせる。さらに、加圧板3,3′ではさ
んで両面から所定の圧力を一定時間加えた後、その圧力
を解除し加圧板3′を取りはずして、紫外線を第2のデ
ィスク樹脂基板10′の側から服射することにより光硬
化型接着剤9を硬化させる。
第3図に示すごとく、加圧時にディスクの最外周部に等
方向に連続してはみ出した光硬化型接着剤11は、最初
に塗布する光硬化型接着剤9の塗布量および塗布径を調
節することによってはみ出し量を加減することができる
。はみ出し量が全体的に少ない場合には、はみ出した光
硬化型接着剤11の表面張力でディスク外周部に不均一
に付着し易いが、はみ出し量を一定量よりも多くすれば
等方向にはみ出させることが可能である。実験によれば
、外径φ200喘のディスクで接合部の厚さが0.1f
flaの場合、 光硬化型接着剤の塗布量を911塗布
径を132鴎とすれば等方向に連続してはみ出させるこ
とができた。このときはみ出した光硬化型接着剤11は
第3図すに示すごとく、加圧板3,3′にディスクの外
径よりも少し小さい位置から溝12 、12’を形成し
ておけは、ディスク樹脂基板5,5′の外表面と加圧板
3,31の間への浸み込みを防止することができる。こ
れは、光硬化型接着剤11が加圧板3,3′と直接接触
するのを防いでいるためであpSN力で垂れ下がってき
た場合でも浸み込みを生じることはほとんどない。
方向に連続してはみ出した光硬化型接着剤11は、最初
に塗布する光硬化型接着剤9の塗布量および塗布径を調
節することによってはみ出し量を加減することができる
。はみ出し量が全体的に少ない場合には、はみ出した光
硬化型接着剤11の表面張力でディスク外周部に不均一
に付着し易いが、はみ出し量を一定量よりも多くすれば
等方向にはみ出させることが可能である。実験によれば
、外径φ200喘のディスクで接合部の厚さが0.1f
flaの場合、 光硬化型接着剤の塗布量を911塗布
径を132鴎とすれば等方向に連続してはみ出させるこ
とができた。このときはみ出した光硬化型接着剤11は
第3図すに示すごとく、加圧板3,3′にディスクの外
径よりも少し小さい位置から溝12 、12’を形成し
ておけは、ディスク樹脂基板5,5′の外表面と加圧板
3,31の間への浸み込みを防止することができる。こ
れは、光硬化型接着剤11が加圧板3,3′と直接接触
するのを防いでいるためであpSN力で垂れ下がってき
た場合でも浸み込みを生じることはほとんどない。
こうすれば、従来のように局部的なはみ出しあるいは浸
み込みによる内部応力の発生や厚さムラを防ぐことが出
来るとともに、ディスク全体の総合厚さをスペーサ8に
よって規制するため厚さ精度が良く、デツキに装着した
時のディスクの回転に対する動的バランスも十分安定し
たものが得られる。
み込みによる内部応力の発生や厚さムラを防ぐことが出
来るとともに、ディスク全体の総合厚さをスペーサ8に
よって規制するため厚さ精度が良く、デツキに装着した
時のディスクの回転に対する動的バランスも十分安定し
たものが得られる。
もちろん付加層を含む2つのディスク樹脂基板10 、
10’の厚さが許容値の範囲内に入るようにすれば、接
着層の厚さムラ自体も最小にすることができ、ディスク
外表面に厚さムラによるシワが生じることもない。
10’の厚さが許容値の範囲内に入るようにすれば、接
着層の厚さムラ自体も最小にすることができ、ディスク
外表面に厚さムラによるシワが生じることもない。
また、接着剤の硬化時には加圧を解除することが必要で
あるが、これは加圧を施したままでの紫外線照射は、照
射熱によるディスク片面のみの熱膨張が接着剤の硬化と
併行して進むだめ応力が残り易く、硬化完了後ディスク
が常温に戻った時には面振れとなって現れることが多い
。この場合の面振れは、半径方向のサラ状ソリのみに限
らず円周方向の波状ソリも生じ、淳さムラ等によるディ
スクのシワを助長させる原因となる。加圧を解除した後
に紫外線の照射を行う場合は、熱膨張時にもディスクが
常に外力に対して自由な状態にあるため、残留応力の発
生もほとんどなく、シワに対しても非常に有利である。
あるが、これは加圧を施したままでの紫外線照射は、照
射熱によるディスク片面のみの熱膨張が接着剤の硬化と
併行して進むだめ応力が残り易く、硬化完了後ディスク
が常温に戻った時には面振れとなって現れることが多い
。この場合の面振れは、半径方向のサラ状ソリのみに限
らず円周方向の波状ソリも生じ、淳さムラ等によるディ
スクのシワを助長させる原因となる。加圧を解除した後
に紫外線の照射を行う場合は、熱膨張時にもディスクが
常に外力に対して自由な状態にあるため、残留応力の発
生もほとんどなく、シワに対しても非常に有利である。
また光硬化型接着剤の硬化後、ディスク最外周にはみ出
した接着剤は機械加工によって成形、R付は等の仕上げ
を行っても、一度このようなはみ出し部の処理を施しだ
ものは新たにシワを発生することはほとんどない。
した接着剤は機械加工によって成形、R付は等の仕上げ
を行っても、一度このようなはみ出し部の処理を施しだ
ものは新たにシワを発生することはほとんどない。
さらに、第1と第2のディスク樹脂基材5,5′は材質
が同じであるから、吸水率、熱膨張係数が等しいが、光
