JPS5946434B2 - 半導体レ−ザ装置 - Google Patents
半導体レ−ザ装置Info
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- JPS5946434B2 JPS5946434B2 JP53001348A JP134878A JPS5946434B2 JP S5946434 B2 JPS5946434 B2 JP S5946434B2 JP 53001348 A JP53001348 A JP 53001348A JP 134878 A JP134878 A JP 134878A JP S5946434 B2 JPS5946434 B2 JP S5946434B2
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- Japan
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- semiconductor laser
- glass
- optical window
- metal
- window
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/02208—Mountings; Housings characterised by the shape of the housings
- H01S5/02212—Can-type, e.g. TO-CAN housings with emission along or parallel to symmetry axis
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/024—Arrangements for thermal management
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- H10H—INORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
- H10H20/00—Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
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- H10H20/85—Packages
- H10H20/8506—Containers
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体レーザ素子からの出力光を取り出す光学
的窓と、該窓を支持する支持部材とを有する半導体レー
ザ装置に関する。
的窓と、該窓を支持する支持部材とを有する半導体レー
ザ装置に関する。
第1図は本発明を応用できる半導体レーザ装置の一部を
破断した斜視図であつて、図面の都合上各素子のリード
線は省略してある。
破断した斜視図であつて、図面の都合上各素子のリード
線は省略してある。
図に石いて、1は金属より成る基台部、2は光学的窓3
を支持し半導体レーザ素子4等を保護する為の支持部材
としての円筒部であり、円筒部2と基台部1と光学的窓
3により密閉空間を形成するものである。かかる密閉空
間には、その一部を前記円筒部2及び基台部1に密着固
定した金属ブロック5を載置する。この冷却ユニット6
はペルチエ素子7より成るものであり、8は放熱端部、
9は冷却端部であるが、この放熱端部8は前記ブロック
5と密着して固定して成るものである。したがつて、冷
却ユニット6を駆動することにより、金属板よりなる前
記放熱端部8が発熱すると、この熱はブロック5を介し
て円筒部2もしくは基台部1に伝達され、かかる円筒部
2、基台部1により外部に発散させるものである。
を支持し半導体レーザ素子4等を保護する為の支持部材
としての円筒部であり、円筒部2と基台部1と光学的窓
3により密閉空間を形成するものである。かかる密閉空
間には、その一部を前記円筒部2及び基台部1に密着固
定した金属ブロック5を載置する。この冷却ユニット6
はペルチエ素子7より成るものであり、8は放熱端部、
9は冷却端部であるが、この放熱端部8は前記ブロック
5と密着して固定して成るものである。したがつて、冷
却ユニット6を駆動することにより、金属板よりなる前
記放熱端部8が発熱すると、この熱はブロック5を介し
て円筒部2もしくは基台部1に伝達され、かかる円筒部
2、基台部1により外部に発散させるものである。
一方、金属板等より成る前記冷却端部9の上に半導体レ
ーザ素子4を載置固定する。
ーザ素子4を載置固定する。
半導体レーザ素子に電圧を印加することにより、レーザ
