JPS5945946A - 中空糸状多孔質ガラスの製造法 - Google Patents

中空糸状多孔質ガラスの製造法

Info

Publication number
JPS5945946A
JPS5945946A JP57154823A JP15482382A JPS5945946A JP S5945946 A JPS5945946 A JP S5945946A JP 57154823 A JP57154823 A JP 57154823A JP 15482382 A JP15482382 A JP 15482382A JP S5945946 A JPS5945946 A JP S5945946A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
hollow fiber
heat treatment
plasma etching
porous
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57154823A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6257588B2 (ja
Inventor
Yutaka Yamamoto
豊 山本
Jiro Sakata
二郎 坂田
Haruo Doi
土井 晴夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Central R&D Labs Inc filed Critical Toyota Central R&D Labs Inc
Priority to JP57154823A priority Critical patent/JPS5945946A/ja
Priority to US06/528,789 priority patent/US4521236A/en
Publication of JPS5945946A publication Critical patent/JPS5945946A/ja
Publication of JPS6257588B2 publication Critical patent/JPS6257588B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/02Inorganic material
    • B01D71/04Glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D63/00Apparatus in general for separation processes using semi-permeable membranes
    • B01D63/02Hollow fibre modules
    • B01D63/021Manufacturing thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C11/00Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
    • C03C11/005Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles obtained by leaching after a phase separation step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00Fibre or filament compositions
    • C03C13/005Fibre or filament compositions obtained by leaching of a soluble phase and consolidation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ラスの製造法に関するものである。
近年、限外濾過膜等に用いる多孔¥!f膜の研究が盛ん
である。これらには主に^分子材料が用いられているた
め、耐薬品性、機械的強度、耐熱性等に関して問題があ
り、更には孔径を任意に制御するのが極めて困難であっ
た。孔径制御か可能なものとしては米国GE社で開発さ
れたポリカーボネート製のニュクリポア(商品名)か知
られているが、これは高分子材料から成るため、前述の
耐薬品性等の問題が残されている。
それ故、耐熱性、耐薬品性を有するセラミック材料を用
いて多孔質膜が製造できれば、極めて広い用途が期待で
