JPS5940825B2 - ジイモニウム化合物の製法 - Google Patents
ジイモニウム化合物の製法Info
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- JPS5940825B2 JPS5940825B2 JP50021984A JP2198475A JPS5940825B2 JP S5940825 B2 JPS5940825 B2 JP S5940825B2 JP 50021984 A JP50021984 A JP 50021984A JP 2198475 A JP2198475 A JP 2198475A JP S5940825 B2 JPS5940825 B2 JP S5940825B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/29—Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラスチック生地に対する赤外線吸収体として
有用な熱安定性のN−N−N’ ・市−テトラアリール
キノンのジイモニウム塩を製造するための改良された方
法に関するものである。
有用な熱安定性のN−N−N’ ・市−テトラアリール
キノンのジイモニウム塩を製造するための改良された方
法に関するものである。
その製造に本発明の改良した方法を適用するジイモニウ
ム塩の一群は1972年1日25日ヒーター ・ヴイン
セント・スーシー(PeterVin一centSus
i)に対して与えられた米国特許第3637769号に
教示され特許請求されて周知に属している。
ム塩の一群は1972年1日25日ヒーター ・ヴイン
セント・スーシー(PeterVin一centSus
i)に対して与えられた米国特許第3637769号に
教示され特許請求されて周知に属している。
該米国特許明細書に示されているように、ジイモニウム
塩は次の一般式(1)によつて表わされる。
塩は次の一般式(1)によつて表わされる。
(ここにA,.B,.D,.EおよびFはベンゼンまた
はナフタレン基を表わし、nは1または2である:Rs
Rl、R2およびR3は水素、アルキル、アルコキシ、
アルケニル、アラルキル、アリール、アルカリール、ア
シールまたは−N′/R4であり)
\ ゝR5このR4
とR5とは水素、アルキル、アルケニル、アラルキル、
アリール、アルカリールまたはアセチル基を表わす;こ
れらA.B.D.E.Fおよび水素を除くR乃至R5の
各基は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シ
アノ、カルボキシ、スルホ、ハロゲンおよび同種のもの
の様な不活性基で置換したかまたは置換していないもの
とする。
はナフタレン基を表わし、nは1または2である:Rs
Rl、R2およびR3は水素、アルキル、アルコキシ、
アルケニル、アラルキル、アリール、アルカリール、ア
シールまたは−N′/R4であり)
\ ゝR5このR4
とR5とは水素、アルキル、アルケニル、アラルキル、
アリール、アルカリールまたはアセチル基を表わす;こ
れらA.B.D.E.Fおよび水素を除くR乃至R5の
各基は低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シ
アノ、カルボキシ、スルホ、ハロゲンおよび同種のもの
の様な不活性基で置換したかまたは置換していないもの
とする。
またX−は陰イオンを表わす)。=般式(1)のジイモ
ニウム塩は一般式(11)(ここにA,.B.D,.E
.FおよびR乃至R5ならびにnは一般式(1)におけ
ると同じ意味を持つものとする)で表わされるN−マ一
置換ジアミノ化合物の二つの第3窒素原子を酸化してジ
イモニウム陽イオンを形成することによつて該ジアミノ
化合物から誘導される。
ニウム塩は一般式(11)(ここにA,.B.D,.E
.FおよびR乃至R5ならびにnは一般式(1)におけ
ると同じ意味を持つものとする)で表わされるN−マ一
置換ジアミノ化合物の二つの第3窒素原子を酸化してジ
イモニウム陽イオンを形成することによつて該ジアミノ
化合物から誘導される。
米国特許第3637769号にさらに示されているよう
に、ジイモニウム化合物を製造するための先駆物質ジア
ミノ化合物の酸化はドイツ化学会誌第92巻第245頁
(1959)のノインホエツフエル(Neu柑10ef
fer)等の方法に従い有機溶媒中銀塩の触媒を用いて
行われた。
に、ジイモニウム化合物を製造するための先駆物質ジア
ミノ化合物の酸化はドイツ化学会誌第92巻第245頁
(1959)のノインホエツフエル(Neu柑10ef
fer)等の方法に従い有機溶媒中銀塩の触媒を用いて
行われた。
このようにして先駆物質アミン類は一連の銀塩を用いて
酸化されたが、ジイモニウム塩生成物の安定性に関して
最も有利な銀塩はヘキサフルオロアンチモン酸銀および
ヘキサフルオロ砒酸銀であつた。それにもかかわらず全
ての赤外線吸収体の塩生成物の安定性はプラスチツクに
吸収体化合物を混和する際に遭遇するような熱によつて
