JPH0321026B2 - - Google Patents

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JPH0321026B2
JPH0321026B2 JP57154426A JP15442682A JPH0321026B2 JP H0321026 B2 JPH0321026 B2 JP H0321026B2 JP 57154426 A JP57154426 A JP 57154426A JP 15442682 A JP15442682 A JP 15442682A JP H0321026 B2 JPH0321026 B2 JP H0321026B2
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JP
Japan
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reaction
compound
ether
chc1
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JP57154426A
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JPS5944355A (ja
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Shiro Ikegami
Masakatsu Shibazaki
Tokuji Nishida
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Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
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Publication of JPH0321026B2 publication Critical patent/JPH0321026B2/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、β−ラクタム環を有する抗生物質、
例えばチエナマイシン等のカルバベネム系抗生物
質や単環β−ラクタム系抗生物質等の新規な合成
中間体である一般式 〔式中、Rはアルキル基、置換されていてもよ
いアリール基または置換されていてもよいアラル
キル基を示す〕で表わされる光学活性な2−アゼ
チジノン誘導体及びその製造法に関する。 近年、単環β−ラクタム系(例えば1−スルホ
−2−アゼチジノン誘導体)またはカルバペネム
系抗生物質(例えば、チエナマイシン等)が、抗
菌作用,β−ラクタマーゼ阻害作用、耐性菌に対
する有効性等の面で優れた特性を有する点で注目
されている。 本発明者等は、単環β−ラクタム系抗生物質や
カルバペネム系抗生物質例えばチエナマイシンの
新規な製造方法について鋭意研究を続けたとこ
ろ、一般式 〔式中、Xは低級アルカノイルオキシ基または
置換されていてもよいアリールスルホニル基を示
す〕で表わされる化合物と一般式 RSH 〔〕 〔式中、Rは低級アルキル基、置換されていて
もよいアリール基または置換されていてもよいア
ラルキル基を示す〕で表わされる化合物とをシン
コニジンの存在下に反応させると、アゼチジノン
骨格のXで示される4位置換基が立体選択的に
RSで置換されて化合物〔〕が得られることを
見い出し、さらに得られた化合物〔〕がカルバ
ペネム系抗生物質、例えばチエナマイシンの工業
的製造の中間原料として極めて有用であることを
知見し、これらの知見に基づき種々検討した結果
本発明を完成した。 即ち本発明は (1) 化合物〔〕、 (2) 化合物〔〕と化合物〔〕とをシンコニジ
ンの存在下に反応させることを特徴とする化合
物〔〕の製造法に関する。 前記一般式において、Rによつて示される低級
アルキル基としては、例えば、メチル,エチル,
プロピル,イソプロピル,n−ブチル,イソブチ
ル,t−ブチル等の炭素数1から4の直鎖または
分枝状低級アルキル基が用いられる。 Rによつて示される置換されていてもよいアリ
ール基におけるアリール基としては、例えばフエ
ニル,α−ナフチル,β−ナフチル等が用いられ
る。 Rによつて示される置換されていてもよいアラ
ルキル基におけるアラルキル基としては、例えば
ベンジル,フエネチル,フエニルプロピル,ナフ
チルエチル等のアリール置換の炭素数1から4の
直鎖または分枝状の低級アルキル基が用いれら
る。 Rによつて示される置換されていてもよいアリ
ール基または置換されていてもよいアラルキル基
における置換基としては、たとえばアルキル,ア
ルコキシ,アルケニル,アリール,アラルキル,
アルキルチオ,アリールチオ,アラルキルチオ,
アルキルスルホニル,アリールスルホニル,アラ
ルキルスルホニル,トリハロゲノアルキル,ヒド
ロキシ,ハロゲン,ニトロ,アミノ,シアノ,カ
ルバモイル,カルボキシ,アシル,アシルオキ
シ,アシルアミノ,ヒドロキシアルキル,カルボ
キシアルキル,ハロゲノアルキル,モノまたはジ
アルキルアミノアルキルなどが用いられる(ここ
においてアルキルとしては、直鎖状または分枝状
の炭素数1〜6の低級アルキルがよく、たとえば
メチル,エチル,n−プロピル,イソプロピル,
n−ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−
ブチル,n−ペンチル,イソペンチル,n−ヘキ
シル,イソヘキシルなどが用いられ、アルコキシ
としては、直鎖状または分枝状の炭素数1〜6の
低級アルコキシが好ましく、たとえばメトキシ,
エトキシ,n−プロポキシ,イソプロポキシ,n
−ブトキシ,イソブトキシ,sec−ブトキシ,
tert−ブトキシ,n−ペンチルオキシ,イソペン
チルオキシ,n−ヘキシルオキシ,イソヘキシル
オキシなどが用いられ、ハロゲンとしては、臭
素,塩素,フツ素などが用いられ、アルケニルと
しては、直鎖状または分枝状の炭素数2ないし6
の低級アルケニルがよく、たとえばビニル,アリ
ル,イソプロペニル,2−メタリル,2−ブテニ
ル,3−ブテニルなどが用いられ、アシルとして
はたとえばアセチル、プロピオニル、n−ブチリ
ル、イソブチリル,n−ペンタノイル,n−ヘキ
サノイル,ベンゾイル,4−ヒドロキシベンゾイ
ル,4−メトキシベンゾイル,フエニルアセチ
ル,4−ヒドロキシフエニルアセチル,4−メト
キシフエニルアセチル,2−チエニルカルボニ
