JPS5943268B2 - 多結晶フエライトの精密研摩方法 - Google Patents
多結晶フエライトの精密研摩方法Info
- Publication number
- JPS5943268B2 JPS5943268B2 JP56017251A JP1725181A JPS5943268B2 JP S5943268 B2 JPS5943268 B2 JP S5943268B2 JP 56017251 A JP56017251 A JP 56017251A JP 1725181 A JP1725181 A JP 1725181A JP S5943268 B2 JPS5943268 B2 JP S5943268B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polycrystalline ferrite
- polishing method
- fine powder
- polycrystalline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B1/00—Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、多結晶フェライト材料の表面を精密平面に
加工する精密研摩方法に関する。
加工する精密研摩方法に関する。
磁気ヘッド用材料としてパーマロイ、フェライト、セン
タスト等が用いられ、磁気特性、耐摩耗性、精密加工性
等の点からそれぞれ特長があり、記録波長、メディアと
の関係、磁気ヘッドの用途によつて使い分けられている
。
タスト等が用いられ、磁気特性、耐摩耗性、精密加工性
等の点からそれぞれ特長があり、記録波長、メディアと
の関係、磁気ヘッドの用途によつて使い分けられている
。
また、オーディオ用、ビデオ用およびコンピューター用
等の磁気ヘッドは磁気記録密度の向上が求められ、この
ためICテクノロジーを用いた製造方法による磁気ヘッ
ドが最適と考えられている。
等の磁気ヘッドは磁気記録密度の向上が求められ、この
ためICテクノロジーを用いた製造方法による磁気ヘッ
ドが最適と考えられている。
例えば、薄膜ヘッド用の基板には、メタルよりもフェラ
イトが適しており、単結晶よりも安価な多結晶フェライ
トを用いるのが最も有効とされている。かかる基板はそ
の板上に磁気回路を構成する磁性材料及び非磁性材料あ
るいは磁界検出用のL素子等をメッキ、蒸着、スパッタ
ー等で形成するため、基板表面の平滑性およびフェライ
ト磁性基板の磁気特性を向上させる必要から無歪の加工
が要求される。
イトが適しており、単結晶よりも安価な多結晶フェライ
トを用いるのが最も有効とされている。かかる基板はそ
の板上に磁気回路を構成する磁性材料及び非磁性材料あ
るいは磁界検出用のL素子等をメッキ、蒸着、スパッタ
ー等で形成するため、基板表面の平滑性およびフェライ
ト磁性基板の磁気特性を向上させる必要から無歪の加工
が要求される。
これまでの研摩方法としてはダイヤモンドを砥粒とする
機械研摩が多用されてきた。
機械研摩が多用されてきた。
さらにメカノケミカル研摩方法によつて化学的な歪取り
加工が可能となり、単結晶材料の研摩にSiO2の微細
粉末を使用したメカノケミカル研摩が適用されている。
しかし、多結晶材料の場合は当然結晶方位による化学的
侵蝕速度がそれぞれ異なるため、このメカノケミカル研
摩の適用は困難となり、〒般的な加工条件では必ず結晶
段差が発生し、目的に合致しないと考えられる。
加工が可能となり、単結晶材料の研摩にSiO2の微細
粉末を使用したメカノケミカル研摩が適用されている。
しかし、多結晶材料の場合は当然結晶方位による化学的
侵蝕速度がそれぞれ異なるため、このメカノケミカル研
摩の適用は困難となり、〒般的な加工条件では必ず結晶
段差が発生し、目的に合致しないと考えられる。
また、多結晶材料の超精密平面を高能率で得るためには
、さらにパウダーの性状等が限定されてくる。この発明
は多結晶フェライト素材を精密平面に加工する精密研摩
方法を提案するものである。
、さらにパウダーの性状等が限定されてくる。この発明
は多結晶フェライト素材を精密平面に加工する精密研摩
方法を提案するものである。
すなわちこの発明はかかるメカノケミカル研摩において
、一般に大きな結晶段差が発生し不適当と考えられてい
るMgOパウダーを使用した研摩方法であるが、粒径が
0.001〜0.05μmのMgO微粉末を純水中に懸
濁させた液を用い多結晶フェライト素材をポリッシュす
ることによつて精密平面を得ることができるのである。
詳しく説明すると、所定材質からなるポリツシヤーをM
gO微粉末の純水中懸濁液中で回転可能に構成し、この
ポリツシャー表面に被研摩材料を拘持した回転部材を所
定荷重をかけて被研摩材料を当接させ、これらを回転さ
せ液中でポリッシュするものである。
、一般に大きな結晶段差が発生し不適当と考えられてい
るMgOパウダーを使用した研摩方法であるが、粒径が
0.001〜0.05μmのMgO微粉末を純水中に懸
濁させた液を用い多結晶フェライト素材をポリッシュす
ることによつて精密平面を得ることができるのである。
詳しく説明すると、所定材質からなるポリツシヤーをM