著しく影響された。この不安定性は特定の化合物に対す
る最高吸収の波長における吸収の損失に反映される。化
合物の安ノ 定性の喪失は生成化合物から除去すること
の困難な遊離の膠状銀の存在に由来する。このようにし
て化合物を熱にさらしたときに、膠状銀の存在が赤外吸
収を20−25%ほど減少するということが見出されて
いる。吸収に於けるこの様な損失は明らかに赤外線吸収
体としての化合物の有効性を減するものである。それ故
に先駆物質ジアミン類を酸化して改良された熱安定性を
有するジイモニウム塩赤外線吸収体を製造する方法を提
供することが本発明の目的である。
酸化されたが、ジイモニウム塩生成物の安定性に関して
最も有利な銀塩はヘキサフルオロアンチモン酸銀および
ヘキサフルオロ砒酸銀であつた。それにもかかわらず全
ての赤外線吸収体の塩生成物の安定性はプラスチツクに
吸収体化合物を混和する際に遭遇するような熱によつて
著しく影響された。この不安定性は特定の化合物に対す
る最高吸収の波長における吸収の損失に反映される。化
合物の安ノ 定性の喪失は生成化合物から除去すること
の困難な遊離の膠状銀の存在に由来する。このようにし
て化合物を熱にさらしたときに、膠状銀の存在が赤外吸
収を20−25%ほど減少するということが見出されて
いる。吸収に於けるこの様な損失は明らかに赤外線吸収
体としての化合物の有効性を減するものである。それ故
に先駆物質ジアミン類を酸化して改良された熱安定性を
有するジイモニウム塩赤外線吸収体を製造する方法を提
供することが本発明の目的である。
そしてこの目的は本発明によつて達成された。こうして
、本発明に従い、もし先駆物質アミン類の酸化を銀塩よ
りはむしろ第2銅塩の存在で行ない、これまでのように
この酸化を有機溶媒中で遂行するならば、事実上、改良
された熱安定性を有する赤外線吸収体ジイモニウム塩を
得ることの出来ることが今回発見された。
、本発明に従い、もし先駆物質アミン類の酸化を銀塩よ
りはむしろ第2銅塩の存在で行ない、これまでのように
この酸化を有機溶媒中で遂行するならば、事実上、改良
された熱安定性を有する赤外線吸収体ジイモニウム塩を
得ることの出来ることが今回発見された。
有機溶媒に目に見える程度にまで溶けるいかな一る第2
銅塩も酸化反応に用いることが出来る。
銅塩も酸化反応に用いることが出来る。
有j用な第2銅塩は例えば、塩化第2銅、硝酸第2銅、
臭化第2銅、硫酸第2銅ならびに塩化第2銅と組み合せ
た酢酸第2銅であるが硝酸第2銅が特に望ましい。用い
る溶媒は、反応条件下に反応体および反応生成物塩に対
して若し不活性のものであるならば特に重要というほど
ではない。
臭化第2銅、硫酸第2銅ならびに塩化第2銅と組み合せ
た酢酸第2銅であるが硝酸第2銅が特に望ましい。用い
る溶媒は、反応条件下に反応体および反応生成物塩に対
して若し不活性のものであるならば特に重要というほど
ではない。
アセトンはその取扱いが容易であるために好ましい溶媒
である。しかしながら、ジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミドのような他の溶媒も同様に良い結果
を与える。酸化反応に用いる第2銅塩の量はN−N−N
ζマーテトラアリールアリーレンジアミン1モル当り2
モルの割合である。
である。しかしながら、ジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミドのような他の溶媒も同様に良い結果
を与える。酸化反応に用いる第2銅塩の量はN−N−N
ζマーテトラアリールアリーレンジアミン1モル当り2
モルの割合である。
酸化に用いる反応温度は重要ではない。
通常、大体室温(20−30℃)乃至約50℃の温度が
用いられる。アセトンを溶媒として用いる場合には反応
を40−50℃において行なうのが便宜である。一般に
、酸化の完了に続いて、不溶の無機塩を沢去し、溶液を
冷却することにより、または水を加えて沈澱することに
よつて目的の生成物を溶液から分離する。
用いられる。アセトンを溶媒として用いる場合には反応
を40−50℃において行なうのが便宜である。一般に
、酸化の完了に続いて、不溶の無機塩を沢去し、溶液を
冷却することにより、または水を加えて沈澱することに
よつて目的の生成物を溶液から分離する。
次いで固体の生組物を標準の技法に従つて沢去し、洗つ
て溶媒および残留する塩を除き、ついで乾燥する。ジイ
モニウム塩赤外線吸収体化合物は第2銅塩によりもたら
された陰イオンの形で用いてもよいが、生成化合物がヘ
キサフルオロアンチモン酸塩またはヘキサフルオロ砒酸
塩、好ましくはヘキサフルオロアンチモン酸塩の形であ
ることが望ましい。後者の形の塩は、ナトリウム塩の様
な酸化反応溶媒に可溶なヘキサフルオロアンチモン酸塩
またはヘキサフルオロ砒酸塩を、ヘキサフルオロアンチ
モン酸イオンまたはヘキサフルオロ砒酸イオンとジイモ
ニウム塩生成物の第2銅塩陰イオンとを交換するのに充
分な量即ち酸化に於いて用いる第2銅塩1モル当り上記
可溶塩2モルの割合で第2銅塩と共に利用することによ
つて容易に得られる。可溶塩、第2銅塩およびジアミン