ル,2−フリルカルボニル,2−,4−または5
−チアゾリルアセチル,2−または3−チエニル
アセチル,2−または3−フリルアセチル,2−
アミノー4または5−チアゾリルアセチルなどが
用いられ、アリール及びアラルキルは前記のごと
きものが用いられる)。 Xは、例えば、アセトキシ,プロピオニルオキ
シ,ブチリルオキシ等の炭素数2から4の低級ア
ルカノイルオキシ基または置換されていてもよい
アリールスルホニル基(例えばベンゼンスルホニ
ル,ナフチルスルホニル等)を示し、該アリール
スルホニルの置換基としては、Rで示される置換
されていてもよいアリール基の置換基と同様のも
のが用いられる。 化合物〔〕は、アゼチジノン骨格の1位の窒
素原子が一般式 〔式中、X1,X2は低級アルキル,フエニル,
ベンジルまたは低級アルコキシ基を、X3はt−
ブチルまたはイソプロピル基を示す〕で表わされ
るシリル基で保護されていてもよい。上記一般式
〔A〕中、X1,X2で示される低級アルキル基とし
ては、たとえばメタル,クロロメチル,エチル,
クロロエチル,n−プロピル,イソプロピル,n
−ブチル,tert−ブチル等ハロゲンで置換されて
いてもよい炭素数1から4の低級アルキル基が、
低級アルコキシ基としてはたとえばメトキシ,エ
トキシ,n−プロポキシ,イソプロポキシ,n−
ブトキシ,t−ブトキシ等の炭素数1から4の低
級アルコキシ基等が用いられる。 化合物〔〕において、β−ラクタム環上4位
置換基の立体配置はR−配置を有し、カルバペネ
ム系例えばチエナマイシン及び単環β−ラクタム
系抗生物質の原料として有用である。 化合物〔〕は、化合物〔〕と〔〕とをシ
ンコニジンの存在下に反応させることにより製造
することができる。本反応は通常、化合物〔〕
1モルに対してシンコニジンは0.5ないし3モル
程度、好ましくは1ないし2モルを用いる。また
通常チオール化合物〔〕は、化合物〔〕1モ
ルに対して1ないし8モル程度、好ましくは2な
いし6モル程度を用いる。反応は通常溶媒を用い
て行われる。こゝに溶媒としては、たとえばジエ
チルエーテル,ジイソプロピルエーテル,エチレ
ングリコールジメチルエーテル,テトラヒドロフ
ラン,ジオキサンなどのエーテル類、たとえば酢
酸エチル,酢酸ブチルなどのエステル類、たとえ
ばアセトン,メチルエチルケトンなどのケトン
類、たとえばベンゼン,トルエン,キシレンなど
の芳香族炭化水素類、たとえばペンタン,ヘキサ
ン,ヘプタン,シクロペンタン,シクロヘキサン
などの炭化水素類、アセトニトリルなどのニトリ
ル類、例えばメタノール,エタノール,イソプロ
パノール,t−ブチルアルコール等のアルコール
類、例えばジクロルメタン,クロロホルム,四塩
化炭素等のハロゲン化炭化水素類、二硫化炭素、
チオフエン,ピリジン等が用いられる。また本反
応の反応温度は、約−30ないし150℃、好ましく
は約−10〜100℃で行われる。反応時間は反応に
用いる溶媒、反応温度などにより異なるが、一般
に数時間ないし数週間で反応は終了する。本反応
の光学的収率は、40ないし80%程度である。得ら
れる化合物〔〕は、それ自体公知の分離精製手
段、たとえば溶媒抽出、結晶化、再結晶、吸着、
または分配クロマトグラフイーにより単離精製す
ることができる。 本反応の原料化合物〔〕は通常ラセミ体、d
体またはl体のいずれも用いることができる。 上記光学的収率についてさらに説明すると、例
えば、化合物〔〕のラセミ体を使つた場合、目
的物として一般式〔〕の光学活性体はその対掌
体100に対し140〜180程度立体選択的に生成する。
このようにして得られる光学活性体〔〕を含む
反応液をそのまゝ次反応に供しても良いし、〔〕
をその対掌体から自体公知の手段によつて分離し
た後次の反応に供してもよい。例えば再結晶等の
公知の手段によりさらに光学的純度を高めた後、
次反応に供することもできる。 化合物〔〕のシリル誘導体は化合物〔〕と
一般式 〔式中、X1,X2,X3は上記と同意義、Yは脱
離する反応性の基を示す〕で表わされるシリル化
合物とを反応させることにより目的とするシリル
誘導体が製造できる。 上記一般式〔B〕において、Yで示される脱離
する反応性の基としては、たとえばN−(トリメ
チルシリル)トリフルオロアセトイミドイルオキ
シ基、N−(トリメチルシリル)アセトイミドイ
ルオキシ基、ハロゲノ、たとえばホルミルアミ
ノ,アセチルアミノ,プロピオニルアミノ,ブチ
リルアミノ,トリフルオロアセチルアミノ等のア
シルアミノ基、たとえば(トリメチルシリル)ア
ミノ,(クロロメチルジメチルシリル)アミノ等
の(トリ低級アルキル(炭素数1から4)シリ
ル)アミノ基、アミノ基、たとえばメチルアミ
ノ,エチルアミノ,プロピルアミノ等の低級アル
キル(炭素数1から4)アミノ基、たとえばN,
N−ジメチルアミノ,N−クロロメチル−N−メ
チルアミノ,N,N−ジエチルアミノ,N,N−
ジプロピルアミノ,N−メチル−N−エチルアミ
ノ,N−メチル−N−プロピルアミノ,N−エチ
ル−N−プロピルアミノ等のN,N−ジ低級アル
キル(炭素数1〜4)アミノ基、イミダゾイル等
の複素環式基が用いられる。 化合物〔B〕は原料化合物〔〕または〔〕
に対し1〜3倍モル程度用いられる。反応は一般
に不活性溶媒中で行なわれる。適当な不活性溶媒
としては例えばテトラヒドロフラン,ジクロロメ
タン,クロロホルム,ジクロロエタン,アセトニ
トリル,酢酸エチル等が用いられる。またこの反
応は無水条件下で行うことが好ましく、要すれば
トリエチルアミン,ジメチルアニリン,ピリジ
ン,キノリン,ルチジン,N−エチルピペラジン
等の有機3級アミン等の脱酸剤の存在下に行なう
ことができる。 このシリル化反応の反応温度としは約0〜100
℃の温度、好ましくは約50℃までの温度、通常室
温で行われ、反応時間は数分ないし24時間程度で
ある。 かくして得られる光学活性な化合物〔〕また
はそのシリル誘導体から、例えば代表的なカルバ
ペネム系抗生物質であるチエナマイシンの合成中
間体として新規で有用な化合物〔〕またはその
シリル誘導体を製造することができる。 即ち、光学活性な化合物〔〕またはそのシリ
ル誘導体から化合物〔〕またはそのシリル誘導
体の製造は、化合物〔〕またはそのシリル誘導
体を塩基の存在下にアセトアルデヒドと反応さ
せた後得られた化合物〔〕を酸化して化合物
〔〕として、これを還元反応に付すか、あるい
は化合物〔〕またはそのシリル誘導体から、
たとえば後述の方法により、そのβ−ラクタム環
3位をアセチル化して得られる、化合物〔〕ま
