JPS5945A - Ｘ線撮影装置 - Google Patents
Ｘ線撮影装置Info
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- JPS5945A JPS5945A JP57106192A JP10619282A JPS5945A JP S5945 A JPS5945 A JP S5945A JP 57106192 A JP57106192 A JP 57106192A JP 10619282 A JP10619282 A JP 10619282A JP S5945 A JPS5945 A JP S5945A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/0075—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for road construction
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、Ｘ線撮影装置の技術分野に属する〇〔発明
の技術的背景とその問題点〕 従来、Ｘｆａ撮影装置として、たとえば、胃腸を中心と
する消化管用Ｘ線診断装置等がある。大量ＫＸ線撮影を
行なう仁の種分野では、Ｘ＠シートフィルムをサプライ
マガジンに５０〜１００枚程度収納しておき、速写撮影
を行なうｉわゆるカセツテレス方式のスポットショット
部を有するＸ線テレ・ビ装置（ｘ＃透視撮影装置）が発
達してきてｉる０しかも、前記装置において、Ｘ線写真
撮影に際し、Ｘ線自動露出制御装置が用いられておシ、
たとえば、１．１出力光ｔ−７オトマルで受光する１１
１１フオトタイマーや、アクリル板に螢光紙を組合わせ
てフォトマルで受光する薄形フォトタイマーがしばしば
使用されている。
の技術的背景とその問題点〕 従来、Ｘｆａ撮影装置として、たとえば、胃腸を中心と
する消化管用Ｘ線診断装置等がある。大量ＫＸ線撮影を
行なう仁の種分野では、Ｘ＠シートフィルムをサプライ
マガジンに５０〜１００枚程度収納しておき、速写撮影
を行なうｉわゆるカセツテレス方式のスポットショット
部を有するＸ線テレ・ビ装置（ｘ＃透視撮影装置）が発
達してきてｉる０しかも、前記装置において、Ｘ線写真
撮影に際し、Ｘ線自動露出制御装置が用いられておシ、
たとえば、１．１出力光ｔ−７オトマルで受光する１１
１１フオトタイマーや、アクリル板に螢光紙を組合わせ
てフォトマルで受光する薄形フォトタイマーがしばしば
使用されている。
Ｘ線自動露出制御装置における前者は、Ｘ線シートフィ
ルムの後方で光を受ける方式であル、増感紙−フィルム
系のＸＩｔｊ！エネルギ特性に対し、密着板機構やＩ＠
Ｉｆｌｉｊ、たフォ）−ｒル採元のため、異ガるＸ線エ
ネルギ特性を有するので、フォトタイマー回路が複雑で
ある０しかも、検出採光野を多く設けるｉわゆるｉルテ
採光野方式を行なおうとすると、Ｘ線検出器の前面近傍
の狭−場所で、１＠１出力部からの光を採光視野分配を
行なわなくてはならず、しかも、そのための精密な光学
系や構造１有する欠点があった。
ルムの後方で光を受ける方式であル、増感紙−フィルム
系のＸＩｔｊ！エネルギ特性に対し、密着板機構やＩ＠
Ｉｆｌｉｊ、たフォ）−ｒル採元のため、異ガるＸ線エ
ネルギ特性を有するので、フォトタイマー回路が複雑で
ある０しかも、検出採光野を多く設けるｉわゆるｉルテ
採光野方式を行なおうとすると、Ｘ線検出器の前面近傍
の狭−場所で、１＠１出力部からの光を採光視野分配を
行なわなくてはならず、しかも、そのための精密な光学
系や構造１有する欠点があった。
また、Ｘ線自動露出制御装置におゆる後者の薄形フォト
タイマーは、簡単な構造であシ、その厚みも２．５〜３
．、、程度であるから、Ｘ線拡大率をさほど増加させる
ことなく使用することができるとの長所を有する反面、
マルチ採光野の実現は困難であった〇 その他、イオンチェンバーと称する電離層式フォトタイ
マーが有るが、その厚みが１５■程であることＫより、
Ｘ線拡大率が増加するので、Ｘ線像の画質が低いという
欠点があった。
タイマーは、簡単な構造であシ、その厚みも２．５〜３
．、、程度であるから、Ｘ線拡大率をさほど増加させる
ことなく使用することができるとの長所を有する反面、
マルチ採光野の実現は困難であった〇 その他、イオンチェンバーと称する電離層式フォトタイ
マーが有るが、その厚みが１５■程であることＫより、
Ｘ線拡大率が増加するので、Ｘ線像の画質が低いという