記録層7を有する第1のディスク樹脂基板10と第2の
ディスク樹脂基板10′は光記録層7の有無によって吸
湿特性を異にする。すなわち、光記録層7を有するディ
スク面からは一切吸湿または除湿の作用が行われず、光
記録層7を有しないディスク面からは外部の湿度状態に
応じて常時吸湿・除湿の作用が行われる。よって、第1
のディスク樹脂基板10はディスク両面間の厚さ方向に
湿度勾配を生じ易く、基板内の水分による膨張率の違い
から必然的にディスクのノリとなって現れてくる。また
第2のディスク樹脂基板10′の場合は、光記録層7を
有しないため第1のディスク樹脂基板10程ソリとして
顕著に現れないが、片面に力学的強度の対称性のために
設けた光硬化性樹脂からなる付加層6′を有するためデ
ィスク両面間の吸湿特性は同一ではない。これらのディ
スク樹脂基板10 、10’のソリ変化量はφ19QM
位置におけるサラ状ソリで表すと、光記録層7を有する
場合で最大500〜600μmと非常に大きく、これに
応じて波状ソリやシソを増大させる原因となシ易い。
が同じであるから、吸水率、熱膨張係数が等しいが、光
記録層7を有する第1のディスク樹脂基板10と第2の
ディスク樹脂基板10′は光記録層7の有無によって吸
湿特性を異にする。すなわち、光記録層7を有するディ
スク面からは一切吸湿または除湿の作用が行われず、光
記録層7を有しないディスク面からは外部の湿度状態に
応じて常時吸湿・除湿の作用が行われる。よって、第1
のディスク樹脂基板10はディスク両面間の厚さ方向に
湿度勾配を生じ易く、基板内の水分による膨張率の違い
から必然的にディスクのノリとなって現れてくる。また
第2のディスク樹脂基板10′の場合は、光記録層7を
有しないため第1のディスク樹脂基板10程ソリとして
顕著に現れないが、片面に力学的強度の対称性のために
設けた光硬化性樹脂からなる付加層6′を有するためデ
ィスク両面間の吸湿特性は同一ではない。これらのディ
スク樹脂基板10 、10’のソリ変化量はφ19QM
位置におけるサラ状ソリで表すと、光記録層7を有する
場合で最大500〜600μmと非常に大きく、これに
応じて波状ソリやシソを増大させる原因となシ易い。
したがって、これらのディスク樹脂基板10゜10’は
それぞれの吸湿状態を等しくするために恒温、恒湿な条
件下で長時間保存し、それぞれのディスク樹脂基板10
、10’が同一の湿度に対して平衡状態になるような
処理を施しだものである。
それぞれの吸湿状態を等しくするために恒温、恒湿な条
件下で長時間保存し、それぞれのディスク樹脂基板10
、10’が同一の湿度に対して平衡状態になるような
処理を施しだものである。
こうすることにより、外部の環境変化に対する接合組立
後のディスク両面の吸湿、除湿の量を等しくシ、面振れ
やシワに関する経時的な形状変化を最小限に押えること
ができる。
後のディスク両面の吸湿、除湿の量を等しくシ、面振れ
やシワに関する経時的な形状変化を最小限に押えること
ができる。
次に本発明の第2の実施例を図面とともに説明する。本
実施例は第4図に示すごとく、光硬化型接着剤9を塗布
したディスク樹脂基材5′およびディスク樹脂基板10
を重ね合せ、加圧板3,3′の間にスペーサ8をはさん
だ状態で両面から加圧する点においてディスク樹脂基板
10′を除けば第1の実施例と同様である。ディスク樹
脂基板の組合せとしては本実施例の場合も吸湿状態に対
する前処理を施せば何ら差し支えない。ここで、加圧時
にディスクの最外周からはみ出した光硬化型接着剤11
を真空パイプ等の吸引治具13により連続的に吸引し、
ディスクの最外周には光硬化型接着剤11が付着した状
態で残らないようにしたものである。こうすることによ
シ、加圧板3,31とディスク外表面との間の浸み込み
も防げるため接合時の厚さムラを生じることもなく、さ
らには光硬化型接着剤の曲部的なはみ出しや加圧治具と
の付着がないので、残留応力によるシワの発生も最小限
に押えることができる。一度このような処理を施した組
立ディスクは、最外周部端面を機械仕上げ加工しても、
そのことにより新たにシワを発生することはほとんどな
い。
実施例は第4図に示すごとく、光硬化型接着剤9を塗布
したディスク樹脂基材5′およびディスク樹脂基板10
を重ね合せ、加圧板3,3′の間にスペーサ8をはさん
だ状態で両面から加圧する点においてディスク樹脂基板
10′を除けば第1の実施例と同様である。ディスク樹
脂基板の組合せとしては本実施例の場合も吸湿状態に対
する前処理を施せば何ら差し支えない。ここで、加圧時
にディスクの最外周からはみ出した光硬化型接着剤11
を真空パイプ等の吸引治具13により連続的に吸引し、
ディスクの最外周には光硬化型接着剤11が付着した状
態で残らないようにしたものである。こうすることによ
シ、加圧板3,31とディスク外表面との間の浸み込み
も防げるため接合時の厚さムラを生じることもなく、さ
らには光硬化型接着剤の曲部的なはみ出しや加圧治具と
の付着がないので、残留応力によるシワの発生も最小限
に押えることができる。一度このような処理を施した組
立ディスクは、最外周部端面を機械仕上げ加工しても、
そのことにより新たにシワを発生することはほとんどな