きる。
特公昭53−44580号公報には、中空糸状に紡糸し
た硼珪酸ナトリウムガラスを、熱処理することにより高
温の酸溶液にて溶出し易い軟和と溶出し難い硬相とに伽
業44分和し、次いで酸抽出により多孔質化する中空糸
状多孔質ガラスを製造する方法、および水酸化す) I
Jウム処坤等によりその孔径を制御する方法が開示され
ている。しかしながら、この方法により得られた多孔質
ガラスを限外涙過膜などの多孔質膜として使用した場合
透過速度、表m]の孔の均一性、その制御、滑らかさ等
に関して充分満足な結果番ま得られない。
本発明者等は、中空糸状多孔質ガラスの1jJlj 1
ijiについて研究する過程で、その紡糸過程又は多孔
質化処理過程において中空糸の表向に分相しにくい層が
形成され、それが酸抽出の際防御Alとして作用するこ
と、得られる多孔質ガラスの透過速度を減少さセる原因
となること、表面の孔径制御を困難にすること等、様々
な障壁となることを見出し、史に鋭意研究の結果、上記
の分相しにくい相を除去しイ1する、改良された中空糸
状多孔′r4ガラスの製造法を完成した。
木兄1711の目的は、耐薬品t1;、機械的強!虻、
耐熱性等に優れ、表面が滑らがで、11つ内部から表向
に至るまで一様な孔径を有する中空糸状多孔質ガラスの
製造法を提供することにある。
本発明の別の目的は、製ii+、条件を変化させること
により数千ないし数千オングストロームの一様な孔径を
有する中空糸状多孔仙カラスを提供することにある。
本発明は、熱処理することにより高lI++iの酸溶液
に溶出する軟和と溶出しない硬相とに分相する組成の硼
珪酸ナトリウムガラスがら紡糸した中空糸を、熱処理に
より分相した後、軟和の溶出処理前又は溶出処理後にフ
ッ素含有化合物ガスを含む雰囲気中にてプラズマエツチ
ング処理することを特徴とする。
本発明が適用される硼珪酸す) IJウムガラスは、熱
処理により分相する組成のものであれば特に限定される
ことなく使用できるが、通常8i0,60〜80重量%
、B、0.15〜65重組%およびNa、03.5〜1
2重ム1−%がら成る。
熱処理温汝および時間はガラス組成、糸の太さ並ひに所
望する孔径によって異なり、公知の温良および時間で行
い得るが、通常的480〜600℃および0.25〜5
00時間の範囲にある。
フッ素含有化合物は下記に説明する高密度エネルギーの
照射により原子状フッ素を放出するような化合物であれ
ばよく、例えばCp、 + C2P l1lS L”6
. HP、・・・・・・等が挙げられる。これらのガス
はそれ自体で使用することもできるが、不活性ガス、例
えばアルゴン、チン素等、および酸素ガスにて希釈して
用いることもできる。この場合、フッ素含有化合物ガス
をガス全体の数%(容N%)含むものでも使用し得る。
しがしフッ素含有化合物ガスの割合が多いけどエツチン
グ効率は良い。これらのうち狛にCF4ガス単独又は(
CF4 + Ot)混合ガスが好ましい。
プラズマエツチング処理とは、高密度エネルギーの照射
により発生する原子状7ノ素にて中空糸状ガラス表面を
腐食除去することを言う。
高密度エネルギー源としては例えばIKHz〜、411
りMHzの高周波発生装置a1直流電源、商用周波数′
m源等を用いることができる。プラズマエツチング時間
はプラズマエツチング条件(装置の形状、圧力、入力等
)によって大きく変動するが、通常1〜60分、好まし
くは5〜10分である。
かかるプラズマエツチング処理により、ガラス表面の分
相されない層が除去される。
高温の酸溶液を用いる軟和の溶出処理は、プラズマエッ
チング処理の前或いは後のいずれに行ってもよい。しか
しプラズマエツチング処理後に行うのがより効果的にガ
ラス表面層を除去し得る。酸溶液としては通常0.5〜
5規定の鉱酸や有機酸、例えば塩酸、硫酸、硝酸、酢酸
等か用いられる。酸溶出後は充分水洗いする。
本発明の方法によると、表面が滑らかで表面から内部ま
で孔径が一様な多孔質ガラスが得られるが、更にガラス
組成、熱処理温度および熱処理時間を制御することによ
り、多孔質ガラスの孔径を自由に+14整することがで
きる。一般に熱処理温度が高いけどまたその時間が長い
はど、更にガラス組成の成分B、O,、Na、Oが多い
はど孔径か大きくなる。例えは孔径を数十オングストロ
ーム程度に調整する場合は、8i0.:65重社%、B
2O5:50重量%およびNa2O:5重量%の組成の
ガラスを用いて、500℃にて24時間熱処理する。一
方、孔径を数千オングストローム&!皮にする場合には
、sio、:62.5重量%、B、0. : I12.
