JPS5950170A - 被膜塗布用のプラズマア−ク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プラズマスゾレーノ０ＴＪセスに係す、特に
、種々の形状の液加エノキ勃に細長い被加圧片に主とし
て金属の被膜を塗布するだめのプラズマアーク装置に係
る。

本発明は、工具製造工業や、医薬品や、宝石や、その他
の分野において、強化被膜、装置Ｍｊｉ被膜及びその他
の被膜を塗布するのに最も便利に第１」川される。

被膜塗布用のプラズマアーク装置を開発する際に当業者
が直面する重大な問題は、スプレーゾロセスを施し７た
部品に所要の物理的及び機株的特性を確保１−るように
この部品の表面の質を良くすることである。この問題の
解決を妨げる主な原因しｊｌ、電気的に中性の巨大粒子
が存在することであり、１２１１　チカノー！・の蒸発
物質によって形成さｆ−１７’こプラズマ流の中にこの
物質の小／ｌ＊＋や固体片が育在−することである。こ
れらの巨人かン子は液加上部品の表面のＴ↓を低下さ−
ぜる。こｔｌを防ぐ／こめ姓二、イｊμ気（ｌこよる分
ｎＩＦ作用を用いて、プラズマ流を中性粒子と荷電粒子
とに分け、荷電粒子のみによって部品を処理することが
できる。

磁気系が設けられた曲ったプラズマカイト内をプラズマ
流が進む時にプラズマ流を分離するようなプラズマアー
ク装置が知られている（１９７３年、”　Ｐｒ　１ｂｏ
ｒｙ　ｉ　ｔｅｋｈｎｉｋａ　ｅｋｓｐｅｒ　ｉｍｅｕ
ｔａ　″第Ｓ号、第、２３１．−．２３〕頁に掲載客れ
た１、１．八ｋｓｅｎｏｖ　ｓＶ、八、　Ｂｅｌｏｕｓ
氏雪のＵｓｔｒｏｙｓｔｖｏ　ｄｌｙ　ｏｃｈｉｓｔｋ
ｉｐｌａｓｍｙ　ｖａｋｕｕｍｎｏｉ　ｄｕｇｉ　ｏｔ
　ｍａｋｒｏｃｈａｓｔｉｔｓを参照されたいり。この
装置を用いた時には、中性の粒子はノ０ラズマカイドの
壁に付着するが、荷電粒子（止イメン少は磁気系ＶＣＪ
：つて向きが変えられ、プラズマカイトを辿して被加工
片へと向けられる。

この装置の人質的な欠点は、プラズマガイドのＪ（さが
ＩＱ　＜然も荷電粒子のエネルギ損失があるためＶＣ１
荷電朴ン子が〕°ラズマカイドの壁に付着してイ：：ｉ
電オ＼ン仔が相当ｙｃ失なわれることである。

又、゛ノ′ノードを構成する訓磁件金属の加工室と、こ
の室内に配置さＪして、勢発面がアノードに向けられた
消耗性カソードと、このカソードに接触したアーク開始
電極と、アーク庖−糺持する直流電源と、アークを開始
さ＃る・ぐルス電源と、アノードに取９例けられ／ζ磁
気系とを備え／こ被膜塗布用の別のプラズマアーク装置
も知られている（　／　９　’、’　ｇ年、”Ｐｒ１ｂ
ｏｒｙ　　ｉ　　ｔｅｋｈｎｉｋａ　ｅｋｓｐｅｒｉｍ
ｅｎｔａ″　第乙号、第１’７３−／’７３頁に掲載さ
れたＶん○５ｉｐｏｖ。

Ｖ、　ＣＩ″、Ｐａｄａｌｋａ氏等の１Ｊｓｔａｎｏｖ
ｋａ　ｄｌｙ　ｎａｎｅｓｅｎｉａｐｏｋｒｙｔｙ　　
ｏｓａｚｈｄｅｎｉｅｍ　　１ｏｎｏｖ　　、　　　　
ｉｚｖｌｅｋａｖｅｍｙｋｈｉｚ　ｐｌａｚｍｙ　ｖａ
ｋｕｕｍｎｏｉ　ｄｕｇｉを参照されたいり。

この装置では、アークを維持する直流電源が力ノード及
びアノードに接続され、そしてアークを開始させる）氾
ルス電源がカソード及びアークｌｊｉ］始電極に接続さ
れる。」こ記の磁気系にＪｌ、荷電プラズマ粒子をアノ
ードの面から被加工片の方向へと向きを変える。カソー
ドの当接端：而は蒸発面である。