い。
なお、第1および第2の実施例においては、一般の紫外
線照射時には加圧を解除することが必要であるが、照射
熱が非常に少なく、ディスク両面間の熱膨張差による影
響がほとんど無視できるような紫外線照射の場合には必
ずしもこれを必要とはしない。また、当然のことながら
照射時における加圧板の除去は、紫外線を透過する加圧
板の場合には必要でない。
線照射時には加圧を解除することが必要であるが、照射
熱が非常に少なく、ディスク両面間の熱膨張差による影
響がほとんど無視できるような紫外線照射の場合には必
ずしもこれを必要とはしない。また、当然のことながら
照射時における加圧板の除去は、紫外線を透過する加圧
板の場合には必要でない。
以上の実施例における接着剤としては光硬化型のものの
みならず、例えば熱硬化型であるエポキシ系樹脂を用い
ることもできる。特に光記録層を両方のディスク樹脂基
材に有する場合には光硬化型接着剤を用いて全面接合す
ることはできないため、熱硬化型あるいは常温硬化型の
接着剤を使用することが必要である。
みならず、例えば熱硬化型であるエポキシ系樹脂を用い
ることもできる。特に光記録層を両方のディスク樹脂基
材に有する場合には光硬化型接着剤を用いて全面接合す
ることはできないため、熱硬化型あるいは常温硬化型の
接着剤を使用することが必要である。
なお光記録層の材料としては、レーザ光の照射により光
吸収係数あるいは光吸収係数と屈折率の両方が変化する
ものが必要であり、その−例としてテルルの低酸化物T
e0x(xキ1.0)を主成分とする薄膜を設けだもの
がある。これらの薄膜としては、G e T e
S b S A s 2 S s等の715
81 22゜ モルファス薄膜が使われる。このような光記録層を設け
た場合に、2つのディスク樹脂基材を全面貼合せるとき
は、接着剤として光記録層を劣化させないものを使用す
る必要があり、例えば光硬化型接着剤の場・合にはポリ
ビニルアルコール性の接着剤が望ましい。
吸収係数あるいは光吸収係数と屈折率の両方が変化する
ものが必要であり、その−例としてテルルの低酸化物T
e0x(xキ1.0)を主成分とする薄膜を設けだもの
がある。これらの薄膜としては、G e T e
S b S A s 2 S s等の715
81 22゜ モルファス薄膜が使われる。このような光記録層を設け
た場合に、2つのディスク樹脂基材を全面貼合せるとき
は、接着剤として光記録層を劣化させないものを使用す
る必要があり、例えば光硬化型接着剤の場・合にはポリ
ビニルアルコール性の接着剤が望ましい。
以上の情報記録担体の製造方法によれば、その材質が有
機高分子からなる場合に特に有効であシ、その−例とし
てはアクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチルアクリレー
ト)、ポリカーボネートの他に、塩化ビニル、ポリスチ
レン、ポリエステル。
機高分子からなる場合に特に有効であシ、その−例とし
てはアクリル樹脂(ポリメタクリル酸メチルアクリレー
ト)、ポリカーボネートの他に、塩化ビニル、ポリスチ
レン、ポリエステル。
アセテート等がある。
また本発明の実施例においては、付加層の有無は特に必
然性はなく、力学的強度の対称性を維持し2つのディス
ク樹脂基材および基板の吸水率。
然性はなく、力学的強度の対称性を維持し2つのディス
ク樹脂基材および基板の吸水率。
熱膨張係数が等しければ、吸湿状態を調節することによ
って、同様の効果を得ることができる。
って、同様の効果を得ることができる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、簡単な構成で通常の使用
環境下のみならず、高温、高湿な特殊環境下においても
、ディスクのシワの発生が少なく、高品質で信頼性が高
く、低コストで形状安定性にすぐれた情報記録担体が得
られると同時に、製造時における歩留シを向上させるた
めにも大きな効果を有するものである。
環境下のみならず、高温、高湿な特殊環境下においても
、ディスクのシワの発生が少なく、高品質で信頼性が高
く、低コストで形状安定性にすぐれた情報記録担体が得
られると同時に、製造時における歩留シを向上させるた
めにも大きな効果を有するものである。
第1図a、b、cは接合組立直後に局部的に接着剤がは
み出したまたは浸み込んだ従来の情報記り 録担体とその製造工i面図および断正面図、第2図は本
発明の第1の実施例における情報記録担体の製造方法の
製造工程の断正面図、第3図a。 bは同方法により製造された情報記録担体の平面図およ
びその製造工程の断正面図、第4図は本発明の第2の実
施例における情報記録担体の製造方法の製造工程の断正
面図である。 3.3′・・・・・・加圧部材、5.5’・・・・・デ
ィスク樹脂基材、6,6′・・・・・・光硬化性樹脂の
付加層、 7・・・・・・光記録層、8,8′・・・・
・スペーサ、9・・・・・光硬化型接着剤、10.10
’・・・・・・ディスク樹脂基板、11・・・・・・光
硬化型接着剤、12 、12’・・・・・・溝、13・
・・・・・吸引治具。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第