光Li、L2を放射するものである。また11はフォト
ダイオードの如き光検出器でレーザ光L2を検出する。
12は温度検出器でその検出出力により半導体レーザ素
子4の温度を一定に保つものである。
光Li、L2を放射するものである。また11はフォト
ダイオードの如き光検出器でレーザ光L2を検出する。
12は温度検出器でその検出出力により半導体レーザ素
子4の温度を一定に保つものである。
13は電源等への接続端子である。
前記光学的窓は通常ガラスで形成され、前記光学的窓3
と円筒部2との接合は、気密性を必要とする為、ガラス
融着法により行なわれていた。
と円筒部2との接合は、気密性を必要とする為、ガラス
融着法により行なわれていた。
第2図に従来の半導体レーザ装置の円筒部と光学的窓を
示す。作製法は次の通りである。まず必要とするサイズ
に加工された円筒部2と光学的窓3を所定の位置にセッ
トし、これを前記光学的窓3のガラスの材質によつて決
まる温度(一般には400〜500℃)の炉に入れゆつ
くり炉中で融着させる。
示す。作製法は次の通りである。まず必要とするサイズ
に加工された円筒部2と光学的窓3を所定の位置にセッ
トし、これを前記光学的窓3のガラスの材質によつて決
まる温度(一般には400〜500℃)の炉に入れゆつ
くり炉中で融着させる。
その後、炉冷あるいは空冷の後完成する。しかしながら
、ガラス融着法によると接着は十分に行なわれるが、高
温で処理されるのでガラス面に歪を生じ、またガラス内
に処理、泡の発生等の問題を生ずる。したがつて半導体
レーザ素子からのレーザ光をレンズ系で結像させると、
結像スポツトの大きさが本来のものより大きくなり、高
解像性を有する機器には使用できない欠点があつた。本
発明は上述の如き欠点を除いた半導体レーザ装置を提供
することを目的としている。
、ガラス融着法によると接着は十分に行なわれるが、高
温で処理されるのでガラス面に歪を生じ、またガラス内
に処理、泡の発生等の問題を生ずる。したがつて半導体
レーザ素子からのレーザ光をレンズ系で結像させると、
結像スポツトの大きさが本来のものより大きくなり、高
解像性を有する機器には使用できない欠点があつた。本
発明は上述の如き欠点を除いた半導体レーザ装置を提供
することを目的としている。
更に詳細に言えば、半導体レーザ素子からの出力光を取
り出す光学的窓と、該窓を支持する支持部材とを有する
半導体レーザ装置において、前記光学的窓と前記支持部
材とを軟ロウ金属により気密接着したことを特徴とする
半導体レーザ装置を提供することを目的としている。本
発明による半導体レーザ装置を図面を用いて以下に説明
する。
り出す光学的窓と、該窓を支持する支持部材とを有する
半導体レーザ装置において、前記光学的窓と前記支持部
材とを軟ロウ金属により気密接着したことを特徴とする
半導体レーザ装置を提供することを目的としている。本
発明による半導体レーザ装置を図面を用いて以下に説明
する。
第3図は本発明のレーザ装置の光学的窓と該窓の支持部
材としての円筒部の断面図を示したものである。図に石
いて、2は円筒部、3′は光学的窓ガラス、15は軟ロ
ウ金属である。前記窓ガラス丁と円筒部2の材質は熱膨
張係数が同じあるいは近いものる選び、第4図に示すよ
うに前記窓ガラスぎは接合部のみを残し使用半導体レー
ザの波長に合わせたコーテイング層16を設けたものを
用いている。光学用窓ぎと、円筒部2との接合方法を第
5図を用いて説明する。
材としての円筒部の断面図を示したものである。図に石
いて、2は円筒部、3′は光学的窓ガラス、15は軟ロ
ウ金属である。前記窓ガラス丁と円筒部2の材質は熱膨
張係数が同じあるいは近いものる選び、第4図に示すよ
うに前記窓ガラスぎは接合部のみを残し使用半導体レー
ザの波長に合わせたコーテイング層16を設けたものを
用いている。光学用窓ぎと、円筒部2との接合方法を第
5図を用いて説明する。
まず円筒部2をホツトプレート18の上に乗せ、円筒部
2に軟ロウ金属15をのせる。円筒部は前記軟ロウ金属
の融点より20〜100℃程度高温に保持し、コーテイ
ングされた光学的窓ぎを円筒部2の使定の位置にのせ、
超音波ボンダーチツプ17で前記光学的窓ガラスぎと円
筒部2に適当な圧力と超音波出力により、数秒以内で接
合を行ない、その後ゆつくり冷却を行ない接合が完了す
る。光学的窓ガラスぎは全く溶けることなく、つまり窓
ガラス3′が軟化変形することなく軟ロウ金属15のみ
が溶け、軟ロウ金属内の元素と光学的窓ガラス内の酸素
とが化学結合する。また軟ロウ金属15は円筒部2が金
属でできているとすれば円筒部2内に拡散して結合する
ものである。また温度の上昇により窓ガラス3′と円筒