欠点があった。
この発明は、前記事情に鑑みてなされたものであシ、Ｘ
線拡大率全低減することができると共にマルチ採光型の
Ｘ線検出管することができるスポットショット装置全具
備するＸ線自動露出制御型のＸ線撮影装置を提供するこ
と金目的とするものである◎ 〔発明の概要〕 前記目的を達成するためのこの発明の概要は、被検体に
曝射したＸ線の線量を検出することによシ、必要なＸ線
量を自動的に制御するＸ線自動露出制御装置とスポット
ショット装置とを具備するＸ線撮影装置において、前記
スポットショット装置が、未撮影のイメージングプレー
トを収納したサプライマガジンと、撮影後の前記イメー
ジングプレート全収納するティクアップマガジンと、半
導体Ｘ線検出器を有すると共に前記イメージングプレー
トを着脱可能とするイメージングプレートホルダと、前
記イメージングプレートを着脱する位置とＸ線撮影位置
との間で前記イメージングプレートホルダを往復移動さ
せると共にサプライマガジンから前記イメージングプレ
ートホルダに未撮影の前記イメージングプレートラ供給
し、前記イメージングプレートホルダからティクアップ
マガジンに撮影後の前記イメージンググレートを供給す
る移動供給装置とを具備することを特徴とする本のであ
る。
線拡大率全低減することができると共にマルチ採光型の
Ｘ線検出管することができるスポットショット装置全具
備するＸ線自動露出制御型のＸ線撮影装置を提供するこ
と金目的とするものである◎ 〔発明の概要〕 前記目的を達成するためのこの発明の概要は、被検体に
曝射したＸ線の線量を検出することによシ、必要なＸ線
量を自動的に制御するＸ線自動露出制御装置とスポット
ショット装置とを具備するＸ線撮影装置において、前記
スポットショット装置が、未撮影のイメージングプレー
トを収納したサプライマガジンと、撮影後の前記イメー
ジングプレート全収納するティクアップマガジンと、半
導体Ｘ線検出器を有すると共に前記イメージングプレー
トを着脱可能とするイメージングプレートホルダと、前
記イメージングプレートを着脱する位置とＸ線撮影位置
との間で前記イメージングプレートホルダを往復移動さ
せると共にサプライマガジンから前記イメージングプレ
ートホルダに未撮影の前記イメージングプレートラ供給
し、前記イメージングプレートホルダからティクアップ
マガジンに撮影後の前記イメージンググレートを供給す
る移動供給装置とを具備することを特徴とする本のであ
る。
第１図は、仁の発明の一実施例に係ル、いわゆるアンダ
ーテーブル形Ｘ＃テレビ寝台を示す一具体例であって、
主としてスポットショット装置を模式的に示す説明図、
第２図はイメージングプレートホルダを示す説明図およ
び第３図はＸ線自動露出制御装置を示す説明図である〇 第１図において、１で示すのはＸ線絞シ２を有するＸ線
管であシ、被検体４を載置する寝台天板３の下方に配置
されている０５で示すのはスポットショット装置であり
、寝台天板３の上方に配置される。６で示すのはイメー
ジインテンシファイア（Ｉ−Ｉ）であシ、スポットショ
ット装置６内でＩ・１６のＸ線入力面がＸ線管１と対向
するように配置される０７で示すのは光学系であυ、Ｉ
・Ｉ６の出力螢光像をテレビカメラ８に導びくように構
成されている。
ーテーブル形Ｘ＃テレビ寝台を示す一具体例であって、
主としてスポットショット装置を模式的に示す説明図、
第２図はイメージングプレートホルダを示す説明図およ
び第３図はＸ線自動露出制御装置を示す説明図である〇 第１図において、１で示すのはＸ線絞シ２を有するＸ線
管であシ、被検体４を載置する寝台天板３の下方に配置
されている０５で示すのはスポットショット装置であり
、寝台天板３の上方に配置される。６で示すのはイメー
ジインテンシファイア（Ｉ−Ｉ）であシ、スポットショ
ット装置６内でＩ・１６のＸ線入力面がＸ線管１と対向
するように配置される０７で示すのは光学系であυ、Ｉ
・Ｉ６の出力螢光像をテレビカメラ８に導びくように構
成されている。
スポットショット装置５は、多数の未撮影のイメージン
グプレート２０ｔ−収納すると共に図示しない駆動手段
によるレバー１４の図示矢印方向への駆動によって１枚
ずつイメージングプレート２０を後述の移動供給装置に
送シ込むサプライマガジン１２と、後述の移動供給装置
から送シ込まれた撮影済みのイメージングプレー） ２
０ｅ ｔ−収納するティクアップマガジン１６と、サプ
ライ１ガジン１２よシ送シ出されたイメージングプレー
ト２０α金、上下動可能な案内ローラ１５ｙ、１５ルお