7 車ti %およびNa、0:4.8重M%の組成の
ガラスを用いて500℃にて200時間熱処理する。
本発明のプラズマエツチング処理に使用し得7−1う7
:マ発生装置jlの一具体例を1部面をもってH(l明
する。
第1図に示すプラズマ発生装置uは、頂部に突起11を
有するガラス製ジャー1と、ジャー1の底を構成する金
属製の台2および突起11に巻きつけられた鋼板製の電
極6とから成る。台2にはエツチングカス尋人[121
とジャー1内の気体を排出するための排出[I22がv
&′jられており、ジャー1内には金属製の試料台4が
設&Jられている。プラズマエツチングずべき中rfi
3糸状ガラスは、例えは第2図に示すような相対する金
網<51.62を針金63で固定した支持枠6に、金網
61.62の網目を通すように不規則に装着し、これを
第1図に示すよりなル(1台4上に設置する。このよう
に支持枠6上に不規則にガラス5を装置するのは、ガラ
ス5をあまり密にすると、表面)eiを」リーに除去し
?!J 1.r くなるためである。当然のことながら
、本方式にとられれることなく、密にしないような別の
態様、例えば糸状ガラス5の束の一端を固定し他端を開
かさせる態様によってもよく、また支持枠自体を他の形
状のものとしてもよいことは勿蹟ii1である。
次に本発明を、実施例および比較例をもって史に訃しく
説明する。以下、特記しない限り1部」は「重量部」を
示す。
実施例1 8 io、 、 B20.およびNa!0の原料を均一
になるように溶融しその後粉砕して得た原料ガラス(組
成SiO,:65.0部+ Btos : 28.0部
、Na、Oニア、0部)を石英製ルツボに入れ、約11
00℃に加熱し、溶融状態のままノズルに大気圧よりわ
ずかに高い圧力の空気を送り込んで、紡糸速度20〜7
5NV分にて中空糸状に紡糸し、直径6゜ctnのドラ
ムに巻き取った。
このようにして紡糸した中空糸状ガラスは直(f、 2
 o o pm前後で、肉J’)−15pmT1+1後
のものであつた0 これを約20ctnの長さに切断し、その約1o。
本を外径Bmm、内径7腿、長さsocmの石英管内に
入れて、この石’A’t’、Fを次にIk jt+炉に
入れ、室温より約6時間かけて550℃まで昇温上しぬ
、その温度で120時間保持した。このようにして分相
処理した中空糸状ガラスを室温まで冷却後、石英管より
取り出した。
次に第2図に示ずよ7うな、辺0.51RII+の網目
を有する金網61.62を相対向ざセで針金66でl^
1定してなる支持枠6に、得られた中空糸状ガラス5を
金網61と62の網目を通ずようにして不規則に装着し
た。中空糸状ガラス5を装着した支持枠6を、第1図に
示すプラズマ発生装置Ft 1の高さ約50ctnz底
部直径約30 cmのガラス製ジャー1内に設けられた
金属製試料台4上に載せ、真空ポンプ(図示せず)によ
りジャー1内の空気を排出[、J 22を通して脱気し
た。
次に真空ポンプによる脱気を絖けた状態で導入[121
よりC1i”4ガスを導入し、ジャー内の気月−を02
6トールに保った。この状態で台2をアースし、電極に
13.56 MHzの高周波電圧をかけることによりプ
ラズマエツチング処理を5分間継続し、中空糸状ガラス
5の表面相を除去した。
この中空糸状ガラスを98℃に加熱した1N硫酸水溶液
100m1中に入れ、4時間その温度に保持し、軟和を
酸溶出した。中空糸を酸溶液から取り出し、流水中で1
0時間洗浄した後風乾し、中空糸状多孔質ガラスを得た
。得られたガラスの表面及び表面から断面にかけて(以
下、表面/断面と記載する)の走査電子顕微鏡(以下8
FiMと取−))観察を行った。この8部M組織(10
,000倍)を第3図AおよびBに示す。
実施例2〜6 実施例1で得られた分相処理済中空糸状ガラスを、プラ
ズマエツチング処理時間を10分(実施例2)および6
分(実施例3)とする以外は実施例1と同様に処理した
実施例4 実M+i例1で得られた分相処理済中空糸状ガラスを、
エツチングガスとして(:’ Ii”、 it独ガスの
代りニ(CF4+02)混合ttス(CF、 : 90
容置%。
02:io容容置)を用いる以外は実施例1と同様に処
理した。
実施例5 実施例1において、分相処理した中空糸状ガラスを1N
硫酸水溶液を用いて4時間酸溶出し、流水洗浄した後、
実施例1と同様の条件下にてプラズマエツチング処理を
行った。
得られた中空糸状多孔質ガラスの表面及び表面/断面8
部M組織(10,000倍1ヲm4図AオJ:びBに示
す。
実施例6〜8 ガラス組成か5I02:65部、B20!l: s o
部、Na2O: 5.0部であり、熱処理温度が500
 ’C1熱処理時間が24.72,200時間(それぞ
れ実施例6,7.8)である以外は実施例1と同じ操作
により、中空糸状多孔質ガラスを作製した0その−[面
のSEM組織をそれぞれ第5図A。
B、Cに示す。第5IiJA〜Cより、熱処g)H時間
が長くなるほど孔径が大きくなる様子が観察される。
実施例9〜11 ガラス組成がSin、:62.5部、B、O,: 32
.7部、Na、O:4.8部であること以外はそれぞれ
実施例6,7.8 (それぞれ実施例9,10.11に
対応する)と同じ操作により中空糸状多孔質ガラスを作