部2は膨張するので、できれば膨張係数の等しいもの同
志の方が歪を?こすことなく結合できるものである。し
たがつて、窓ガラス3′の面精度・は接合前と接合後で
ほとんど変化しないものである。な8光学的窓ガラス3
′のコーテイングはレーザ光の透過量、反射光量を問題
にしなければする必要がない。
2に軟ロウ金属15をのせる。円筒部は前記軟ロウ金属
の融点より20〜100℃程度高温に保持し、コーテイ
ングされた光学的窓ぎを円筒部2の使定の位置にのせ、
超音波ボンダーチツプ17で前記光学的窓ガラスぎと円
筒部2に適当な圧力と超音波出力により、数秒以内で接
合を行ない、その後ゆつくり冷却を行ない接合が完了す
る。光学的窓ガラスぎは全く溶けることなく、つまり窓
ガラス3′が軟化変形することなく軟ロウ金属15のみ
が溶け、軟ロウ金属内の元素と光学的窓ガラス内の酸素
とが化学結合する。また軟ロウ金属15は円筒部2が金
属でできているとすれば円筒部2内に拡散して結合する
ものである。また温度の上昇により窓ガラス3′と円筒
部2は膨張するので、できれば膨張係数の等しいもの同
志の方が歪を?こすことなく結合できるものである。し
たがつて、窓ガラス3′の面精度・は接合前と接合後で
ほとんど変化しないものである。な8光学的窓ガラス3
′のコーテイングはレーザ光の透過量、反射光量を問題
にしなければする必要がない。
軟ロウ金属15の融点が低いので窓ガラス3′に歪脈理
、泡等を生ずることなく接合を完了できるものである。
、泡等を生ずることなく接合を完了できるものである。
このようにして作られた光学的窓ガラスぎと円筒部2で
構成される円筒部内に乾燥空気あるいはチツソを充填し
、または真空状態にし半導体レーザの基台部1に気密シ
ールする事により半導体レーザの寿命は伸び各種環境に
εいても安定な特性を示すようになる。
構成される円筒部内に乾燥空気あるいはチツソを充填し
、または真空状態にし半導体レーザの基台部1に気密シ
ールする事により半導体レーザの寿命は伸び各種環境に
εいても安定な特性を示すようになる。
以下に本発明を実施化する為に行なつた実験結果につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
実施例 1
円筒部2の材質は(29Ni−18C0一残Fe)合金
、光学的窓ガラスぎは光学的窓ガラスE2、熱膨張係数
(線膨張係数)はそれぞれ合金 47×10−7/℃ガ
ラス49X10−7/℃ のものを用い軟ロウ金属は市販品の(Sn−Pb)合金
と各種添加元素を含んだ融点190℃のもの(後述)を
使用した。
、光学的窓ガラスぎは光学的窓ガラスE2、熱膨張係数
(線膨張係数)はそれぞれ合金 47×10−7/℃ガ
ラス49X10−7/℃ のものを用い軟ロウ金属は市販品の(Sn−Pb)合金
と各種添加元素を含んだ融点190℃のもの(後述)を
使用した。
まず円筒部の窓ガラスののる部分に超音波ボンダーにて
軟ロウ金属をのせる。この時軟ロウ金属が多すぎるとガ
ラス面に軟ロウ金属がはみ出し、レーザ光をさえぎるこ
とがあるので軟ロウ金属は適量とする。次にホツトプレ
ートを220〜240℃に保持し、ホツトプレート上に
円筒部をのせ軟ロウ金属を溶かしておく。
軟ロウ金属をのせる。この時軟ロウ金属が多すぎるとガ
ラス面に軟ロウ金属がはみ出し、レーザ光をさえぎるこ
とがあるので軟ロウ金属は適量とする。次にホツトプレ
ートを220〜240℃に保持し、ホツトプレート上に
円筒部をのせ軟ロウ金属を溶かしておく。
そしてコーテイングされた窓ガラスを円筒部の所定の位
置に置き、超音波ボンダーにて約51<9/Cll位の
圧力をかけ適当な強さの超音波を数秒かけることにより
、窓ガラスと円筒部との接合を行なつた。その後、断熱
材上におさ空冷した。でき上がつた半導体レーザの光学
ガラスのガラス面の歪を波長λ=830nmの光を用い
て干渉計で測定した所、すべてのサンプルの表面の歪が
理想面に対してλ/3以内の歪に収つていた。
置に置き、超音波ボンダーにて約51<9/Cll位の
圧力をかけ適当な強さの超音波を数秒かけることにより
、窓ガラスと円筒部との接合を行なつた。その後、断熱
材上におさ空冷した。でき上がつた半導体レーザの光学
ガラスのガラス面の歪を波長λ=830nmの光を用い
て干渉計で測定した所、すべてのサンプルの表面の歪が
理想面に対してλ/3以内の歪に収つていた。
一方接合部の接着強度も10kg/CTll以上の値が
得られて右り、気密度もヘリウムリークテストの結果ま
つたくもれは検出されなかつた。また結像特件を調べた
所、設計上100μmの結像スポツトの径がほぼ100
μmの値を示した。一方従来の方法で作られた半導体レ
ーザの光学的窓を使用した所同じ測定条件にδいてガラ
