JPS5942437A - フオトマスク用ガラス基板の選別方法 - Google Patents
フオトマスク用ガラス基板の選別方法Info
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- JPS5942437A JPS5942437A JP57153553A JP15355382A JPS5942437A JP S5942437 A JPS5942437 A JP S5942437A JP 57153553 A JP57153553 A JP 57153553A JP 15355382 A JP15355382 A JP 15355382A JP S5942437 A JPS5942437 A JP S5942437A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/8901—Optical details; Scanning details
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体集積回路などの電子回路部品の製造に用
いられるフォトマスク用ガラス基板に関し、更に詳しく
は、該ガラス基板の気泡等の欠点の検出方法に関する。
いられるフォトマスク用ガラス基板に関し、更に詳しく
は、該ガラス基板の気泡等の欠点の検出方法に関する。
近年、集積回路よりの微細化が進み、フォトマスクもよ
り微細なパターンを精度よく描くことが要求されてきた
。そのため、ガラス基板も従来のソーダライムブルー（
青板）やソーダライムホワイト（白板）等に代って、熱
膨張係数の小さい、いわゆる低膨張ガラスが使用される
ようになってきた。
り微細なパターンを精度よく描くことが要求されてきた
。そのため、ガラス基板も従来のソーダライムブルー（
青板）やソーダライムホワイト（白板）等に代って、熱
膨張係数の小さい、いわゆる低膨張ガラスが使用される
ようになってきた。
低膨張ガラスにはホウ珪酸ガラスやアルミノシリケート
などがあるが、これらは溶融時の粘度が高く、板ガラス
を製造する際ガラス内に気泡が発生しやすい。
などがあるが、これらは溶融時の粘度が高く、板ガラス
を製造する際ガラス内に気泡が発生しやすい。
また、フォトマスクとシリコンウェーハを重ねて露光す
る際にフォトマスクのガラス基板の表面キズ、ガラス基
板内部の気泡、異物等が存在するとウェーハ上にフォト
マスクのパターンが精確に転写できず、パターンの短絡
とか、パターンの欠除等がおどる。その結果集積回路の
歩留りが低下し、好ましくない。
る際にフォトマスクのガラス基板の表面キズ、ガラス基
板内部の気泡、異物等が存在するとウェーハ上にフォト
マスクのパターンが精確に転写できず、パターンの短絡
とか、パターンの欠除等がおどる。その結果集積回路の
歩留りが低下し、好ましくない。
そして、これらの欠点のうち、ガラス基盤の表面に存在
するものはガラス基板の加工工程（例えば表面の研磨）
で除かれろため、ガラス基板の内部に存在する欠点のみ
を検出する方法が要求される。
するものはガラス基板の加工工程（例えば表面の研磨）
で除かれろため、ガラス基板の内部に存在する欠点のみ
を検出する方法が要求される。
従って本発明の目的は、フォトマスク用ガラス基板の内
部のキズ、気泡、異物等を検出する方法を提供すること
である。
部のキズ、気泡、異物等を検出する方法を提供すること
である。
本発明の他の目的は、フォトマスク用ガラヌ基板の内部
のキズ、気泡、異物等を検出するたぬの照明方法を提供
することである。
のキズ、気泡、異物等を検出するたぬの照明方法を提供
することである。
本発明の上記目的は、ガラス基板の側面からレーザー光
をガラス基板と平行に入射することによって達成される
。ガラス基板の側面からレーザー光を入射することによ
り、ガラス内部のキズ、気泡、異物等（これらを含めて
以下気泡等という）が存在すると、その部分が光るので
、気泡等の存在が確認されるのである。発見できる気泡
等の大きさは入射されろレーザー光の強度、オ６よびレ
ーザー光源の種類に依存しているが、０．１μ以上の大
きさの気泡等が検出できる。用いるレーザーの種類は任
意でよいが、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、Ａｒレーザー等が取
り扱いやすく、また検出にも優れている。
をガラス基板と平行に入射することによって達成される
。ガラス基板の側面からレーザー光を入射することによ
り、ガラス内部のキズ、気泡、異物等（これらを含めて
以下気泡等という）が存在すると、その部分が光るので
、気泡等の存在が確認されるのである。発見できる気泡
等の大きさは入射されろレーザー光の強度、オ６よびレ
ーザー光源の種類に依存しているが、０．１μ以上の大
きさの気泡等が検出できる。用いるレーザーの種類は任
意でよいが、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、Ａｒレーザー等が取
り扱いやすく、また検出にも優れている。
レーザー光の出力は検出すべき気泡等の大きさにより任
意に選ぶことができるが、０．１ｍｗから１００ｍｗが
好ましい。Ｏ，１ｍｗ以下では気泡等が検出できず、ま
たｉｏｏ ｍＷ以上では出力が大きくなりすぎ気泡等が
検出しにくい。
意に選ぶことができるが、０．１ｍｗから１００ｍｗが
好ましい。Ｏ，１ｍｗ以下では気泡等が検出できず、ま
たｉｏｏ ｍＷ以上では出力が大きくなりすぎ気泡等が