製した。その断面の8部M組織をそれぞれ第6図A、B
、Cに示す。第6図A、Cより、実施例6〜8と同様、
熱処理時間が長くなるにつれ孔径が大きくなる様子が観
察される。
また、実施例6〜8からガラス組成を僅かに軟化させた
だけで、同一分相条件にて形成される孔径が変化してい
ることがわかる。
実施例12 熱処理湿度を590℃、熱処理時間を6時間とする以外
は実施例9〜11と同条件にて処理して、中空糸状多孔
質ガラスを作製した。その断面の8部M#l織を第7図
に示す。
第7図より、実施例9〜11に比べて非常に短時間で孔
が大きく成長している様子がわかる。
これより、熱処理温度を高くすると孔の成長速度か大き
くなることがわかる。
上記実施例6〜12のガラス組成1および熱処理条件を
下記表1に要約する。
表1 比較例1 プラズマエツチング処理をT−Jわtj′い以外は実施
例1と同じ操作により、中空糸状多孔質ガラスを作製し
た。その表面/断面8EM組織を第8図に示す。
第8図から、プラズマエツチングを行わない本比較例で
は、表面に孔のない層が存在する様子がわかる。
比較例2 プラズマエツチング処理の代りに45℃の0.5N水酸
化す) IJウム水溶液中に10分間浸漬してエツチン
グを行う以外は実施例5と同じ操作により、中空糸状多
孔質ガラスを作製した。その表面のSEM組織を第9図
に示す。
第9・図から、本比較例では実施例1および5に比べて
孔かまばらで均一性に欠け、また表面に溝が形成されて
いて滑らかでない様子が観察される。
またこのエソチンダ液の温度を低くシて、50℃のo、
 5 N水酸化ナトリウム水溶液を用いて同シ時間エン
チングしても、表面のSEMII察”?l’孔が詔めら
れなかった。逆に同じ温度(45℃)で20分間エツチ
ング処理を行うと、中空糸は非常に脆弱になってしまっ
た。
次に、上記実施例1〜5および比較例1〜2で得られた
多孔質ガラスの気体透過特性を測定した。その結果を表
2に示す。
表2 比較例3〜4 プラズマエツチングの代りにフッ化水素彪水溶液を用い
てエツチングを行う以外は実施例1と同じ操作により、
中空糸状多孔質ガラスを作製した。そのエツチング条件
は、比較例6において(ま20%フッ化水素酸水溶液を
用いて25℃にて10秒、比較例4においては1%フッ
化水素配水溶液を用いて25℃にて15分間である。
それぞれの多孔質ガラスの表面/断面SEM組織をそれ
ぞれ第10図AおよびHに示す。第10図A、Bより、
比較例3および4ではエツチングが不均一であることが
わかる。
以上の比較例2〜4から、湿式エツチング法では中空糸
内部のエツチングも同時に追打するため、表面層のみの
均一なエツチングができないのに対して、本発明の乾式
エツチング法テあるプラズマエツチングによると均一な
エツチングが可能となり、孔の均一性の確保という面で
優れた方法であることがわかる。
実施例13〜14 実施例1および5で得られた多孔質ガラスの表面に、モ
ノマーガスとしてヘキザメチルジシロキサンを使用して
特開[1r(56−58518号公報に開示されたプラ
ズマ重合によりプラズマ重合膜を形成して、複合膜を作
製した。
比較例5 比較例1で得られた多孔質ガラスを使用する以外は実施
例16〜14と同様にして、複合119を作製した。
比較例6 中空糸状多孔質ポリグロピ1/ン(三かレーヨン社製)
を用いる以外は実施例13〜14と同様にして、複合膜
を作製した。
実施例16〜14および比較例5〜6のネり金膜につい
て、気体透過特性を測定した。その結果を表6に示す。
表3 表6の結果から、実施例13〜14の複合膜は比較例5
〜6のものに比べて大きな気体透過速度を有しており、
複合膜の多孔質基体として優れていることがわかる。
以上の実施例および比較例から、本発明の方法は従来の
湿式エツチング法に比べて均一なエツチングが得られる
こと、内部から表面に至るまで均一な孔を有する多孔質
ガラスが作製できること、史に本発明の方法によると孔
径を、ガラス組成、熱処理の温度および時間を変化させ
ることによりIす「望の大きさに制御できることがわか
る。
従って、本発明の方法により得られる中空糸状多孔質ガ
ラスは、表面の孔の均一性および孔径の制御が重要であ
る用途、特に限外濾過膜として使用することかできる。
また本う′i明により得られた多孔性ガラスに特開昭5
6−24018号公報および特開昭56−58518号
公報に開示されたプラズマ重合処j114を施して、複
合気体分離膜を作製することも川船である。
【図面の簡単な説明】
第1図はプラズマ光生装訂の縦断面図、第2図は中空糸
状ガラスの支持枠の概略斜視図、 第6図A、)3;第4図A、、)3;第6図C;第7図
B:第5図C;第6図A;身)6図13;第6図C;第
7図;第8図;第9図:第10図A;および第10図B
(4それぞれ実施例1,5,6゜7.8,9. 10,
11,12.比較例1,2゜6および4で得られた中空
糸状多孔質カラスの表面および/又は表面/断面 のS
lff1M組1rili図である0 図中、 1・・・ガラス製ジャー、6・・・1u極、4・・・試
料台、5・・・中空糸状ガラス、6・・・支持枠、61
.62・・・金網。 相・許出願人  (560)株式会社豊田中央研究F3
