JPS5943676Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は高周波加熱装置について、特に加熱むらを少な
くするための高周波電界攪拌装置の改良に関する。

従来、高周波加熱装置では、被加熱物の加熱むらを少な
くするために、加熱室内の高周波電界を金属の羽根から
成るスター２により反射し均一となるように攪拌すると
共に、被加熱物を載置する回転盆を減速機付の電動機で
回転させている。

しかしながら、加熱室の上部又は側部に低誘電体損材料
から戒る仕切板で仕切った空間を設けてここにスター２
を収納し電動機で駆動しているので、加熱室内のスター
２を収納する空間だけ高周波加熱装置が大きくなると共
に、高価なものになるという問題があった。

本考案はこの点に鑑みて成されたもので、回転盆の下方
にスター２を設けると共に回転盆をスター２の駆動源と
し、更に、回転盆を、当該底面に形成した同心状の粗面
と面接触して回転トルクを伝える弾性体からなる駆動ロ
ーラにより駆動する構成とすることにより、従来の問題
点を解消すると共に、安定したトルク伝達を行なえ、駆
動系の捩り振動並びに騒音が非常に低レベルの高周波加
熱装置を提供することを目的とする。

以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。

第１図は本考案による高周波加熱装置の簡単な構成を示
す。

第１図中、１は加熱室、２は被加熱物、３は高周波を発
振するマグネトロン、４はマグネトロン３から発振され
る高周波を加熱室１内に導く導波管、５はガラス等の低
誘電体損材料から成る回転機で、中心部の周囲に複数の
凹部５ａが設けられている。

６は回転機５底面に回転中心に対して同心円状に形成さ
れた表面が梨地状の粗面、１は粗面６より内側に回転中
心に対して同心円状に形成された平滑面、８は平滑面７
と接するテフロン等の摩擦係数の小さい低誘電体損材料
から成る支持ローラ、９は粗面７と圧接して面接触する
シリコンゴム等の弾性を有する低誘電体損材料から成る
駆動ローラ、１０け駆動ローラ９と連結して駆動さする
減速機付電動機、１１は回転機５の回転中心の位置決め
を行なうテフロン等の低誘電体損材料から成る軸、１２
は軸１１に着脱自由に取付けられたシリコン樹脂等の低
誘電体損材料から成る円筒状の支持具で、第２図に示す
ように、一端にフランジ部１２ａが形成され、該フラン
ジ部１２ａには複数の凸部１２ｂが形成されている。

１３は高周波を反射する金属板から成ジ、支持具１２と
共に軸１１に着脱自由に取付けられた円板状のスターン
である。

このスターン１３は第２図に示すように、その中心部に
軸１１が貫通する孔１３ａと、孔１３ａの周囲に支持具
１２の凸部１２ｂが貫通する小孔１３ｂが凸部１２ｂと
対応する数設けられている。

又、外周と中心部の間には高周波を通過させる複数の窓
部１３ｃが形成されている。

そして、スターン１３の／」呼Ｌ１３ｂには支持具１２
の凸部１２ｂが挿入しており、更に凸部１２ｂは回転機
５の凹部５ａと噛合している。

かかる構成による高周波加熱装置の動作を説明する。

回転機５は駆動ローラ９と複数の支持ローラ８とで支持
されており、回転機５底面の粗面６と圧接する駆動ロー
ラ９を電動機１０により駆動すると回転機５が回転する
。

そして、スターン１３をそのフランジ部１２ａで支持し
ている支持具１２に設けた凸部１２ｂが回転機５底面の
凹部５ａに噛合しているので、回転機５が回転すると、
支持具１２と共にスターン１３が回転し高周波電界を攪
拌する。

このように、回転機５がスターン１３の駆動源となるの
で、スターン１３を駆動するための電動機が不用となる
。

捷た、回転機５下方の軸１１に取付けであるので、スタ
ーン１３の収納部を設ける必要がなく装置本体がコンパ
クトになっている。

そして、このスターン１３の位置を加熱室１底面からλ
／４（λ：高周波電界の波長）の高さに設定してスター
ン１３の位置で電界が強くなるようにすると共に、軸１
１が貫通するスターン１３の孔１３ａの直径をλ／８以
上に設定して加熱室１底面から反射される高周波がスタ
ーン１３の中心部を通過して回転機５の中心部に集中す
るようにしである。

このため、回転機５の中央部に載置される被加熱物２の
加熱が促進される。

更に、スターン１３の窓部１３ｃを軸１１に対称で、そ
の差し渡し寸法をλ／８以上に設定すると共に、窓部１
３ｃを多く形成し金属部分を細長く分散させることによ
り、被加熱物２底面に高周波が当りやすいようにして、
加熱室１底面から反射してくる高周波を有効に利用して
いる。