gO微粉末の純水中懸濁液中で回転可能に構成し、この
ポリツシャー表面に被研摩材料を拘持した回転部材を所
定荷重をかけて被研摩材料を当接させ、これらを回転さ
せ液中でポリッシュするものである。
この方法によつて多結晶フエライト素材を精密平面に加
工することができる。なおポリツシャ一材質、その回転
数等は素材の研摩量等の条件から適宜選定すればよい。
さらにこのMgO微粉末の純水中懸濁液をアルカリ性領
域において使用すると多結晶フエライト素材の加工能率
が向上する。
工することができる。なおポリツシャ一材質、その回転
数等は素材の研摩量等の条件から適宜選定すればよい。
さらにこのMgO微粉末の純水中懸濁液をアルカリ性領
域において使用すると多結晶フエライト素材の加工能率
が向上する。
また、MgO微粉末はその量を、純水中に懸濁させて0
.5〜20V01%の範囲とすることにより、加工能率
が向上するのである。
.5〜20V01%の範囲とすることにより、加工能率
が向上するのである。
次にMgO微粉末の性状について説明すると、MgO微
粉末は、その製造工程において不可避的にNa.Ca.
Fe.Cl等の不純物が、微粉末中に存在又は混入して
おり、研摩時にMgO微粉末自体が有する効力に対して
種々の影響をおよぼすものと考えられる。
粉末は、その製造工程において不可避的にNa.Ca.
Fe.Cl等の不純物が、微粉末中に存在又は混入して
おり、研摩時にMgO微粉末自体が有する効力に対して
種々の影響をおよぼすものと考えられる。
これらの不純物のうち、PbとSO4についてその含有
量を規制すると、MgO微粉末の純水中懸濁液による多
結晶フエライト素材の加工能率が大きく向土することを
知見し、この発明を完成させたものである。
量を規制すると、MgO微粉末の純水中懸濁液による多
結晶フエライト素材の加工能率が大きく向土することを
知見し、この発明を完成させたものである。
すなわち種々のポリツシングを行なつた結果、Pbが0
.005%以下であり、SO4が0.1〜0.5%の範
囲にあるという加工能率が向上することが分つた。
.005%以下であり、SO4が0.1〜0.5%の範
囲にあるという加工能率が向上することが分つた。
ここでPbとSO4がそれぞれどのような機構により懸
濁液中の研摩に寄与するかは明らかではない。
濁液中の研摩に寄与するかは明らかではない。
しかし、種々の実験においてPbとSO4をそれぞれ所
定量含有するMgO微粉末はすぐれた研摩力を有するこ
とが確認されている。以下実施例に基づいてこの発明を
説明する。MgO微粉末には粒径100λで下記の表1
に示す性状のものを使用し、純水中に5V01%懸濁さ
せて研摩液とし、ポリツシャ一にはクロス、Sn一板を
使用して40rpmで回転させ、被研摩物のMn−Zn
多結晶フエライト素材に0.5k9/Cdの荷重をかけ
てポリツシユした。
定量含有するMgO微粉末はすぐれた研摩力を有するこ
とが確認されている。以下実施例に基づいてこの発明を
説明する。MgO微粉末には粒径100λで下記の表1
に示す性状のものを使用し、純水中に5V01%懸濁さ
せて研摩液とし、ポリツシャ一にはクロス、Sn一板を
使用して40rpmで回転させ、被研摩物のMn−Zn
多結晶フエライト素材に0.5k9/Cdの荷重をかけ
てポリツシユした。
以上のポリツシングの結果、限定外の実施例1は多結晶
フエライト素材の研摩表面粗さが50λ以上でかつ結晶
段差が200λ以上となり、結晶段差が大きいことがわ
かる。これに対して実施例2と実施例4のこの発明によ
る限定の場合には、表面粗さが30λ以下で結晶段差が
30λ以下となりすぐれた精密平面が得られたことがわ
かるゥまた限定外の実施例3と実施例5の場合には、表
面粗さ50λ、結晶段差150λ以上であるが、加工能
率が非常に低下した。
フエライト素材の研摩表面粗さが50λ以上でかつ結晶
段差が200λ以上となり、結晶段差が大きいことがわ
かる。これに対して実施例2と実施例4のこの発明によ
る限定の場合には、表面粗さが30λ以下で結晶段差が
30λ以下となりすぐれた精密平面が得られたことがわ
かるゥまた限定外の実施例3と実施例5の場合には、表
面粗さ50λ、結晶段差150λ以上であるが、加工能
率が非常に低下した。
以上に詳述した如く、この発明による性状を有したMg
O微粉末を使用するメカノケミカル研摩を多結晶7エラ
イト素材に施こすことによつて能率よく精密平面に加工
することができ、上記素材を多用途に活用させることが
可能になる。
O微粉末を使用するメカノケミカル研摩を多結晶7エラ
イト素材に施こすことによつて能率よく精密平面に加工
することができ、上記素材を多用途に活用させることが
可能になる。
Claims (1)
- 1 粒径0.001〜0.05μm、Pb0.005%
以下、SO_40.1〜0.5%の性状を有するMgO
微粉末を純水中に0.5〜20Vol%となるよう懸濁
させた液をアルカリ性領域において使用し、多結晶フェ
ライト素材を上記懸濁液中でポリッシュする多結晶フェ