たはそのシリル誘導体を還元反応に付することに
より行なわれる。 〔〕→〔〕の反応においてアセトアルデヒ
ドは、化合物〔〕またはそのシリル誘導体1モ
ルにつき1ないし8モル程度、好ましくは3〜6
モル程度を用いる。反応温度は使用する塩基や溶
媒によつても異なるが、約−100から30℃、多く
は約−80〜0℃が好ましい。 本反応に用いられる塩基としては、たとえばメ
チルリチウム,ブチルリチウム,sec−ブチルリ
チウムなどのアルキルリチウム類、フエニルリチ
ウム,ナフチルリチウムなどのアリルリチウム
類、たとえばリチウムジイソプロピルアミド,リ
チウムヘキサメチルジシラザンなどのアミンリチ
ウム塩類が用いられる。これらのうち、リチウム
ジイソプロピルアミド、フエニルリチウムなどが
好ましい。塩基の使用量は、化合物〔〕または
そのシリル誘導体1モルに対し、塩基は通常1な
いし4当量程度、好ましくは2.5ないし3当量程
度が用いられる。本反応は一般に溶媒中で行なわ
れる。ここに溶媒としては、例えばジエチルエー
テル,ジイソプロピルエーテル,エチレングリコ
ールジメチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジ
オキサンなどのエーテル類等、反応に不活性な溶
媒が適している。 次に〔〕→〔〕への酸化反応は、酸化剤と
して、通常、クロム酸系酸化剤が有利に用いられ
る。ここにクロム酸系酸化剤としては、無水クロ
ム酸,重クロム酸カリウム,重クロム酸ナトリウ
ム,クロム酸第三ブチルなどが用いられる。該酸
化剤の使用量は、化合物〔〕またはそのシリル
誘導体1モルに対し、やゝ過剰の酸化剤を用い
る。本反応は通常溶媒を用いて行なわれる。ここ
に溶媒としては、水,酢酸,アセトン,tert−ブ
タノール,ジクロロメタン,クロロホルム,四塩
化炭素,ベンゼン,ピリジン,ジメチルホルムア
ミドなどが用いられる。これら溶媒は、必要によ
り混合して使用することもできる。また本反応を
硫酸、酢酸などの酸の共存下に行つてもよい。本
反応の反応温度は、約−30〜50℃、多くは約−10
〜30℃が適している。反応時間は酸化剤の種類や
反応温度によつても異なるが、一般に30分ないし
24時間程度で反応が終了する。 又〔〕→〔〕の反応は、化合物〔〕また
はそのシリル誘導体とN−アセチル含窒素異項環
化合物とを塩基の存在下に作用させることにより
行なわれる。本反応で用いられるN−アセチル含
窒素異項環化合物としては、例えばN−アセチル
ピラゾール,N−アセチルイミダゾール,N−ア
セチルベンゾトリアゾール,4−低級アルキル
(炭素数1から4)置換−N−アセチルイミダゾ
ールなどの低級アルキル基で置換されていてもよ
く、ベンゼン環と縮合してもよいN−アセチル含
窒素5〜6員異項環化合物が用いられる。 本反応で使用するN−アセチル異項環化合物の
量は、おずれも化合物〔〕またはそのシリル誘
導体1モルに対して1ないし4モル程度、好まし
くは2ないし3モル程度が用いられる。本反応は
塩基の存在下に行なわれる。用いられる塩基とし
ては、例えば上記〔〕から〔〕の反応で用い
られる塩基類等が用いられる。塩基は通常1ない
し4当量程度、好ましくは2ないし3当量程度が
用いられる。 本反応は、通常、溶媒中で行なわれる。溶媒と
しては、例えば、ジエチルエーテル,ジイソプロ
ピルエーテル,エチレングリコールジメチルエー
テル,テトラヒドロフラン,ジオキサンなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミドなどが用いら
れ、これら溶媒のうちテトラヒドロフラン,ジオ
キサンなどが適している。 このような方法により製造された化合物〔〕
またはそのシリル誘導体は、つぎにこれを還元反
応に付することにより化合物〔〕またはそのシ
リル誘導体にすることができる。 本反応に用いられる還元剤としては、例えば水
素化ホウ素リチウム,水素化ホウ素ナトリウム,
水素化トリイソブチルホウ素リチウム,水素化ト
リ−sec−ブチルホウ素リチウム,水素化トリ−
sec−ブチルホウ素カリウム,水素化トリ−sec−
ブチルホウ素ナトリウム,水素化トリシアミルホ
ウ素リチウム,水素化トリシアミルホウ素カリウ
ムなどの水素化ホウ素金属錯体、例えばトリメチ
ルアミン−ボラン,ジイソプロピルアミン−ボラ
ンなどのトリ低級アルキル(炭素数1から4)ア
ミンボラン(置換水素化ホウ素類)などが用いら
れる。これらのうち、水素化ホウ素ナトリウム,
水素化トリ−sec−ブチルホカ素ナトリウム,ジ
イソプロピルアミン−ボランなどが好適である。
反応は、化合物〔〕1モルに対して還元剤1な
いし5モル程度を用いる。反応は通常溶媒中で行
なわれる。溶媒としては、たとえばジエチルエー
テル,ジイソプロピルエーテル,エチレングリコ
ールジメチルエーテル,エチレングリコールジエ
チルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサン
などのエーテル類、メタノール,エタノール,イ
ソプロパノール,ブタノール,tert−ブタノール
などのアルコール類、ピリジン、水などが用いら
れ、これら溶媒は通常単独で用いられるが、適宣
に混合したり、さらには塩化メチレン、四塩化炭
素などのハロゲン化炭化水素類を適宣に混合して
用いてもよい。反応温度は−40ないし100℃程度、
通常−10〜40℃程度が適している。反応時間は、
反応に用いる環元剤、溶媒、反応温度により異な
るが、一般に30分ないし3日間程度、好ましくは
1〜数時間程度である。 なお化合物〔〕またはそのシリル誘導体の3
位ヒドロキシエチル基のヒドロキシル基結合部
(1位)の異性体((1R)−1−ヒドロキシエチル
体および(1S)−1−ヒドロキシエチル体)は、
たとえばクロマトグラフイ−などにより、互いに
分離することができるが、さらにこれら2種の異
性体のうち、(1S)−1−ヒドロキシエチル体は、
たとえばこれをギ酸中トリフエニルホスフインと
ジルチルアゾカルボキシレートと処理して立体配
置を反転させて、(1R)−1−ヒドロキシエチル
体の0−ホルミル誘導体を得る、いわゆる光延反
応に付し、ついでこの0−ホルミル体を脱ホルミ
ル化反応に付すことよつて(1R)−1−ヒドロキ
シエチル体の変換することもできる(テトラヘド
ロン レターズ、18号、1619〜1622頁(1973年)
参照)。 本光延反応において使用するトリフエニルホス
フインの量は原料1モルに対し、2〜3倍モル程
度、用いるジエチルアゾカルボキシレート及びギ
酸の量は原料1モルに対し2〜10倍モル程度が好
