JPS5944355A - 2−アゼチジノン誘導体およびその製造法 - Google Patents
2−アゼチジノン誘導体およびその製造法Info
- Publication number
- JPS5944355A JPS5944355A JP57154426A JP15442682A JPS5944355A JP S5944355 A JPS5944355 A JP S5944355A JP 57154426 A JP57154426 A JP 57154426A JP 15442682 A JP15442682 A JP 15442682A JP S5944355 A JPS5944355 A JP S5944355A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- reaction
- formula
- ether
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、β−ラクタム理を有する抗生物質、例えばチ
ェナマイシン等のカルバペネム系抗11=、’h質や単
環β−ラクタム系抗生物ψC等の新規な合成中間体であ
る一般式 〔式中、Rは低級アルキtvへ、1iffi 仙されて
いてもよいア!J −/L/Ji%まだは置換されてい
てもよいアヲルキ/I/基を示す〕で表わされる光学活
性な2−アゼチジノン誘導体及びその製造法に関する。
ェナマイシン等のカルバペネム系抗11=、’h質や単
環β−ラクタム系抗生物ψC等の新規な合成中間体であ
る一般式 〔式中、Rは低級アルキtvへ、1iffi 仙されて
いてもよいア!J −/L/Ji%まだは置換されてい
てもよいアヲルキ/I/基を示す〕で表わされる光学活
性な2−アゼチジノン誘導体及びその製造法に関する。
近年、単環β−ヲクタム系(例えばl−スルホ−2−ア
ゼチジノン誘導体)まだはカルバペネム系抗生物質(例
えば、チェナマイシン等)が、抗菌作用、β−ラクタマ
ーゼ阻害作用、耐性菌に列する有効性等の面で優れた特
性を有する点で注目されている。
ゼチジノン誘導体)まだはカルバペネム系抗生物質(例
えば、チェナマイシン等)が、抗菌作用、β−ラクタマ
ーゼ阻害作用、耐性菌に列する有効性等の面で優れた特
性を有する点で注目されている。
本発明者等は、単環β−ラクタム系抗生物質や力A//
<へ* ム系抗生物質例えばチェナマイシンの新規な製
造方法について鋭意研究を続けたところ、一般式 〔式中、又は低級アルカノイルオキシ基棟たtiJ:置
換されていてもよいアリールスルホニ)v基を示す〕で
表わされる化合物と一般式 を示す〕で表わされる化合物とをシンコニジンの存在下
に反応させると、アゼチジノン骨格のXで示される4位
駅換基が立体選択的にR8でIif JgQされて化合
物(1)が得られることを見い出し、さらに得られた化
合物(1)がカルバペネム系抗生物質、例えばチェナマ
イシンの工業的製造の中間原零1として極めて有用であ
ることを知見し、これらの知見に基づき種々検問した結
果本発明を完成し7だ、 即ち本発明は (1)化合物〔l〕、 (2)化合物CI)と化合物(II)とをシンコニジン
の存在下に反応させることを特徴とする化合物(1)の
製造法に関する。
<へ* ム系抗生物質例えばチェナマイシンの新規な製
造方法について鋭意研究を続けたところ、一般式 〔式中、又は低級アルカノイルオキシ基棟たtiJ:置
換されていてもよいアリールスルホニ)v基を示す〕で
表わされる化合物と一般式 を示す〕で表わされる化合物とをシンコニジンの存在下
に反応させると、アゼチジノン骨格のXで示される4位
駅換基が立体選択的にR8でIif JgQされて化合
物(1)が得られることを見い出し、さらに得られた化
合物(1)がカルバペネム系抗生物質、例えばチェナマ
イシンの工業的製造の中間原零1として極めて有用であ
ることを知見し、これらの知見に基づき種々検問した結
果本発明を完成し7だ、 即ち本発明は (1)化合物〔l〕、 (2)化合物CI)と化合物(II)とをシンコニジン
の存在下に反応させることを特徴とする化合物(1)の
製造法に関する。
前記一般式において、Rによって示される低級アルキル
基としては、例えば、メチル、エチ/l/。
基としては、例えば、メチル、エチ/l/。
プロピル、イソプロピ/L/、n−ブチル、イソブチA
/、t−ブチμ等の炭素数1から4の直鎖まだは分枝状
低級アルキ/1/基が用いられる。
/、t−ブチμ等の炭素数1から4の直鎖まだは分枝状
低級アルキ/1/基が用いられる。
Rによって示される置換されていてもよいアリール基に
おけるアリール基としては、例えばフェニル、a−ナフ
チル、β−ナフチル等が用いられる。
おけるアリール基としては、例えばフェニル、a−ナフ
チル、β−ナフチル等が用いられる。
Rによって示される置換されていてもよいアラルキル基
におけるアラルキル基としては、例えばベンジル、フエ
ネチ々、フェニルプロヒル、ナフチルエチル等のア!J
−/L/置換の炭素数1から4の直鎖または分校状の低
級アルキ/l’基が用いられる。
におけるアラルキル基としては、例えばベンジル、フエ
ネチ々、フェニルプロヒル、ナフチルエチル等のア!J
−/L/置換の炭素数1から4の直鎖または分校状の低
級アルキ/l’基が用いられる。
Rによって示される置換されていてもよいアリール基ま
たけ置換されていてもよいアラルキルへにおけるFPf
、換基としては、たとえばアルキル、アルコキシ、プル
ケ二ル、アリール、アラルキル。
たけ置換されていてもよいアラルキルへにおけるFPf
、換基としては、たとえばアルキル、アルコキシ、プル
ケ二ル、アリール、アラルキル。
アルキルチオ、アリールチオ、アフルキ/Llチオ。
アルキルスルホニル、アリールスルホニ/l/、アフル
キ〜スルホニル、トリハロゲノア)v ’(/l’ e
ヒドロキン、ハロゲン、ニトロ、アミノ、シアノ、カル
バモイル、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、アシル
アミノ、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、へ
ロゲノアμキル、モノまだはシアルキルアミノアルキ#
などが用いられる(ここにおいてアルキルとしては、直
鎖状まだは分枝状のI;J索す(1〜6の低級アルキル
がよく、たとえばメチル、エチル、 n−]10ピル、
イ ラフ0ロ ピル、 n−ブチ/l/lイソブチル、
5ea−グチル、 tert−ブチル、n−ベンチ/
I/、イソベンチ/L’、11−へギシル、イソヘギシ
ルなどが用いられ、アルコキシとしては、直鎖状または
分校状の炭素数1〜6の低+’tアルコキシが好ま17
く、たとえばメトキシ、エトキシ、11−プロポキシ、
イソプロポキシ、n−ブトギシ、イソブトキシ、 se
c、−ブトキシ、 t、crt−ブトギシ、n−ペンチ
ルオキシ、イソペンチルオキシ、】1−へキシルオキシ
、イソへキシルオキシなどが用いられ、ハロゲンとして
は、臭素、塩素、フッ素などが用いられ、アルケ二μと
しては、1げ鎖状またU、11分分校状炭素数2ないし
6の低級アノしケニルがよく、たとえばビニル、アリル
、イソプロベニ/L/、2−メタリノ1/、2−プテニ
/L/、3−ブテニルなどが用いられ、アシμとしては
たとえばアセチル、グロピオニル、n−ブチリル、イソ
ブチリμ、n−ペンタノイル1n−ヘキサノイル、ベン
シイ/L/、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキシ
ベンゾイル、フェニルアセチル、4−ヒドロキシフェニ
ルアセチル、4−メトキシフェニルアセチル、2−チェ
ニルカルボニp、2−フリルカルボニル、2−.4−ま
たは5−チアゾリルアセチ/L’、2−または3−チェ
ニルアセチ/L’、2−または3−フリルアセチル、2
−アミノ−4または5−チアゾリルアセチμなどが用い
られ、アリール及びアラルキルは前記のごときものが用
いられる)。
キ〜スルホニル、トリハロゲノア)v ’(/l’ e
ヒドロキン、ハロゲン、ニトロ、アミノ、シアノ、カル
バモイル、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、アシル
アミノ、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、へ
ロゲノアμキル、モノまだはシアルキルアミノアルキ#
などが用いられる(ここにおいてアルキルとしては、直
鎖状まだは分枝状のI;J索す(1〜6の低級アルキル
がよく、たとえばメチル、エチル、 n−]10ピル、
イ ラフ0ロ ピル、 n−ブチ/l/lイソブチル、
5ea−グチル、 tert−ブチル、n−ベンチ/
I/、イソベンチ/L’、11−へギシル、イソヘギシ
ルなどが用いられ、アルコキシとしては、直鎖状または
分校状の炭素数1〜6の低+’tアルコキシが好ま17
く、たとえばメトキシ、エトキシ、11−プロポキシ、
イソプロポキシ、n−ブトギシ、イソブトキシ、 se
c、−ブトキシ、 t、crt−ブトギシ、n−ペンチ
ルオキシ、イソペンチルオキシ、】1−へキシルオキシ
、イソへキシルオキシなどが用いられ、ハロゲンとして
は、臭素、塩素、フッ素などが用いられ、アルケ二μと
しては、1げ鎖状またU、11分分校状炭素数2ないし
6の低級アノしケニルがよく、たとえばビニル、アリル
、イソプロベニ/L/、2−メタリノ1/、2−プテニ
/L/、3−ブテニルなどが用いられ、アシμとしては
たとえばアセチル、グロピオニル、n−ブチリル、イソ
ブチリμ、n−ペンタノイル1n−ヘキサノイル、ベン
シイ/L/、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキシ
ベンゾイル、フェニルアセチル、4−ヒドロキシフェニ
ルアセチル、4−メトキシフェニルアセチル、2−チェ
ニルカルボニp、2−フリルカルボニル、2−.4−ま
たは5−チアゾリルアセチ/L’、2−または3−チェ
ニルアセチ/L’、2−または3−フリルアセチル、2
−アミノ−4または5−チアゾリルアセチμなどが用い
られ、アリール及びアラルキルは前記のごときものが用
いられる)。
Xは、例えば、アセトキシ、プロピオニルオキシ、グチ
ソノ1/オキシ等の炭素数2から4の低級ア〉−ノ ルカッイルオキ基または置換されていてもよいアリール
スルホニル基(例えばベンゼンスルホニル、ナフチ/+
/スμホニル等)を示し、該アリールスfi/ホニルの
置換基としては、Rで示される置換されていてもよいア
v−iv&の置換基と同様のものが用いられる。
ソノ1/オキシ等の炭素数2から4の低級ア〉−ノ ルカッイルオキ基または置換されていてもよいアリール
スルホニル基(例えばベンゼンスルホニル、ナフチ/+
/スμホニル等)を示し、該アリールスfi/ホニルの
置換基としては、Rで示される置換されていてもよいア
v−iv&の置換基と同様のものが用いられる。
化合物(1)は、アゼチジノン骨格の1位の窒素原子が
一般式 %式%) (式中、Xl、X2は低級アルキル、フエ二μ、ベンジ
ルまたは低級アルコキシ基を X3 はt−ブチ)vま
だはイソプロピ/l/基を示す〕で表わされるシ’J/
l’爪で保i%されていてもよい。上記一般式(A)中
、Xl、)(2で示される低級アルキルJNとしては、
だとえはメチル、クロロメチル、エチル、クロロエチル
、n−プロピル、イソプロピ/l/、n−ブチル、 t
ert−ブチル等ハロゲンで置換されていてもよい炭素