尚、スターン１３の取付位置とその孔１３ａ及び窓部１
３ｃの大きさは実験により一番よいと思われる値を適用
したものである。

回転機とスターンとの噛合方法の別の実施例としては、
第３図に示すように、回転機５′底面のスターン１３の
窓部１３ｃに面する部分に突起５ａ’を形成し、この突
起５ａ’を窓部１３ｃに挿入してスターン１３の金属部
分の一部に引っ掛けて回転させるものでよい。

また、スターンの別の実施例として、第４図に示すよう
に、その周囲に高さλ／４の範囲で折ジ返した反射面１
３′ｄを設ければ、更に効果が上がる。

以上、説明したように本考案によれば、被加熱物を載置
でき、かつ回転自由に支持された回転機と、高周波を反
射する材料から成り高周波電界を攪拌するスターンと、
を含んだ高周波加熱装置において、前記回転機の底面に
回転中心に対して同心円状に平滑面と粗面とを夫々形成
し、前記平滑面と接する摩擦係数の小さい支持ローラを
設けると共に、前記粗面と面接触する弾性体からなる駆
動ローラを設け、前記スターンを前記回転機下方に該回
転機に連結可能で着脱自由に設ける構成としたので高周
波加熱装置の本体がコンパクトになり、安価で置場所の
制約が少なくなる。

又、スターンは変形しにくい構造になって訃り、かつ着
脱が自由なので、被加熱物から発生する油蒸気等による
汚れも容易に清掃できる。

このため、加熱むらはもちろん加熱効率の悪化等も防ぐ
ことができる。

また、回転機と弾性体からなる駆動ローラとの面接触に
より該回転機に回転トルクを伝達するものであるから、
スリップをほとんど生じることなく、然も駆動ローラの
上下振動もほとんどない従って、安定した回転トルクを
伝達することができ、回転機の回転を円滑にできると共
に、駆動系の捩り振動並びに騒音を非常に低レベルにす
ることができる。

特に本考案によれば、前記スター２を加熱室底面から高
周波電界の波長／４の高さに設定すると共に、前記軸の
貫通孔の直径を高周波電界の波長／８以上に設定し、か
つ前記窓部を夫々軸に対称的で、差し渡し寸法が高周波
電界の波長／８以上となるように設定したから、前記高
さ設定により電界を強いものとでき、貫通孔径設定によ
り加熱室底面から反射される高周波がスターラ中心部を
通過して回転波中心部に集中させることができて、被加
熱物の加熱が促進でき、窓部の差し渡し寸法設定により
、被加熱物底面に高周波が当り易いものとできる等の利
点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る高周波加熱装置の一実施例を示す
一部断面構成図、第２図は同上装置の要部分解図、第３
図は本考案に係る高周波加熱装置の別の実施例を示す一
部断面構成図、第４図はスター２の別の実施例を示す斜
視図である。 １・・・・・・加熱室、２・・・・・・被加熱物、５・
・・・・・回転機６・・・・・・粗面、７・・・・・・
平滑面、８・・・・・・支持ローラ、９・・・・・・駆
動ローラ、１１・・・・・・軸、１２・・・・・・支持
具、１３・・・・・・スター２．１３ａ・・・・・・孔
、１３ｂ・・・・・・小孔、１３ｃ・・・・・・窓部。

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】
1. （１）被加熱物を載置でき、かつ回転自由に支持された
   回転盆と、高周波を反射する材料から戒り高周波電界を
   撹拌するスター２と、を含んだ高周波加熱装置に唱いて
   、前記回転盆の底面に回転中心に対して同心円状に平滑
   面と粗面とを夫々形威し、前記平滑面と接する摩擦係数
   の小さい支持“ローラを設ける゛と共に、前記粗面と面
   接触する弾性体からなる駆動ローラを設ける一方、前記
   スター２を円板状に形成し、該円板中心部には回転盆の
   軸が貫通する孔と該孔の周囲に該軸に着脱自由に取り付
   けられた支持具の凸部が貫通する複数の／」仔りとを設
   け、外周と中心部との間には高周波゛を通過させるため
   複数の窓部を形成し、前記スター２を加熱底面から高周
   波電界の波長／４の高さに設定す”ると共比、前記軸の
   貫通孔の直径を高周波電界の波長／８以上に設定し、か
   つ前記窓部を夫々軸に対称的で、差し渡し寸法が高周波
   電界の波長／８以上となるように設定したことを特徴と
   する高周波加熱装置。
2. （２）スター２は小さくとも一つの窓部に回転盆底面の
   凸部が挿入されることにより回転盆を駆動源として回転
   動作してなる実用新案登録請求の範囲第１項記載の高周
   波加熱装置。
3. （３）スター２は回転盆底面の凹部にスター２に貫通し
   た支持具の凸部が挿入されることにより回転盆を駆動源
   として回転動作してなる実用新案登録請求の範囲第１項
   記載の高周波加熱装置。