適である。さらにギ酸は大過剰加えて溶媒として
用いることもできる。一般に反応は溶媒中で行な
われ、例えばテトラヒドロフラン,ジオキサン等
のエーテル類が用いられる。反応温度は通常0〜
80℃程度の範囲、好ましくは20〜30℃程度の範囲
である。反応時間は1〜24時間程度である。この
ようにして得られた0−ホルミル誘導体の脱ホル
ミル化反応は、それ自体公知の方法、例えばメタ
ノール−塩酸等と作用させることにより行なわれ
る。反応温度は−20〜60℃程度、好ましくは−5
〜30℃程度、反応時間は30分〜24時間程度で十分
である。 化合物〔〕は、3位置換基の(1R)−1−ヒ
ドロキシエチル基のヒドロキシルをシリル基で保
護しついで酸化反応に付すことにより公知のチエ
ナマイシンの中間原料化合物〔〕に導くことが
できる。 〔式中、X1,X2,X3,Rは前記と同意義〕。 化合物〔〕のシリル化反応は化合物〔〕の
シリル化反応と同様に行なうことができる。得ら
れる化合物〔〕のシリル誘導体は酸化反応に付
すことにより化合物〔〕に導くことができる 用いられる酸化剤としては、例えば過マンガン
酸カリウム,過マンガン酸バリウムなどの過マン
ガン酸塩類、過安息香酸,過酢酸,モノ過フタル
酸,m−クロル過安息香酸などの有機過酸類、過
酸化水素、四塩化ルテニウムなどの酸化剤が挙げ
られる。本反応は通常溶媒を用いて行なわれる
が、ここに溶媒としては、水,酢酸,アセトン,
tert−ブタノール,ジオキサン,テトラヒドロフ
ラン,アセトニトリル,ピリジン,四塩化炭素,
ジクロロメタン、クロロホルムなどが、単独もし
くは混合して用いられる。なお過マンガン酸塩を
酸化剤として使用する場合、硫酸、酢酸などの無
機酸または有機酸を用いるのが有利である。反応
温度は約−30〜50℃、好ましくは約−10〜30℃で
ある。反応時間は酸化剤の種類や反応温度によつ
ても異なるが一般に30分ないし24時間程度であ
る。 このようにして得られた化合物〔〕は下記に
示す工程により化合物〔〕を経てチエナマイシ
ンを製造することができる。なお化合物〔〕か
らチエナマイシンを製造する方法は例えばテトロ
ヘドロン、レターズ(Tetrahedron Letters)
23,2875(1982)等に記載されている。 化合物〔〕から化合物〔〕を製造するには
プロパルギルブロミドとマグネシウムからなるグ
リニヤール試薬が用いられる。グリニヤール試薬
の使用量は〔〕に対し約1〜1.5倍モル比であ
る。反応はエーテル、テトラヒドロフラン等の溶
媒中で行なわれる。反応温度は0〜40℃程度であ
る。反応時間は約1〜5時間で十分である。 化合物〔〕から化合物〔〕を得るには、前
記〔〕のシリル化反応が用いられる。 このようにして得られる化合物〔〕〜〔〕
等は自体公知の精製手段、例えば抽出、結晶化、
再結晶、吸着または分配クロマトグラフイー等に
より単離精製することができる。 以下に実施例、参考例を示し、本発明の内容を
詳述する。 なお実施例、参考例で用いる下記の記号は次の
ような意義を有する。 s ; シングレツト d ; ダブレツト dd ; ダブルダブレツト ddd; トリプルダブレツト t ; トリプレツト m ; マルチプレツト q ; カルテツト qd ; ダブルカルテツト quint; クウインテツト br ; 幅広い 実施例 1 (4R)−4−フエニルチオアゼチジン−2−オ
ン 4−フエニルスルホニルアゼチジン−2−オン
210mg(0.99mmo1)をベンゼン20mlに懸濁し、
シンコニジン(和光純薬工業株式会社,〔α〕25 D
−110.2゜(c=1.04,C2H5OH),585.4mg,
1.99mmo1,2当量),チオフエノール
(547.2mg,4.97mmo1,5当量)を加え、アルゴ
ン雰囲気下186.5時間攬拌した。反応液をベンゼ
ン約200mlで希釈し、不溶物を去し、液を減
圧下留去することにより得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイ−(シリカゲル60g,
石油エーテル:酢酸エチル=2:1〜1:1にて
溶出)にて精製した。得られた4−フエニルチオ
アゼチジン−2−オン159.4mg(収率89.6%)は
〔α〕25 D=+54.1゜(c=1.01,CHC13)を示した。
(光学的収率52%)上記反応により得られた4−
フエニルチオアゼチジン−2−オン(以下1〜と略
記する)は再結晶により光学的に純粋とすること
ができた。 〔α〕25 D=+55.0゜(c=0.95,CHC13)を示す1〜
132.7mgをベンゼンに加熱溶解し、シクロヘキ
サンをわずかに濁りが生じるまで加え、室温で放
置し、更に6℃にて放置した。得られた結晶(無
色鱗片状84.9mg,mp59.5゜〜74℃)*は〔α〕25 D=+
17.3゜(c=1.27,CHC13)を示し、母液を濃縮し、
更にシリカゲルカラムクロマトグラフイ−(シリ
カゲル20g,石油エーテル:酢酸エチル=1:
1)にて精製することにより得られた1〜
37.5mg(mp58〜60℃)は〔α〕25 D=+102。7゜(c
=0.75,CHC13)を示した。 他の溶媒(酢酸エチル、メタノール、エーテル
−石油エーテル)においても〔α〕25 D=+40〜60
℃を示す1〜の再結晶では母液中の1〜の方が結晶と
して折出する1〜より光学的に高純度であつた。し
かし、〔α〕25 D=+80〜90゜を示す1〜の再結晶(エ
ーテル:石油エーテル)では結晶の方が高純度で
あつた。 〔α〕25 D=+59.8゜(c=0.92,CHC13)を示す1
7.58gを酢酸エチルで再結晶し、結晶974mg、
〔α〕25 D=+1.0゜(c=1.03,CHC13)を得、母液を
シリカゲルカラムクロマトグラフイーにて精製し
結晶6.21g〔〔α〕25 D=+61.7゜,(c=0.83,CHC13
)〕
を得た。母液より得られた1〜を再度、酢酸エチル
にて再結晶し、結晶1.34g〔〔α〕25 D=+7.7゜(c=
0.91,CHC13)〕及び母液より1〜 4.68gを得た。
母液より得られた1〜をエーテル−石油エーテルよ
り再結晶すると、結晶1〜 2.89g〔〔α〕25 D=+95.9

(c=1.30,CHC13)〕及び母液をクロマト精製の
後1〜 1.33g〔〔α〕25 D=+88.3゜(c=1.54,CHC1
3)〕
を得た。結晶として得られた1〜を更にエーテル−
石油エーテルより再結晶すると〔α〕25 D=+105.1゜
(c=0.65,CHC13)を示す1〜 854.7mgが結晶
