JPS6321855B2 - - Google Patents

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JPS6321855B2
JPS6321855B2 JP55144058A JP14405880A JPS6321855B2 JP S6321855 B2 JPS6321855 B2 JP S6321855B2 JP 55144058 A JP55144058 A JP 55144058A JP 14405880 A JP14405880 A JP 14405880A JP S6321855 B2 JPS6321855 B2 JP S6321855B2
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JP
Japan
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light
bright
field illumination
dark
field
Prior art date
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Expired
Application number
JP55144058A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5767844A (en
Inventor
Shoichi Tanimoto
Kazunori Imamura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
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Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
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Publication of JPS5767844A publication Critical patent/JPS5767844A/ja
Publication of JPS6321855B2 publication Critical patent/JPS6321855B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被検査物の表面の検査装置に関するも
のである。さらに詳しく言えば、LSI製造に用い
られるフオトマスクやシリコンウエハ(以下ウエ
ハと略す)の表面の回路パターン観察及び異物の
目視検査を行なう装置に関するものである。
従来より、フオトマスクやウエハ上に形成され
た回路パターンが望むような外観を呈しているか
どうかを検査するのに最も一般に行なわれてきた
方法は、光学顕微鏡により目視で観察することで
ある。特に、回路パターンの欠陥ではなく、塵等
の異物を検出する場合は、暗視野照明により異物
や回路パターンのエツジ部のみを明るい像として
観察していた。
一方、フオトマスクのみについては、周期的に
並んだチツプのうちの2つを比較する等の方法に
より自動的に回路パターンの欠陥検査がなされて
いたが、回路パターンそのものの欠陥であるの
か、異物が付着しているのみであるのかの判定は
自動的にはできず、加えて装置価格も高く、簡便
に使用できるものではなかつた。またウエハ表面
のパターン欠陥を自動的に検出する技術はまだ完
成しておらず、異物を検出する自動装置は複雑で
大型なものとなつて、パターンの観察装置と兼用
することはできなかつた。
以上のような理由で暗視野照明による顕微鏡観
察が異物検出方法として最も普及しているのであ
るが、この方法では回路パターンのエツジも明る
い線として見えてしまい、異物の明るい像もエツ
ジの明線が視野に散在する中に埋もれて、ややも
すると見逃がしやすいという欠点があつた。そこ
で、通常のパターンの観察は明視野の照明で行な
い、異物検出の時のみ暗視野照明を行なうことが
考えられるが、切り替える不便さがあつた。
本発明においては、このような欠点を解消する
ために通常のパターン観察は明視野照明で行なう
とともに、異物検出の時には暗視野照明を使用す
ることにしたのであり、しかもこのことを簡単な
装置で切替えの不便さを伴なうことなく、取付良
好性を確保しつつ達成することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明において
は、表面に所定のパターンを有する被検査物を観
察光学系を用いて観察し、該表面に付着した異物
を検査する装置において、前記被検査物の表面を
第1の分光特性の光で明視野照明する明視野照明
手段と、該第1の分光特性の光の照射された前記
表面を、前記第1の分光特性と異なる第2の分光
特性の光で同時に暗視野照明する暗視野照明手段
とを有し、前記第1の分光特性の光と前記第2の
分光特性の光との強度関係を調節し、前記観察光
学系により前記被検査物のパターンの明視野像と
前記異物の暗視野像とを色彩を変えて同時に観察
するようにしたのである。
以下、本発明の実施例を示す図面に基づいて詳
述する。
第1図において被検査物の表面(被検査面)1
には回路パターン等が描画され、対物レンズ2、
プリズム7及び接眼鏡8によつて光学顕微鏡の如
き観察光学系が構成され、ランプ3、コンデンサ
レンズ2、フイルタ5及びハーフミラー6によつ
てランプ3の光を観察視野12に導く光学系を有
する観察用照明手段が構成されている。レーザ光
源9から発せられるレーザビーム10は反射鏡1
1で反射されて、観察視野12に導かれる。
レーザ光源9は単色性の良い光源として暗視野
照明用に用いられ、フイルタ5はランプ3の光を
レーザ光源と異なるスペクトル分布(分光特性)
の光にして、その光で明視野照明するように用い
られる。回路パターンは上記の明視野照明の顕微
鏡によつて観察され、レジストパターン形成工程
やエツチング工程が検査される。これらの検査時
に、表面に異物の付着している被検査物の部分が
