JPS5942060A - 塗膜の製造法及びその装置 - Google Patents
塗膜の製造法及びその装置Info
- Publication number
- JPS5942060A JPS5942060A JP15310282A JP15310282A JPS5942060A JP S5942060 A JPS5942060 A JP S5942060A JP 15310282 A JP15310282 A JP 15310282A JP 15310282 A JP15310282 A JP 15310282A JP S5942060 A JPS5942060 A JP S5942060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- film
- coated
- coating film
- wind
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、浸漬塗布法などによって披塗膜体にＨＨｉを
形成した直後の工程に関するものである。
形成した直後の工程に関するものである。
一般に、有機溶媒を用いた塗料などの有（残溶媒系塗布
組成物又は水系の重合体乳化分散物などの所出ｌラテッ
クス系塗布ｆＪｆ成物は、被塗布体に被擬した玖冷却し
てもゲル化しない性質を有している。
組成物又は水系の重合体乳化分散物などの所出ｌラテッ
クス系塗布ｆＪｆ成物は、被塗布体に被擬した玖冷却し
てもゲル化しない性質を有している。
これらの塗布組成物としては、酸化亜鉛、硫化カドミウ
ム、ジアゾ化合物などの感光成分をき有させた゛Ｌ電子
写真用組成物ポリビニルカルバゾール、ポリビニルアン
スラセンなどの有機光導電性ポリマーを含有させた電子
写真用組成物あるいは有機ハロゲン化合物、ジアゾ化合
物などを感光成分として自存させた感光組成物、その他
にマイクロカプセルやプロテクト粒子を含有させた感圧
紙）珈 用組成物、塗料あるいは磁気テープ用組成机が知られて
いる。
ム、ジアゾ化合物などの感光成分をき有させた゛Ｌ電子
写真用組成物ポリビニルカルバゾール、ポリビニルアン
スラセンなどの有機光導電性ポリマーを含有させた電子
写真用組成物あるいは有機ハロゲン化合物、ジアゾ化合
物などを感光成分として自存させた感光組成物、その他
にマイクロカプセルやプロテクト粒子を含有させた感圧
紙）珈 用組成物、塗料あるいは磁気テープ用組成机が知られて
いる。
この様な塗布組成物は、被塗布体に塗布させた後、加熱
￥！ Ｉ ＋、により乾督りする方法が実施されている
が、塗布直後急激に加熱空気を送ることは、特に膜厚均
一性、表ｉ６７平）・Ｈ性などの条件を満足することが
要求される分野、例えば−子写真感光体のしかし、塗布
直後の塗膜の状態は、塗膜中に塗布溶品が蒸発されずに
かなシの量で桟留しており、非常に不安定な状態となっ
ている。このため塗布直後に塗膜を空気中に直らに導入
゛４ると、塗膜中の有機溶媒が急激に蒸発し、塗膜に白
化や結露現象が生じていたので、好ましくなかった。こ
の様な欠点を解決する方法として、従来では例えば特開
昭５０−７５０４１号公報に記載された様に被塗布体に
対して十分に探い塗布容器を用い、塗布直後の％％にの
乾燥を十分に高い溶媒雰囲気中で実施すること、すなわ
ち７′３媒の蒸発速度を十分に近くすることによって実
施する方法が知られている。
￥！ Ｉ ＋、により乾督りする方法が実施されている
が、塗布直後急激に加熱空気を送ることは、特に膜厚均
一性、表ｉ６７平）・Ｈ性などの条件を満足することが
要求される分野、例えば−子写真感光体のしかし、塗布
直後の塗膜の状態は、塗膜中に塗布溶品が蒸発されずに
かなシの量で桟留しており、非常に不安定な状態となっ
ている。このため塗布直後に塗膜を空気中に直らに導入
゛４ると、塗膜中の有機溶媒が急激に蒸発し、塗膜に白
化や結露現象が生じていたので、好ましくなかった。こ
の様な欠点を解決する方法として、従来では例えば特開
昭５０−７５０４１号公報に記載された様に被塗布体に
対して十分に探い塗布容器を用い、塗布直後の％％にの
乾燥を十分に高い溶媒雰囲気中で実施すること、すなわ
ち７′３媒の蒸発速度を十分に近くすることによって実
施する方法が知られている。
しかし、この方法では浸漬塗布法に於いては、引き上げ
速度を遅くすることになシ、感光体を高速−大量生産方
式で製造する方法には適していない欠点を有している。
速度を遅くすることになシ、感光体を高速−大量生産方
式で製造する方法には適していない欠点を有している。
本発明の目的は、有機溶媒系塗布組成物あるいはラテッ
クス系塗布組成物の塗膜を形成する除、白化や結シ：イ
υｌ象が生じないで、しかも〃≦油でｎ’ｌ 布するこ
とができる塗膜の製造法及びその装ｆｔを提供すること
にある。
クス系塗布組成物の塗膜を形成する除、白化や結シ：イ
υｌ象が生じないで、しかも〃≦油でｎ’ｌ 布するこ
とができる塗膜の製造法及びその装ｆｔを提供すること
にある。
本発明の別の目的は、有機溶媒系塗布組成ｉｈあるいは