数1から4の低級アルキル基が、低級アノトコキシ基と
してはだとえはメトキシ、エトキシキシ基等が用いられ
る。
一般式 %式%) (式中、Xl、X2は低級アルキル、フエ二μ、ベンジ
ルまたは低級アルコキシ基を X3 はt−ブチ)vま
だはイソプロピ/l/基を示す〕で表わされるシ’J/
l’爪で保i%されていてもよい。上記一般式(A)中
、Xl、)(2で示される低級アルキルJNとしては、
だとえはメチル、クロロメチル、エチル、クロロエチル
、n−プロピル、イソプロピ/l/、n−ブチル、 t
ert−ブチル等ハロゲンで置換されていてもよい炭素
数1から4の低級アルキル基が、低級アノトコキシ基と
してはだとえはメトキシ、エトキシキシ基等が用いられ
る。
化合物(1)において、β−ヲクタム環上4位生物質の
原料として有用である。
原料として有用である。
化合物CI、lは、化合物(1)とCI)とを多ンコニ
ジンの存在下に反応させることによシ製造することがで
きる。本反応は通常、化合物〔璽〕1七μに対してシン
コニジンは0.5ないし3モル程度、好ましくは1ない
し2モルを用いる。また通常チオ−7+/化合物(1)
は、化合物CI)1モルに対し2てlないし8モル程度
、好ましくは2ないし6モル程度を用いる。反応は通常
溶媒を用いて行われる。こ−に溶媒としては、たとえば
ジエf)Vエーテ/I/、ジイソプロピルエーテル、エ
チレングリコールジメチ/I/エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエステ/l/類、たとえば酢
酸エチル、酢酸グチルなどのエステ/l/類、たとえば
アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、たとえ
ばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、アセトニト
リルなどのニトリ/L’類、例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、t−ブチ/L’7/L’コー
/L’等のアルコール類、例えばジクロルメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化度化水素類、二硫
化炭素、チオフェン、ピリジン等が用いられる。まだ本
反応の反応温度は、約−30ないし150℃、好ましく
i、t:約−10=100tで行われる。反応時間ケ
1反応に用いる溶媒、反応温度などにより異なるが、一
般にルシ時間ないし数週間で反応は終了する。
ジンの存在下に反応させることによシ製造することがで
きる。本反応は通常、化合物〔璽〕1七μに対してシン
コニジンは0.5ないし3モル程度、好ましくは1ない
し2モルを用いる。また通常チオ−7+/化合物(1)
は、化合物CI)1モルに対し2てlないし8モル程度
、好ましくは2ないし6モル程度を用いる。反応は通常
溶媒を用いて行われる。こ−に溶媒としては、たとえば
ジエf)Vエーテ/I/、ジイソプロピルエーテル、エ
チレングリコールジメチ/I/エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンなどのエステ/l/類、たとえば酢
酸エチル、酢酸グチルなどのエステ/l/類、たとえば
アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、たとえ
ばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、たとえばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサンなどの炭化水素類、アセトニト
リルなどのニトリ/L’類、例えばメタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、t−ブチ/L’7/L’コー
/L’等のアルコール類、例えばジクロルメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化度化水素類、二硫
化炭素、チオフェン、ピリジン等が用いられる。まだ本
反応の反応温度は、約−30ないし150℃、好ましく
i、t:約−10=100tで行われる。反応時間ケ
1反応に用いる溶媒、反応温度などにより異なるが、一
般にルシ時間ないし数週間で反応は終了する。
本反応の光学的収率は、40ないし80%程度である。
得られる化合物(1)は、それ自体公知の分離粕製手段
、たとえば溶媒抽出、結晶化、再結晶、吸着、または分
配クロマトグラフィーにより車間精製することができる
。
、たとえば溶媒抽出、結晶化、再結晶、吸着、または分
配クロマトグラフィーにより車間精製することができる
。
本反応の原料化合物C,H)は1ib
体または1体のいずれも用いることができる。
上記光学的収率についてさらに説明すると、例えば、化
合物(1)のフ七ミ体を使った場合、目的物として一般
式CI)の光学活性体はその対掌体100に対し140
〜110程度立体選択的に生成する。このようにして得
られる光学活性体〔I〕を含む反応液をそのま一次反応
に供しても良いし、CI)をその対掌体から自体公知の
手段によって分隙した後火の反応に供してもよい。例え
ば再結晶等の公知の手段によりさらに光学的純度を高め
た後、次反応に供することもできる。
合物(1)のフ七ミ体を使った場合、目的物として一般
式CI)の光学活性体はその対掌体100に対し140
〜110程度立体選択的に生成する。このようにして得
られる光学活性体〔I〕を含む反応液をそのま一次反応
に供しても良いし、CI)をその対掌体から自体公知の
手段によって分隙した後火の反応に供してもよい。例え
ば再結晶等の公知の手段によりさらに光学的純度を高め
た後、次反応に供することもできる。
化合物(1)のシv 祠t4aは化合物〔I〕と一般式
%式%()
〔式中、XI 、 X2 、 X3は上記と同意義、Y
は脱討する反応性の基を示す〕で表わされるシリル化合
物とを反応させるととによル目的とするシリル1/誘導
体が製造できる。
は脱討する反応性の基を示す〕で表わされるシリル化合
物とを反応させるととによル目的とするシリル1/誘導
体が製造できる。
上記一般式(lにおいて、Yで示される脱離する反応性
の基としては、たとえばN−()!Jメチルシリル)ト
リフルオロアセトイミドイルオキシ基、N−()リメチ
ルシリル)アセトイミドイルオキシ爪、ハロゲノ、たと
えばホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノ、ブチリルアミノ、トリフルオロアセチルアミノ等
のアシルアミノ基、たとえば(トリメチルシリル)アミ
ノ、(クロロメチルジメチルシリル)アミノ等のアミノ
、プロピルアミノ等の低級アルキ/L/(tM 素数1
から4)アミノ基、だとえばN 、 N−ジメチルアミ
ノ、N−クロロメチ/l/−N−枦メチルアミノ、N、
N−ジエチルアミノ、N、N−ジプロピルアミノ、N−
メチル−N−エチルアミノ、N−メチル−N−プロピル
アミノ、N−エチル−N−プロピルアミノ等のN 、
N−ジ低級アA/キル(炭素数1〜4)アミノ基、イミ
ダゾイル等のネ■);環式基が用いられる。
の基としては、たとえばN−()!Jメチルシリル)ト
リフルオロアセトイミドイルオキシ基、N−()リメチ
ルシリル)アセトイミドイルオキシ爪、ハロゲノ、たと
えばホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノ、ブチリルアミノ、トリフルオロアセチルアミノ等
のアシルアミノ基、たとえば(トリメチルシリル)アミ
ノ、(クロロメチルジメチルシリル)アミノ等のアミノ
、プロピルアミノ等の低級アルキ/L/(tM 素数1
から4)アミノ基、だとえばN 、 N−ジメチルアミ
ノ、N−クロロメチ/l/−N−枦メチルアミノ、N、
N−ジエチルアミノ、N、N−ジプロピルアミノ、N−
メチル−N−エチルアミノ、N−メチル−N−プロピル
アミノ、N−エチル−N−プロピルアミノ等のN 、
N−ジ低級アA/キル(炭素数1〜4)アミノ基、イミ
ダゾイル等のネ■);環式基が用いられる。
化合物CB)は原料化合物〔l〕まだは(1)に対し1
〜3倍モル程度用いられる。反応は一般に不活性溶媒中
で行なわれる。適当な不活性溶媒としては例えばテトラ
ヒドロフラン。ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロ
ロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル等が用いられる
。まだこの反応は無水条件下で行うことが好まシフ<、
要すればトリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジ
ン、キノリン、ルチジン、N−エチルピペラジン等の有
機3級アミン等の脱酸剤の存在下に行なうこる。
〜3倍モル程度用いられる。反応は一般に不活性溶媒中
で行なわれる。適当な不活性溶媒としては例えばテトラ
ヒドロフラン。ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロ
ロエタン、アセトニトリル、酢酸エチル等が用いられる
。まだこの反応は無水条件下で行うことが好まシフ<、
要すればトリエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジ
ン、キノリン、ルチジン、N−エチルピペラジン等の有
機3級アミン等の脱酸剤の存在下に行なうこる。
かくし7て′肖られる光学活性な化合物CI )−jた
り、しそのシリ)v誘導体から、例えば代表的なカルバ
ペネム系抗生物質であるチェナマイシンの合成中間体と
して新規で有用な化合物[j’l)またはそのシリル誘
1淳体を製造するととができる。
り、しそのシリ)v誘導体から、例えば代表的なカルバ
ペネム系抗生物質であるチェナマイシンの合成中間体と
して新規で有用な化合物[j’l)またはそのシリル誘
1淳体を製造するととができる。
即ち、光学活性な化合物CI)またはそのシリ/1/誘
導体から化合物(Vl)tたはそのシ!J/L’誘導体
の製造は、化合物〔1〕またはそのシリル誘導体を■塩
基の存在下にアセトアルデヒドと反応させた後得られた
化合物〔■〕を酸化して化金物〔V〕として、これを還
元反応に付すか、あるいは■化合物〔l〕またはそのシ
!I )v誘導体から、だどえば後述の方法により、そ
のβ−ヲクタム環3(r’Lをアセチル化して得られる
、化合物(V)寸だ&、にそのシリ/I/i’jW 6
J:体を還元反応にイス1すことにより行なわれる□ 〔1■〕 CI)→l)の反応においてアセトアルデヒヨッi4J
%fiZi(、al 0075、I;30tE、x<?
−80〜0セが好ましい。
導体から化合物(Vl)tたはそのシ!J/L’誘導体
の製造は、化合物〔1〕またはそのシリル誘導体を■塩
基の存在下にアセトアルデヒドと反応させた後得られた
化合物〔■〕を酸化して化金物〔V〕として、これを還
元反応に付すか、あるいは■化合物〔l〕またはそのシ
!I )v誘導体から、だどえば後述の方法により、そ
のβ−ヲクタム環3(r’Lをアセチル化して得られる
、化合物(V)寸だ&、にそのシリ/I/i’jW 6
J:体を還元反応にイス1すことにより行なわれる□ 〔1■〕 CI)→l)の反応においてアセトアルデヒヨッi4J
%fiZi(、al 0075、I;30tE、x<?