として析出した。(*DL体,mp72℃,アナーレ
ン・デア・ヘミー(Ann)1974,539)m.p 58〜
60℃ 赤外吸収スペクトル (IR)(CHC13)cm-1 3430,1775 核磁気共鳴スペクトル (NMR)(CDC13,内部標準,テトラメチル
シラン(TMS))δ;7.80〜7.26(m,5H),6.64
(br,1H),5.02(ddd,1H,J=4.8,2.4,
1.0Hz),3.15を中心とするABXX′(2H,J=
15.4,4.8,2.4,1.4Hz) 質量分析 (Mass)m/e;181,180,179(M+),110,
70(base) M+C19H9NOSに対する 計算値 179.0405 実測値 179.0383 〔α〕25 D=+105.1゜(c=0.65,CH13) 実施例 2 (4R)−4−フエニルチオアゼチジン−2−オ
ン 4−アセトキシアゼチジン−2−オン1.62gを
ベンゼン100mlに溶解し、これにシンコニジン
7.39gとチオフエノール6.5mlを加え、アルゴン雰
囲気下室温で210時間攬拌した。反応液を減圧
過し、液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイー(シリカゲル,
130g:溶出液:酢酸エチル−石油エーテル
(1:4))により精製すると標記化合物1.77g(収
率79%)が得られた。 〔α〕25 D=42.2゜(c=1.04,CHC13) 以下同様にして得られた化合物〔〕の製造条
件及び光学的収率等を下記に示す。 【表】 参考例 1 (4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−4
−フエニルチオアゼチジン−2−オン (4R)−4−フエニルチオアゼチジン−2−オ
ン518.9mg(2.90mmo1)をジメチルホルムアミド
(DMF),1mlに溶解し、イミダゾール394.7mg
(5.80mmo1,2当量),t−ブチルジメチルシリ
ルクロリド873.9mg(5.80mmo1,2当量)を加え
アルゴン雰囲気下、室温で2時間攬拌し、更にイ
ミダゾール(2.2当量),t−ブチルジメチルシリ
ルクロリド(2.2当量)を加え、一夜同条件で攬
拌した。反応液にエテール約100mlと水10mlを加
え攬拌した後、エーテル層を分離した。エーテル
層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後エーテルを減圧下留去した。得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
イー(シリカゲル25g,酢酸エチル:石油エーテ
ル=1:7)により精製し、標記化合物792.9mg
(収率93.3%)を無色油状物として得た。 IR(CHC13)cm-12955,2930,1735,1300,
1256,1168,842,822 NMR(CDC13,TMS)δ;7.38(brs,5H)、4.93
(dd,1H,J=5.0,3.0Hz), 3.26を中心とするABX(2H,J=16.0,5.0,
3.0Hz),1.01(s,9H),0.28(s,3H)0.08(s,
3H) Mass m/e;295,294,293(M+),184,142 M+C15H23 NOSiSに対する 計算値;293.1269 実測値;293.1256 〔α〕25 D=−164.3゜(c=1.54,CHC13) 参考例 2 (4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3
−(1−ヒドロキシエチル)−4−フエニルチオア
ゼチジン−2−オン及び(3R,4R)−1−(t−
ブチルジメチルシリル)−3−〔(1R)−1−ヒド
ロキシエチル〕−4−フエニルチオアゼチジン−
2−オン 蒸留したばかりのテトラヒドロフラン(THF)
5ml中、アルゴン雰囲気下−78℃でn−ブチルリ
チウム−ヘキサン溶液(1.53M溶液,1.7ml,3
当量)とジイソプロピルアミン(267.1mg,3当
量)より調整したリチウムジイソプロピルアミド
(LDA)に(4R)−1−(t−ブチルジメチルシ
リル)−4−フエニルチオアゼチジン−2−オン
(254mg,0.87mmo1)のTHF(5ml)溶液を−78
℃で加え、更に容器を2mlのTHFで洗い、反応
液に加えた。同条件で30分間攬拌した後、蒸留し
たばかりのアセトアルデヒド(197mg,5.2当量)
を加え10分間攬拌した後、飽和塩化アンモニウム
水溶液を−78℃で加え、反応を停止させた。反応
液を室温まで加温した後、酢酸エチルで抽出し
(30ml×3)、有機層を飽和食塩水で洗浄、続いて
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する
ことにより標記化合物(混合物)粗生成物
319.6mgを得た。このものからシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(シリカゲル36g,酢酸エチ
ル:石油エーテル=1:3)にて(3S,4R)−1
−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(1R)−1
−ヒドロキシエチル〕−4−フエニルチオアゼチ
ジン−2−オン51.2mg(収率17.5%)を無色結晶
(以下にその物性値を示す)として得、標記化合
物(混合物)198.2mg(収率67.8%)を無色油状物
として得た。 m.p. 93〜93.5℃(エーテル−石油エーテルよ
り再結晶) IR(CHC13)cm-1 3430,1738,1300,1258,
842,822 NMR(CDC13,TMS)δ;7.66〜7.20(m,
5H),5.00(d,1H,J=2.0Hz),4.14(m,
1H)3.19(dd,1H,J=4.0,2.0Hz),2.42
(br,1H),1.10(d,3H,J=7.0Hz),1.00
(S,9H),0.30(S,6H) Mass、m/e 339,338,337(M+),228,
210,142 M+C17H27NO2SiSについての 計算値; 337.1531 実測値; 337.1548 元素分析値 C17H27NO2SiSとしては
C H N 計算値(%) 60.51 8.07 4.15 実測値(%) 10.45 7.98 4.16 〔α〕25 D=−18.7゜(c=1.24,CHC13) 参考例 3 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−アセチル−4−フエニルチオアゼチジン−