ラテックス系塗布組成物の均一膜厚を有する塗膜の製造
法及びその装置を提供することｔ（−ある。
ラテックス系塗布組成物の均一膜厚を有する塗膜の製造
法及びその装置を提供することｔ（−ある。
は膜の乾燥を速めるためには、溶媒Ｘ＋３気をジＩｉが
してやればよいが風を当てる方法では前述の欠陥を生じ
る。そのため、本発明は、塗膜に直接風が当たらないよ
うにして、乾燥を早めるよう工夫したものである。すな
わち、浸（＆塗布された後の塗膜に風が当たらないよう
に盆膜の周囲に遮風手段を設け、しかも塗；４ｊ直後の
ｍ腹の周囲に蒸発溶媒希釈手段を設けることによって、
前述の目的が達成される。
してやればよいが風を当てる方法では前述の欠陥を生じ
る。そのため、本発明は、塗膜に直接風が当たらないよ
うにして、乾燥を早めるよう工夫したものである。すな
わち、浸（＆塗布された後の塗膜に風が当たらないよう
に盆膜の周囲に遮風手段を設け、しかも塗；４ｊ直後の
ｍ腹の周囲に蒸発溶媒希釈手段を設けることによって、
前述の目的が達成される。
以下、本発明を図面に従って説明する。
第１図は、本発明の製造法で用いる装置の断面図である
。
。
第１図において、被塗布体１としては上部が閉塞し、下
部が開放された様ナアルミニウムＯシリンダーなどの円
筒状基体を用いることができる。
部が開放された様ナアルミニウムＯシリンダーなどの円
筒状基体を用いることができる。
２は有機溶媒系塗布組成物、ラテックス系塗布組成物な
どの非セツト系塗布組成物で、３は浸漬塗布容器、４は
塗布容器蓋で、中央付近には被塗布体が挿入できる開１
−１部・ど有し−Ｃいる。５はプラスチックフィルム、
ステンレスやアルミニウムなどで作成した円筒状の覆い
などによって形成した遮風手段である。この遮風手段の
下部付近には蒸発溶媒の濃度を希釈するために、開ルｐ
設けられている。かかる開孔６は、蒸発溶媒希釈手段と
して機能することができるが、その他に蒸発溶媒希釈手
段として６」第２図（、Ｌ）および（ｂ）に示すものも
用いることかできる。第２図（＆）は遮風手段５の下部
に足７を設けた態機を示している。これを第１図に示す
塗布容器蓋４の上に配置した時、足７と塗布容器蓋４０
間に開口が形成されて、かかる開口部を蒸発溶媒希釈手
段として用いることができる。
どの非セツト系塗布組成物で、３は浸漬塗布容器、４は
塗布容器蓋で、中央付近には被塗布体が挿入できる開１
−１部・ど有し−Ｃいる。５はプラスチックフィルム、
ステンレスやアルミニウムなどで作成した円筒状の覆い
などによって形成した遮風手段である。この遮風手段の
下部付近には蒸発溶媒の濃度を希釈するために、開ルｐ
設けられている。かかる開孔６は、蒸発溶媒希釈手段と
して機能することができるが、その他に蒸発溶媒希釈手
段として６」第２図（、Ｌ）および（ｂ）に示すものも
用いることかできる。第２図（＆）は遮風手段５の下部
に足７を設けた態機を示している。これを第１図に示す
塗布容器蓋４の上に配置した時、足７と塗布容器蓋４０
間に開口が形成されて、かかる開口部を蒸発溶媒希釈手
段として用いることができる。
した時、蒸発溶媒希釈手段として機能ｊることができる
。
。
一般に溶媒の蒸気は空気よシ重いものであるか遮風手段
の中で乾燥する工程が更に促逸されでより有効に作用す
ることができるが、蒸発溶媒希釈手段は、遮風手段の下
部に限らず、上部付近にも設けることができる０ 本発明の方法は、浸漬塗布法の場合において、特に好ま
しいものであるが、例えばナイフ塗布法、ロール塗布法
、カレンダー塗布法、押出し塗布法、グラビア塗布法、
スプレー塗布法においても用いることができる。
の中で乾燥する工程が更に促逸されでより有効に作用す
ることができるが、蒸発溶媒希釈手段は、遮風手段の下
部に限らず、上部付近にも設けることができる０ 本発明の方法は、浸漬塗布法の場合において、特に好ま
しいものであるが、例えばナイフ塗布法、ロール塗布法
、カレンダー塗布法、押出し塗布法、グラビア塗布法、
スプレー塗布法においても用いることができる。
膜に悪影響を与えない範囲で加熱発嚇されていてもよい
。
。
この様にして製造された塗膜は、次いで急激に乾燥させ
て固化されるが、この塗膜は高速度で塗膜容器から引き
上げられたにもかかわらず、均一な膜厚を形成すること
ができ、しかも白化や結露などの現象も生じることがな
い。
て固化されるが、この塗膜は高速度で塗膜容器から引き
上げられたにもかかわらず、均一な膜厚を形成すること
ができ、しかも白化や結露などの現象も生じることがな
い。
又、本発明の方法によれば被塗布体の周囲にＵ１１孔を
有する覆いを設けろことにより、塗膜の乾燥が円滑に行
われるようになυ、きれいな仕上がりの塗布面を得るこ
とができるようになった。
有する覆いを設けろことにより、塗膜の乾燥が円滑に行
われるようになυ、きれいな仕上がりの塗布面を得るこ
とができるようになった。
次に本発明の実施形態について述べるが、本発明の塗布
方法はこれＩｔＣ限定されるものではないのはもちろん
である。