検出しにくい。
入射スるレーザー光のビーム径はガラス基板の厚さより
ｌ」・さいことが好ましい。ガラス基板の厚さより太い
ビーム径を用いるとガラス基板の表面がレーザー光によ
り光り、更しこガラス基板表面に付着しているゴミや表
面キズが光り、ガラス基板内の気泡等の検出の際にノイ
ズとなり、好まし、くない。
ｌ」・さいことが好ましい。ガラス基板の厚さより太い
ビーム径を用いるとガラス基板の表面がレーザー光によ
り光り、更しこガラス基板表面に付着しているゴミや表
面キズが光り、ガラス基板内の気泡等の検出の際にノイ
ズとなり、好まし、くない。
光源としてレーザー光を用いないで、ノ・ロゲンランプ
や螢光灯を用いる方法もある。しかしこの方法では、ガ
ラス基板の側面から入射する元が拡散光であるので、入
射光がガラス基板表面に到達し、ガラス基板表面に付着
しているゴミ等を光らせてしまい、更【こガラス基板表
面のキズも光らせてしまう。
や螢光灯を用いる方法もある。しかしこの方法では、ガ
ラス基板の側面から入射する元が拡散光であるので、入
射光がガラス基板表面に到達し、ガラス基板表面に付着
しているゴミ等を光らせてしまい、更【こガラス基板表
面のキズも光らせてしまう。
どれらはガラス基板内部の気泡等の検出にあたってはノ
イズとなり好ましくない。
イズとなり好ましくない。
本発明の方法によれば、ガラス側面から入射したレーザ
ー光はガラス基板内部を通過し、ガラス基板表面に到達
しない。
ー光はガラス基板内部を通過し、ガラス基板表面に到達
しない。
従ってガラス基板表面上のゴミやキズがノイズとなるこ
となく、ガラス基板内部の気泡等カー検出できる。
となく、ガラス基板内部の気泡等カー検出できる。
本発明の方法にもとすく装置の例として第１図及び第２
図（こ示すものが膳げられる。ｌ（まレーザー出力管で
あり、２及び３はミラー、４番まポリゴンミラーである
。１から出力されたレーザー光束５は４のポリゴンミラ
ーにより水平方向に振られて広がり、ガラス基板６の側
面に到達する・ガラス内部にレーザー光が入いり、ガラ
ス内ｏＢの気泡等が存在すると光る。
図（こ示すものが膳げられる。ｌ（まレーザー出力管で
あり、２及び３はミラー、４番まポリゴンミラーである
。１から出力されたレーザー光束５は４のポリゴンミラ
ーにより水平方向に振られて広がり、ガラス基板６の側
面に到達する・ガラス内部にレーザー光が入いり、ガラ
ス内ｏＢの気泡等が存在すると光る。
本発明において、気泡等の検出の対象とされるガラス基
盤のうちの種類は任意でよく、たとえｉｆソーダライム
ブルー、ソーダライムホワイト、１二つ硅酸ガラス、ア
ルミノシリケート、鉛ガラス、バリウムガラスなどがあ
げられる。
盤のうちの種類は任意でよく、たとえｉｆソーダライム
ブルー、ソーダライムホワイト、１二つ硅酸ガラス、ア
ルミノシリケート、鉛ガラス、バリウムガラスなどがあ
げられる。
本発明において、気泡等の検出の対象とされるガラス基
板は、研磨していないガラスでもよく、研磨済ガラスで
もよい。
板は、研磨していないガラスでもよく、研磨済ガラスで
もよい。
本発明において用いられるガラス出番こをよ、本発明の
検査の後または前に研磨、洗浄され、任意の金属（たと
えばクロム）および／または金属化合物（たとえば酸化
クロム）を、蒸着法および／またはスパッター法でコー
ティングすることができる。またはノ・ロゲン化銀乳剤
を任意の方法でコーティングすることができる。
検査の後または前に研磨、洗浄され、任意の金属（たと
えばクロム）および／または金属化合物（たとえば酸化
クロム）を、蒸着法および／またはスパッター法でコー
ティングすることができる。またはノ・ロゲン化銀乳剤
を任意の方法でコーティングすることができる。
次に本発明の実施例を以下に述べるが、これらに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
実施例−１
ホウ珪酸ガラス板（５”Ｘ ５″）をフォトマスクで行
われる研磨を行い洗浄した。このガラス板を第１図及び
第２図の装置で照明し、（ただし、レーザーはＡｒレー
ザーを用い出力は５ｍｗとした。洸っている点５箇所を
マークした。これらの点はすべて異物と気泡であり、そ
の大きさを求めたところそれぞれ０．４μｍ、１μｍ１
３μｍ、１０μｍ及びδμ汎であった。
われる研磨を行い洗浄した。このガラス板を第１図及び
第２図の装置で照明し、（ただし、レーザーはＡｒレー
ザーを用い出力は５ｍｗとした。洸っている点５箇所を
マークした。これらの点はすべて異物と気泡であり、そ
の大きさを求めたところそれぞれ０．４μｍ、１μｍ１
３μｍ、１０μｍ及びδμ汎であった。
実施例−２
研磨、洗浄済ガラスの代りに、研磨していないホウ珪酸
ガラスを用いた他は実施例−１と同様にして照明し、検
査した結果光っている点は全部で４箇所あった。研磨洗
浄した後、それらを調べたところ、すべてガラス内部の
異物と気泡であって、その大きさはそれぞれ２μｍ、６
μｍ、１２μｍ１ 及び１５μｍであった。
ガラスを用いた他は実施例−１と同様にして照明し、検
査した結果光っている点は全部で４箇所あった。研磨洗
浄した後、それらを調べたところ、すべてガラス内部の
異物と気泡であって、その大きさはそれぞれ２μｍ、６
μｍ、１２μｍ１ 及び１５μｍであった。
実施例−３
Ａｒレーザーの代りに）（ｅ−Ｎｅレーザー（５ｍｗの
出力）を用いた池は実施例１と同様にして検査した。光
っている点は６箇所あり、すべてガラス内部の異物及び