ライトの精密研摩方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56017251A JPS5943268B2 (ja) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | 多結晶フエライトの精密研摩方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56017251A JPS5943268B2 (ja) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | 多結晶フエライトの精密研摩方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57132963A JPS57132963A (en) | 1982-08-17 |
| JPS5943268B2 true JPS5943268B2 (ja) | 1984-10-20 |
Family
ID=11938725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56017251A Expired JPS5943268B2 (ja) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | 多結晶フエライトの精密研摩方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5943268B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61159370A (ja) * | 1985-01-08 | 1986-07-19 | Tohoku Metal Ind Ltd | 鏡面研摩加工法 |
| CN110026865B (zh) * | 2019-04-16 | 2024-05-14 | 浦江联力工贸有限公司 | 一种双铝排循环的水晶平面磨抛流水线 |
-
1981
- 1981-02-06 JP JP56017251A patent/JPS5943268B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57132963A (en) | 1982-08-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TW530084B (en) | Polishing composition and method for producing a memory hard disk | |
| JPH11246849A (ja) | NiPめっきしたディスクを研磨するためのコロイドシリカスラリー | |
| JPH08147688A (ja) | 磁気ディスク基板の製造方法 | |
| US6801396B1 (en) | Substrate independent superpolishing process and slurry | |
| JPS6319308B2 (ja) | ||
| TW533248B (en) | Sputtering target and method for the manufacture thereof | |
| US4305779A (en) | Method of polishing nickel-base alloys and stainless steels | |
| US4358295A (en) | Polishing method | |
| JPH02190258A (ja) | チタン板の両面研磨方法 | |
| JPS5943268B2 (ja) | 多結晶フエライトの精密研摩方法 | |
| US5637028A (en) | Method of polishing a surface of a noble metal | |
| US4383857A (en) | Attack polish for nickel-base alloys and stainless steels | |
| JPS6013787B2 (ja) | 多結晶フエライトの精密研摩方法 | |
| JPH0475338A (ja) | 機械・化学研磨法 | |
| US4532737A (en) | Method for lapping diamond | |
| JPS5846767B2 (ja) | 磁気デイスク用基板の表面平滑化方法 | |
| Namba | Mechanism of float polishing | |
| JP4267743B2 (ja) | 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法 | |
| JPH03146584A (ja) | ガラス研磨用研磨材 | |
| JPS6013786B2 (ja) | 多結晶フエライトの精密研摩方法 | |
| JPS5921008A (ja) | 複合基板 | |
| JP3247419B2 (ja) | ラップ定盤およびラップ液 | |
| JPS6222747B2 (ja) | ||
| JP3097001B2 (ja) | 磁気ディスク用基板のテクスチャリング用研磨組成物 | |
| JPH04238108A (ja) | 磁気記録媒体 |