方法はこれＩｔＣ限定されるものではないのはもちろん
である。
実施例１
被績布体として、８ｏφＸ３００ｍｍの上端が閉じて下
端が開放された円筒状アルミニウム基体を用い、これに
下達の方法でポリアミド樹脂層を設けた。
端が開放された円筒状アルミニウム基体を用い、これに
下達の方法でポリアミド樹脂層を設けた。
ポリアミド樹脂として共重合ナイロン（商品名；アミ２
ンＣｆＪ８０００東しＭ）を用い、この４部（重量下 部、以外同様）をメタノール６ｏ部及びトルエン６６部
に溶解した。容器は１６ｏφ×４ｏｏＩＩＩＩ＋１ノス
テンレス製のものを用い、９０φの穴があけられた蓋を
かぶせ第１図に示すような塗布形態で塗布した。
ンＣｆＪ８０００東しＭ）を用い、この４部（重量下 部、以外同様）をメタノール６ｏ部及びトルエン６６部
に溶解した。容器は１６ｏφ×４ｏｏＩＩＩＩ＋１ノス
テンレス製のものを用い、９０φの穴があけられた蓋を
かぶせ第１図に示すような塗布形態で塗布した。
まず、覆いを取シ付けないで基体を１００独ｎ／分の辻
さで引き上げたところ、基体が蓋から上がったところで
メタノールが急激に乾燥することにより表面に結露する
現象が見られ塗膜が白化した。
さで引き上げたところ、基体が蓋から上がったところで
メタノールが急激に乾燥することにより表面に結露する
現象が見られ塗膜が白化した。
そのため、ポリエステルフィルムを加工して１００φＸ
２００ｍｍの覆いを作成し、蓋の上部に取υ付けて塗布
したところ、急激なメタノールの蒸発がおさえられてき
れいな塗布が得られたが、引き上げ速度を２０Ｏｎ＋ｕ
＋／分に上昇させて引き上げたところ、基体が覆いから
上がったところで塗膜はまだ碕れており、そこで自然風
が当たって塗膜がまだらに乾燥する芝とが判明した。
２００ｍｍの覆いを作成し、蓋の上部に取υ付けて塗布
したところ、急激なメタノールの蒸発がおさえられてき
れいな塗布が得られたが、引き上げ速度を２０Ｏｎ＋ｕ
＋／分に上昇させて引き上げたところ、基体が覆いから
上がったところで塗膜はまだ碕れており、そこで自然風
が当たって塗膜がまだらに乾燥する芝とが判明した。
遮風手段として第６図に示すような１０φの開孔６を８
個有する覆いを用い゛Ｃ基体を２００ｔｎｍ１分の速さ
で引き上げて塗布したところ、溶剤蒸気が穴を通じて速
やかに乾燥するようになったので、塗膜はきれいになっ
た。
個有する覆いを用い゛Ｃ基体を２００ｔｎｍ１分の速さ
で引き上げて塗布したところ、溶剤蒸気が穴を通じて速
やかに乾燥するようになったので、塗膜はきれいになっ
た。
このように開［ｊを有するＵいを設けることにより、良
好な塗膜が得られた。
好な塗膜が得られた。
第１図は本発明の方法で用いる装置の断面図、第２図（
Ｂ）、＄４≠（ｂ）及び第６図は本発明の方法で用いる
遮風手段の剥祝図である。 １ ・・ｓｅｅ被塗布体 ２−・・・−Ｉｆｌｓ
、布組成物６ ・・・・・浸？＆！／塗布容器 ４・
・・・・塗布容器ψに５・・・・・遮風手段 ６
・・・・・開孔７ ・・・・・足 ８
・・・・・４４４目特軒出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士丸島儲− ３８１ 第２口 （Ｑ） （ｂ） 第づ同
Ｂ）、＄４≠（ｂ）及び第６図は本発明の方法で用いる
遮風手段の剥祝図である。 １ ・・ｓｅｅ被塗布体 ２−・・・−Ｉｆｌｓ
、布組成物６ ・・・・・浸？＆！／塗布容器 ４・
・・・・塗布容器ψに５・・・・・遮風手段 ６
・・・・・開孔７ ・・・・・足 ８
・・・・・４４４目特軒出願人 キャノン株式会社 代理人 弁理士丸島儲− ３８１ 第２口 （Ｑ） （ｂ） 第づ同
Claims (2)
- （１）塗布組成物を被塗布体に塗布した後に、塗膜を遮
風下の希釈された蒸発溶媒中に配置することを特徴とす
る塗膜の製造法。 - （２）浸漬塗布容器とその上に設けた遮風手段を有し、
該遮風手段が蒸発溶媒希釈手段を備えていることを特徴
とする塗膜の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15310282A JPS5942060A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 塗膜の製造法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15310282A JPS5942060A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 塗膜の製造法及びその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942060A true JPS5942060A (ja) | 1984-03-08 |
Family