−80〜0セが好ましい。
本反応に用いられる塩基としては、たとえ(げメチルリ
チウム、ブチルリチウム、 5ec−ブチルリチウムな
どのアルキルシリチウム9泊、フェニルリチウム、ナフ
チルリチウムなどのアリルリチウムム1、たとえばリチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシ
ヲザンなどのアミンリチウム塩類が用いられる。これら
のうち、リチウムジイソプロピルアミド、フェニルリチ
ウムなどが奸才しい、塩への使用ぼは、化合物CI)ま
たはそのシリル’?’l;?I体1モルに対し、塩基1
rlj[Q常1ないし24当量程度、好ましくは2.5
ないし3当旦程度が用いられる。本反応は−R’Zに溶
媒中で行なわれる。とこに溶媒としては、例えばジエチ
ルエーテル7レジメチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンなどのエーテル類等、反応に不活性な溶媒
が適している。
チウム、ブチルリチウム、 5ec−ブチルリチウムな
どのアルキルシリチウム9泊、フェニルリチウム、ナフ
チルリチウムなどのアリルリチウムム1、たとえばリチ
ウムジイソプロピルアミド、リチウムヘキサメチルジシ
ヲザンなどのアミンリチウム塩類が用いられる。これら
のうち、リチウムジイソプロピルアミド、フェニルリチ
ウムなどが奸才しい、塩への使用ぼは、化合物CI)ま
たはそのシリル’?’l;?I体1モルに対し、塩基1
rlj[Q常1ないし24当量程度、好ましくは2.5
ないし3当旦程度が用いられる。本反応は−R’Zに溶
媒中で行なわれる。とこに溶媒としては、例えばジエチ
ルエーテル7レジメチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンなどのエーテル類等、反応に不活性な溶媒
が適している。
次に(IV)−(V)への酸化反応は、酸化剤として、
通常、クロム酸系酸化剤が有利に用いられる。ここにク
ロム酸系酸化剤としては、無水クロム酸,重クロム酸カ
リウム、重クロム酸ナトリウム、久ロム1jぐ第三ブチ
ルなどが用いられる。該酸化剤の使用礒は、化合Q4,
IJ ( IV l)またはそのシリル■導体1モルに
対し、や!過剰の酸化剤を用いる。
通常、クロム酸系酸化剤が有利に用いられる。ここにク
ロム酸系酸化剤としては、無水クロム酸,重クロム酸カ
リウム、重クロム酸ナトリウム、久ロム1jぐ第三ブチ
ルなどが用いられる。該酸化剤の使用礒は、化合Q4,
IJ ( IV l)またはそのシリル■導体1モルに
対し、や!過剰の酸化剤を用いる。
本反応は通常溶媒を用いて行なわれる。ここに溶リジン
、ジメチルホ/l/ 1.アミドなどが用いられる。
、ジメチルホ/l/ 1.アミドなどが用いられる。
これら溶媒は、必要により混合して使用すること反応[
晴間は酸化?iilのイーa奸1や反応温度によっても
異なるが、 f’jXに30分/でいし24時間程度で
反応力q′冬了する。
晴間は酸化?iilのイーa奸1や反応温度によっても
異なるが、 f’jXに30分/でいし24時間程度で
反応力q′冬了する。
父(11−(V)の反応は、化合物〔l′3またはその
シリルnFj #;体とN−’アセチル含窒素異項環化
合物とを堪ハの存在下に作用させることにより行なわれ
る。本反応でJ+1いられるN−アセチル含ζ(素異項
環化合物としては、例えばN−アセチルピラシー/l/
,N−アセチルイミダゾール、N−アセチルベンゾトリ
アゾール、4−低級アルキル(N−アセチル含窒素5〜
(j員異項環化合物が用いられる。
シリルnFj #;体とN−’アセチル含窒素異項環化
合物とを堪ハの存在下に作用させることにより行なわれ
る。本反応でJ+1いられるN−アセチル含ζ(素異項
環化合物としては、例えばN−アセチルピラシー/l/
,N−アセチルイミダゾール、N−アセチルベンゾトリ
アゾール、4−低級アルキル(N−アセチル含窒素5〜
(j員異項環化合物が用いられる。
本反応で使用するN−アセチル異項環化合物の量は、い
ずれも化合物〔]〕すたはそのシリル誘導体1モルに対
して1ないし4モル程1(v1好ましくは2ないし3モ
ル程度が用いられる。木灰バ・ai塩基の存在下にfi
lわれる。用いられる塩基とし7ては、例えば上記(1
)からl)の反応で用いられる塩h(類等が用いられる
1、」ぶ基はj111常1ないし4当が、程度、好寸し
くは2ないし3当1代稈度が用いられる。
ずれも化合物〔]〕すたはそのシリル誘導体1モルに対
して1ないし4モル程1(v1好ましくは2ないし3モ
ル程度が用いられる。木灰バ・ai塩基の存在下にfi
lわれる。用いられる塩基とし7ては、例えば上記(1
)からl)の反応で用いられる塩h(類等が用いられる
1、」ぶ基はj111常1ないし4当が、程度、好寸し
くは2ないし3当1代稈度が用いられる。
本反応は、通常、溶媒中で行なわれる。州い・ら輛溶媒
としては、例えば、ジエチルエーテル。
としては、例えば、ジエチルエーテル。
ジイソプロヒ,11/エーテル、エチレンクリコールジ
メチルエーデ〃,テトヲヒドロフヲン.ジオキザンなど
のエーテル類、ジメチルホルムアミドなどが用いられ、
これら溶媒のうちテトヲヒドロフラン,ジオキザンなど
が適している。
メチルエーデ〃,テトヲヒドロフヲン.ジオキザンなど
のエーテル類、ジメチルホルムアミドなどが用いられ、
これら溶媒のうちテトヲヒドロフラン,ジオキザンなど
が適している。
このような方法によりu+W MWされた化合物〔V〕
またはそのシリ)し蒔尋体は、つぎにこれを還元反応に
(=Jすことにより化合物( Vl )まだケ」:その
シリルfjj’5 6俸にすることができる。
またはそのシリ)し蒔尋体は、つぎにこれを還元反応に
(=Jすことにより化合物( Vl )まだケ」:その
シリルfjj’5 6俸にすることができる。
本反応に用いられるJ(【元側としてd、、例えば水素
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム。
化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム。
水素化トリイソブチルホウ素9′チウム、水素化ト!J
− sec.−ブチルホウ素リチウム、水素化トリー
13ec−ブチルホウ素カリウム、水うV化トリーBe
c−プチルホウミ(〕ナトリウム、水素化トリジアミル
ホウ素リチウム、水素化トリジアミルホウ素カリウムな
どの水素化ホウ走金1.J4錯体、例えil: ) I
Jメチノ1ノアミンーボフン,ジイソフ゛ロビパノアミ
ンーボランなどのトリ低H.Jjtアルキル(炭素数1
から4)アミンボラン(iM::tθ氷水素化ホウ素類
などが用いられる。これらのうち、水素化ホウ累ナトリ
ウノ・、水素化トリーPeeーブチルホウ素ナトリウム
。
− sec.−ブチルホウ素リチウム、水素化トリー
13ec−ブチルホウ素カリウム、水うV化トリーBe
c−プチルホウミ(〕ナトリウム、水素化トリジアミル
ホウ素リチウム、水素化トリジアミルホウ素カリウムな
どの水素化ホウ走金1.J4錯体、例えil: ) I
Jメチノ1ノアミンーボフン,ジイソフ゛ロビパノアミ
ンーボランなどのトリ低H.Jjtアルキル(炭素数1
から4)アミンボラン(iM::tθ氷水素化ホウ素類
などが用いられる。これらのうち、水素化ホウ累ナトリ
ウノ・、水素化トリーPeeーブチルホウ素ナトリウム
。
ジイソプロビルアミン−ボランなどが好適である,、反
応は、化合物(V)1モルに対してq元側1ないし5モ
/L’程度を用いる。反応は通常溶媒中で行なわれる。
応は、化合物(V)1モルに対してq元側1ないし5モ
/L’程度を用いる。反応は通常溶媒中で行なわれる。
溶媒としては、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
エチレングリコールジエチルエーテル、テトワヒドロフ
フン、ジオキサンナトのエーテyv#Lメタノール、エ
タノ−μ、イソプロノ?ノール=フq翫、ブタノール、
tert−ブタノ−μなどのアルコールチ11、ピリ
ジン、水などが用いられ、これら溶媒は通常単独で用い
られるが、適宜に混合したり、さらには塩化メチレン、
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類を適宜に混合し
て用いてもよい。反応温度は−40ないし100C程度
、通常−io〜40℃程7yが適している。
ピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
エチレングリコールジエチルエーテル、テトワヒドロフ
フン、ジオキサンナトのエーテyv#Lメタノール、エ
タノ−μ、イソプロノ?ノール=フq翫、ブタノール、
tert−ブタノ−μなどのアルコールチ11、ピリ
ジン、水などが用いられ、これら溶媒は通常単独で用い
られるが、適宜に混合したり、さらには塩化メチレン、
四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類を適宜に混合し
て用いてもよい。反応温度は−40ないし100C程度
、通常−io〜40℃程7yが適している。
反応時間は、反応に用いる還元剤、溶媒、反応温度によ
り異なるが、一般に30分逐いし3日間程度、好ましく
は1〜数時間程度である。
り異なるが、一般に30分逐いし3日間程度、好ましく
は1〜数時間程度である。
なお化合物〔11〕またはそのシ!J/L’誘導体の3
位ヒドロキシエチル基のヒドロキシル基結合部(1位)
の異性体((1,R)−1−ヒドロキシエチフ1フ体お
よび(Is)−1−ヒドロキシエチル体)は、たとえば
クロマトグラフィーなどにより、互いに分難することが
できるが、さらにこれら2神の異性体のうち、(IS)
−1−ヒドロキシエチル体は、たとえばこれをギ酸中ト
リフェニルホスフィンとジエチルアゾカルボキシレート
と処理して立体配置を反転させて、(IR)−1−ヒド
ロキシエチル体の0−ホA・ミA/誘導体を得る、いわ
ゆる元価反応に付し、ついでとの0−ホルミμ体を脱ホ
pミル化反応に付すととによって(IR)−1−ヒドロ
キシエチル体に変換することもできる(テトラヘドロン
レターズ、18号、1619〜1622頁(1973
年)参照)。
位ヒドロキシエチル基のヒドロキシル基結合部(1位)
の異性体((1,R)−1−ヒドロキシエチフ1フ体お
よび(Is)−1−ヒドロキシエチル体)は、たとえば
クロマトグラフィーなどにより、互いに分難することが
できるが、さらにこれら2神の異性体のうち、(IS)
−1−ヒドロキシエチル体は、たとえばこれをギ酸中ト
リフェニルホスフィンとジエチルアゾカルボキシレート
と処理して立体配置を反転させて、(IR)−1−ヒド
ロキシエチル体の0−ホA・ミA/誘導体を得る、いわ
ゆる元価反応に付し、ついでとの0−ホルミμ体を脱ホ
pミル化反応に付すととによって(IR)−1−ヒドロ
キシエチル体に変換することもできる(テトラヘドロン
レターズ、18号、1619〜1622頁(1973
年)参照)。
木光延反応において使用するトリフェニルホスフィンの
爪は原料1モルに対し、2〜3倍モfi/程度、用いる
ジエチルアゾカルボキシレート及ヒギf’i′Hの蛾は
原料1モルに対し2〜10倍モfi7程度が好適である
。さらにギ酸は大過剰加えて溶媒として用いることもで
きる。一般に反応は溶媒中で行fxbれ、例えばテトヲ
ヒド口フラン、ジオキサン等のエーテル類が用いられる
。反応ff!度は通常O〜8(1程度の範囲、好ましく
は2()〜30し程度の範囲である。反応1面間は1〜
24時間程度である。とのようにして得られたO−ホル
ミ/l/ j;51に体の脱ホlレミル化反応tri、
それ自体公知の方法、例えばメタノール−塩酸等と作用
させることにより行なわれる。反応湿度は−20〜・6
0℃程庶、好ましくは一5〜30℃程度、反応時間は3
05)エチ/I/基のヒドロキシμをシリ)v、%%で
保護しついで酸化反応に付すことによシ公知の≠エナマ
イシンの中門原料化合物〔■〕に導くことができる。
爪は原料1モルに対し、2〜3倍モfi/程度、用いる
ジエチルアゾカルボキシレート及ヒギf’i′Hの蛾は
原料1モルに対し2〜10倍モfi7程度が好適である
。さらにギ酸は大過剰加えて溶媒として用いることもで