よび位置固定のロー２群１５α〜１５ｆによシ着脱位置
Ｃに待機しているイメージングプレートホルダ１０に装
填し、次いで、イメージングプレート２０αを有するイ
メージングプレートホルダ１０ｔ−着脱位置ＣからＸ線
撮影位置Ａに適宜の搬送手段９により搬送し、ｘ＃撮影
の終了後に、Ｘ線撮影位置Ａから着脱位置ｑＫイメージ
ングプレートホルダ１０を前記搬送手段９によシもどじ
、着脱位置Ｃにあるイメージングプレートホルダ１０中
のイメージングプレート２０ｈ’を上下動可能な案内ロ
ーラ１５ｇ。
グプレート２０ｔ−収納すると共に図示しない駆動手段
によるレバー１４の図示矢印方向への駆動によって１枚
ずつイメージングプレート２０を後述の移動供給装置に
送シ込むサプライマガジン１２と、後述の移動供給装置
から送シ込まれた撮影済みのイメージングプレー） ２
０ｅ ｔ−収納するティクアップマガジン１６と、サプ
ライ１ガジン１２よシ送シ出されたイメージングプレー
ト２０α金、上下動可能な案内ローラ１５ｙ、１５ルお
よび位置固定のロー２群１５α〜１５ｆによシ着脱位置
Ｃに待機しているイメージングプレートホルダ１０に装
填し、次いで、イメージングプレート２０αを有するイ
メージングプレートホルダ１０ｔ−着脱位置ＣからＸ線
撮影位置Ａに適宜の搬送手段９により搬送し、ｘ＃撮影
の終了後に、Ｘ線撮影位置Ａから着脱位置ｑＫイメージ
ングプレートホルダ１０を前記搬送手段９によシもどじ
、着脱位置Ｃにあるイメージングプレートホルダ１０中
のイメージングプレート２０ｈ’を上下動可能な案内ロ
ーラ１５ｇ。
１５Ａおよび位置固定のローラ群１６α〜１６ｒＬによ
シテイクアツプマガジン１３に送シ込むように構成され
た移動供給装置とを具備する。なお、第１図において、
１１で示すのはＸ線用グリッドであるロイメージングプ
レートホルダ１０は、第２図に示すように、構成されて
いる。すなわち、たとえに１一端部に結合した蝶番２３
４中心にして図示矢印Ｄｌ、 Ｄ、方向に回動する上部
板２１、および、蝶番２６金介して結合され・ると共に
搬送手段９上に係合して着脱位置Ｃと撮影位置Ａとの間
で移動する下部板２４よシなる挾持体と、挾持するイメ
ージングプレート２０の位置ずれ防止のために上部板２
１の下面に貼着されたクッション材２２と、図示矢印方
向Ｘよシ曝射されるＸ線の線量を゛検出するために下部
板２４の上面に配設された半導体Ｘ線検出器６１と會具
備し、イメージングプレートホルダ１０が第１図に示す
着脱位置Ｃにあるとき、案内ローラ１５！ｉ、１５Ａお
よび位置固定のローラ群１５ａ〜１５ｆによるイメージ
ングプレート２０＠の搬送と同期して上部板２１が図示
矢印Ｄ！力方向回動してイメージングプｖ−）２０ｇ￥
ｒ受は入れ、イメージングプレート２０ｇが半導体Ｘ線
検出器３１上に配置されると上部板２１が図示矢印り雪
方向に回動して、イメージングプＬ／−）２０αをイメ
ージングプレートホルダ１０内に装填し、また、撮影終
了後にイメージンググレートホルダ１０が着脱位置ＣＩ
ｆＣあるときは、上部板２１が図示矢印り、方向に回動
するのと同期して、案内ロー−）１５ｙ、１５Ａがロー
２群１６α〜１６ｄの搬送路延長上に１降し、図示しな
い取ル出し装置たとえば吸引カップでイメージングプレ
ートホルダ１ｏ内のイメージングプレート２０ｈｔｌ−
取ル出して案内ローラ１５ｙ 、 １５におよびロー２
群１６１Ｅ〜１６ｄの搬送路上に案内するように構成さ
れている。
シテイクアツプマガジン１３に送シ込むように構成され
た移動供給装置とを具備する。なお、第１図において、
１１で示すのはＸ線用グリッドであるロイメージングプ
レートホルダ１０は、第２図に示すように、構成されて
いる。すなわち、たとえに１一端部に結合した蝶番２３
４中心にして図示矢印Ｄｌ、 Ｄ、方向に回動する上部
板２１、および、蝶番２６金介して結合され・ると共に
搬送手段９上に係合して着脱位置Ｃと撮影位置Ａとの間
で移動する下部板２４よシなる挾持体と、挾持するイメ
ージングプレート２０の位置ずれ防止のために上部板２
１の下面に貼着されたクッション材２２と、図示矢印方
向Ｘよシ曝射されるＸ線の線量を゛検出するために下部
板２４の上面に配設された半導体Ｘ線検出器６１と會具
備し、イメージングプレートホルダ１０が第１図に示す
着脱位置Ｃにあるとき、案内ローラ１５！ｉ、１５Ａお
よび位置固定のローラ群１５ａ〜１５ｆによるイメージ
ングプレート２０＠の搬送と同期して上部板２１が図示
矢印Ｄ！力方向回動してイメージングプｖ−）２０ｇ￥
