JPS5942165A - 非晶質合金薄帯製造用スリツトノズルの予熱方法 - Google Patents
非晶質合金薄帯製造用スリツトノズルの予熱方法Info
- Publication number
- JPS5942165A JPS5942165A JP15179882A JP15179882A JPS5942165A JP S5942165 A JPS5942165 A JP S5942165A JP 15179882 A JP15179882 A JP 15179882A JP 15179882 A JP15179882 A JP 15179882A JP S5942165 A JPS5942165 A JP S5942165A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tip
- nozzle
- preheating
- amorphous alloy
- temp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D41/00—Casting melt-holding vessels, e.g. ladles, tundishes, cups or the like
- B22D41/50—Pouring-nozzles
- B22D41/60—Pouring-nozzles with heating or cooling means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、非晶質合金薄帯製造用ノズルの予熱方法に関
するものである。
するものである。
非晶質合金薄？ｔＦの製造法として、液体急冷法が研究
されている。特に単ロール法が大量生産に適していると
評価−されている。これは通常１關程度以下の狭巾スリ
ットから高速移動している冷却面へ溶湯を注湯して急冷
することを特徴とする。一般に高温液体は固まり易く取
扱いにくいものであるが、特にこの場合は、溶湯融点に
比較的近い温度である上に非常に狭いスリットヲ使うた
め更に詰り易く、安定して注湯開始することは難しい。
されている。特に単ロール法が大量生産に適していると
評価−されている。これは通常１關程度以下の狭巾スリ
ットから高速移動している冷却面へ溶湯を注湯して急冷
することを特徴とする。一般に高温液体は固まり易く取
扱いにくいものであるが、特にこの場合は、溶湯融点に
比較的近い温度である上に非常に狭いスリットヲ使うた
め更に詰り易く、安定して注湯開始することは難しい。
ノズル先端を充分に予熱する方法を確立することが工業
生産規模でのＭ要な開発課題となっている。
生産規模でのＭ要な開発課題となっている。
ところである種の非晶質合金は電磁気的特性が非常に優
れているため、電力用トランス鉄芯としての用途が大い
に期待され、低コストで１５０咽を越す広巾の薄帯を大
量に製造する方法が盛んに研究されている。
れているため、電力用トランス鉄芯としての用途が大い
に期待され、低コストで１５０咽を越す広巾の薄帯を大
量に製造する方法が盛んに研究されている。
本発明者らの研究によれば、このような広巾材の大量生
産製造法においては、単に注湯初期にスリット詰りを無
くするだけでは不充分であることが明らかとなって来た
。
産製造法においては、単に注湯初期にスリット詰りを無
くするだけでは不充分であることが明らかとなって来た
。
形状、表面性状の良い薄帯を低コストで大量生産するた
めには、スリットノズルの材質として高価な所謂ニュー
セラミックス、ファインセラミックスによるノズルを採
用せざるを得ない。装置稼動率を上げ、製造コストを低
下さぜるためには、溶解炉と分離したるつぼ（以下、タ
ンディジーと称す）にできるだけ小型のセラミックノズ
ル部（以下、ノズルチップと称す）を装着する設計が連
続的大量生産法の有力な方向の一つである。
めには、スリットノズルの材質として高価な所謂ニュー
セラミックス、ファインセラミックスによるノズルを採
用せざるを得ない。装置稼動率を上げ、製造コストを低
下さぜるためには、溶解炉と分離したるつぼ（以下、タ
ンディジーと称す）にできるだけ小型のセラミックノズ
ル部（以下、ノズルチップと称す）を装着する設計が連
続的大量生産法の有力な方向の一つである。
ノズルチップは小型になればなるだけ、熱ショックによ
る割れが起きにくくなり使い易くなるが他方、不均一温
度分布によって容易に変形するものである。チップ式の
ノズルをタンディジーに装着した連続的大量生産法の研
究において最大の課題は、製造は旨く開始しても、途中
広巾材の中央部が極端に薄くなシ、場合によってはすだ
れ状に穴が空くことである。
る割れが起きにくくなり使い易くなるが他方、不均一温
度分布によって容易に変形するものである。チップ式の
ノズルをタンディジーに装着した連続的大量生産法の研
究において最大の課題は、製造は旨く開始しても、途中
広巾材の中央部が極端に薄くなシ、場合によってはすだ
れ状に穴が空くことである。
詳細な研究の結果、その原因が、スリットの稼動温度と
予熱温度の差にあることが判明した。理論的には、スリ
ットの稼動面の温度が他の部分の温度（予熱温度に達し
ている）と異なることに起因する熱歪によってスリット
自身が変形して、中央部が狭くなった多極端な場合は閉
塞することにあると判明した。薄帯の目標板厚３０μｍ
を±１０％の板厚公差に入れるには、注湯時稼動温度の
士１５０℃、望しくけ±５０℃内圧ノズルチップ全予熱
しておけば充分であることが判明した。
予熱温度の差にあることが判明した。理論的には、スリ