を任意の順序で溶媒に加えてヘキサフルオロアンチモン
酸またはヘキサフルオロ砒酸ジイモニウム塩を得ること
が出来る。次の製造実施例および試験は本発明を例証す
るために役立つであろう。
て溶媒および残留する塩を除き、ついで乾燥する。ジイ
モニウム塩赤外線吸収体化合物は第2銅塩によりもたら
された陰イオンの形で用いてもよいが、生成化合物がヘ
キサフルオロアンチモン酸塩またはヘキサフルオロ砒酸
塩、好ましくはヘキサフルオロアンチモン酸塩の形であ
ることが望ましい。後者の形の塩は、ナトリウム塩の様
な酸化反応溶媒に可溶なヘキサフルオロアンチモン酸塩
またはヘキサフルオロ砒酸塩を、ヘキサフルオロアンチ
モン酸イオンまたはヘキサフルオロ砒酸イオンとジイモ
ニウム塩生成物の第2銅塩陰イオンとを交換するのに充
分な量即ち酸化に於いて用いる第2銅塩1モル当り上記
可溶塩2モルの割合で第2銅塩と共に利用することによ
つて容易に得られる。可溶塩、第2銅塩およびジアミン
を任意の順序で溶媒に加えてヘキサフルオロアンチモン
酸またはヘキサフルオロ砒酸ジイモニウム塩を得ること
が出来る。次の製造実施例および試験は本発明を例証す
るために役立つであろう。
実施例 1
N−N−N/−マーテトラキス(p−ジブチルアミノフ
エニル)−p−ベンゾキノンビス(イモニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート)の製造(A)アセトン100m
1中テトラキズ(p−ジブチルアミノフエニル)−p−
フエニレンジアミン4.67(0.005モル)を攪拌
した溶液を4045℃に加熱し、硝酸第2銅CU(NO
3)23H20の2.4r(0.01モノ(ハ)で処理
後1時間にしてヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム
5.17t(0.02モル)を加え、全体を更に30分
間攪拌した。
エニル)−p−ベンゾキノンビス(イモニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート)の製造(A)アセトン100m
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フエニレンジアミン4.67(0.005モル)を攪拌
した溶液を4045℃に加熱し、硝酸第2銅CU(NO
3)23H20の2.4r(0.01モノ(ハ)で処理
後1時間にしてヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム
5.17t(0.02モル)を加え、全体を更に30分
間攪拌した。
この混合物を次 Jいでf過し、水40m1中に浸した
。固体生成物をP過し、水で洗浄して乾燥した。この生
成物に「生成物A」との標識をつけた。(B)硝酸銀を
硝酸第2銅(三つの反応体のすべてのモル比はAにおけ
ると同じである)の代りに ,゛用いた点を除き(A)
の手順をくり返した。
。固体生成物をP過し、水で洗浄して乾燥した。この生
成物に「生成物A」との標識をつけた。(B)硝酸銀を
硝酸第2銅(三つの反応体のすべてのモル比はAにおけ
ると同じである)の代りに ,゛用いた点を除き(A)
の手順をくり返した。
この生成物には「生成物B]との標識をつけた。熱安定
性試験 上文にて指摘したようにジイモニウム塩赤外線吸収体化
合物の安定性は、単量体流し込み、注入q成形、押出し
等のようなそれらを含むプラスチツクの加工工程におい
て遭遇するような熱によつて悪影響を受ける。
性試験 上文にて指摘したようにジイモニウム塩赤外線吸収体化
合物の安定性は、単量体流し込み、注入q成形、押出し
等のようなそれらを含むプラスチツクの加工工程におい
て遭遇するような熱によつて悪影響を受ける。
この化合物の受けるこのような安定性の損失は個々の化
合物に対する最高吸収の波長における該化合物の吸収の
損失に反映される。従つて、次の試験の手順は吸収体化
合物の熱安定性の大きさを与える。フイルム流し込み溶
液はテトラヒドロフラン100m1中吸収体化合物20
η、ポリ塩化ビニル(YNW−5ユニオンカーバイド社
)、およびフタル酸ジオクチル(可塑剤)2yを溶解す
ることによつて作られる。
合物に対する最高吸収の波長における該化合物の吸収の
損失に反映される。従つて、次の試験の手順は吸収体化
合物の熱安定性の大きさを与える。フイルム流し込み溶
液はテトラヒドロフラン100m1中吸収体化合物20
η、ポリ塩化ビニル(YNW−5ユニオンカーバイド社
)、およびフタル酸ジオクチル(可塑剤)2yを溶解す
ることによつて作られる。
この溶液の一部分を加熱せずに2.4−3.0m1フイ
ルムの流し込みに用いる。この溶液の第2の部分を密封
した耐圧壜に入れ、96℃で1時間半加熱し、ついで冷
却して第2の2.4−3.0m1フイルムの流し込みに
用いる。二つのフイルムのスペクトルを測定して、二つ
のフイルムの厚さのどのような相違をも補正する、そし
て熱による吸収体化合物の分解のための吸収損失百分率
をその化合物の熱安定性の大きさとして計算する。上記
実施例1に於いて得られた生成物AおよびBを前述の手