1丁(ほか1名) t3図 A 才4 図 オ゛5 図 (蔦1ααυ) t6へ。、ooo) ” ′!Aに!1(LOOQ) ’  t−s図 (xlO,(100)  。 ’7.’ lQ筒、(X、1(IQDI))第10図 A  (X300) B cxtomコン 手続補正書 昭和58年8月ノア日 3補11:、する者 四件との関係 時詐出頼人 名称 (360)株式貧社伎出中央研究所(ほか  l
 名) 5h1)正命令のEl付 「自発」 7、浦旧の内容 (1)  明細潜第44ドから2行目と1行目との間に
t:^己の文を」申入J−る。 う。」 (2)同第6代下から2行目の「分相されない層」を「
分相しV′Cりい層」と++M正する。 (3)同第11崗第4行・ζ)[−表面a+jJを1表
面4Jと補正する、。 (4)同第15貴第5行のLfLのないJを−U孔の少
ないJと浦+F:、fる。 (5)同第17員・413行の「進行Jを「進行コと補
正する。 以上

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)熱処理することにより高温の酸溶液に溶出する軟
    和と溶出しない硬相とに分相する組成の硼珪酸ナトリウ
    ムガラスから紡糸した中空糸を、熱処理により分相した
    後、軟和の溶出処理前又は処理後にフッ素含冶化合物ガ
    スを含む雰囲気中にてプラズマエツチング処理すること
    を特徴とする、中空糸状多孔質ガラスの製造法。
  2. (2)軟和の溶出処理前にプラズマエツチング処理を行
    うことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3)  フッ素含有化合物としてCF4を使用するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法0
  4. (4)  CF4と02との混合ガス雰囲気中でプラズ
    マエツチング処理することを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の方法。
  5. (5)硼珪酸ナトIJウムガラス組成、熱処理温度およ
    び熱処理時間を制御することにより多孔質カラスの孔径
    を制御することを特徴とする特許ml求の範囲第1ない
    し第4項のいずれか1項記載の方法。
  6. (6)  8i01 : 60〜80看cta%、B2
    0. : 15〜65重坦%およびN、a20 : 3
    .5〜12本L1%の組成の硼珪酸ナトリウムガラスを
    用いて、熱処理温度480〜600℃、熱処理時間02
    5〜600時間にて数十オンゲスト1=J−ムから数千
    オングストロームの範囲に任意に制御された孔径を有す
    る多孔質ガラスを得ることを特徴とする特許請求の範囲
    第5項記載お方法。
JP57154823A 1982-09-06 1982-09-06 中空糸状多孔質ガラスの製造法 Granted JPS5945946A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57154823A JPS5945946A (ja) 1982-09-06 1982-09-06 中空糸状多孔質ガラスの製造法
US06/528,789 US4521236A (en) 1982-09-06 1983-09-02 Method for preparation of porous glass film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57154823A JPS5945946A (ja) 1982-09-06 1982-09-06 中空糸状多孔質ガラスの製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5945946A true JPS5945946A (ja) 1984-03-15
JPS6257588B2 JPS6257588B2 (ja) 1987-12-01

Family

ID=15592652

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57154823A Granted JPS5945946A (ja) 1982-09-06 1982-09-06 中空糸状多孔質ガラスの製造法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4521236A (ja)
JP (1) JPS5945946A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4605632A (en) * 1984-10-24 1986-08-12 Corning Glass Works Glass for tungsten-halogen lamps
JPS6278726A (ja) * 1985-10-02 1987-04-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体
JPS6359334A (ja) * 1986-08-29 1988-03-15 Nok Corp 気体分離膜の製造方法