この装置には、カソードスポットをカソードの尚接端面
に維持する更に別の磁気系が設けられている（この磁気
系は／　ｑ’７９年のソ連発明者証第３θ７．乙乙乙−
弓Ｖこ詳しく５苑明されている）。　この装置の゛アノ
ードを構成する加工室は円釦形にされ、その当接☆：！
１ｉには蓋が設けられている。この蓋の内向に破卵エバ
が設置される。蓋の中心部の付近にｔ、１、カップも配
置されている。このカップ内には、比較的ケｔノい円筒
の形態に作られたカソードがロッドとノ（に配置される
。カソードの当接端は蓋の内向と人際り一平ｉ？＋ｉに
なるように配置される。

この装置１°′１゛の作動中には、カソード物質の蒸気
を包゛むプラズマ流がアノードに向けられる。この装置
てｔ；１、）０シズマ流に含まれた正のイソンが、アノ
ードの円釦面の領域内の磁界の作用下で、プラス−１中
の電界によって向きが変えられて、蓋の方向へ向けられ
るように、装置の作動条件が選択さＪする。上記の１１
−イオンは抜力１１工片に付着するが、中ゼＬの巨人オ
）′／子はアノードの内ｊＴｒｊにイー１着１−る。

この装置の角動中には幾つかの問題が生じ、この装置の
広範な第１ｊ川を妨げている。従って、この装置に、）
、つて′夫ｌ１ＩＨ丁きれるプラズマスル−プロセス＆
Ｊ−被加工ｊ１のＪｉ「ｆｔｉの処理にしか使用できな
い。

被力１１上片の他＜ｌｉｉ　ｆ処？１１する７１こめに
は、装置をオフにシ２、手又は特殊な用具の助けによっ
て被加工片をひつくり返すことが必要である。このため
、回転体形態の被加工片の処理が困難である。

更に、蓋の作用面の面積が小さい／むめに、ロッドやス
トリップやコアやバンドといつ／こ細長い被加工片全処
理できない。

又、この装置では、カソードの蒸発面がぞの当接端であ
ってその面積は通常２　Ｑ　Ｑ　ｃｎｉ以下であるから
、装置の効率が実質的に低く、従って、′ｆＬ気エネル
ギの消費量を増加することが必要となることにも注意さ
れたい。これは当然カソード物質の蒸発プロセスに悪影
響を及ぼし、ひいては、カソードの急速な消耗１、カソ
ードの頻繁な交換、史には、プラズマスプレー７０ロセ
スを受けた面のＩｆｆｊの低下を招く。

本発明の目的は、以上の欠点を解消することである。

本発明の目的は、カソード及びアノードの形状並びにそ
の相互の配置構成を変えることに、しり、被加工片をめ
ぐるようにゾラズー／流を回転１甘るζ、とができ、こ
れにより、被加工片の全ての面に対する連続的な処理を
確保すると共に、スプレーノ０ロセスによって得られる
被加工片の面の質を高くし、更には、細長い被加工片も
処理できるようにするような被膜塗布用のプラズマアー
ク装置を提供することである。

これらの目的は、アノードを構成する非磁性金属の加工
室と、この室内に配置され、蒸発面がアノードに回けら
れた消耗性カソードと、このカソードに接触するアーク
開始電極と、アノード及びカソードに接続されていてア
ークを維持する直流電源と、カソード及びアーク開始電
極に接続されていてアークを開始させるパルス電源と、
アノードに取り付けられていて、荷電プラズマ粒子をア
ノードの面から被加工片へと向きを変える磁気系とを備
え／こ被膜塗布用のプラズマアーク装置において、アノ
ードを構成する加工室は均一断面のパイプの形状をイボ
し、その外面に上記の磁気系が取りイー］けられ、カソ
ードの断面形状はパイプの断面形状と実１プ↓的しこ一
致し、カソードには、被加工片を加工位置に設置するた
めの開口が設けられ、ツノノードＬ１その側面が蒸発面
を形成するように」二足パイゾと軸方向に整列され、上
記１ｕｌ１面の［１Ｊはアノードの長さより短いような
プラズマアーク装置を４１供することによって達成され
る。