順によつて試験した。
ルムの流し込みに用いる。この溶液の第2の部分を密封
した耐圧壜に入れ、96℃で1時間半加熱し、ついで冷
却して第2の2.4−3.0m1フイルムの流し込みに
用いる。二つのフイルムのスペクトルを測定して、二つ
のフイルムの厚さのどのような相違をも補正する、そし
て熱による吸収体化合物の分解のための吸収損失百分率
をその化合物の熱安定性の大きさとして計算する。上記
実施例1に於いて得られた生成物AおよびBを前述の手
順によつて試験した。
化合物Aは4.2%の吸収損失を示したのに反して化合
物Bは22%の損失を示した。従つて、既知の銀塩酸化
によつて作つた化合物Bよりも本発明の銅塩酸化方法に
よつて作つた化合物Aの熱安定性の方が著しく大きいこ
とが示されている。次に本発明の実施の態様を列挙する
。
物Bは22%の損失を示した。従つて、既知の銀塩酸化
によつて作つた化合物Bよりも本発明の銅塩酸化方法に
よつて作つた化合物Aの熱安定性の方が著しく大きいこ
とが示されている。次に本発明の実施の態様を列挙する
。
(1)ヘキサフルオロアンチモン酸またはヘキサフルオ
ロ砒酸のそれぞれの可溶性塩を第2銅塩と組み合せて酸
化反応に用い、ジイモニウム化合物のX−としてヘキサ
フルオロアンチモン酸イオンまたはヘキサフルオロ砒酸
イオンを使用する特許請求の範囲の方法。
ロ砒酸のそれぞれの可溶性塩を第2銅塩と組み合せて酸
化反応に用い、ジイモニウム化合物のX−としてヘキサ
フルオロアンチモン酸イオンまたはヘキサフルオロ砒酸
イオンを使用する特許請求の範囲の方法。
(2) ジアミン化合物としてテトラキズ(p−ジブチ
ルアミノフエニル)−p−フエニレンジアミンを用い、
可溶性塩としてヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム
を用い、ジイモニウム化合物がN−N−マ・マーテトラ
キス(p−ジブチルアミノフエニル)−p−ベンゾキノ
ンビス(イモニウム ヘキサフルオロアンチモン酸塩)
である前第(1)項の方法。
ルアミノフエニル)−p−フエニレンジアミンを用い、
可溶性塩としてヘキサフルオロアンチモン酸ナトリウム
を用い、ジイモニウム化合物がN−N−マ・マーテトラ
キス(p−ジブチルアミノフエニル)−p−ベンゾキノ
ンビス(イモニウム ヘキサフルオロアンチモン酸塩)
である前第(1)項の方法。
(3)第2銅塩が塩化第2銅または硝酸第2銅である前
寵2)項の方法。
寵2)項の方法。
(4)有機溶媒がアセトンである前第(3)項の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここにA、B、D、EおよびFはベンゼンまたはナフ
タレン基を表わし、nは1または2を、そしてR、R_
1、R_2およびR_3は水素、アルキル、アルコキシ
、アルケニル、アラルキル、アリール、アルカリール、
アシールまたは▲数式、化学式、表等があります▼ の各基を表わし、R_4およびR_5は水素、アルキル
、アルケニル、アラルキル、アリール、アルカリールま
たはアセチルの各基を表わす;そしてA、B、D、Eお
よびFならびに水素を除くR乃至R_5は低級アルキル
、低級アルコキシ、ヒドロキシ、シアノ、カルボキシ、
スルホおよびハロゲンから選ばれた不活性の基で置換さ
れるかまたは置換されないかの何れかであるものとする
)にて表わされるジアミン化合物を酸化して、次の一般
式▲数式、化学式、表等があります▼( I )ここにA
、B、D、EおよびFならびにR乃至R_5およびnは
式(II)におけると同じ意味を有し、X^−は陰イオン
を表わす)にて表わされるジイモニウム化合物を製造す
るに当り、有機溶媒中第2銅塩の存在に於いて酸化反応
を行なうことを特徴とする上記一般式( I )にて表わ
されるジイモニウム化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US05/445,510 US3962290A (en) | 1974-02-25 | 1974-02-25 | Process for n,n,n',n'-tetraarylquinone diimonium salts |
| US445510 | 1989-12-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS50129532A JPS50129532A (ja) | 1975-10-13 |
| JPS5940825B2 true JPS5940825B2 (ja) | 1984-10-03 |
Family
ID=23769188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50021984A Expired JPS5940825B2 (ja) | 1974-02-25 | 1975-02-24 | ジイモニウム化合物の製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3962290A (ja) |
| JP (1) | JPS5940825B2 (ja) |