きる。一般に反応は溶媒中で行fxbれ、例えばテトヲ
ヒド口フラン、ジオキサン等のエーテル類が用いられる
。反応ff!度は通常O〜8(1程度の範囲、好ましく
は2()〜30し程度の範囲である。反応1面間は1〜
24時間程度である。とのようにして得られたO−ホル
ミ/l/ j;51に体の脱ホlレミル化反応tri、
それ自体公知の方法、例えばメタノール−塩酸等と作用
させることにより行なわれる。反応湿度は−20〜・6
0℃程庶、好ましくは一5〜30℃程度、反応時間は3
05)エチ/I/基のヒドロキシμをシリ)v、%%で
保護しついで酸化反応に付すことによシ公知の≠エナマ
イシンの中門原料化合物〔■〕に導くことができる。
1
〔式中、x’、 X2. X3. Rは前記と同意義〕
。参筬へ化合物(Vl )のシ!J/l/化反応は化合
物(1)のシリノ1ノ化反応ど同様に行なうことができ
る。イ1られる化合物CVl )のシリ/L/誘導体は
酸化反応に(=Jずことによシ化合物(Vi[)に導く
ことができる。
。参筬へ化合物(Vl )のシ!J/l/化反応は化合
物(1)のシリノ1ノ化反応ど同様に行なうことができ
る。イ1られる化合物CVl )のシリ/L/誘導体は
酸化反応に(=Jずことによシ化合物(Vi[)に導く
ことができる。
用いられる酸化剤としでは、例えば過マンガン醜カリウ
ム、過マンガン酸バリウムなどの過マンガン酸塩4〕1
.11Φ安、は香酸、過C(r酸、モノ過フタル酸、r
o−クロルJ1・9安息香酸などの有機過酸類、過酸化
水素、四塩化ルテニウムなどの酸化剤が枯げられる。水
反応は1iT1常溶媒を用いて行なわれるが、ここに溶
媒と1.では、水、酢酸、アセトン、 t、ertロホ
ルムなどが、す1独もしくは混合して用いられる。なお
過マンガン酸塩を酸化剤と1−7て使用する場合、1i
ir、酸、酢酸などの無機酸また(よ有(黒酢を用いる
のが有利である。反応温度は約−30〜50℃、好まし
くは約−10〜30℃である。反応時間は酸化剤の種類
や反応温度によっても異なるが一般に30分ないし24
時間程度である。
ム、過マンガン酸バリウムなどの過マンガン酸塩4〕1
.11Φ安、は香酸、過C(r酸、モノ過フタル酸、r
o−クロルJ1・9安息香酸などの有機過酸類、過酸化
水素、四塩化ルテニウムなどの酸化剤が枯げられる。水
反応は1iT1常溶媒を用いて行なわれるが、ここに溶
媒と1.では、水、酢酸、アセトン、 t、ertロホ
ルムなどが、す1独もしくは混合して用いられる。なお
過マンガン酸塩を酸化剤と1−7て使用する場合、1i
ir、酸、酢酸などの無機酸また(よ有(黒酢を用いる
のが有利である。反応温度は約−30〜50℃、好まし
くは約−10〜30℃である。反応時間は酸化剤の種類
や反応温度によっても異なるが一般に30分ないし24
時間程度である。
このようにして得られた化合物(Vil )は下記に示
す王権により化合物〔IX〕を経てチェナマイシンを製
造することができる。なお化合物〔1x〕からチェナマ
イシンを製造する方法は例えばテトロへドロン−レター
ズ(Tetra、hedron Letters )2
3.2875(1982)等に記載されている。
す王権により化合物〔IX〕を経てチェナマイシンを製
造することができる。なお化合物〔1x〕からチェナマ
イシンを製造する方法は例えばテトロへドロン−レター
ズ(Tetra、hedron Letters )2
3.2875(1982)等に記載されている。
1
(Vi’t)
X]
化合物〔■〕から化合物C11i[)を製造するにはプ
ロパルギルプロミドとマグネシウムからなるグリニヤー
ル試典が用いられる。グリニヤーlv試薬の使用量は〔
■〕に対’fW〜1.5倍モル比であへ反応はエーテル
、デトヲヒドロフラン等の溶媒中で行なわれる。反応温
度は0〜40℃程度である。反応時間は約1〜5時間で
十分である。
ロパルギルプロミドとマグネシウムからなるグリニヤー
ル試典が用いられる。グリニヤーlv試薬の使用量は〔
■〕に対’fW〜1.5倍モル比であへ反応はエーテル
、デトヲヒドロフラン等の溶媒中で行なわれる。反応温
度は0〜40℃程度である。反応時間は約1〜5時間で
十分である。
化合物〔■1〕から化合物〔1に〕を得るには、前記〔
1〕のシリル化反応が用いられる。
1〕のシリル化反応が用いられる。
このようにして得られる化合物〔1v〕〜(iX’)等
は自体公知の稍ε・9手段、例えば抽出、結晶化、再結
晶、吸着または分配クロマトグラフィー等によυ単薄籾
製するととができる。
は自体公知の稍ε・9手段、例えば抽出、結晶化、再結
晶、吸着または分配クロマトグラフィー等によυ単薄籾
製するととができる。
以下に契h&例、参考ff1lを示し、本発明の内容を
詳述する。
詳述する。
なお夾施例9歩考例で用いる下記の記号は次のような意
義を有する。
義を有する。
S ; シングレット
d 纂 ダブレット
dd i ダブルダブレット
dddi )リプルダブレット
ti)リプl/シト
m ; マμチフ0レット
q ; カルチット
qd i ダブルカルチット
quint Hクラインチット
br 逼 幅広い
実施例/
(4R)−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン
4−フエニルス!レホニルアゼチジン−2−オン7、1
0 ’! (0,99ramol )をベンゼン20
mllclIi%陶し、シンコニジン(和光純薬工柴株
式会社。
0 ’! (0,99ramol )をベンゼン20
mllclIi%陶し、シンコニジン(和光純薬工柴株
式会社。
(a)’7 =−t to、 2°(c=t、 04
、 C2H50H) 、 585、4M’ 、 1.9
9mmo1.、2当凰)、チ、t 7 エンール(54
7,2ツ、4.97川mol、 5当量)を加え、アル
ゴン雰囲気下186.5時間11f、袢した。反応液を
ベンゼン約Zoom/で希釈し、不溶物を枦去し、炉液
を減圧下留去することにより得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(シリijケfL/609
、石油!−’F−/L’:酢酸エチ/l/=2 : 1
〜1:1にて溶出)にて精製した。得られた4−フェニ
ルチオアゼチジン−2−オン159.4q(収率89、
(5%)は(”)V =+54.1’(c=1. Ol
、 C[1C13)を示した。(光学曲数*52%)上
記反応によりイ1)られた4−フェニルチオアゼチジン
−2−オン((ジ下、しと略記する)(・ま再結晶によ
り光学的にt、it粋とするととができた。
、 C2H50H) 、 585、4M’ 、 1.9
9mmo1.、2当凰)、チ、t 7 エンール(54
7,2ツ、4.97川mol、 5当量)を加え、アル
ゴン雰囲気下186.5時間11f、袢した。反応液を
ベンゼン約Zoom/で希釈し、不溶物を枦去し、炉液
を減圧下留去することにより得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(シリijケfL/609
、石油!−’F−/L’:酢酸エチ/l/=2 : 1
〜1:1にて溶出)にて精製した。得られた4−フェニ
ルチオアゼチジン−2−オン159.4q(収率89、
(5%)は(”)V =+54.1’(c=1. Ol
、 C[1C13)を示した。(光学曲数*52%)上
記反応によりイ1)られた4−フェニルチオアゼチジン
−2−オン((ジ下、しと略記する)(・ま再結晶によ
り光学的にt、it粋とするととができた。
C(l J % = + !55. Oo(c= O−
95、CHCl3)を示す↓ 132.7#をベンゼン
に加1.・、1席解し、シクロベキ1ンをわずかに濁り
が生じる壕で加え、室温で放置し、更に6℃にて放置し
た。得られ/仁結晶(無色b57片状84 、9 ’6
’ 、 m p 59 、 5°〜74℃)9はCn〕
’l =+ 17.3°(c=i、 27 、 CHC
l3)を示し、母r+りをlIFi4M L/、更にシ
リカゲルカラムクロマトグラフ−(−(シリカゲル20
g、石油エーテ/L/=61酸エチル−1:1)にて精
製することによシ得られた↓ 37.5ダ(mp58〜
60t:)はCa〕’i = +、L(12,7°(c
=0.75 、 CHCl3)を示した。
95、CHCl3)を示す↓ 132.7#をベンゼン
に加1.・、1席解し、シクロベキ1ンをわずかに濁り
が生じる壕で加え、室温で放置し、更に6℃にて放置し
た。得られ/仁結晶(無色b57片状84 、9 ’6
’ 、 m p 59 、 5°〜74℃)9はCn〕
’l =+ 17.3°(c=i、 27 、 CHC
l3)を示し、母r+りをlIFi4M L/、更にシ
リカゲルカラムクロマトグラフ−(−(シリカゲル20
g、石油エーテ/L/=61酸エチル−1:1)にて精
製することによシ得られた↓ 37.5ダ(mp58〜
60t:)はCa〕’i = +、L(12,7°(c
=0.75 、 CHCl3)を示した。
他の溶媒(酸1゛1クエチp、メタノール、エーテル−
石油エーテ/L/)においても〔a〕2仔= 千40〜
60°を示す尤の再結晶では母液中のよの方が結晶とし
て析出するよより光学的に高純度であった。
石油エーテ/L/)においても〔a〕2仔= 千40〜
60°を示す尤の再結晶では母液中のよの方が結晶とし
て析出するよより光学的に高純度であった。
しかし、〔α)2.l=+80〜90°を示ず↓の再結
晶(エーテ/L/二石油エーテル)では結晶の方が高純
度であった。
晶(エーテ/L/二石油エーテル)では結晶の方が高純
度であった。
(”)”’# =+59.8°(c=0.92 、 C
HCl3)を示すよ 7.58gを酢酸エチルで再結晶
し、結晶h 974mf 、 (α)’% =+1.0
°(c=i、 03 、CHCl3)ヲ得、母液をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し結晶s、z
xg(Cα〕伊−4−61,7°、 (c=0.83.
CHCl3))を得た。母液より得られた↓を再度、酢
酸エチルにて再結晶し、結晶1.349CCU〕撃=+
7.7°(c=Q、 91 。
HCl3)を示すよ 7.58gを酢酸エチルで再結晶
し、結晶h 974mf 、 (α)’% =+1.0
°(c=i、 03 、CHCl3)ヲ得、母液をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し結晶s、z
xg(Cα〕伊−4−61,7°、 (c=0.83.
CHCl3))を得た。母液より得られた↓を再度、酢
酸エチルにて再結晶し、結晶1.349CCU〕撃=+
7.7°(c=Q、 91 。
CHCl3)〕及び母液よりよ 4.689を得た。
母液より得られた上をエーテル−石油エーテμより再結
晶すると、結晶上 2.891(α)%5=−1−95
.9°(c=t、 30 、 Crec13))及び母
液をクロマト精製の後11.33g((α〕甘せ+88
.3゜((1=1.54 、 CHCl3) )を得た
。結晶として得られた尤を更にエーテル−石油エーテル
より再結晶すると〔α〕菅=+105.1°(c =0
.65 、 cIIc13)を示す1 854.7mダ
が結晶として析出した。
晶すると、結晶上 2.891(α)%5=−1−95
.9°(c=t、 30 、 Crec13))及び母
液をクロマト精製の後11.33g((α〕甘せ+88
.3゜((1=1.54 、 CHCl3) )を得た
。結晶として得られた尤を更にエーテル−石油エーテル
より再結晶すると〔α〕菅=+105.1°(c =0
.65 、 cIIc13)を示す1 854.7mダ
が結晶として析出した。
(m D L体、 m p 72 ′C+ 了寸−レ
ン・デア・ヘミ −yw (Ann、)197.4.5
39 )汎p、58〜60℃ 赤外吸収スペクトル (工R) (CHCl3)Cnl ’ 3430.
1775核磁気共鳴スベク)ル (NMR) (CHCl3.内部標準、テトラメチルシ
ラン(TMS)) a: 7.80〜7.26(m、5
H) 、6.64(b r 、I H) 、5.02
(d d d 、l IT 、J =4.812−4
。
ン・デア・ヘミ −yw (Ann、)197.4.5
39 )汎p、58〜60℃ 赤外吸収スペクトル (工R) (CHCl3)Cnl ’ 3430.