ゝゝ均〜断面のパイプというｍｌは、全長にわたって同
じ断面積を有するパイプを表現１−るための一般的な幾
何学上の語として用いられる。・やイゾの断面形状は円
であるだけでなく、橢円、四角、多角形等々であっても
よい。

プラズマアーク装置のこのような構成では、包囲体（管
プ形態のアノードによりプラズマ流が磁界の作用を受け
て被加工片の軸に垂直な平面内で被加工片をめぐるよう
に回転１″るので、被加工片をカソードの開口に設置し
て被加工片の全ての面をプラズマ流（プラズマ雲］て処
理することができる。この場合は、カソードの側面が蒸
発面であるから、カソード物質の蒸発条件及びゾラズー
２分割プロセスの条件が改善され、これはプラズマスプ
レープロセスを受け／ζ被加工片の而の質に良好な作用
を及ぼす。

ここにＢ−案１″るプラズマアーク装置を製造する上で
最も簡単な装置の態様は、アノードを構成する加工室が
円ｆ１カバイブの形状を有１゛るものである。

この装置の態様に用いた時には、アークが非常に安定で
、プラズマスプレープロセスも良好である。

ここＶ（提案する装置では、カソードの側面の巾がアノ
ードの長さのｏ、ｏｓｈいし０，５であるのが灯ましい
。これは被加工片を処理する最良の条件を確保する。カ
ソードの側面の巾がアノードの長さの０．０汐より短い
と、一連の製品を製造するという条件においては、プラ
ズマスプレープロセスに所要の効率を確保することがで
きない。一方、カソードのｆ１１１１面の「ＩＪがアノ
ードの長さの０．５より太きいと、ここに提案する装置
の加工ゾーンを有効に第１」用できず、蒸発される物質
の損失が太き°なものとなる。

ここに提案する装置の円筒形アノードの態様を用い／こ
時には、カソードの側面が円筒形又は多角形であるのが
好ましい。技術的な見地からみれば、円筒形のカソード
が最も適当であるが、成る長さのストリソゾ物質からカ
ソードを形成するには別の形状が適当である。

カソードの蒸発面以外の全ての面はスクリーンで覆われ
るのが好ましい。これは、装置のイ、）頼性を高めると
共に、プラズマスプレーゾ【１セスを受けた被加工片の
品質も高める。

アノードを構成する加工室内に、上記のカソードと同様
の、アーク開始電極（−ｊきのカソードがもう１つ配置
されていて、これらの両力ノードが上記室の周囲に対し
て軸方向に整列されそして互いに電気的に絶縁されるよ
うな装置の態様が史に有用であると分っている。最初に
述べた装置の態様（カソードが１つ〕と比へると、この
後者の態様においては、更に短い時間内に更に均一な被
膜を得ることができる。

アーク開始電極を有する多数（３個以上）の＋ｒ：Ｊ様
のカソードが加工室内に軸方向に整列され−Ｃ８共通の
電流ロッドによってそれら自体の間が′１１元気的に接
続され、そして更に、これらのカッ−ドを順次にメン及
びオフに切換える制御ユニットが各カソードのアーク開
始電極に接続されるような別の態様も考えられる。この
装置の態様は、細長い被加工片の処Ｊ１１に特に適して
いる。

細長い被加工片を処理する時には、アノードを構成する
加工室が互いに電気絶縁された個々のアノード区分に分
割されていて、上記のカソードと同様の、アーク開始電
極付きのカソードが、上記アノード区分の個数と同数だ
け設けられ、これらのカソードは共通の電流ロッドによ
ってそれら自体の間が電気的に接続されていて、各カソ
ードが各アノード区分において軸方向に整列されている
ような更に別の装置の態様を用いることもできる。

この装置の態様では、細長い被加工片を処理する場合、
″アノード区分−カソード”の全ての電気的な群を同時
に作動することにより最も高い効率をイ！Ｉることがで
きる。各々の群ごとに、回転するプラズマ雲が形成され
る。

以下、添イＪ図面を参照して本発明の実施例を詳細に説
明する。

本発明による被膜塗布用のプラズマアーク装置は、第１
図を参照すれば、アノードを構成する非磁性金属の室１
と、消耗性力ノード２と、アーク開始電極３と、カソー
ド２とアノード１との間にアークを維持する直流電源４
と、カソード２とアノード１との間にアークを開始させ
るパルス電ｉ１ｊ；ｊ５とを備えている。