| DE (1) | DE2431796C2 (ja) |
| ES (1) | ES435054A1 (ja) |
| GB (1) | GB1464704A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6117912A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-25 | Fuji Electric Co Ltd | 変位計測機構 |
| JPS6357527U (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | ||
| JPS63105825U (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-08 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5686639A (en) * | 1995-04-20 | 1997-11-11 | Epolin, Inc. | Quinone diimmonium salts and their use to cure epoxies |
| US7498123B2 (en) * | 2005-03-03 | 2009-03-03 | Exciton, Inc. | Infrared dye compositions |
| US7473802B2 (en) * | 2005-09-05 | 2009-01-06 | Fujifilm Corporation | Method of producing near-infrared absorbing dye compound |
| JP2007070476A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Fujifilm Corp | 近赤外線吸収色素化合物の製造方法 |
| US8227637B2 (en) * | 2008-03-19 | 2012-07-24 | Epolin, Inc. | Stable, water-soluble near infrared dyes |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2118826A (en) * | 1936-10-27 | 1938-05-31 | Goodrich Co B F | Method of making quinone di-imides |
| US3637769A (en) * | 1967-12-21 | 1972-01-25 | American Cyanamid Co | Quinonediimonium salts |
-
1974
- 1974-02-25 US US05/445,510 patent/US3962290A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-07-02 DE DE2431796A patent/DE2431796C2/de not_active Expired
-
1975
- 1975-02-20 GB GB725375A patent/GB1464704A/en not_active Expired
- 1975-02-24 JP JP50021984A patent/JPS5940825B2/ja not_active Expired
- 1975-02-25 ES ES435054A patent/ES435054A1/es not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6117912A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-25 | Fuji Electric Co Ltd | 変位計測機構 |
| JPS6357527U (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | ||
| JPS63105825U (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-08 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS50129532A (ja) | 1975-10-13 |
| GB1464704A (en) | 1977-02-16 |
| DE2431796C2 (de) | 1985-07-04 |
| AU7751475A (en) | 1976-07-22 |
| US3962290A (en) | 1976-06-08 |
| ES435054A1 (es) | 1977-03-16 |
| DE2431796A1 (de) | 1975-08-28 |
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