気泡であった。その大きさは０．６μ７７Ｌ、１．２μ
ｍ、２μｍ、２．５μｍ、７μｍ１及び１４μｍであっ
た。
出力）を用いた池は実施例１と同様にして検査した。光
っている点は６箇所あり、すべてガラス内部の異物及び
気泡であった。その大きさは０．６μ７７Ｌ、１．２μ
ｍ、２μｍ、２．５μｍ、７μｍ１及び１４μｍであっ
た。
実施例−４
ホウ珪酸ガラスの代わりにソーダライムブルーガラスを
用いた池は実施例−１と同様にして照明し、検有した。
用いた池は実施例−１と同様にして照明し、検有した。
光っている点は２箇所あり、これはガラス内部の気泡で
あり、その大きさは０．５伽及び１１ｔｎＬであった。
あり、その大きさは０．５伽及び１１ｔｎＬであった。
第１図及び第２図は本発明に用いられる装置の例を示す
概略図で、第１図は平面図、第２図は第１図の側面を示
す図である。 １・・・・・・レーザー出力管 ２及び３・・・・・・ミラー ４・・・・・・ポリゴンミラー ５・・・・・・レーザー光束 ６・・・・・・ガラス基板 代理人桑原義美
概略図で、第１図は平面図、第２図は第１図の側面を示
す図である。 １・・・・・・レーザー出力管 ２及び３・・・・・・ミラー ４・・・・・・ポリゴンミラー ５・・・・・・レーザー光束 ６・・・・・・ガラス基板 代理人桑原義美
Claims (1)
- ガラス基板の側面からレーザー光を該ガラス基板と平行
に入射させることを特徴とするフォトマスク用ガラス基
板内部のキズ、異物及び気泡を検出する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153553A JPS5942437A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | フオトマスク用ガラス基板の選別方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57153553A JPS5942437A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | フオトマスク用ガラス基板の選別方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942437A true JPS5942437A (ja) | 1984-03-09 |
Family
ID=15565015
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57153553A Pending JPS5942437A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | フオトマスク用ガラス基板の選別方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942437A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0870592A1 (en) * | 1997-04-08 | 1998-10-14 | Ball Corporation | Method and apparatus for producing stretch blow molded articles |
| JP2007041312A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置 |
| JP2007113962A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及びリソグラフィー用ガラス部材の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5485793A (en) * | 1977-12-21 | 1979-07-07 | Hitachi Ltd | Inspecting method of photo masks |
-
1982
- 1982-09-02 JP JP57153553A patent/JPS5942437A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5485793A (en) * | 1977-12-21 | 1979-07-07 | Hitachi Ltd | Inspecting method of photo masks |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0870592A1 (en) * | 1997-04-08 | 1998-10-14 | Ball Corporation | Method and apparatus for producing stretch blow molded articles |
| JP2007041312A (ja) * | 2005-08-03 | 2007-02-15 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置 |
| JP2007113962A (ja) * | 2005-10-18 | 2007-05-10 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及びリソグラフィー用ガラス部材の製造方法 |
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