JPS5942754A - 研削加工装置 - Google Patents
研削加工装置Info
- Publication number
- JPS5942754A JPS5942754A JP57152385A JP15238582A JPS5942754A JP S5942754 A JPS5942754 A JP S5942754A JP 57152385 A JP57152385 A JP 57152385A JP 15238582 A JP15238582 A JP 15238582A JP S5942754 A JPS5942754 A JP S5942754A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ground
- magnetic field
- grinding
- charged particles
- ions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子部品や機構部品等の研削面を荷電粒子の
照射により研削して加工する研削加工装置に関する。
照射により研削して加工する研削加工装置に関する。
このような装置では、第１図に示すように荷電粒子とし
てのイオンを発生するイオン源（１）から該イオン（２
）・・・を被研削物（３）の表面にほぼ垂直方向に照射
することにより、その表面に存在する汚れ等の被除去物
や、その表面の凸凹をなくすようにしている。ところで
、従来ではこのように被研削物（３）の表面にほぼ垂直
方向からイオン（２）・を照射しているので、被除去物
がこのイオン（２）・にＪ：り更にその表面の内方へ押
し込まれたり、あるいは表面が均一に研削されて凸凹が
そのまま残される場合があり、効果的な表面加工を行う
ことに＆ｆＩ点がある。
てのイオンを発生するイオン源（１）から該イオン（２
）・・・を被研削物（３）の表面にほぼ垂直方向に照射
することにより、その表面に存在する汚れ等の被除去物
や、その表面の凸凹をなくすようにしている。ところで
、従来ではこのように被研削物（３）の表面にほぼ垂直
方向からイオン（２）・を照射しているので、被除去物
がこのイオン（２）・にＪ：り更にその表面の内方へ押
し込まれたり、あるいは表面が均一に研削されて凸凹が
そのまま残される場合があり、効果的な表面加工を行う
ことに＆ｆＩ点がある。
本発明の目的は、被研削物の研削面にほぼ平行な方向に
イオン等の荷電粒子を照射するようにして該研削面から
汚れ等の被除去物や凸凹を効果的になくすようにするこ
とにある。
イオン等の荷電粒子を照射するようにして該研削面から
汚れ等の被除去物や凸凹を効果的になくすようにするこ
とにある。
本発明はこの目的を達成するため、イオン等の荷電粒子
発生源と、磁界発生手段とを備え、磁界発生手段による
磁界内に被研削物を設置する一方、荷電粒子発生源から
の荷電粒子を前記磁界内における被研削物の研削面にほ
ぼ平行に照射するようにし、この荷電粒子を磁界により
該研削面において円運ｆｉさせることより該研削面の研
削加工を行うように構成されている。
発生源と、磁界発生手段とを備え、磁界発生手段による
磁界内に被研削物を設置する一方、荷電粒子発生源から
の荷電粒子を前記磁界内における被研削物の研削面にほ
ぼ平行に照射するようにし、この荷電粒子を磁界により
該研削面において円運ｆｉさせることより該研削面の研
削加工を行うように構成されている。
以下、本発明の構成を、実施例について第２図に基づき
具体的に説明する。
具体的に説明する。
第２図は本発明の実施例の模式構成図である。
この実施例に示すように、本発明の研削加工装置は、荷
電粒子発生源としての公知のイオン源Ｆ＋）と、磁界発
生手段としての電磁石（２）とを備える。この電磁石（
イ）は、相対向するＮ極（２２ａ）とＳ極（２２ｂ）と
を備え、まｔコＳ極（２２＋））は被研削物（イ）の設
置面を構成する。イオン源い）は、イオン（ハ）・・が
被研削物翰の研削面（ハ）にほぼ平行に照射されるよう
に、電磁石（イ）に対して配置される。電磁石（イ）の
ＮＳ極（２２ａ）（２２ｂ）間には磁界が存在し、この
磁界の強さは研削加工程度に対応して図示を省略した磁
界制御手段により制御される。
電粒子発生源としての公知のイオン源Ｆ＋）と、磁界発
生手段としての電磁石（２）とを備える。この電磁石（
イ）は、相対向するＮ極（２２ａ）とＳ極（２２ｂ）と
を備え、まｔコＳ極（２２＋））は被研削物（イ）の設
置面を構成する。イオン源い）は、イオン（ハ）・・が
被研削物翰の研削面（ハ）にほぼ平行に照射されるよう
に、電磁石（イ）に対して配置される。電磁石（イ）の
ＮＳ極（２２ａ）（２２ｂ）間には磁界が存在し、この
磁界の強さは研削加工程度に対応して図示を省略した磁
界制御手段により制御される。
このような構成において、イオン源＆］）からイオンが
発射されると、イオン（財）・はＮＳ極（２２ａ Ｘ
２２ｂ ）間に設置された被研削物（イ）に照射される
ことになる。ところが、被研削物婚は磁界内に設置され
ているので、イオン（財）・がこの磁界内にはいり込む
と、イオン（財）・はこの磁界内において円運動をする
。この円運動については電磁界におけるイオンの運動理
論により周知であるのでその説明を省略する。従って、
この円運動により、被研削物（ハ）の研削面に対するイ
オン（ハ） の衝突回数が非常に多くなり、該研削面■
の研削が強力に行われることになる。また、イオン（ハ
）・・は研削面（ハ）に対してほぼ平行に照射されるの
で、研削面（ハ）に存在する汚れ等の被除去物が研削物
翰内に押し込まれることなく除去され、研削面（ハ）の
凸凹も残らないように削られる。
発射されると、イオン（財）・はＮＳ極（２２ａ Ｘ
２２ｂ ）間に設置された被研削物（イ）に照射される
ことになる。ところが、被研削物婚は磁界内に設置され
ているので、イオン（財）・がこの磁界内にはいり込む
と、イオン（財）・はこの磁界内において円運動をする
。この円運動については電磁界におけるイオンの運動理
論により周知であるのでその説明を省略する。従って、
この円運動により、被研削物（ハ）の研削面に対するイ
オン（ハ） の衝突回数が非常に多くなり、該研削面■