2−オン (4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3
−(1−ヒドロキシエチル)−4−フエニルチオア
ゼチジン−2−オン50.6mg(0.15mmo1)を塩化
メチレン2mlに溶解し、アルゴン雰囲気下室温で
攬拌する中にセライト(No.545,100mg),及びコ
リンズ試薬(233mg,6当量)を加え、30分間激
しく攬拌した後、更にコリンズ試薬(336.3mg,
8.7当量)を加え、1時間攬拌した。塩化メチレ
ン20mlとフローリジル約10gを加え30分間攬拌し
た後、フローリジルの短いカラムを通して反応液
を過し、カラムを更に塩化メチレン(約200ml)
で洗浄した。塩化メチレンを減圧下留去すること
により得た粗生成物46.5mgをシリカゲルカラム
クロマトグラフイー(シリカル4g,石油エーテ
ル:酢酸エチル=4:1)にて精製し標記化合物
43.4mg(収率86.3%)を得た。 IR(CHC13cm-1 2955,2930,1745,1708,
1635,1617,1285,1160,840,821,807 NMR(CDC13,TMS)δ;7.60〜7.16(m,
5H),5.35(d,1H,J=2.2Hz),4.25(d,
1H,J=2.2Hz),2.24(s,3H),0.98(a,
9H),0.30(s,6H) Mass m/e;337,336,335(M+),320,
278,226,142,115,73(base) M+C17H25NO2SSiに対する 計算値;335.1375 実測値;335.1372 〔α〕25 D=−65.1゜(c=2.55,CHC13) 参考例 4 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(1R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フ
エニルチオアゼチジン−2−オン及び(3S,4R)
−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−〔(1S)
−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエニルチオア
ゼチジン−2−オン (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−アセチル−4−フエニルチオアゼチジン−
2−オン628.2mg(1.89mmo1)をメタノール10ml
に溶解し、アルゴン雰囲気下−78℃で攬拌する中
に、水素化ホウ素ナトリウム(71.1mg,
1.88mmo1)を加え−78℃で20分、更に冷却浴を
はずして5分間攬拌した。再度−78℃冷却し、酢
酸及び飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を
停止させた。反応液を室温まで加温した後、減圧
下メタノールを留去し、酢酸エチルにて抽出し
た。酢酸エチル層を飽和食塩水にて洗浄後、無水
硫酸マグネシウムにて乾燥し、減圧下濃縮するこ
とにより標記化合物の粗生成物(混合物)を油状
物として得た。このものをカラムクロマトグラフ
イー(シリカゲル63g,石油エーテル:エーテル
5:1にて精製し、極性の低いフラクシヨンとし
て(3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(1S)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フ
エニルチオアゼチシン−2−オンを280.9mg(収
率44.4%)、極性の高いフラクシヨンとして(3S,
4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−3−
〔(1R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエニル
チオアゼチジン−2−オンを34.9mg(収率5.5%),
及び両者の混合物を222.5mg(収率35.2%)を得
た。混合物は再びシリカゲルカラムクロマトグラ
フイーにより分離し、前者64.3mg,後者
110.3mg,及びこれらの混合物20.2mgを得た。 IR(CHC13)cm-1 3375,1735 NMR(CDC13,TMS)δ;7.62〜7.12(m,
5H),4.80(d,1H,J=2.2Hz),4.00(m,
1H),3.20(dd,1H,J=5.6,2.2Hz),2.35
(br,1H),1.20(d,3H,J=6.2Hz),0.97
(s,9H),0.29(s,6H) Mass m/e 339,338,337(M+),313,
228,210 M++1 7H28NO2SiSに対する 計算値; 338.1610 実測値; 338.1590 〔α〕25 D=−75.4゜(c=1.29,CHC13) 参考例 5 (3S,4R)−3−〔(1R)−1−ヒドロキシエチ
ル−4−フエニルチオアゼチジン−2−オン (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)
−3−〔(1R)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フ
エニルチオアゼチジン−2−オン111.4mg
(0.33mmo1)をメタノール(MeOH)(5ml)に
溶解し、10%HC1(W/W)0.5mlを加え、室温で
4時間攬拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
を加え、反応を停止させた後、減圧下メタノール
を留去し、得られた残渣を酢酸エチルにて抽出し
た。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、続いて減圧下濃縮するこ
とにより標記化合物65.2mg(収率58.5%)を得た。
このものは精製することなしに次の反応に用い
た。 IR(CHC13)cm-13420,3400,1760 NMR(CDC13,TMS)δ;7.62〜7.20(m,
5H),6.23(br,1H),5.09(d,1H,J=
2.0Hz),4.26(qd,1H,J=6.4,4.0Hz),3,
13(dd,1H,J=4.0,2.0Hz),1.19(d,3H,