JPS6415660A (en) * 1987-07-10 1989-01-19 Hitachi Ltd Analyser equipped with reaction container, reaction container and preparation thereof
JP2010520139A (ja) * 2007-02-28 2010-06-10 コーニング インコーポレイテッド 押出し成形されたガラス構造およびその製造方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0248391A3 (en) * 1986-06-06 1988-08-03 Ppg Industries, Inc. Porous siliceous-containing gas enriching material and process of manufacture and use
US4690750A (en) * 1986-06-13 1987-09-01 Exxon Research And Engineering Company Micro-porous superlattice separations
US4969943A (en) * 1989-06-08 1990-11-13 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Method of making porous ceramic fluoride
JPH05283542A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置及びその製造方法
US5275766A (en) * 1992-10-30 1994-01-04 Corning Incorporate Method for making semi-permeable polymer membranes
WO2005098084A2 (en) * 2004-01-15 2005-10-20 Nanocomp Technologies, Inc. Systems and methods for synthesis of extended length nanostructures
US8741158B2 (en) * 2010-10-08 2014-06-03 Ut-Battelle, Llc Superhydrophobic transparent glass (STG) thin film articles
US11292919B2 (en) 2010-10-08 2022-04-05 Ut-Battelle, Llc Anti-fingerprint coatings

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2106744A (en) * 1934-03-19 1938-02-01 Corning Glass Works Treated borosilicate glass
JPS5344580A (en) * 1976-10-05 1978-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 1,6-dihydropyridazine derivatives
JPS5359368A (en) * 1976-11-10 1978-05-29 Hitachi Ltd Plasma etching
JPS56125855A (en) * 1980-03-07 1981-10-02 Fujitsu Ltd Manufacture of semiconductor device
JPS5747874A (en) * 1980-09-02 1982-03-18 Fujitsu Ltd Detection of end point of dry etching reaction

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1316711A (en) * 1971-03-15 1973-05-16 Mullard Ltd Methods of producing films comprising siliceous material
US3785793A (en) * 1971-05-31 1974-01-15 Nat Ind Res Inst Method of leaching high silica glass having 0.5-2.0% p2o5
JPS56158873A (en) * 1980-05-14 1981-12-07 Hitachi Ltd Dry etching method
JPS57166331A (en) * 1981-03-31 1982-10-13 Toyobo Co Ltd Preparation of porous hollow fiber of glass
US4426246A (en) * 1982-07-26 1984-01-17 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Plasma pretreatment with BCl3 to remove passivation formed by fluorine-etch