1 図 (cL) (C) 第2図 第3図 (α)
み出したまたは浸み込んだ従来の情報記り 録担体とその製造工i面図および断正面図、第2図は本
発明の第1の実施例における情報記録担体の製造方法の
製造工程の断正面図、第3図a。 bは同方法により製造された情報記録担体の平面図およ
びその製造工程の断正面図、第4図は本発明の第2の実
施例における情報記録担体の製造方法の製造工程の断正
面図である。 3.3′・・・・・・加圧部材、5.5’・・・・・デ
ィスク樹脂基材、6,6′・・・・・・光硬化性樹脂の
付加層、 7・・・・・・光記録層、8,8′・・・・
・スペーサ、9・・・・・光硬化型接着剤、10.10
’・・・・・・ディスク樹脂基板、11・・・・・・光
硬化型接着剤、12 、12’・・・・・・溝、13・
・・・・・吸引治具。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第
1 図 (cL) (C) 第2図 第3図 (α)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)少くとも一方に情報記録面を設けた2つのディス
ク樹脂基材の前記情報記録面を内側にして前記2つのデ
ィスク樹脂基材を接合して情報記録用の担体を作成する
に際し、その接合部に対して厚さ規制部材を用いて加圧
し、前記2つのディスク樹脂基材を全面接合するように
したことを特徴とする情報記録担体の製造方法。 (2ン 接合部に対する厚さ規制部材を2つのディス
ク樹脂基材の最外周部外側に配設して前記2つのディス
ク樹脂基材を接合することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の情報記録担体の製造方法。 (3)2つのディスク樹脂基材を接合前にあらかじめ同
一の吸湿状態にするように処理することを特徴とする特
許請求の範囲M1項記載の情報記録担体の製造方法。 (4)2つのディスク樹脂基材の最外周部に接着剤を等
方向に連続してはみ出さしめて前記2つのディスク樹脂
基材を接合することを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の情報記録担体の製造方法。 (5)2つのディスク樹脂基材の最外周部にはみ出し次
接着剤を吸引せしめて前記2つのディスク樹脂基材を接
合することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情
報記録担体の製造方法0(6)2つのディスク樹脂基材
の接合に光硬化型接着剤を用いたことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の情報記録担体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57150553A JPS5940340A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 情報記録担体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57150553A JPS5940340A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 情報記録担体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5940340A true JPS5940340A (ja) | 1984-03-06 |
Family
ID=15499389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57150553A Pending JPS5940340A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 情報記録担体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5940340A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A3 (en) * | 1996-11-20 | 1999-09-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
-
1982
- 1982-08-30 JP JP57150553A patent/JPS5940340A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A3 (en) * | 1996-11-20 | 1999-09-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| US6445676B1 (en) | 1996-11-20 | 2002-09-03 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
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