J=6.4Hz) Mass m/e:223(M+),142 M+ 11H13NO2Sに対する 計算値;223.0667 実測値;223.0661 元素分析値 C11H13NO2Sとして C H N 計算値(%); 59.18, 5.87, 6.28 実測値(%); 59.03, 5.89, 6.29 〔α〕25 D=+64.4゜(c=0.65,CHC13) 参考例 6 (3S,4R)−3−〔(1R)−1−ホルミルオキシ
エチル〕−4−フエニルチオアゼチジン−2−オ
ン (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−〔(1S)−1−ヒドロキシエチル〕−4−フエ
ニルチオアゼチジン−2−オン417.7mg
(1.24mmo1),トリフエニルホスフイン1.63g
(6.21mmo1,5当量)を無水テトラヒドロフラ
ン(THF)10mlに溶解し、アルゴン雰囲気下、
室温で攬拌する中にギ酸(蒸留により精製したも
の,bp=40〜43℃/55mmHg,373.6mg,
8.12mmo1,6.5当量)を加え、更にジエチルアゾ
ジカルボキシレート1.08g(6.21mmo1,5当量)
を20分間で滴下した。反応は発熱的に進行し、滴
下終了後4.5時間攬拌し、減圧下濃縮した。残渣
をカラムクロマトグラフイー(シリカゲル100g,
石油エーテル:エーテル=4:1)にて精製し標
記化合物、黄色油状物として323.0mgを得た。こ
のものはNMRスペクトルよりジエチルアゾジカ
ルボキシレート由来と思われる不純物を少量含ん
でいたが、更に精製せずに次の反応に用いた。 IR(CHC13)cm-1 3452,1770,1725,1600,
1180 NMR(CDC13,TMS)δ;7.98(s,1H)7.64
〜7.28(m,5H),6.60(br,1H),5.40(quint,
1H,J=6.2Hz),5.00(d,1H,J=2.4Hz),
3.24(dd,1H,J=6.2,2.4Hz),1.39(d,
3H,J=6.2Hz) Mass m/e;253,252,251(M+),205,142 M+ C12H13NO3Sに対する 計算値;251.0616 実測値;251.0596 参考例 7 (3S,4R)−3−〔(1R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−フエニルチオアゼチジン−2−オン 先に得られた(3S,4R)−3−〔(1R)−1−ホ
ルミルオキシエチル〕−4−フエニルチオアゼチ
ジン−2−オン323.0mgをメタノール30mlに溶解
し、10%HC1(W/W)1mlを加え室温にて4.5時
間攬拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて
反応を停止した後、減圧下メタノールを留去し、
残渣を酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食
塩水にて洗浄、続いて無水硫酸マグネシウムにて
乾燥後、減圧下濃縮することにより標記化合物
247.7mgを得た。このもののIR,NMR,Mass,
〔α〕Dは参考例5で得られた化合物のデータ値と
完全に一致した。 参考例 8 (3S,4R)−3−〔(1R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)〕−4−フエニルチオ
アゼチジン−2−オン (3S,4R)−3−〔(1R)−1−ヒドロキシエチ
ル〕−4−フエニルチオアゼチジン−2−オン
298.1mg(1.31mmo1)をDMF0.5mlに溶解し、イ
ミダゾール267.3mg(3.93mmo1,3当量),t−
ブチルジメチルシリルクロリド591.7mg
(3.93mmo1,3当量)を加え、アルゴル雰囲気
下、室温で3時間攬拌した。反応終了後、エーテ
ル150mlと水10mlを加え10分間攬拌した。両層を
分離し、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。エーテルを減圧
下留去することにより標記化合物を無色粉末とし
て得た。このものは精製せずに次の反応に用い
た。 IR(CHC13)cm-1 3420,1760 NMR(CDC13,TMS)δ;7.38(bra,5H),
6.42(br,1H),5.06(d,1H,J=2.0Hz),
4.25(m,1H),3.05(m,1H),1.19(d,3H,
J=6.0Hz),0,92(s,9H),0.05(s,
6H), Mass m/e;338,337(M+),336,280,236 (M+tBu) C13H18NO2SiSに対する 計算値; 280.0827 実測値; 280.0825 参考例 9 (3S,4R)−3−〔(1R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)〕−4−フエニルスル
ホニルアゼチジン−2−オン (3S,4R)−3−〔(1R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)〕−4−フエルチオア
ゼチジン−2−オン441.5mg(1.31mmo1)を
CH2C1210mlに溶解し、アンゴル雰囲気下室温で
攬拌する中にm−クロロ過安息香酸677.4mg
(3.34mmo1,2.5当量)を加え、10分間攬拌した。
飽和亜硫酸ナトリウム水溶液4mlと飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液4mlを加え20分間攬拌した後、
CH2C12にて抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮することに
より粗生成物を得た。カラムクロマトグラフイー
(シリカゲル40g,石油エーテル:酢酸エチル=
3:1)により精製し、標記化合物240.1mgを得
た。このものは光学活性シフト試薬,トリス〔3
−(ヘプタフルオロプロビルハイドロキシメチレ
ン)−d−カンフレート〕ユーロピウム(Eu)
(hfc)3)を用いてNMRを測定することにより光
学的に純枠であることが判明した。 mp. 70〜171℃(エーテル−石油エーテル) IR(CHC13)cm-1 3420,2951,2930,2850,
1785,1150,840 NMR(CDC13,TMS)δ;7.98(dd,2H,J
=7.2,2.0Hz),7.90〜7.54(m,3H),6.34
(br,1H),4.83(d,1H,J=1.9Hz),4.29
(qd,1H,J=6.5,2.3Hz),3.44(dd,1H,
J=2.3,1.9Hz),1.13(d,3H,J=6.5Hz),