ｒ受は入れ、イメージングプレート２０ｇが半導体Ｘ線
検出器３１上に配置されると上部板２１が図示矢印り雪
方向に回動して、イメージングプＬ／−）２０αをイメ
ージングプレートホルダ１０内に装填し、また、撮影終
了後にイメージンググレートホルダ１０が着脱位置ＣＩ
ｆＣあるときは、上部板２１が図示矢印り、方向に回動
するのと同期して、案内ロー−）１５ｙ、１５Ａがロー
２群１６α〜１６ｄの搬送路延長上に１降し、図示しな
い取ル出し装置たとえば吸引カップでイメージングプレ
ートホルダ１ｏ内のイメージングプレート２０ｈｔｌ−
取ル出して案内ローラ１５ｙ 、 １５におよびロー２
群１６１Ｅ〜１６ｄの搬送路上に案内するように構成さ
れている。
イメージングプレートホルダ１０内に配置されている半
導体Ｘ線検出器６１は、曝射されたＸ線の線量を検４出
するものであシ、たとえば、次のように構成されている
。すなわち、半導体検出素子２８は略リング状ｔ−７）
すマウント台２９にマウントされ、その後表面・裏面に
電極（図示せず）が被着されている◎こうしてマウント
台２９に一体的にマウントされたＸ線検出素子２８ｔ−
固定板２７に設けた穴に嵌合して固定し、電極引出し線
６０α。
導体Ｘ線検出器６１は、曝射されたＸ線の線量を検４出
するものであシ、たとえば、次のように構成されている
。すなわち、半導体検出素子２８は略リング状ｔ−７）
すマウント台２９にマウントされ、その後表面・裏面に
電極（図示せず）が被着されている◎こうしてマウント
台２９に一体的にマウントされたＸ線検出素子２８ｔ−
固定板２７に設けた穴に嵌合して固定し、電極引出し線
６０α。
５０ｂ？配設している。ここで、マウント台２９および
固定板２７には例えばアクリル樹脂などＸ線減弱の小さ
い材料を用ｉる。また、Ｘ線検出素子２８はその厚みを
、Ｘ線減弱に関するアルミニウム換算（すなわちＸ線ア
ルン二つム当量）で１００〜８００μ凰とし、電極引出
し線６０α、６０ｈは厚さ８０μ罵以下のアルミニウム
膜で形成する。そして、これらの両面はそれぞれ絶縁用
の薄膜２６ｔ−介して電磁シールド用のアルミ箔２５で
覆われている。
固定板２７には例えばアクリル樹脂などＸ線減弱の小さ
い材料を用ｉる。また、Ｘ線検出素子２８はその厚みを
、Ｘ線減弱に関するアルミニウム換算（すなわちＸ線ア
ルン二つム当量）で１００〜８００μ凰とし、電極引出
し線６０α、６０ｈは厚さ８０μ罵以下のアルミニウム
膜で形成する。そして、これらの両面はそれぞれ絶縁用
の薄膜２６ｔ−介して電磁シールド用のアルミ箔２５で
覆われている。
以上構成の半導体検出器４０は、５園厚程度に形成する
ことができる。
ことができる。
たお、イメージングプレートホルダ１０には、前記半導
体Ｘ線検出器６１中の電極引出し線６０α。
体Ｘ線検出器６１中の電極引出し線６０α。
３０Ａと接続した雄型コネクタ（図示せず）が設けられ
ておル、イメージングホルダ１０が撮影位置Ａに位置す
ると図示しない雌型コネクタと前記雄型コネクタとが結
合して前記半導体Ｘ線検出器３１によシ出力されるＸ線
検出信号を後述のＸ線自動露出制御装置に出力するよう
に構成されている。
ておル、イメージングホルダ１０が撮影位置Ａに位置す
ると図示しない雌型コネクタと前記雄型コネクタとが結
合して前記半導体Ｘ線検出器３１によシ出力されるＸ線
検出信号を後述のＸ線自動露出制御装置に出力するよう
に構成されている。
Ｘ線自動露出制御装置は、第６図に示すように、増幅器
４０と制御信号発生装置５０とを具備し、イメージング
プレートホルダ１０内に設置された半導体Ｘ線検出器３
１よシ出力されるＸ線検出信号を増幅器４０で増幅し、
次いで、これを入力する制御信号発生装置５０は、被検
体４のＸ線像が最適の露出状態になった時点を入力信号
から判断し、Ｘ線制御器６０へＸ線しゃ断信号を送シ、
Ｘ線制御器６０はこの信号によって高電圧発生装置７０
ｔ−制御してＸ線管装置１によるＸ線の曝射會停止させ
るように構成されている。
４０と制御信号発生装置５０とを具備し、イメージング
プレートホルダ１０内に設置された半導体Ｘ線検出器３
１よシ出力されるＸ線検出信号を増幅器４０で増幅し、
次いで、これを入力する制御信号発生装置５０は、被検
体４のＸ線像が最適の露出状態になった時点を入力信号
から判断し、Ｘ線制御器６０へＸ線しゃ断信号を送シ、
Ｘ線制御器６０はこの信号によって高電圧発生装置７０
ｔ−制御してＸ線管装置１によるＸ線の曝射會停止させ
るように構成されている。