の研削が強力に行われることになる。また、イオン（ハ
）・・は研削面（ハ）に対してほぼ平行に照射されるの
で、研削面（ハ）に存在する汚れ等の被除去物が研削物
翰内に押し込まれることなく除去され、研削面（ハ）の
凸凹も残らないように削られる。
なお、荷電粒子としては上述のイオンの他に電子でもよ
く、また被研削物（４）の研削面（ハ）としては平面で
なくても円柱の周面のようなものでも同様に実施できる
。
く、また被研削物（４）の研削面（ハ）としては平面で
なくても円柱の周面のようなものでも同様に実施できる
。
以上のように、本発明によれば、荷電粒子を被研削物の
研削面にほぼ平行に照射するようにしたので、研削面に
ほぼ垂直な方向に荷電粒子を照射する従来とは異なり、
研削面における汚れ等の被除物が荷電粒子の衝突により
内部へ押し込まれることなく除去され、また研削面の凸
凹も残ることなく削除されしたがって、きれいなかつ平
面度が高い面を得ることができる。特に、本発明によれ
ば、磁界内に被研削物を設置し、この磁界内に荷電粒子
を照射するようにしたので、荷電粒子が磁界内で円運動
することにより被研削物の研削面への衝突回数が多くな
り、より効果的に研削加工を行うことができる等の効果
が発揮され、表面分析装置の前処理としであるいは分析
そのものの手法として利用できる他、ＩＣ等の電子部品
、精密機械部品の超精密平面加工仕」二げを可能にする
。
研削面にほぼ平行に照射するようにしたので、研削面に
ほぼ垂直な方向に荷電粒子を照射する従来とは異なり、
研削面における汚れ等の被除物が荷電粒子の衝突により
内部へ押し込まれることなく除去され、また研削面の凸
凹も残ることなく削除されしたがって、きれいなかつ平
面度が高い面を得ることができる。特に、本発明によれ
ば、磁界内に被研削物を設置し、この磁界内に荷電粒子
を照射するようにしたので、荷電粒子が磁界内で円運動
することにより被研削物の研削面への衝突回数が多くな
り、より効果的に研削加工を行うことができる等の効果
が発揮され、表面分析装置の前処理としであるいは分析
そのものの手法として利用できる他、ＩＣ等の電子部品
、精密機械部品の超精密平面加工仕」二げを可能にする
。
第１図は従来の模式構成図、第２図は本発明の実施例の
模式構成図である。 Ｑ］）・イオン源、（ハ）・・・電磁石、（ホ）・・被
研削物、（ハ）・・イオン、（ハ）・研削面 出願人 株式会社島津製作所 第１図 第２図
模式構成図である。 Ｑ］）・イオン源、（ハ）・・・電磁石、（ホ）・・被
研削物、（ハ）・・イオン、（ハ）・研削面 出願人 株式会社島津製作所 第１図 第２図
Claims (1)
- （１）イオン等の荷電粒子発生源と、磁界発生手段とを
備え、磁界発生手段による磁界内に被研削物を設置する
一方、荷電粒子発生源からの荷電粒子を前記被研削物の
研削面にほぼ平行に照射し、この荷電粒子の磁界内での
円運動により研削面の研削が行われることを特徴とする
研削加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57152385A JPS5942754A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 研削加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57152385A JPS5942754A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 研削加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5942754A true JPS5942754A (ja) | 1984-03-09 |
| JPS645747B2 JPS645747B2 (ja) | 1989-01-31 |
Family
ID=15539361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57152385A Granted JPS5942754A (ja) | 1982-08-31 | 1982-08-31 | 研削加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5942754A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4691640A (en) * | 1984-12-27 | 1987-09-08 | Tsubakimoto Chain Co. | Automotive body, floor conveyor, having pivotal carriers |
| JPS6455394A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nippon Mining Co | Production of high-purity electrolytic copper |
-
1982
- 1982-08-31 JP JP57152385A patent/JPS5942754A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4691640A (en) * | 1984-12-27 | 1987-09-08 | Tsubakimoto Chain Co. | Automotive body, floor conveyor, having pivotal carriers |
| JPS6455394A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Nippon Mining Co | Production of high-purity electrolytic copper |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS645747B2 (ja) | 1989-01-31 |
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