0.85(s,9H),0.05及び0.02(s,6H) Mass m/e;369(M+),354,312,228 (M+tBu) C13H18NO4SSiに対する 計算値; 312.0721 実測値; 312.0708 元素分析値 C17H27NO4SSiとして C H N 計算値(%); 55.29, 7.38, 3.78 実測値(%); 55.36, 7.31, 3.73 〔α〕25 D=−11.0゜(c=0.91,CHC13) 参考例 10 (3S,4R)−3−〔(1R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)〕−4−プロピニルア
ゼチジン−2−オン 還流冷却管をつけた2口フラスコに金属マグネ
シウム65mg(10当量)と触媒量の塩化第2水銀を
入れ、真空ポンプにて減圧にしながらドライヤー
で加熱し乾燥の後、アルゴンガスで置換した。そ
の中に無水エーテル6mlを加え激しく攬拌し、続
いてプロパルギルブロミド320.4mg(10当量)を
加え室温で反応させた。激しい反応が終了した
後、−18℃に冷却し、無水THF2mlを加えた。
(3S,4R)−3−〔(1R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル)〕−4−フエニルスホニル
アゼチジン−2−オン98.8mg(0.27mmo1)を無
水THFに溶解し、この溶液を滴下ロートをから
先のグリニアル試薬に滴下し、滴下ロートを更に
THF1mlで洗い、この洗液も反応液に加えた。反
応液を−18℃で5分間攬拌した後、0℃で30分間
攬拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を0℃で
加えることにより反応を停止した後、粗生成物を
酢酸エチルにて抽出した(30ml×3)。有機層を
飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥
の後、濃縮することにより粗生成物125.8mgを得
た。カラムクロマトグラフイー(シリカゲル
30g,石油エーテル:酢酸エチル=3:1)にて
精製し標記化合物64.7mg(収率90.5%)を無色結
晶として得た。 m.p. 119.6〜120.5℃(エーテル−石油エーテ
ル) IR(CHC13)cm-1 3430,3320,2930,1760,
1140,838 NMR(CDC13,TMS)δ;5.94(br,1H),
4.23(qd,1H,J=6.0,5.0Hz),3.89(dt,
1H,J=7.0,2.0Hz),26・93(dd,1H,J=
2.0,5.0Hz),2.56(dd,2H,J=5.0,
2.0Hz),2.06(t,1H,J=2.0Hz),1.24(d,
3H,J=7.0Hz),0.90(s,9H),0.09(s,
6H) Mass m/e;269,268,267(M+),211,
210,166,75 (M++1) C14H26NO2Siに対する 計算値; 268.1732 実測値; 268.1753 元素分析値 C14H25NO2Siとして C H N 計算値(%); 62.87, 9.42, 5.24 実測値(%); 62.99, 9.40, 5.14 〔α〕25 D=−4.2゜(c=4.53,CHC13) 参考例 11 (3S,4R)−1−(t−ブチルジメチルシリル)−
3−〔(1R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル)〕−4−プロピニルアゼチジン−2−
オン (3S,4R)−3−〔(1R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル)〕−4−プロピニルア
ゼチジン−2−オン430mg(0.16mmo1)を
DMF0.1mlに溶解し、アルゴン雰囲気下室温で攬
拌した中に、トリエチルアミン72.6mg
(0.72mmo1,4.5当量),t−ブチルジメチルシリ
ルクロリド48.2mg(0.32mmo1,2当量)を加え、
14.5時間反応させ、更にトリエチルアミン72.6mg
とt−ブチルジメチルシリルクロリド48.2mgを
加え1時間攬拌した。反応液にエーテル30mlと水
10mlを加え攬拌した後、エーテル層を分離した。
水層は更にエーテルにて抽出した。合わせたエー
テル層を飽和食塩水で洗浄し無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し減圧下濃縮することにより粗生成物
を得た。カラムクロマトグラフイー(シリカゲル
21g,石油エーテル:酢酸エチル=15:1)にて
精製し標記化合物48.7mg(収率80.0%)を得た。 IR(CHC13)cm-1 3320,2950,2925,2850,
1738,1255,839 NMR(CDC13,TMS)δ;4.22(qd,1H,J
=6.5,4.0Hz),3.80(ddd,1H,J=6.5,4.0,
2.5Hz),3.09(dd,1H,J=4.5,2.5Hz),
2.58(m,2H),2.06(t,1H,J=2.5Hz),
1.25(d,3H,J=6.5Hz),0.98(s,9H),
0.90(s,9H),0.25(s,6H),0.09(s,3H),
0.07(a,3H) Mass m/e;382,381(M+),366,324 (M-+1)C20H40NO2Si2に対する 計算値; 382.2597 実測値; 382.2624 〔α〕25 D=−43.24゜(c=3.40,CHC13) 融点データー直後のかつこ内の溶媒名は再結晶
溶媒を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中、Xは低級アルカノイルオキシ基または
    置換されていてもよいアリールスルホニル基を示
    す〕で表わされる化合物と一般式 RSH 〔式中、Rは低級アルキル基、置換されていて
    もよいアリール基または置換されていてもよいア
    ラルキル基を示す〕とをシンコニジンの存在下に
    反応させることを特徴とする一般式 〔式中、Rは前記と同意義〕で表わされる光学
    活性な2−アゼチジノン誘導体の製造法。
JP57154426A 1982-09-03 1982-09-03 2−アゼチジノン誘導体およびその製造法 Granted JPS5944355A (ja)

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