イメージングプレート２０は、Ｘ線の線量に応じた電荷
量ｔその表面に蓄積し、電荷量を蓄積したその表面に熱
あるいは光エネルギによる輝尽用の読み出し照射上行な
うと電荷量に応じた電気信号全出力す、ることのできる
厚さ約１ｍの蓄積性螢光体であシ、たとえば、この出願
人による特許出願昭和５７年第６４６８５号の明細書に
記載されているように、バイアス電源で逆バイアスされ
た基板たとえばステンレス基板上に、Ｘ線照射量に比例
した電荷量で電子を禁制帯中のエネルギ局在単位にトラ
ップする二次元物質層たとえばアモルファスシリコン層
と前記二次元物質層内にトラップされた電荷の分布に対
応する電気信号を取シ出すためのたとえばＩｎ２０Ｂ−
５ルＯ意等の透明導電物質層とｔζ？順序に積層してな
る積層板を好適に使用することができる。ただし、この
場合、基板と積層板との間に絶縁をしておくことはいう
までもない◎また、イメージングプレート６６として、
特開昭５６−１１３４６号、特開昭５６−１２５９９号
、特開昭５５−１５０２５号、特開昭５６−１８７９８
号等の公開公報に記載された蓄積性螢光体も使用するこ
とができる。
量ｔその表面に蓄積し、電荷量を蓄積したその表面に熱
あるいは光エネルギによる輝尽用の読み出し照射上行な
うと電荷量に応じた電気信号全出力す、ることのできる
厚さ約１ｍの蓄積性螢光体であシ、たとえば、この出願
人による特許出願昭和５７年第６４６８５号の明細書に
記載されているように、バイアス電源で逆バイアスされ
た基板たとえばステンレス基板上に、Ｘ線照射量に比例
した電荷量で電子を禁制帯中のエネルギ局在単位にトラ
ップする二次元物質層たとえばアモルファスシリコン層
と前記二次元物質層内にトラップされた電荷の分布に対
応する電気信号を取シ出すためのたとえばＩｎ２０Ｂ−
５ルＯ意等の透明導電物質層とｔζ？順序に積層してな
る積層板を好適に使用することができる。ただし、この
場合、基板と積層板との間に絶縁をしておくことはいう
までもない◎また、イメージングプレート６６として、
特開昭５６−１１３４６号、特開昭５６−１２５９９号
、特開昭５５−１５０２５号、特開昭５６−１８７９８
号等の公開公報に記載された蓄積性螢光体も使用するこ
とができる。
以上のようにＸ線撮影装置を構成すると、次のような作
用、効果を奏する。たとえば、Ｘ線透視のときは、スポ
ットショット装置５において、イメージングプレートホ
ルダ１ｏｔ−撮影位置Ａ以外の位置に退避しておく。そ
うすると、透視系内にイメージングプレートホルダ１ｏ
が介在しないので、被検体の鮮明なＸ線透視像を得るこ
とができる。これは、従来の固定式薄形フォトタイマー
採用のＸ線撮影装置では実現することができないことで
ある。また、Ｘ線速写撮影の場合、Ｘ線撮影装置は次の
ように動作する０すなわち、初期位置としてイメージン
グプレートホルダ１０Ｈ着脱位置Ｃに位置しておシ、サ
プライマガジン１２中に収納されているイメージングプ
レート２０がレバー１４によジロー２群１５α〜１５／
の搬送路上に送シ出され、イメージングプレー）２０の
搬送に同期してイメージングプレートホルダ１０の上部
板２１が第２図中の矢印ＤＩ方向に回動し、送シ出され
てきたイメージングプレート２０がイメージングプレー
トホルダ１０中の半導体Ｘ線検出器３１上に配置された
後、上部板２１が第２図矢印り、方向に回動することに
よって、イメージングプレート２０がイメージングプレ
ートホルダ１０に４５１１、装填されることになる。次
いで、イメージンググレートホルダ１０は、着脱位置Ｃ
から搬送手段９によシ撮影位置Ａへと搬送され、Ｘ線撮
影が行なわれる。この際、Ｘ線管１よシＸ線が曝射され
ると、イメージングプレートホルダ１０内の半導体Ｘ線
検出器３１によ、６Ｘ線の線量全検出し、得られる検出
信号を入力する前述のＸ線自動露出制御装置によってＸ
線管１よシ曝射されるＸｉＩ！の線量が調節され、その
Ｘ線量管もって被検体４のＸ線像がイメージングプレー
ト２０に撮像される口このとき、Ｘ線は半導体Ｘ線検出
器６１を透過した後にイメージングプレー）２０に到達
するのであるが、半導体Ｘ線検出器６１は、Ｘ線減弱の
小さな材料でマウント台２９を構成し、Ｘ線減弱に関す
る。ａ換算で１００〜８００μ胃の厚みにＸ線検出素子
２８を構成する勢、独特の構造を有するので、Ｘ線検出
素子２８部分によるＸ線陰影のないＸ線像ｔイメージン
グプレート２０に撮像することができる。また、半導体
Ｘ線検出器３１の前記構造によシ、その全体の厚みｔ−
５ｍ以内にすることができるので、イメージングプＶ−