1775核磁気共鳴スベク)ル (NMR) (CHCl3.内部標準、テトラメチルシ
ラン(TMS)) a: 7.80〜7.26(m、5
H) 、6.64(b r 、I H) 、5.02
(d d d 、l IT 、J =4.812−4
。
1.01(z ) 、 3.15を中心とするABXX
’ (2に、、T=15.4 、4.+3 、2.4
、1.41(z )質hk分析 (Mass) m/ei 181.180+ 1
79(λイ゛’)、 tto。
’ (2に、、T=15.4 、4.+3 、2.4
、1.41(z )質hk分析 (Mass) m/ei 181.180+ 1
79(λイ゛’)、 tto。
70 (b?3.FIe )
M” Cよ、H2WO4に対する
計算値 179.0405
宍測値 179.0383
〔α〕甘せ+105.1’(c=0.65.CHCl3
)5り施例λ (4R)−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン 4−アセトキシアゼチS辻に肩′、629にベンゼン1
00 dに溶解し、これにシンコニジン7゜39すとチ
オフェノール6.5dを加え、アルゴン雰囲気下1室温
で210時間(Nψ1押した。反応液を減圧沖過し、p
面を減圧下瀘縮し、得られた残渣をシリカゲルカワ11
りロマトグラフイー(シリカゲル、130f7:溶出液
:酢r1タエチルー石油エーテル(l:4))により粘
かりすると標記化合4!11、’77g(収率79%)
が得られた。
)5り施例λ (4R)−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン 4−アセトキシアゼチS辻に肩′、629にベンゼン1
00 dに溶解し、これにシンコニジン7゜39すとチ
オフェノール6.5dを加え、アルゴン雰囲気下1室温
で210時間(Nψ1押した。反応液を減圧沖過し、p
面を減圧下瀘縮し、得られた残渣をシリカゲルカワ11
りロマトグラフイー(シリカゲル、130f7:溶出液
:酢r1タエチルー石油エーテル(l:4))により粘
かりすると標記化合4!11、’77g(収率79%)
が得られた。
〔α)25=42.2°(C=1.04 、 CHCl
3)1) セ オ 曙 参考例/ (4R)−x−(t−プチルジメチA/シリ/I/)=
4−フェニルチオアゼチジン−2−オン(4R)−4−
フェニルチオアゼチジン−2−オン518. !F%’
(2,9(i’m5−c+↓−)をジメチルホ/l/
ムアミド(DIAF)、1g/に溶解し、イミダゾ−〜
394.7Q(5,80mmo:l−,2当it)、t
−プチルジメチルシリノト・クロリド873.9rダ(
5,80mmol、2当低)を加えアルゴン雰囲気下、
室温で2時間、jii”、’1.押し、更にイー、ダシ
−/l/(2,2当l)、t−ブチルジメチルシリルク
ロリド を加え、−夜回条件で11)1拌した。反応液にニーデ
シ約100g/と水10n/を加え栓へ押した後、エー
テル層を分離した。エーテル層を水及び飽和食塩水でb
し浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後エーテルを減圧
上留去し7た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲ/I/25す,酢「1(エ
チ/I/:石油エーテル=1ニア)により精製し、標記
化合物792.9r!I(収率93.3各≦)を無色油
状物として得た。
3)1) セ オ 曙 参考例/ (4R)−x−(t−プチルジメチA/シリ/I/)=
4−フェニルチオアゼチジン−2−オン(4R)−4−
フェニルチオアゼチジン−2−オン518. !F%’
(2,9(i’m5−c+↓−)をジメチルホ/l/
ムアミド(DIAF)、1g/に溶解し、イミダゾ−〜
394.7Q(5,80mmo:l−,2当it)、t
−プチルジメチルシリノト・クロリド873.9rダ(
5,80mmol、2当低)を加えアルゴン雰囲気下、
室温で2時間、jii”、’1.押し、更にイー、ダシ
−/l/(2,2当l)、t−ブチルジメチルシリルク
ロリド を加え、−夜回条件で11)1拌した。反応液にニーデ
シ約100g/と水10n/を加え栓へ押した後、エー
テル層を分離した。エーテル層を水及び飽和食塩水でb
し浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後エーテルを減圧
上留去し7た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲ/I/25す,酢「1(エ
チ/I/:石油エーテル=1ニア)により精製し、標記
化合物792.9r!I(収率93.3各≦)を無色油
状物として得た。
エR(CI(CI3)cm 12955.2930.
1735゜1300. 1256. 1168,842
,822N M R(CDCl2.TMS)δ; 7
.’38(brr+、5H)+4.93(dd、IH9
J=5−0+3.0Hz)。
1735゜1300. 1256. 1168,842
,822N M R(CDCl2.TMS)δ; 7
.’38(brr+、5H)+4.93(dd、IH9
J=5−0+3.0Hz)。
326を中心トするABX(2Ii、、T=16.0.
5.0゜3.0Hz)、1.01(8,9H)、0.2
8(s、3H)。
5.0゜3.0Hz)、1.01(8,9H)、0.2
8(s、3H)。
0.08(F!、3H)
Mass m/ei 295+ 294.293()J
+)、 184゜42 1.1+C□5H23NO8iSに対する計算値i 2
93.1269実1則イ直纂 293− 1256 〔α〕枦−−164.3°(cmt、 54 、 CH
Cl3)参考例λ (4R)−1−(t−ブチルジメチルシリIL/)−3
−(1−ヒドロキシエチ)v ) −4−フェニルチオ
アゼチジン−2−オン及び(3R,4R)−1−(t−
ブチルジメチルシリルl/)−3−((IR)−1−ヒ
ドロキシエチルシー4−フェニルチオアゼチジン−2−
オン 蒸留したばかりのテトラヒドロフラン(THF’)5t
/中、アルゴン算囲気下−78″Cで!l−ブチルリチ
ウムーヘキザン溶液(1,53M溶fs’i 、 1゜
7戸/13当M)とジイソプロピルアミン(267゜I
n’! 、 3当琶)よりilt刊ijしたリチウム
ジイソプロピルアミド(L ]) A )に(4R)−
1−(t−ブチルジメチル/シリル)−4−フェニルチ
オアゼチジン−2−オン(254Q 、 0.87mm
ol )のTHF(5*t)溶液を一7Elで加え、更
に容器を2バtのT HF’で洗い、反応液に加えた。
+)、 184゜42 1.1+C□5H23NO8iSに対する計算値i 2
93.1269実1則イ直纂 293− 1256 〔α〕枦−−164.3°(cmt、 54 、 CH
Cl3)参考例λ (4R)−1−(t−ブチルジメチルシリIL/)−3
−(1−ヒドロキシエチ)v ) −4−フェニルチオ
アゼチジン−2−オン及び(3R,4R)−1−(t−
ブチルジメチルシリルl/)−3−((IR)−1−ヒ
ドロキシエチルシー4−フェニルチオアゼチジン−2−
オン 蒸留したばかりのテトラヒドロフラン(THF’)5t
/中、アルゴン算囲気下−78″Cで!l−ブチルリチ
ウムーヘキザン溶液(1,53M溶fs’i 、 1゜
7戸/13当M)とジイソプロピルアミン(267゜I
n’! 、 3当琶)よりilt刊ijしたリチウム
ジイソプロピルアミド(L ]) A )に(4R)−
1−(t−ブチルジメチル/シリル)−4−フェニルチ
オアゼチジン−2−オン(254Q 、 0.87mm
ol )のTHF(5*t)溶液を一7Elで加え、更
に容器を2バtのT HF’で洗い、反応液に加えた。
同条件で30分間に拌した後、蒸留したばかりのアセト
アノ1/デヒド(197ハV、5.Z当量)を加え10
分間拭押した後、飽和+1t、化アンモニウム水溶液を
一78″Cで加え、反応を停止させた。反応液を室温ま
で加温した後、l!’i+’酸エチルで抽出しく30m
rx3)、有ILj所Aを11!I和食塩水で6し浄、
続いて無水硫酸マグネシウムで乾忰後、溶媒を留去する
ことにより標記化合物(混合物)粗生成物31.9.6
*tを得だ。このものからシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル36g、酢酸エチ)v:石油エー
テル−1:3)にて(38,4R)−1,−(t−ブチ
ルジメチルシリル)−3−〔(11−1−ヒドロキシエ
チ#)−4−フェニルチオア98.2ツ(収率67.8
%)を無色油状物として得た。
アノ1/デヒド(197ハV、5.Z当量)を加え10
分間拭押した後、飽和+1t、化アンモニウム水溶液を
一78″Cで加え、反応を停止させた。反応液を室温ま
で加温した後、l!’i+’酸エチルで抽出しく30m
rx3)、有ILj所Aを11!I和食塩水で6し浄、
続いて無水硫酸マグネシウムで乾忰後、溶媒を留去する
ことにより標記化合物(混合物)粗生成物31.9.6
*tを得だ。このものからシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル36g、酢酸エチ)v:石油エー
テル−1:3)にて(38,4R)−1,−(t−ブチ
ルジメチルシリル)−3−〔(11−1−ヒドロキシエ
チ#)−4−フェニルチオア98.2ツ(収率67.8
%)を無色油状物として得た。
m、p、 93〜93 、5 ′C(エーテル−石油
エーテル・より再結晶) I R(CHCl3)cnf ’ 3430.173
8. 1300゜125B、 842.822 N M R(CDCl2.TMS)δ B 7.66〜
7.20 (ro 、 5H)、5.00(d、IH,
J=2.0Hz)、4.14(m、H()、3.19(
dd、IH,J=4.0.2.0Hz)、2.42(b
r、IH)、1.10(d、3H,J=7.0Hz)。
エーテル・より再結晶) I R(CHCl3)cnf ’ 3430.173
8. 1300゜125B、 842.822 N M R(CDCl2.TMS)δ B 7.66〜
7.20 (ro 、 5H)、5.00(d、IH,
J=2.0Hz)、4.14(m、H()、3.19(
dd、IH,J=4.0.2.0Hz)、2.42(b
r、IH)、1.10(d、3H,J=7.0Hz)。
1.00(s、9H)、0.30(S、6H)MasS
、 m/e 339. 33L 337(M+)、
228゜210、 142 トけCエフ上2フNO2SISについての計算値;
337.1531 実測幀+ 337.1548 元素分4IT′値 C□7H,No2SiS としてC
HN 計−IVft(9,4cio、 51 8.07
4.15火A1(1値(@10.45 7.98
4.16〔α〕ヤーーst、 7’ (cmt、 24
.CHCl3)ど考(4’l+ 3゜ (3S、4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−アセチ/L/−4−フェニルチオアゼチジン−2−
オン (4R)−t−(t−ブチルジメチルシリ/l/)−3
−(1−ヒドロキシエチル)−4−フェニルチオアゼチ
ジン−2−オン50.6だF(0,15mmol)を塩
化メチレン2rt+iに溶解し、アルゴン雰1川気王室
濡で(゛・A月′する中にセフイト(&545゜]oo
rvy”)+及びコリンズ試薬(233’5’、6当量
)を加え、30分間激しく11を拌した後、更にコリン
ズ試薬(336,311&、8.7当↓よ)を加え、1
時+7411’li’、 拌した。塩化メチ1/ン20
肩lとフローリジル約1(lを加え30分間(買、拌し
た後、フローリジルの短いカラムを通して反応液を濾過
し、カラムを更に塩化メチレン(約200*/)で洗浄
した。
、 m/e 339. 33L 337(M+)、
228゜210、 142 トけCエフ上2フNO2SISについての計算値;
337.1531 実測幀+ 337.1548 元素分4IT′値 C□7H,No2SiS としてC
HN 計−IVft(9,4cio、 51 8.07
4.15火A1(1値(@10.45 7.98
4.16〔α〕ヤーーst、 7’ (cmt、 24
.CHCl3)ど考(4’l+ 3゜ (3S、4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−アセチ/L/−4−フェニルチオアゼチジン−2−
オン (4R)−t−(t−ブチルジメチルシリ/l/)−3
−(1−ヒドロキシエチル)−4−フェニルチオアゼチ
ジン−2−オン50.6だF(0,15mmol)を塩
化メチレン2rt+iに溶解し、アルゴン雰1川気王室
濡で(゛・A月′する中にセフイト(&545゜]oo
rvy”)+及びコリンズ試薬(233’5’、6当量
)を加え、30分間激しく11を拌した後、更にコリン
ズ試薬(336,311&、8.7当↓よ)を加え、1
時+7411’li’、 拌した。塩化メチ1/ン20
肩lとフローリジル約1(lを加え30分間(買、拌し
た後、フローリジルの短いカラムを通して反応液を濾過
し、カラムを更に塩化メチレン(約200*/)で洗浄
した。
塩化メチレンを減圧下留去することにより得だ粗生成物
46.5Mfをシリカゲルカラムクロマトグラフィ=(
シリカゲ/L’49.石油エーテμ:酢酸エチ/L/−
4:1)にて精製し標記化合物43.4π!(収率86
.3%)を得た。
46.5Mfをシリカゲルカラムクロマトグラフィ=(
シリカゲ/L’49.石油エーテμ:酢酸エチ/L/−
4:1)にて精製し標記化合物43.4π!(収率86
.3%)を得た。
I R(CHCl3)cm 12955.2930.
1,745゜1708、 1635. 1617. 1
285. 1160.840゜821、807 N M R(Or)C13,TMS)δ: 7.60〜
7.16(m、 5H)、5.35(d、IH,J=2
.2Hz)、4.25(d、IH1J=2.2Hz)、
2.24(s、3H)、0.98(s、9H)、o、3
o(8,61 λKass m/eH337,336,335(M+
)、 320゜278、2261 1421 115.