ットの稼動面の温度が他の部分の温度（予熱温度に達し
ている）と異なることに起因する熱歪によってスリット
自身が変形して、中央部が狭くなった多極端な場合は閉
塞することにあると判明した。薄帯の目標板厚３０μｍ
を±１０％の板厚公差に入れるには、注湯時稼動温度の
士１５０℃、望しくけ±５０℃内圧ノズルチップ全予熱
しておけば充分であることが判明した。
本発明の要旨とするところは溶解炉と分離設置したタン
ディジー１に連結して設けられているノズルチップホル
ダー２に装着したチップ式スリットノズル３の予熱温度
を上記タンディシュ１内、＋７）？８湯温度±１５０℃
に制御することを特徴とする非晶質合金薄帯製造用スリ
ットノズルの予熱方法にある。
ディジー１に連結して設けられているノズルチップホル
ダー２に装着したチップ式スリットノズル３の予熱温度
を上記タンディシュ１内、＋７）？８湯温度±１５０℃
に制御することを特徴とする非晶質合金薄帯製造用スリ
ットノズルの予熱方法にある。
以下本発明を図面にもとづいて詳述する。
第１図は本発明の実施の態様を示す一部断面正面図、第
２図は同じく側面図である。図において、溶解炉（図示
せず）より給湯されるタンディジー１の下部に、ノズル
チップホルダー２が連通設置され、該ホルタ゛−２の冷
却ロール（図示せず）に近接する仙にチップ式スリット
ノズル３が装着されており、該ノズルチップ３の中方向
両端部（第１図）には上記ノズルチップホルダー２のド
リル穿孔部に熱電対４，４が挿入され予熱温度を測定す
るように構成されている。
２図は同じく側面図である。図において、溶解炉（図示
せず）より給湯されるタンディジー１の下部に、ノズル
チップホルダー２が連通設置され、該ホルタ゛−２の冷
却ロール（図示せず）に近接する仙にチップ式スリット
ノズル３が装着されており、該ノズルチップ３の中方向
両端部（第１図）には上記ノズルチップホルダー２のド
リル穿孔部に熱電対４，４が挿入され予熱温度を測定す
るように構成されている。
上記ノズルチップ３は通電加熱することによシ予熱され
るが、この際タンディシュ１内の所定の溶湯温度に対し
、予熱温度を上記ノズルチップ３がほとんど熱歪変形を
受けない温度範囲に制御する。
るが、この際タンディシュ１内の所定の溶湯温度に対し
、予熱温度を上記ノズルチップ３がほとんど熱歪変形を
受けない温度範囲に制御する。
本発明のように非晶質合金の薄帯を製造する場合、溶湯
の温度はほぼ１２００〜１４００℃であるので、これら
温度の±１５０℃の範囲の予熱温度であると、ノズルチ
ップの熱歪変形が許容の範囲に納まる。
の温度はほぼ１２００〜１４００℃であるので、これら
温度の±１５０℃の範囲の予熱温度であると、ノズルチ
ップの熱歪変形が許容の範囲に納まる。
即ちノズルチップ３の予熱温度が溶湯温度−１５０℃未
満になると注湯後数秒でスリット中央部が閉塞してしま
う。他方溶湯温度＋１５０℃を超えるとノズルホルダー
が過熱されて、注湯スタート時薄帯が出る前に粒が飛び
散る場合が頻発する。
満になると注湯後数秒でスリット中央部が閉塞してしま
う。他方溶湯温度＋１５０℃を超えるとノズルホルダー
が過熱されて、注湯スタート時薄帯が出る前に粒が飛び
散る場合が頻発する。
実施例
黒鉛製ノズルチップホルダーにドリル穿孔して、ＣＡ熱
電対２本をＢＮ製ノズルチップの両端部に接触させて、
ノズルチップに通電加熱して予熱温度をモニターして、
１２５０℃になったところで１３５０℃のＦｅ −Ｂ−
８ｉ−Ｃ系溶湯を取鍋からタンディジーに給湯すること
によシ、注湯を開始し、薄帯の製造を行なった。冷却ロ
ールは１，０００φＸ３００Ｗの水冷鋼合金ロールで周
速２５ｍ／８ｅＣ１スリットは０．６＋ｎｍＸ１５０ｍ
ｍでロールノズル間ギャップ０．２ ｖａｎ ％溶湯ヘ
ッド３００−であった。全量５０跋を注湯したが板厚は
２５μｍ±２μｍ内に入り、中央部の欠陥は無かった。
電対２本をＢＮ製ノズルチップの両端部に接触させて、
ノズルチップに通電加熱して予熱温度をモニターして、
１２５０℃になったところで１３５０℃のＦｅ −Ｂ−
８ｉ−Ｃ系溶湯を取鍋からタンディジーに給湯すること
によシ、注湯を開始し、薄帯の製造を行なった。冷却ロ
ールは１，０００φＸ３００Ｗの水冷鋼合金ロールで周
速２５ｍ／８ｅＣ１スリットは０．６＋ｎｍＸ１５０ｍ
ｍでロールノズル間ギャップ０．２ ｖａｎ ％溶湯ヘ
ッド３００−であった。全量５０跋を注湯したが板厚は
２５μｍ±２μｍ内に入り、中央部の欠陥は無かった。
第１図は本発明の実施の態様を示す一部断面正面図、第
２図は第１図のＡ−Ａ断面図である。
２図は第１図のＡ−Ａ断面図である。
Claims (1)
- 石解炉と分離設置したタンガイシ−１に連結して設ケラ
れているノズルチップホルダー２に装着し１′Ｃチッゾ
式スリットノズル３の予熱温度を上記タンディジ８−１
内の浴湯温度±１５０℃に制御すること′？ｒ、ＩＦ、
＋ｊ徴とする非晶質合金薄帯製造用スリットノズルの予
熱方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15179882A JPS5942165A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 非晶質合金薄帯製造用スリツトノズルの予熱方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15179882A JPS5942165A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 非晶質合金薄帯製造用スリツトノズルの予熱方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942165A true JPS5942165A (ja) | 1984-03-08 |