ID=15555011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15310282A Pending JPS5942060A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 塗膜の製造法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942060A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6994892B2 (en) | 2002-02-28 | 2006-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing optical recording medium |
| JP2012093521A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Canon Inc | 電子写真感光体製造装置および電子写真感光体製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS577280A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-14 | Ricoh Co Ltd | Dip-coater |
-
1982
- 1982-09-02 JP JP15310282A patent/JPS5942060A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS577280A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-14 | Ricoh Co Ltd | Dip-coater |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6994892B2 (en) | 2002-02-28 | 2006-02-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing optical recording medium |
| JP2012093521A (ja) * | 2010-10-26 | 2012-05-17 | Canon Inc | 電子写真感光体製造装置および電子写真感光体製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7739805B2 (en) | Snap line and method | |
| US4405678A (en) | Protected vapor-deposited metal layers | |
| JPS61149962A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPH0418297B2 (ja) | ||
| JPS5942060A (ja) | 塗膜の製造法及びその装置 | |
| EP0087309A1 (en) | Protected vapor-deposited metal layers | |
| JP2533943B2 (ja) | 電子写真感光体の製造法 | |
| JPH0332783B2 (ja) | ||
| JPH11276961A (ja) | 浸漬塗工装置 | |
| DE2400362A1 (de) | Entfernbare ueberzuege fuer verbesserte xerographische platten | |
| DE2504545C2 (ja) | ||
| JPS60146100A (ja) | 低発塵性導電紙 | |
| JPS58145734A (ja) | 被覆されたフイルムの製造法 | |
| JP2002311630A (ja) | 電子写真式平版印刷版用支持体 | |
| JPS62100564A (ja) | フイルム用銀検出材料 | |
| JPH04136946A (ja) | Ｏｐｃ感光ドラムの製造方法及びその製造装置 | |
| JPH0371031B2 (ja) | ||
| JPH0538884Y2 (ja) | ||
| JPS6377061A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
| JPS54141640A (en) | Electrostatic recording medium | |
| US682580A (en) | Etching. | |
| AT220951B (de) | Verfahren und Mittel zur Herstellung von Schutzschichten, insbesondere für photographische Filme | |
| JPH01263938A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0444046A (ja) | 電子写真感光体およびその製造方法 | |
| JPS59174843A (ja) | 電子写真感光体の製造装置 |