73(ba、se)M+C□7H25NO2SSiに
対する計算値; 335.1375実測値5335.1
372 〔α〕習=−65.1°(cm2.55.CHCl3)
参考例久 (33,,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリ/l
/)−3−((iR)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
フェニルチオアゼチジン−2−オン及び(3s、4R)
−x−(t−ブチルジメチルシリル)−3−((Is)
−1−ヒドロキシエチルクー4−フェニルチオアゼチジ
ン−2−オン(3s、4R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−ア七チル−4−フェニルチオアゼチジ
ン−2−オン628.2’EI (1,89mmol)
をメタノ−/l/lOHに溶解し、アルゴン雰囲気下−
78℃で攪拌する中に、水累化ホウ素ナトリウム(71
、ITiグT ]−、88m+nol)を加え一781
Eで20分、更に冷却浴をはずして5分間攪拌した。再
度−78℃冷却し、酢酸及び飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え反応を停止させた。反応液を室温まで加温した
後、減圧下メタノールを留去し、酢酸エチルにて抽出し
た。酢酸エチル層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥し、減圧下濃縮することにより標記
化合物の粗生成物(混合物)を油状物として得た。この
ものをカフムクロマトグヲフイー(シリカゲ/I/63
g2石油ェーテ/I/:エーテル−5:1)にて精製し
、憧性の低いフフクショントシて(3S、4R)−1−
(t−ブチ/l/をツメチルシリル)−3−1(iS)
−1−ヒドロキシエチルクー4−フエニルチメアゼチシ
ンー2−オンを280.9rtry (収率44,4%
> 、+x性の高いフフクションとして(38、4R)
−1−(1−ブチルジメチルシリル)−3−((IR)
−1−ヒドロキシエチルクー4−フェニルチオアゼチジ
ン−2−オンを34. gtny(収率5.1)、及び
両者の混合物を222.5r’:(1(収率3582%
)を得た。混合物は再びシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより分贈し、前fJZ 64.3’Q’、後者
1 ]、 0.3119 、及びこれらの混合物20.
2!7!/を得た。
1,745゜1708、 1635. 1617. 1
285. 1160.840゜821、807 N M R(Or)C13,TMS)δ: 7.60〜
7.16(m、 5H)、5.35(d、IH,J=2
.2Hz)、4.25(d、IH1J=2.2Hz)、
2.24(s、3H)、0.98(s、9H)、o、3
o(8,61 λKass m/eH337,336,335(M+
)、 320゜278、2261 1421 115.
73(ba、se)M+C□7H25NO2SSiに
対する計算値; 335.1375実測値5335.1
372 〔α〕習=−65.1°(cm2.55.CHCl3)
参考例久 (33,,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリ/l
/)−3−((iR)−1−ヒドロキシエチル〕−4−
フェニルチオアゼチジン−2−オン及び(3s、4R)
−x−(t−ブチルジメチルシリル)−3−((Is)
−1−ヒドロキシエチルクー4−フェニルチオアゼチジ
ン−2−オン(3s、4R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリル)−3−ア七チル−4−フェニルチオアゼチジ
ン−2−オン628.2’EI (1,89mmol)
をメタノ−/l/lOHに溶解し、アルゴン雰囲気下−
78℃で攪拌する中に、水累化ホウ素ナトリウム(71
、ITiグT ]−、88m+nol)を加え一781
Eで20分、更に冷却浴をはずして5分間攪拌した。再
度−78℃冷却し、酢酸及び飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え反応を停止させた。反応液を室温まで加温した
後、減圧下メタノールを留去し、酢酸エチルにて抽出し
た。酢酸エチル層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥し、減圧下濃縮することにより標記
化合物の粗生成物(混合物)を油状物として得た。この
ものをカフムクロマトグヲフイー(シリカゲ/I/63
g2石油ェーテ/I/:エーテル−5:1)にて精製し
、憧性の低いフフクショントシて(3S、4R)−1−
(t−ブチ/l/をツメチルシリル)−3−1(iS)
−1−ヒドロキシエチルクー4−フエニルチメアゼチシ
ンー2−オンを280.9rtry (収率44,4%
> 、+x性の高いフフクションとして(38、4R)
−1−(1−ブチルジメチルシリル)−3−((IR)
−1−ヒドロキシエチルクー4−フェニルチオアゼチジ
ン−2−オンを34. gtny(収率5.1)、及び
両者の混合物を222.5r’:(1(収率3582%
)を得た。混合物は再びシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより分贈し、前fJZ 64.3’Q’、後者
1 ]、 0.3119 、及びこれらの混合物20.
2!7!/を得た。
X R(CHCl3)cm ’ :う375.
1735N M R(CHCl3.TMS)δj 7
.62〜7.12(m、5H)、4.80(d、IH,
J=2.2Hz)、4.00(m、1B)、3.20(
dd、IH,J=5.6,2.2Hz)、2.35(b
r、IH)、1.20(d、3H,J=6−2Hz)、
0.97(s、9H)、0.29(s、6H)Maas
m/e 339. 338. 337(M+)、
313゜228.210 + M +I C,、H28NO2SiSに対する計算値i
338.1610 実測値; 338.1590 〔α)D=−75,4°(a−=1.29 、 cHc
13)参考例よ (3s、4l−3−((tl−x−ヒドロキシエチ〜〕
−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン (3S 、4R)−1−(t−ブチルジメチルシリIv
)−1−((IR)−i−ヒトaキシェ+*)−4−フ
ェニルチオアゼチジン−2−オン111゜4W(0,3
3rnmol )をメタノ−1v(MeOH)(5d)
に浴解し、l O*HC1(W/W)0.5g/を加え
、室温で4時間投拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、反応を停止させた後、威圧Fメタノールを留
去し、得られた残渣を酢酸エチルにて抽出した。有菅層
を水、飽和食塩水で洗浄後、無水倣1駿マグネシウムで
乾燥し、続いて減圧下濃縮することにより標記化合物6
5.2111f(収率ss、s%)を得た。とのものは
精製することなしに次の反応に用いた。
1735N M R(CHCl3.TMS)δj 7
.62〜7.12(m、5H)、4.80(d、IH,
J=2.2Hz)、4.00(m、1B)、3.20(
dd、IH,J=5.6,2.2Hz)、2.35(b
r、IH)、1.20(d、3H,J=6−2Hz)、
0.97(s、9H)、0.29(s、6H)Maas
m/e 339. 338. 337(M+)、
313゜228.210 + M +I C,、H28NO2SiSに対する計算値i
338.1610 実測値; 338.1590 〔α)D=−75,4°(a−=1.29 、 cHc
13)参考例よ (3s、4l−3−((tl−x−ヒドロキシエチ〜〕
−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン (3S 、4R)−1−(t−ブチルジメチルシリIv
)−1−((IR)−i−ヒトaキシェ+*)−4−フ
ェニルチオアゼチジン−2−オン111゜4W(0,3
3rnmol )をメタノ−1v(MeOH)(5d)
に浴解し、l O*HC1(W/W)0.5g/を加え
、室温で4時間投拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液を加え、反応を停止させた後、威圧Fメタノールを留
去し、得られた残渣を酢酸エチルにて抽出した。有菅層
を水、飽和食塩水で洗浄後、無水倣1駿マグネシウムで
乾燥し、続いて減圧下濃縮することにより標記化合物6
5.2111f(収率ss、s%)を得た。とのものは
精製することなしに次の反応に用いた。
I R(CHCl3)Cm−13420,3400,1
76ON M R(CDCl2.TMS)δ; 7.
62〜7.20(m、5H)、6.23(br、IH)
、5.09(d、IH,J−2,0Hz)、4.26(
qd、IH,J’=6.4.’4.0Hz)、3.13
(dd、11(、J=4.0,2.0H2)、1.19
(d、3H。
76ON M R(CDCl2.TMS)δ; 7.
62〜7.20(m、5H)、6.23(br、IH)
、5.09(d、IH,J−2,0Hz)、4.26(
qd、IH,J’=6.4.’4.0Hz)、3.13
(dd、11(、J=4.0,2.0H2)、1.19
(d、3H。
J=6.4Hz)
Mass m/e: 223(M+)、 142M
+CよIH13;’JO2Sに対する計算値i 223
.0667実測値i 223.0661 元素分析値 C工、H工3No 2 sとしてCHN 計算値(@纂 59.18. 5.87. 6.28実
#J値(9);、 59.03. 5.89. 6.
291α]2o5=+64.4°(Cm0.65 、
CHCl3)参考例乙 (3S、4R)−3−1c(IR)−1−ホルミ7レオ
キシエチル〕−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン (3S、4R)−1−(t−ブチルジメチルシリlし)
−3−((is )−1−ヒドロキシエチル〕−4−フ
ェニルチオアゼチジン−2−オン417.7’y(1,
24mtool)、)す71m=7に’ホスフィン1.
63g(6,21mu+ol、5当階)を無水テトラヒ
ドロフラン(THF)lofl/に溶解し、アルゴン雰
囲気下、室温で府、拌する中にギ酸(蒸留により精製1
.、たもの、bp=40〜43℃/ 55 +n1+J
ig、 373.6”グ、13.]2mmol、 6
.5当飛)を加え、更にジエチルアゾジカルボキシレー
ト1.08g((5,21nonol 、 5当量)を
20分間で滴下した。反応は発ず1さ的に進行し1、滴
下終了後4.5時間FA’、拌し、減圧上濃縮した。残
渣をノ1ラムクロマトグヲフイー(シリカゲル]、 0
0 Q 、石油エーテ/し:エーテル=4 : l )
にて精製し標記化合物、黄色油状物として323.0+
、Q’を得た。このものはNMRスペクトルよりジエチ
ルアゾジカルボキシレート由来と思われる不純物を少:
!λ含んでいだが、更に精製せずに次の反応に用いた。
+CよIH13;’JO2Sに対する計算値i 223
.0667実測値i 223.0661 元素分析値 C工、H工3No 2 sとしてCHN 計算値(@纂 59.18. 5.87. 6.28実
#J値(9);、 59.03. 5.89. 6.
291α]2o5=+64.4°(Cm0.65 、
CHCl3)参考例乙 (3S、4R)−3−1c(IR)−1−ホルミ7レオ
キシエチル〕−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン (3S、4R)−1−(t−ブチルジメチルシリlし)
−3−((is )−1−ヒドロキシエチル〕−4−フ
ェニルチオアゼチジン−2−オン417.7’y(1,
24mtool)、)す71m=7に’ホスフィン1.
63g(6,21mu+ol、5当階)を無水テトラヒ
ドロフラン(THF)lofl/に溶解し、アルゴン雰
囲気下、室温で府、拌する中にギ酸(蒸留により精製1
.、たもの、bp=40〜43℃/ 55 +n1+J
ig、 373.6”グ、13.]2mmol、 6
.5当飛)を加え、更にジエチルアゾジカルボキシレー
ト1.08g((5,21nonol 、 5当量)を
20分間で滴下した。反応は発ず1さ的に進行し1、滴
下終了後4.5時間FA’、拌し、減圧上濃縮した。残
渣をノ1ラムクロマトグヲフイー(シリカゲル]、 0
0 Q 、石油エーテ/し:エーテル=4 : l )
にて精製し標記化合物、黄色油状物として323.0+
、Q’を得た。このものはNMRスペクトルよりジエチ
ルアゾジカルボキシレート由来と思われる不純物を少:
!λ含んでいだが、更に精製せずに次の反応に用いた。
I R(CHCl3)c+n−13425,1770,
1’725゜1600、 118O N M R(CDCl2.TMS)δi 7.98(
S、IH)、7.54〜7.28(m、5H)、6.6
0(br、IH)、5.40(quint、IH,J=
6.2Hz)、5.00(d、IH,J=2.4Hz)
、3.24(dd、IH,J=6.2.2.4Hz)、
1−.39(d、3H,J=6.2Hz) Ma、ss rn/p ; 253.252. 251
D(+)、 205゜42 λシ+Cl2H工3N03Sに刻する計算値;251゜
0616実1則値i 251−05!J6 t9考例Z (3S、4R)−3−((IR)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−フエニ〃チオアゼチジン−2−オン 先に得られた(38,4R)−3−((IR)−1−ホ
ルミルオキシエチル、:]−]4−フェニルチオアゼチ
ジンー2オン323.0qをメタノール30耐に溶解し
、10%I(C1(W/W)1g/を加え室温にて4.