） ２０と被検体４との距離を従来のＸ線撮影装置にお
けるよ）も短かくすることができ、その結果、Ｘ線拡大
率を低めることができるのでボケのない鮮明なＸ線像を
得る仁とができる。さらに、半導体Ｘ線検出器６１を用
いているので、７オトマ／Ｉ／ヲ使用する従来の薄形フ
ォトタイマーのように、１０００Ｖ程度の高電圧を要す
ることがな０→、従って、電気的実装を簡便にすること
ができる０次に、Ｘ線撮影が終了すると、イメージング
プレートホルダ１０社、Ｘ線撮影位置Ａかも着脱位置Ｃ
へと移動し、上部板２１ｔ−第２図中の矢印Ｄ１方向に
回動させ一イメージングプレートホルダ１０内の撮影済
みのイメージングプレート２０ｔ−図示しない取シ出し
装置たとえば吸引カップでロー９１５！Ｉ、１５Ａ、１
６ｇ〜１６ｄの搬送路上に移送し、イメージングプレー
ト２０ （２０Ｃ） ｔティクアップマガジン１３内に
収納する。この後、イメージングプレートホルダ１０は
、次の撮影のために、着脱位置ＣＫ待機する。
用、効果を奏する。たとえば、Ｘ線透視のときは、スポ
ットショット装置５において、イメージングプレートホ
ルダ１ｏｔ−撮影位置Ａ以外の位置に退避しておく。そ
うすると、透視系内にイメージングプレートホルダ１ｏ
が介在しないので、被検体の鮮明なＸ線透視像を得るこ
とができる。これは、従来の固定式薄形フォトタイマー
採用のＸ線撮影装置では実現することができないことで
ある。また、Ｘ線速写撮影の場合、Ｘ線撮影装置は次の
ように動作する０すなわち、初期位置としてイメージン
グプレートホルダ１０Ｈ着脱位置Ｃに位置しておシ、サ
プライマガジン１２中に収納されているイメージングプ
レート２０がレバー１４によジロー２群１５α〜１５／
の搬送路上に送シ出され、イメージングプレー）２０の
搬送に同期してイメージングプレートホルダ１０の上部
板２１が第２図中の矢印ＤＩ方向に回動し、送シ出され
てきたイメージングプレート２０がイメージングプレー
トホルダ１０中の半導体Ｘ線検出器３１上に配置された
後、上部板２１が第２図矢印り、方向に回動することに
よって、イメージングプレート２０がイメージングプレ
ートホルダ１０に４５１１、装填されることになる。次
いで、イメージンググレートホルダ１０は、着脱位置Ｃ
から搬送手段９によシ撮影位置Ａへと搬送され、Ｘ線撮
影が行なわれる。この際、Ｘ線管１よシＸ線が曝射され
ると、イメージングプレートホルダ１０内の半導体Ｘ線
検出器３１によ、６Ｘ線の線量全検出し、得られる検出
信号を入力する前述のＸ線自動露出制御装置によってＸ
線管１よシ曝射されるＸｉＩ！の線量が調節され、その
Ｘ線量管もって被検体４のＸ線像がイメージングプレー
ト２０に撮像される口このとき、Ｘ線は半導体Ｘ線検出
器６１を透過した後にイメージングプレー）２０に到達
するのであるが、半導体Ｘ線検出器６１は、Ｘ線減弱の
小さな材料でマウント台２９を構成し、Ｘ線減弱に関す
る。ａ換算で１００〜８００μ胃の厚みにＸ線検出素子
２８を構成する勢、独特の構造を有するので、Ｘ線検出
素子２８部分によるＸ線陰影のないＸ線像ｔイメージン
グプレート２０に撮像することができる。また、半導体
Ｘ線検出器３１の前記構造によシ、その全体の厚みｔ−
５ｍ以内にすることができるので、イメージングプＶ−
） ２０と被検体４との距離を従来のＸ線撮影装置にお
けるよ）も短かくすることができ、その結果、Ｘ線拡大
率を低めることができるのでボケのない鮮明なＸ線像を
得る仁とができる。さらに、半導体Ｘ線検出器６１を用
いているので、７オトマ／Ｉ／ヲ使用する従来の薄形フ
ォトタイマーのように、１０００Ｖ程度の高電圧を要す
ることがな０→、従って、電気的実装を簡便にすること
ができる０次に、Ｘ線撮影が終了すると、イメージング
プレートホルダ１０社、Ｘ線撮影位置Ａかも着脱位置Ｃ
へと移動し、上部板２１ｔ−第２図中の矢印Ｄ１方向に
回動させ一イメージングプレートホルダ１０内の撮影済
みのイメージングプレート２０ｔ−図示しない取シ出し
装置たとえば吸引カップでロー９１５！Ｉ、１５Ａ、１
６ｇ〜１６ｄの搬送路上に移送し、イメージングプレー
ト２０ （２０Ｃ） ｔティクアップマガジン１３内に
収納する。この後、イメージングプレートホルダ１０は
、次の撮影のために、着脱位置ＣＫ待機する。
そして、再び次のＸ線撮影についての一連の動作が続く
ことになる。得られ几撮影済みのイメージングプレート
２０は、輝尽用の読み出し照射によシ記録されＦｊＸ線
像を再生する画像処理装置に供することによって、Ｘ線