回路パターンと共に顕微鏡視野12に入つた場
合、異物によるレーザ光の散乱強度は明視野照明
によるパターンの観察像の強度よりも強く、明視
野像の中に違つた色の像として明瞭に観察され
る。すなわち、回路パターンのエツジにより散乱
されたレーザ光による像は明視野照明によるパタ
ーンの像よりも弱く、明視野像の中に埋もれてし
まうように、レーザビームの強度と明視野照明の
強度の関係を定めればよい。この状態はレーザビ
ーム10又は明視野照明の強度を調節することに
よつて容易に達成される。
レーザ光源として波長633nmのHe−Neレーザ
を用いた場合、明視野照明は緑色を用いると、補
色の関係によつて回路パターン像と異物とを最も
明瞭に区別して観察することができる。さらに、
回路パターン像が緑色なので、目の被労も起りに
くい。
しかし一般に明視野照明光は緑色でなくてもよ
く、暗視野照明光のスペクトル分布と異なつてい
て、色彩の違いとして認識できればよい。
また上記実施例では暗視野照明光源をレーザ光
源9として記述したが、強度の強い光源であれば
よく、高輝度のLED、他のランプ等でもよい。
そのようなレーザ光源以外の光源においては、そ
の照明時のスペクトルが明視野照明のスペクトル
と違つており、色彩の区別ができればよい。この
ような光源のうち単色性が悪いものについては適
当なフイルターを用いればよい。
以上の実施例は落射型の明視野照明を行なつた
場合のものであつたが、透過型の明視野照明に対
しても本発明を適用することができる。この場
合、暗視野の照明は第1図と同様に反射型でも行
なえるし、透過型で観察用対物レンズの開口に直
接透過光が入射しないような配置にして行なうこ
ともできる。このような透過型の照明はフオトマ
スク等の検査に有用である。
また、以上の実施例では接眼鏡を通して肉眼で
像を観察するように記述したが、暗視野照明の強
い光が被検査物の表面の傾きによつて入射し、肉
眼に入つて眼に傷害を与える恐れがある場合に
は、最低2色の撮像ができるカラーテレビカメラ
により撮像し、テレビ画面を見るようにした方が
良い。
尚、実施例では、明視野用及び暗視野用それぞ
れに照明用光源を設けたが、特に輝度の強いラン
プを用いれば、そのランプの光をフイルタによつ
て2色に分けて明視野及び暗視野照明することも
可能である。
以上のように本発明によれば、普通の顕微鏡で
明視野照明観察を行なうと同時に、異物の検出及
び観察が行なえる利点があり、装置の構成が簡単
であるから、すでに販売されて使用中の顕微鏡に
も取付けが可能であるという利点もある。
更に本発明は、LSI製造用のフオトマスクやシ
リコンウエハの表面検査はもとより、これらのみ
ならず滑らかな表面を有し、微小な異物の付着が
問題となる物体の表検査にも有用である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例の説明図である。 主要部分の符号の説明、1……被検査物、3…
…ランプ、5……フイルタ、8……接眼鏡、9…
…レーザ光源、10……レーザビーム、12……
観察視野。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 表面に所定のパターンを有する被検査物を観
    察光学系を用いて観察し、該表面に付着した異物
    を検査する装置において、 前記被検査物の表面を第1の分光特性の光で明
    視野照明する明視野照明手段と、該第1の分光特
    性の光の照射された前記表面を、前記第1の分光
    特性と異なる第2の分光特性の光で同時に暗視野
    照明する暗視野照明手段とを有し、前記第1の分
    光特性の光と前記第2の分光特性の光との強度関
    係を調節し、前記観察光学系により前記被検査物
    のパターンの明視野像と前記異物の暗視野像とを
    色彩を変えて同時に観察することを特徴とする表
    面検査装置。 2 前記明視野照明手段からの光と、前記暗視野
    照明手段からの光とを補色の関係に定めた特許請
    求の範囲第1項に記載の表面検査装置。 3 前記暗視野照明手段は、ほぼコーヒレントな
    レーザ光を発生するレーザ光源である特許請求の
    範囲第2項に記載の表面検査装置。
JP14405880A 1980-10-15 1980-10-15 Surface inspecting device Granted JPS5767844A (en)

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JP14405880A JPS5767844A (en) 1980-10-15 1980-10-15 Surface inspecting device

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JP14405880A JPS5767844A (en) 1980-10-15 1980-10-15 Surface inspecting device

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JPS5767844A JPS5767844A (en) 1982-04-24
JPS6321855B2 true JPS6321855B2 (ja) 1988-05-09

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ID=15353326

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JP14405880A Granted JPS5767844A (en) 1980-10-15 1980-10-15 Surface inspecting device

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JPS5767844A (en) 1982-04-24

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