5時間M、拌した。飽和炭酸水素ナト ;リウム水
溶液にて反応を停止した後、減圧下メタノールを留去し
、残渣を酢酸エチルにて抽出しだ。
1’725゜1600、 118O N M R(CDCl2.TMS)δi 7.98(
S、IH)、7.54〜7.28(m、5H)、6.6
0(br、IH)、5.40(quint、IH,J=
6.2Hz)、5.00(d、IH,J=2.4Hz)
、3.24(dd、IH,J=6.2.2.4Hz)、
1−.39(d、3H,J=6.2Hz) Ma、ss rn/p ; 253.252. 251
D(+)、 205゜42 λシ+Cl2H工3N03Sに刻する計算値;251゜
0616実1則値i 251−05!J6 t9考例Z (3S、4R)−3−((IR)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−フエニ〃チオアゼチジン−2−オン 先に得られた(38,4R)−3−((IR)−1−ホ
ルミルオキシエチル、:]−]4−フェニルチオアゼチ
ジンー2オン323.0qをメタノール30耐に溶解し
、10%I(C1(W/W)1g/を加え室温にて4.
5時間M、拌した。飽和炭酸水素ナト ;リウム水
溶液にて反応を停止した後、減圧下メタノールを留去し
、残渣を酢酸エチルにて抽出しだ。
壱〇層を飽和食塩水にて洗浄1.聞いて無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥後、減圧上濃縮することにより標記化合
物274.71rlを得だっこのもののIR、N M
R、Mass 、 (rt) 1)は参考例!で得られ
た化合物のデーター値と完全に一致した。
シウムにて乾燥後、減圧上濃縮することにより標記化合
物274.71rlを得だっこのもののIR、N M
R、Mass 、 (rt) 1)は参考例!で得られ
た化合物のデーター値と完全に一致した。
参考例と
(3s、4R)−3−((1R)−t−(t、−グチル
ジメチルシリルオキシエチ/l/) )−4−フェニル
チオアゼチジン−2−オン (3S、4R)−3−((IR)−1−ヒトV1キシエ
チル〕−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン298
.1〜(1,31m+nol)をDMF’0.5Plに
溶解し、イミダゾール2G7.3”f (3,93mm
ol、3当量)、t−ブチルジメチルシリルクロリド5
91.7#I (3,93mmol 、 3当は)を加
え、アルゴン雰囲気下、室温で3時間撹拌した。反応終
了後、エーテル150dと水10m1を加え102 分
11旧1)5押した。両層を分離し、有機層を水及び飽
和食塩水で洗洋後、;171q水硅酸マグネジウドで乾
Jjさしだ。エーテルを減圧下留去することによシ標記
。
ジメチルシリルオキシエチ/l/) )−4−フェニル
チオアゼチジン−2−オン (3S、4R)−3−((IR)−1−ヒトV1キシエ
チル〕−4−フェニルチオアゼチジン−2−オン298
.1〜(1,31m+nol)をDMF’0.5Plに
溶解し、イミダゾール2G7.3”f (3,93mm
ol、3当量)、t−ブチルジメチルシリルクロリド5
91.7#I (3,93mmol 、 3当は)を加
え、アルゴン雰囲気下、室温で3時間撹拌した。反応終
了後、エーテル150dと水10m1を加え102 分
11旧1)5押した。両層を分離し、有機層を水及び飽
和食塩水で洗洋後、;171q水硅酸マグネジウドで乾
Jjさしだ。エーテルを減圧下留去することによシ標記
。
化合物を無色粉末として得た。このものは精製せずに次
の反応に用いた。
の反応に用いた。
工R(C[013)cnl l 3420.176O
N M R(CDcI3.T)As) δ;7.3B
(bηs、51()。
N M R(CDcI3.T)As) δ;7.3B
(bηs、51()。
6.42(br、LH)、5.1)6(d、IH,J=
2.0Hz)。
2.0Hz)。
425(m+ I H) + 3−OJ (m + l
kI) + 1.、 ]−9(d + 3H,J=6
.0flz)、0.92(s、9H)、0.05(q、
6H)1 Ma、ss mle; 338+ 3370.4+
L 33Ci128f)+36 (M” ”Bu) C13H□6NO2SiSに対す
る計M値i 280.0827 実測値; 280.0825 参考例り (38、4R)−3−f“(、LR)−1−(t −ブ
チルジメチルシリlレオキシェチ/I/ ) ) −4
−フエニμス/l’ホニルアゼチジン−2−オン(3s
、4p、)−3−((IR)−1−−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチ)v))−4−フリγ/、を糸y エニルチオアゼチジンー2−第5a1mn]o1)をC
H2に1210 ml VL溶解し、アルゴン雰囲気下
室渇で攪4′i°する中にm−クロロ過安息面酸()1
’1.4”V (3,34tt+mol 、 2. 5
当昂)を加え、10分間1電拝した。飽和期16fc酸
ナトリウム水i′d液4p)lと飽和炭酸氷原ナトリウ
ム水浴液4Plを加え20分間)′!テ拌した後、CH
2Cl2にて抽出したつ有]田〜をp)1和伏酸水素ナ
トリウム水溶1゛1(及び1句和食JiX水で洗浄し、
(J)(水M jM’(マグネシウムで乾す;¥:u、
減圧下淵縮することにより粗生成物を得だ。カラムクロ
マトグツフィー(シリカゲル40q1石油ゴー−デ/v
: f、+iロj、jエチル=3:1)により粘り一シ
し、)゛詞己化合物240.1 +、、゛gを得た。こ
のものは光学活性シフトi1〜g、6 トリス(3−(
ヘプタフルオロプロピルハイドロAジメチレン)−d−
カンフレートコユーロピウム(au(hfc)3 )を
用いてNMRを1fill定することにより光学的に純
粋であることが判明した。
kI) + 1.、 ]−9(d + 3H,J=6
.0flz)、0.92(s、9H)、0.05(q、
6H)1 Ma、ss mle; 338+ 3370.4+
L 33Ci128f)+36 (M” ”Bu) C13H□6NO2SiSに対す
る計M値i 280.0827 実測値; 280.0825 参考例り (38、4R)−3−f“(、LR)−1−(t −ブ
チルジメチルシリlレオキシェチ/I/ ) ) −4
−フエニμス/l’ホニルアゼチジン−2−オン(3s
、4p、)−3−((IR)−1−−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシエチ)v))−4−フリγ/、を糸y エニルチオアゼチジンー2−第5a1mn]o1)をC
H2に1210 ml VL溶解し、アルゴン雰囲気下
室渇で攪4′i°する中にm−クロロ過安息面酸()1
’1.4”V (3,34tt+mol 、 2. 5
当昂)を加え、10分間1電拝した。飽和期16fc酸
ナトリウム水i′d液4p)lと飽和炭酸氷原ナトリウ
ム水浴液4Plを加え20分間)′!テ拌した後、CH
2Cl2にて抽出したつ有]田〜をp)1和伏酸水素ナ
トリウム水溶1゛1(及び1句和食JiX水で洗浄し、
(J)(水M jM’(マグネシウムで乾す;¥:u、
減圧下淵縮することにより粗生成物を得だ。カラムクロ
マトグツフィー(シリカゲル40q1石油ゴー−デ/v
: f、+iロj、jエチル=3:1)により粘り一シ
し、)゛詞己化合物240.1 +、、゛gを得た。こ
のものは光学活性シフトi1〜g、6 トリス(3−(
ヘプタフルオロプロピルハイドロAジメチレン)−d−
カンフレートコユーロピウム(au(hfc)3 )を
用いてNMRを1fill定することにより光学的に純
粋であることが判明した。
ip、170〜t 7t’t:(エーテル−石油エー
テ/L/)I R(CHCL3)cm 13420.2
951.2930゜2850.1785,11.50,
84ON M R(CDCl2.TMS)δi 7.
98 (dd 、 2H、J=7.2,2.0Hz)、
7.90〜7.54(+m、3H)、6.34(br、
l’H)、4.83(d、iH,J=1.911)。
テ/L/)I R(CHCL3)cm 13420.2
951.2930゜2850.1785,11.50,
84ON M R(CDCl2.TMS)δi 7.
98 (dd 、 2H、J=7.2,2.0Hz)、
7.90〜7.54(+m、3H)、6.34(br、
l’H)、4.83(d、iH,J=1.911)。
4.29(qd 、 H(、J=6.5 、2.3H2
)、 3.44(dd、IH,J=2.3,1.9Hz
)、1.13(d、3I[、J=6.5Kz)、0.8
5(s、9H)、Q、(151?−び0.02(R。
)、 3.44(dd、IH,J=2.3,1.9Hz
)、1.13(d、3I[、J=6.5Kz)、0.8
5(s、9H)、Q、(151?−び0.02(R。
6H)
Magp mle j 369(M+)、 354
.317!、 228(M+−tBtl) C13H
□、3NO4SSiに対する計算値+ 312.07
21 失1+帽Iγ丁¥ 31.2.07013元素分析I
l+lI0□711217NO4SSiとじでCHN 計コ享−[(@ 妄 55.29. 7.38
. 3.78実測値(舗; 55.’、36.
7.31. 3.73(a)甘=−11,oo(cmo
、 91 、CI(C13)春考例/θ (3S、4R)−3−C(JR)−t−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチ/L/))−4−10ビニルア
ゼチジン−2−オン 還流冷却管をつけ/こ20フラスコに金属マグネシウム
(55〜(10当量)と触媒量の塩化第2水銀を入れ、
真空ポンプにて減圧にしながらドライヤーで加熱し乾燥
の後、アルゴンガスで゛11月C;;L、/こ。
.317!、 228(M+−tBtl) C13H
□、3NO4SSiに対する計算値+ 312.07
21 失1+帽Iγ丁¥ 31.2.07013元素分析I
l+lI0□711217NO4SSiとじでCHN 計コ享−[(@ 妄 55.29. 7.38
. 3.78実測値(舗; 55.’、36.