| JPS6347540B2 JPS6347540B2 (ja) | 1988-09-22 |
Family
ID=15526527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15179882A Granted JPS5942165A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 非晶質合金薄帯製造用スリツトノズルの予熱方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942165A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626951U (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-16 | ||
| US10092367B2 (en) | 2014-03-18 | 2018-10-09 | Monteris Medical Corporation | Image-guided therapy of a tissue |
| US10188462B2 (en) | 2009-08-13 | 2019-01-29 | Monteris Medical Corporation | Image-guided therapy of a tissue |
| US10327830B2 (en) | 2015-04-01 | 2019-06-25 | Monteris Medical Corporation | Cryotherapy, thermal therapy, temperature modulation therapy, and probe apparatus therefor |
| US10675113B2 (en) | 2014-03-18 | 2020-06-09 | Monteris Medical Corporation | Automated therapy of a three-dimensional tissue region |
-
1982
- 1982-09-02 JP JP15179882A patent/JPS5942165A/ja active Granted
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626951U (ja) * | 1985-06-26 | 1987-01-16 | ||
| US10188462B2 (en) | 2009-08-13 | 2019-01-29 | Monteris Medical Corporation | Image-guided therapy of a tissue |
| US10610317B2 (en) | 2009-08-13 | 2020-04-07 | Monteris Medical Corporation | Image-guided therapy of a tissue |
| US10548678B2 (en) | 2012-06-27 | 2020-02-04 | Monteris Medical Corporation | Method and device for effecting thermal therapy of a tissue |
| US10092367B2 (en) | 2014-03-18 | 2018-10-09 | Monteris Medical Corporation | Image-guided therapy of a tissue |
| US10342632B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-07-09 | Monteris Medical Corporation | Image-guided therapy of a tissue |
| US10675113B2 (en) | 2014-03-18 | 2020-06-09 | Monteris Medical Corporation | Automated therapy of a three-dimensional tissue region |
| US10327830B2 (en) | 2015-04-01 | 2019-06-25 | Monteris Medical Corporation | Cryotherapy, thermal therapy, temperature modulation therapy, and probe apparatus therefor |
| US11672583B2 (en) | 2015-04-01 | 2023-06-13 | Monteris Medical Corporation | Cryotherapy, thermal therapy, temperature modulation therapy, and probe apparatus therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6347540B2 (ja) | 1988-09-22 |
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