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2106744A (en) * 1934-03-19 1938-02-01 Corning Glass Works Treated borosilicate glass
JPS5344580A (en) * 1976-10-05 1978-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 1,6-dihydropyridazine derivatives
JPS5359368A (en) * 1976-11-10 1978-05-29 Hitachi Ltd Plasma etching
JPS56125855A (en) * 1980-03-07 1981-10-02 Fujitsu Ltd Manufacture of semiconductor device
JPS5747874A (en) * 1980-09-02 1982-03-18 Fujitsu Ltd Detection of end point of dry etching reaction

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4605632A (en) * 1984-10-24 1986-08-12 Corning Glass Works Glass for tungsten-halogen lamps
JPS6278726A (ja) * 1985-10-02 1987-04-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平板状情報記録担体の記録・再生方法および平板状情報記録担体
JPS6359334A (ja) * 1986-08-29 1988-03-15 Nok Corp 気体分離膜の製造方法
JPS6415660A (en) * 1987-07-10 1989-01-19 Hitachi Ltd Analyser equipped with reaction container, reaction container and preparation thereof
JP2010520139A (ja) * 2007-02-28 2010-06-10 コーニング インコーポレイテッド 押出し成形されたガラス構造およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4521236A (en) 1985-06-04
JPS6257588B2 (ja) 1987-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3933454A (en) Method of making optical waveguides
US4521236A (en) Method for preparation of porous glass film
CN104779143B (zh) 一种设置在基底上的薄膜及其制备方法
CN1051979C (zh) 光导纤维玻璃预制体的制备方法
CH179725A (fr) Procédé de fabrication d'objets d'une haute teneur en silice et objet obtenu selon ledit procédé.
US3933453A (en) Flame hydrolysis mandrel and method of using
JP2026511201A (ja) カーボンナノチューブフィルムの性能を大幅に向上させる後処理方法及び応用
JPS6325239A (ja) ロッドインチュ−ブ法を適用するガラスのコア及びクラッドを有する光ファイバの製造方法
KR940011118B1 (ko) 광파이버용 유리모재의 제조방법
CN118335684A (zh) 一种晶圆键合方法
KR101582584B1 (ko) 폴리카보실란 섬유의 습식 불융화 방법 및 이를 포함하는 탄화규소섬유의 제조방법
RU2265255C2 (ru) Способ получения структур кремний-на-изоляторе
WO2006112003A1 (ja) Grinレンズの製造方法及びgrinレンズ
JPS6317229A (ja) 光フアイバ用母材の製造方法
CN116856177A (zh) 一种生物基辐射降温织物及其制备方法
JP2002160930A (ja) 多孔質石英ガラスとその製造方法
JPS6158407B2 (ja)
JP2004338992A (ja) ガラス母材の製造方法
JPS6137212B2 (ja)
JPH01257149A (ja) 応力付与型定偏波光ファイバの製造方法
JP2985493B2 (ja) 光ファイバ母材の製造方法
JPH0425226B2 (ja)
JP4640292B2 (ja) 石英ガラス体製造方法
CN119956600A (zh) 一种高硅氧玻璃纤维布及其制备方法
JPH02149450A (ja) 光ファイバの製造方法