7.31. 3.73(a)甘=−11,oo(cmo
、 91 、CI(C13)春考例/θ (3S、4R)−3−C(JR)−t−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチ/L/))−4−10ビニルア
ゼチジン−2−オン 還流冷却管をつけ/こ20フラスコに金属マグネシウム
(55〜(10当量)と触媒量の塩化第2水銀を入れ、
真空ポンプにて減圧にしながらドライヤーで加熱し乾燥
の後、アルゴンガスで゛11月C;;L、/こ。
その中に無水エーテ)V 6 Peを加え徹しく19拌
し、龜−いてプロパルギルプロミド320.4”9(t
o当11N)を加え室温で反応させた。激しい反応が終
了した後、−18tEに冷却し1、;厭水T fIF
2 atを加えた。(38,4R)−3−C(IR)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシエチ/v))−
4−フェニルスルホニルアゼチジン−2−オン98゜8
1″9 (0,27+nmol )を無水T tT F
’に溶解し、この溶γf(を滴下ロートから先のグ帰ア
ル試檗に滴下し2、滴下ロートを更にT HF’ 1に
tで洗い、この洗液も反応液に加えた。反応液を一18
℃で5分間1’i、’J’l”し7た後、0℃で30分
間1辺押した。飽和塩化アンモニウム水溶面を0℃で加
えることにより反応を停止した後、粗生成物を酉ト酸エ
チルにて抽出しだ(3(しt×3)。有1.′1.殺4
を1・11和食塩水で1’−’e、浄し無水(iijf
酸マグネシウムで乾IX清の後、淵縮することにより相
生酸物125.8m+i”Q得だ。カラムクロマトグラ
フィ−(シリカゲル309.石油エーテ/’ : f’
iF酸エチ/l/:l:3:1)にテ精製し相記化合物
64.7が1(収率90.5%)を;(1(色結晶とし
て得た。
し、龜−いてプロパルギルプロミド320.4”9(t
o当11N)を加え室温で反応させた。激しい反応が終
了した後、−18tEに冷却し1、;厭水T fIF
2 atを加えた。(38,4R)−3−C(IR)−
1−(t−ブチルジメチルシリルオキシエチ/v))−
4−フェニルスルホニルアゼチジン−2−オン98゜8
1″9 (0,27+nmol )を無水T tT F
’に溶解し、この溶γf(を滴下ロートから先のグ帰ア
ル試檗に滴下し2、滴下ロートを更にT HF’ 1に
tで洗い、この洗液も反応液に加えた。反応液を一18
℃で5分間1’i、’J’l”し7た後、0℃で30分
間1辺押した。飽和塩化アンモニウム水溶面を0℃で加
えることにより反応を停止した後、粗生成物を酉ト酸エ
チルにて抽出しだ(3(しt×3)。有1.′1.殺4
を1・11和食塩水で1’−’e、浄し無水(iijf
酸マグネシウムで乾IX清の後、淵縮することにより相
生酸物125.8m+i”Q得だ。カラムクロマトグラ
フィ−(シリカゲル309.石油エーテ/’ : f’
iF酸エチ/l/:l:3:1)にテ精製し相記化合物
64.7が1(収率90.5%)を;(1(色結晶とし
て得た。
和、p、 119.6〜120.5℃(エーテル−石
油エーテ/L/) I R(CHCl3)cnr 13430.332(1
,2930゜1760、 1140.838 N M R(CDCl2.TMS)δ; 5.94
(b r 、 l H) 。
油エーテ/L/) I R(CHCl3)cnr 13430.332(1
,2930゜1760、 1140.838 N M R(CDCl2.TMS)δ; 5.94
(b r 、 l H) 。
4.23(qd、IH,J=6.0,5.0Hz)、3
.89(dt。
.89(dt。
IH,J−7,0,2,0Hz)、2.93(dd、I
H,J=2.0.5.0Hz)、2.56(dd、2H
,J=5.0,2.(lHz)、2.06(t、IH,
J=2.QHz)、1.24(d、3H、J=7.0H
z)、0.90(e、9H)、0.09(s、6H)M
ass m/eH269,268,267(M+)、
211゜210、 166、75 (M++1) Cよ4[I26N02S1に対する言
1 算仔白 ; 268.1732尖測値妄
268.1753 元素分析1α C工4H25NO2SiとしてCHN 計算[(@; 62.87. 9.42. 5.24
実測値(@; (I2.99. 9.40. 5.1
4(/7) 、、= −4,2°(Q=4.53 、
CHCl、、 )参考例// (3S、4R)−1−(t、−ブチルジメチルシリル)
−3−((IR)−1−(t−プ1−ivジメチルシリ
/L/オ六シエグ)v ) 〕〕4−プロビニルア!チ
ジンー2−オン (3S、4R)−3−((:1.R)−t−(t−ブチ
ルジメチルシリル刊キシエチハ’))−4−10ビニル
アゼチジン−2−オン430所q(0,16mmo1.
)をD )、4 F’ 0.1++/にl:ONし、
アルゴン界囲気下室渦で攬、、l’t’した中に、トリ
エチルアミン72.6QC帆72m+l]o1. 、4
、5当IMI ) + t−ブチルジメチルシリルク
ロリド48.2り((L32mmol 、 2当は)を
加え、14.5時間反応さげ、更にトリエチルアミン7
2.6’)’Iとt−ブチルジメチルシリルクロリド4
8.5lll?pを加え1時間ドl拌した。反応液にエ
ーテル30ゴと水10αtを加え罷拌しだ後、エーテル
層を分In!!:Lだ。水に・Jは更にエーテルにて抽
出した。合わせたエーテ)vuを飽和食↓(ル水で洗浄
し、無水tiii:酸マグネシウムにて乾燥し減圧下濃
縮することにより粗生成物を得/こうカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル217゜石油エーテ/I/:酢り
′償エチル=15:1)にてオ゛1“1製し標記化合物
48.7F7!7(収率80.(1例)を得た。
H,J=2.0.5.0Hz)、2.56(dd、2H
,J=5.0,2.(lHz)、2.06(t、IH,
J=2.QHz)、1.24(d、3H、J=7.0H
z)、0.90(e、9H)、0.09(s、6H)M
ass m/eH269,268,267(M+)、
211゜210、 166、75 (M++1) Cよ4[I26N02S1に対する言
1 算仔白 ; 268.1732尖測値妄
268.1753 元素分析1α C工4H25NO2SiとしてCHN 計算[(@; 62.87. 9.42. 5.24
実測値(@; (I2.99. 9.40. 5.1
4(/7) 、、= −4,2°(Q=4.53 、
CHCl、、 )参考例// (3S、4R)−1−(t、−ブチルジメチルシリル)
−3−((IR)−1−(t−プ1−ivジメチルシリ
/L/オ六シエグ)v ) 〕〕4−プロビニルア!チ
ジンー2−オン (3S、4R)−3−((:1.R)−t−(t−ブチ
ルジメチルシリル刊キシエチハ’))−4−10ビニル
アゼチジン−2−オン430所q(0,16mmo1.
)をD )、4 F’ 0.1++/にl:ONし、
アルゴン界囲気下室渦で攬、、l’t’した中に、トリ
エチルアミン72.6QC帆72m+l]o1. 、4
、5当IMI ) + t−ブチルジメチルシリルク
ロリド48.2り((L32mmol 、 2当は)を
加え、14.5時間反応さげ、更にトリエチルアミン7
2.6’)’Iとt−ブチルジメチルシリルクロリド4
8.5lll?pを加え1時間ドl拌した。反応液にエ
ーテル30ゴと水10αtを加え罷拌しだ後、エーテル
層を分In!!:Lだ。水に・Jは更にエーテルにて抽
出した。合わせたエーテ)vuを飽和食↓(ル水で洗浄
し、無水tiii:酸マグネシウムにて乾燥し減圧下濃
縮することにより粗生成物を得/こうカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル217゜石油エーテ/I/:酢り
′償エチル=15:1)にてオ゛1“1製し標記化合物
48.7F7!7(収率80.(1例)を得た。
工 R(CHCl3 )(・+++ ” 332
0. 2950. 2925゜2850、 1738.
1255.839N M R(CDCl2.TMS)
δ+ 4.22(qd、IH,、’l’=6.5,4.
0Hz)、3.80(dcM 、 l[(、J=6.5
,4.+1.2.5Hz)、3.09(dd、In、、
T=4.5.2.5Hz)、2.58(m、2H)、2
.06(t、If−1,J=2..5Rr、)、1.2
5(cl、3H,J=6.5Hz)、0.98(s、9
1()、0.90(8,9H)、0.25(s、6H)
、旧)9(s。
0. 2950. 2925゜2850、 1738.
1255.839N M R(CDCl2.TMS)
δ+ 4.22(qd、IH,、’l’=6.5,4.
0Hz)、3.80(dcM 、 l[(、J=6.5
,4.+1.2.5Hz)、3.09(dd、In、、
T=4.5.2.5Hz)、2.58(m、2H)、2
.06(t、If−1,J=2..5Rr、)、1.2
5(cl、3H,J=6.5Hz)、0.98(s、9
1()、0.90(8,9H)、0.25(s、6H)
、旧)9(s。
3H)、0.07(F3.31()
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 〔式中、Rは低級アルキ/L/基、置換されていてもよ
いアリー/l/基または置換されていてもよいアラルキ
fiI皓を示す〕で表わされる光学活性な2−アゼチジ
ノン誘導体。 2一般式 〔式中、Xは低級アルカノイルオキシ茫′または置換さ
れていてもよいアリ−fi/ヌルホニル基を示す〕で表
わされる化合物と一般式 〔式中、Rは低級アルキル基、置換されていてもよいア
v−/L/基またはB換されていてもよいアラルキ)V
基を示す〕とをシンコニジンの存在下に反応させること
を特徴とする一般式 〔式中、Rは前記と同、α義〕で表わされる光学活性な
2−アゼチジノン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57154426A JPS5944355A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 2−アゼチジノン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57154426A JPS5944355A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 2−アゼチジノン誘導体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5944355A true JPS5944355A (ja) | 1984-03-12 |
| JPH0321026B2 JPH0321026B2 (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=15583909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57154426A Granted JPS5944355A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 2−アゼチジノン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5944355A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60215667A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | β−ラクタム誘導体の製造法 |
| JPS6270353A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-31 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | ラクタム化合物およびその製法 |
| EP0372699A1 (en) | 1988-10-19 | 1990-06-13 | Suntory Limited | Process for the preparation of 4-acyloxy-2-azetidinone derivatives |
| JPH072764A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-01-06 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | β−ラクタム化合物 |
| US5639878A (en) * | 1994-07-29 | 1997-06-17 | Daewoong Pharmaceutical Co., Ltd. | Acyloxylation process for preparing 4-acyloxy-2-azetidinone derivatives |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5446797A (en) * | 1977-09-16 | 1979-04-12 | Sankyo Co Ltd | Preparation of azaoxabicycloheptane |
| JPS57144254A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-06 | Sagami Chem Res Center | 2-substituted-2-oxoazetidine derivative and its preparation |
-
1982
- 1982-09-03 JP JP57154426A patent/JPS5944355A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5446797A (en) * | 1977-09-16 | 1979-04-12 | Sankyo Co Ltd | Preparation of azaoxabicycloheptane |
| JPS57144254A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-06 | Sagami Chem Res Center | 2-substituted-2-oxoazetidine derivative and its preparation |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60215667A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-29 | Sumitomo Chem Co Ltd | β−ラクタム誘導体の製造法 |
| JPS6270353A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-31 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | ラクタム化合物およびその製法 |
| EP0372699A1 (en) | 1988-10-19 | 1990-06-13 | Suntory Limited | Process for the preparation of 4-acyloxy-2-azetidinone derivatives |
| JPH072764A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-01-06 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | β−ラクタム化合物 |
| US5639878A (en) * | 1994-07-29 | 1997-06-17 | Daewoong Pharmaceutical Co., Ltd. | Acyloxylation process for preparing 4-acyloxy-2-azetidinone derivatives |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0321026B2 (ja) | 1991-03-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1338670C (en) | .beta.-lactam antibiotics | |
| EP0078026B1 (en) | Antibiotic synthesis | |
| US4290947A (en) | Process for the preparation of thienamycin and intermediates | |
| US4273709A (en) | Process for the preparation of thienamycin and intermediates | |
| CA1278295C (en) | Beta-lactams and their production | |
| CA1340115C (en) | Process for carbapenem intermediates | |
| EP0171064B1 (en) | Azetidinone derivative and processes for production thereof | |
| EP0026816B1 (en) | Intermediates for the preparation of thienamycin and process for preparing intermediates | |
| JPS5944355A (ja) | 2−アゼチジノン誘導体およびその製造法 | |
| US5310897A (en) | Beta-lactams and their production | |
| CA1246546A (en) | 2-alkylthiopenem derivatives | |
| US4782145A (en) | Process for penem derivatives | |
| JPS6341481A (ja) | ペネム類の合成方法 | |
| US4772683A (en) | High percentage beta-yield synthesis of carbapenem intermediates | |
| US4675396A (en) | 7-Oxo-4-thia-1-azabicyclo(3,2,0)heptane derivatives | |
| US4739048A (en) | Process for the preparation of thienamycin and intermediates | |
| IE49877B1 (en) | Penems | |
| GB2162840A (en) | Sterospecific process for preparing azetidinones | |
| NO179869B (no) | Fremgangsmåte til fremstilling av karbapenem-derivater, samt 4-substituerte azetidinoner som anvendes som mellomprodukter i fremgangsmåten | |
| US4610820A (en) | Process for the preparation of thienamycin and intermediates | |
| US4400323A (en) | 3-[1-Hydroxyethyl]-4-carboxymethyl-azetidin-2-one | |
| US5656753A (en) | 4-substituted azetidinones as precursors to 2-substituted-3-carboxy carbapenem antibiotics and a method of producing them | |
| US4895939A (en) | High percentage β-yield synthesis of carbapenem intermediates | |
| EP0026817B1 (en) | Preparation of azetidin-2-ones suitable for the synthesis of thienamycin and azetidin-2-ones useful in a synthesis of that kind | |
| US4698339A (en) | Carbapenems, their production and use |