スの中心部で150μmのスポツト径となり約2λの歪
があつた。周辺部での歪は極めて大きくなつている。実
施例 2円筒部の材質は(18Cr−8Ni)合金、窓
ガラスは光学ガラ゛スF2を用い、熱膨張係数(線膨張
係数)はそれぞれ合金 9.6〜10.4×10−6
/℃F28.7×10−6/℃ であり、軟ロウ金属は実施例1と同じものを使い、実施
例1と同じ実験を行なつた所、歪,気密度はほぼ司じ結
果を得ることができた。
得られて右り、気密度もヘリウムリークテストの結果ま
つたくもれは検出されなかつた。また結像特件を調べた
所、設計上100μmの結像スポツトの径がほぼ100
μmの値を示した。一方従来の方法で作られた半導体レ
ーザの光学的窓を使用した所同じ測定条件にδいてガラ
スの中心部で150μmのスポツト径となり約2λの歪
があつた。周辺部での歪は極めて大きくなつている。実
施例 2円筒部の材質は(18Cr−8Ni)合金、窓
ガラスは光学ガラ゛スF2を用い、熱膨張係数(線膨張
係数)はそれぞれ合金 9.6〜10.4×10−6
/℃F28.7×10−6/℃ であり、軟ロウ金属は実施例1と同じものを使い、実施
例1と同じ実験を行なつた所、歪,気密度はほぼ司じ結
果を得ることができた。
強度もばらつきはあるが10kg/mlは得るることが
できる。尚、円筒部合金と窓ガラスの組み合わせは膨張
係数の等しいものが好ましいが、この接合法によれば軟
ロウ金属自身に歪の吸収性があるので少々の膨張係数の
違いはガラスの歪には問題にならない。実施例 3 光学的窓ガラスの反射防止をする為、使用レーザの波長
(λ=830nm)に合わせガラス両面に適当な厚さの
コーテイング膜をつけた。
できる。尚、円筒部合金と窓ガラスの組み合わせは膨張
係数の等しいものが好ましいが、この接合法によれば軟
ロウ金属自身に歪の吸収性があるので少々の膨張係数の
違いはガラスの歪には問題にならない。実施例 3 光学的窓ガラスの反射防止をする為、使用レーザの波長
(λ=830nm)に合わせガラス両面に適当な厚さの
コーテイング膜をつけた。
コーテイング膜はガラス面よりZrO2,Al2O3,
MgFの順務こコーテイングを行ないMgFが外気と接
している。このコーテイングを施した光学的窓ガラスを
軟ロウ金属により円筒部に超音波接合を行なつた。全面
にコーテイングを施した場合、接合面の強度は約1kg
/Crll以下と弱く、気密度も十分でなかつた。しか
し接合面にコーテイング膜をつけないで光学用窓ガラス
と円筒部との接合を行なうと実施例1に示されるように
十分な強度と気密度が得られた。このように金属一非金
属接合あるいは非金属一非金属接合の組み合わせに?い
ては酸化物の存在が大きく接合に寄与するので、酸化物
が非金属の接合面にない場合には十分な接合が行なわれ
ない。
MgFの順務こコーテイングを行ないMgFが外気と接
している。このコーテイングを施した光学的窓ガラスを
軟ロウ金属により円筒部に超音波接合を行なつた。全面
にコーテイングを施した場合、接合面の強度は約1kg
/Crll以下と弱く、気密度も十分でなかつた。しか
し接合面にコーテイング膜をつけないで光学用窓ガラス
と円筒部との接合を行なうと実施例1に示されるように
十分な強度と気密度が得られた。このように金属一非金
属接合あるいは非金属一非金属接合の組み合わせに?い
ては酸化物の存在が大きく接合に寄与するので、酸化物
が非金属の接合面にない場合には十分な接合が行なわれ
ない。
それ故、本実施例のようにMgF層と円筒部の接合に右
いてはガラスの接合部はコーテイング層がない方が接合
がより完全に行なわれる。なお、本実施例に?いてはZ
rO2,Al2O3,MgFの3層コーテイングを行な
つたが使用半導体レーザの波長にあわせたコーテイング
ならなんでも構わない。
いてはガラスの接合部はコーテイング層がない方が接合
がより完全に行なわれる。なお、本実施例に?いてはZ
rO2,Al2O3,MgFの3層コーテイングを行な
つたが使用半導体レーザの波長にあわせたコーテイング
ならなんでも構わない。
超音波ロウ付用の軟ロウ金属材料については以下のよう
な材料が考えられる。
な材料が考えられる。
(1) Pb−Sn合金
添加元素=Zn,Ti,Si,Al,Bi,Sb(2)
In−Sn合金添加元素=Zn,Sb,Ti,Bi (3) Bi−Sn合金 添加元素=Zn,Ti,Si,Al,Bi,Sb(4)
Sn−Zn合金添加元素=Zn,Ti,Si,Bi,
Sb等が考えうる金属材料であるが、本実施例に?いて
は(1)の材料を使用した。
In−Sn合金添加元素=Zn,Sb,Ti,Bi (3) Bi−Sn合金 添加元素=Zn,Ti,Si,Al,Bi,Sb(4)