像上可視像として表示することができる。・ 以上、この発明の一実施例について詳述したが、この発
明は前記実施例に限定されるものではなく、この発明の
要旨を変更しない範囲内で適宜に変形して実施すること
ができる。
ことになる。得られ几撮影済みのイメージングプレート
２０は、輝尽用の読み出し照射によシ記録されＦｊＸ線
像を再生する画像処理装置に供することによって、Ｘ線
像上可視像として表示することができる。・ 以上、この発明の一実施例について詳述したが、この発
明は前記実施例に限定されるものではなく、この発明の
要旨を変更しない範囲内で適宜に変形して実施すること
ができる。
たとえば、半導体Ｘ線検出器３１０強度を補償する友め
に、１鴫厚程度のＣＦＲＰ ’＠：固定板２７に貼付し
てもよい。
に、１鴫厚程度のＣＦＲＰ ’＠：固定板２７に貼付し
てもよい。
また、半導体Ｘ線検出器６１中には、第２図に示すよう
に、複数のＸ線検出素子２８ｔ−適宜に配置しておいて
もよい。このように、適宜の位置に複数のＸ線検出素子
２Ｂ’ｔ−配置しておくと、マルチ採光野全可能とする
ことができる。
に、複数のＸ線検出素子２８ｔ−適宜に配置しておいて
もよい。このように、適宜の位置に複数のＸ線検出素子
２Ｂ’ｔ−配置しておくと、マルチ採光野全可能とする
ことができる。
以上に詳述したこの発明によると次のような効果を奏す
ることができる０すなわち、半導体Ｘ線検出器を組み込
んだイメージングプレートホルダ全スポットショット装
置内で撮影位置から着脱位置へと退避させる仁とができ
るので、Ｘ線透視の際、Ｘ線減弱のない鮮明なＸ線画像
を表示することができるＯＸ線速写撮影においても、半
導体Ｘ線検出器のＸ線減弱率が小さいので、イメージン
グプレートに鮮明なＸ線像を撮像することができる０ま
た、半導体Ｘ線検出器内の適宜の位置に複数のＸ線検出
素子を配列すると、マルチ採光野を可能とすることがで
きる。しかも、半導体Ｘ線検出器の全体の厚みを薄くす
ることができるので、被検体とイメージングプレートと
の距離を小さくすることにより、Ｘ＋ｗ拡大率を小さく
することができ、ボケのない鮮明なＸ線像をイメージン
グプレートに撮像することができる。
ることができる０すなわち、半導体Ｘ線検出器を組み込
んだイメージングプレートホルダ全スポットショット装
置内で撮影位置から着脱位置へと退避させる仁とができ
るので、Ｘ線透視の際、Ｘ線減弱のない鮮明なＸ線画像
を表示することができるＯＸ線速写撮影においても、半
導体Ｘ線検出器のＸ線減弱率が小さいので、イメージン
グプレートに鮮明なＸ線像を撮像することができる０ま
た、半導体Ｘ線検出器内の適宜の位置に複数のＸ線検出
素子を配列すると、マルチ採光野を可能とすることがで
きる。しかも、半導体Ｘ線検出器の全体の厚みを薄くす
ることができるので、被検体とイメージングプレートと
の距離を小さくすることにより、Ｘ＋ｗ拡大率を小さく
することができ、ボケのない鮮明なＸ線像をイメージン
グプレートに撮像することができる。
第１図はとの発明の一実施例を示す説明図、第２図はイ
メージングプレートホルダを示す断面図、および第６図
はｘｆｌＪ自動露出制御装置を示す説明図である。 ４・・・’［ｋ体、 ５・・・スポットショット装置
、１０・・・イメージングプレートホルダ、 １２・
・・サプライマガジン、 １３・・・ティクアップマ
ガジン、２０・・・イメージングプレート、 ２７・
・・固定板、２８・・・Ｘ線検出素子、 ２９・・・マ
ウント台、６０α、６０ｈ・・・電極引出し線、 ６
１・・・半導体Ｘ線検出器、 Ａ・・・ＸｇＪ撮影位置
、 Ｃ・・・着脱位置。
メージングプレートホルダを示す断面図、および第６図
はｘｆｌＪ自動露出制御装置を示す説明図である。 ４・・・’［ｋ体、 ５・・・スポットショット装置
、１０・・・イメージングプレートホルダ、 １２・
・・サプライマガジン、 １３・・・ティクアップマ
ガジン、２０・・・イメージングプレート、 ２７・
・・固定板、２８・・・Ｘ線検出素子、 ２９・・・マ
ウント台、６０α、６０ｈ・・・電極引出し線、 ６
１・・・半導体Ｘ線検出器、 Ａ・・・ＸｇＪ撮影位置
、 Ｃ・・・着脱位置。
Claims (2)
- （１）被検体に曝射したＸ線の線量を検出することＫよ
シ、必要なＸ線量管自動的に制御するＸ線自動露出制御
装置とスポットショット装置とを具備するＸ＠撮影装置
において、前記スポットショット装置が、未撮影のイメ
ージングプレートを収納したサプライマガジンと、撮影