Sn−Zn合金添加元素=Zn,Ti,Si,Bi,
Sb等が考えうる金属材料であるが、本実施例に?いて
は(1)の材料を使用した。
以上説明したように本発明によれば回折損失が少なくビ
ーム径の安定した出力光を得ることができるばかりでな
く、高い気密性のある半導体レーザを提供することが可
能となつたものである。
ーム径の安定した出力光を得ることができるばかりでな
く、高い気密性のある半導体レーザを提供することが可
能となつたものである。
第1図は、本発明を応用できる半導体レーザの一部を破
断した斜視図、第2図は、従来の半導体レーザ装置の円
筒部と光学的窓の断面図、第3図は、本発明の半導体レ
ーザ装置の円筒部と光学的窓の断面図、第4図は、光学
的窓の断面図、第5図は、円筒部と光学的窓の接合方法
を示す断面図を各々示す。 図において、1・・・・・羞台部、2・・・・・・円筒
部、3δよびぎ・・・・・・光学的窓、4・・・・・伴
導体レーザ素子、15・・・・・・軟ロウ金属、16・
・・・・・コーテイング層、17・・・・・・超音波ボ
ンダーチツプ、である。
断した斜視図、第2図は、従来の半導体レーザ装置の円
筒部と光学的窓の断面図、第3図は、本発明の半導体レ
ーザ装置の円筒部と光学的窓の断面図、第4図は、光学
的窓の断面図、第5図は、円筒部と光学的窓の接合方法
を示す断面図を各々示す。 図において、1・・・・・羞台部、2・・・・・・円筒
部、3δよびぎ・・・・・・光学的窓、4・・・・・伴
導体レーザ素子、15・・・・・・軟ロウ金属、16・
・・・・・コーテイング層、17・・・・・・超音波ボ
ンダーチツプ、である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体レーザ素子からの出力光を取り出す光学的ガ
ラス窓と、該窓を支持する支持部材とを有する半導体レ
ーザ装置において、前記光学的ガラス窓と前記支持部材
とをガラス中の酸素と化学結合する元素を添加した軟ロ
ウ金属により、この軟ロウ金属と上記窓のガラス面が直
接密着するようにして、気密接着したことを特徴とする
半導体レーザ装置。 2 前記光学的ガラス窓を形成する材料の膨張係数と、
前記支持部材の膨張係数とが大略等しいことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の半導体レーザ装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53001348A JPS5946434B2 (ja) | 1978-01-10 | 1978-01-10 | 半導体レ−ザ装置 |
| DE19792900356 DE2900356A1 (de) | 1978-01-10 | 1979-01-05 | Halbleiterlaser-vorrichtung |
| US06/259,157 US4403243A (en) | 1978-01-10 | 1981-04-30 | Semi-conductor laser apparatus with support and soldering means for light-transmitting member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53001348A JPS5946434B2 (ja) | 1978-01-10 | 1978-01-10 | 半導体レ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5494293A JPS5494293A (en) | 1979-07-25 |
| JPS5946434B2 true JPS5946434B2 (ja) | 1984-11-12 |
Family
ID=11498976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53001348A Expired JPS5946434B2 (ja) | 1978-01-10 | 1978-01-10 | 半導体レ−ザ装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4403243A (ja) |
| JP (1) | JPS5946434B2 (ja) |
| DE (1) | DE2900356A1 (ja) |
Families Citing this family (64)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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