後の前記イメージングプレートを収納するティクアップ
マガジンと、半導体Ｘ線検出器金有すると共に前記イメ
ージングプレートを着脱可能とするイメージンググレー
トホルダと、前記イメージングプレートを着脱する位置
とＸ線撮影位置との間で前記イメージングプＶ−）ホル
ダを往復移動させると共にサブ２イマガジンから前記イ
メージングプレートホルダに未撮影の前記イメージング
プレート金供給し、前記イメージングプレートホルダか
らティクアップマガジンに撮影後の前記イメージングプ
レートを供給する移動供給装置とを具備することを特徴
とするＸ線撮影装置。 - （２）前記半導体Ｘ線検出器が、Ｘ線減弱量に関するア
ルミニウム換算で８００μｍ以下の厚みを有する半導体
Ｘ線検出素子を、外周および内周部にテーパをつけた１
ラント台に一体的にマウントして固定板に設けられた孔
に嵌合固定し、前記検出素子から厚さ８０μｍ以下のア
ル１＝ウム膜よシなる電極引き出し線を配設して構成さ
れることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のＸ
線撮影装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57106192A JPS5945A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | Ｘ線撮影装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57106192A JPS5945A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | Ｘ線撮影装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5945A true JPS5945A (ja) | 1984-01-05 |
| JPH0411211B2 JPH0411211B2 (ja) | 1992-02-27 |
Family
ID=14427320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57106192A Granted JPS5945A (ja) | 1982-06-22 | 1982-06-22 | Ｘ線撮影装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5945A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60225541A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-09 | 富士写真フイルム株式会社 | エネルギ−サブトラクシヨン用高速撮影装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52148058U (ja) * | 1976-05-07 | 1977-11-09 | ||
| JPS56119876A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-19 | Toshiba Corp | Semiconductor x-ray detector |
-
1982
- 1982-06-22 JP JP57106192A patent/JPS5945A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52148058U (ja) * | 1976-05-07 | 1977-11-09 | ||
| JPS56119876A (en) * | 1980-02-27 | 1981-09-19 | Toshiba Corp | Semiconductor x-ray detector |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60225541A (ja) * | 1984-04-24 | 1985-11-09 | 富士写真フイルム株式会社 | エネルギ−サブトラクシヨン用高速撮影装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0411211B2 (ja) | 1992-02-27 |
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