アノードを４１ｔ１成する加工￥１は、均一断面の・母
イブの形状、特に円筒形状を有している。このノやイブ
は、その邑接端が蓋６及び７で閉ざされており、これら
の蓋は絶縁パツキン８によって室１から絶縁される。蓋
６は処理されるへき被加工片１０を室１内へ装填するた
めの人口９を有し、蓋７は室１が真空形成装置（簡略化
のためス示してないが、室１からのガスの抽気は矢印で
示しであるｐに連通するところの・ξイブ連結部を有し
ている。

カソード２は、蓋６に同定された絶縁プノン／グ１３に
取り付けられた電流ロッド１２の助けにより室１内に設
置される。１α流電源４はアノード１とロッド１２の片
方とに接続され、・Ｓルス′ｌｌｊ：源５は他方のロッ
ド１２とアーク開始電極３とに接続される。アーク開始
電極３はセラミックで作られ、カソード２に接触され、
蓋Ｉに固定さ′ｒＬだ絶縁プンシング１４に通される。

カソード２の断面形状はアノードを構成する室１の断面
形状に実質的に一致し、カソード２には第１図に示さ才
またように被加工片１０を加工位置に設置するた゛めの
開口２ａが設けられている。カソード２はその［１１１
而２ｂが蒸発面となるようにアノード１と軸方向に整列
される。この側面２ｂの１１］ゝゝ　ｔ“はアノードを
構成する室１の長さゝゝｔ“よりも小さい。ＳＳ　　ｔ
／７がアノード１の長さゝゝＬ“の０．０ダないし０．
汐であれば最良の結果が得られることが実験で分った。

アノードと、カソード２の他のＩ＋ｉとの間に偶発的に
アークが確立されるのを１υノ止する／Ｃめ、カソード
２はスクリー７１５で覆われている。

装置には、アノードを構成する室１の外面に取りイ・ｊ
けられて直１）ｆＣ，電源（図示せず）ＶＣ接続された
ソレノイド１６である磁気系も設けられている。

この磁気系は１．アノードを・構成する室１内に磁界を
形成するためのものであり、この磁界Ｌ１、ノ°ラズマ
の荷電粒子をアノード１の面から破卵Ｉ　Ｊｌ、、　１
０の方向へと向きを変えるように働く。この磁気系は例
えば永久磁石（図示せず）の形態で構成されてもよいこ
とを理角了されたい。

カソード２の作動状態を良く１−るために←Ｊ１、例え
ば電流ロッド１２を介してカソードを水で冷却するのが
好ましく、このため電流口／ドは中空にされる（水の供
給及び回収は矢印で示１−）。

アノードを構成する室１が上記したように円筒状・やイ
ゾの形状を有する場合には、カソード２の側面２ｂが円
部形（第２図）又は多角形（第３図）のいずれかである
のが好ましい。多角形の場合、カソード２は、永久的な
枠組２Ｃと、／ｌ′ｉＩＬ性物Ｔ↓で作られてこの枠組
に固定された消耗性ストリップ２ｄとの形態で構成され
る。

円筒形のカソード２は最も簡単なものであり、一方、多
ｍ形のカソード２はそのコストを実質的に低減するよう
にストリップ物質の１わ「月からカソードを形成する場
合に適している。アノード１及成する宇１（第７図つが
橢円又ｄ、四角形の、ｌ、う４別のｊｈ状の・Ｐイゾで
ある場合には、カソード２　ｋｊ：それと回し形状に１
−へきであることを理１竹されたい。

この装置は次のように作動づ−る。

破卵」ニハ１０（第１図９をホルダ１０ａに固定し、人
ｌ−１９を・辿して室１内に入れ、図示されたようにカ
ソード２の開口２ａに通し、この時にホルダ１０　ａ　
’、Ｌ人［」９に固定する。次いで、アノードを構成１
−る室１内に所要の真空を形成した後−直流′「シシ源
からアノード１及Ｏ・カソード２へ作動電圧を供給し、
この際にル／イド１６をメンにする。

次いて、・ゼルス電源５からカソード２及びアーク開始
電極３−＼アーク開始電圧を供給する。この場合、カソ
ード２とアノード１との間に電気アークが形成さＪｌ、
そのカソードス、Ｊ？ットはソレノイド１６の磁界の作
用下てカソード２の側面２ｂ上を回転する。このカソー
ドスポントによりカソード２の物質が蒸発されると共に
、実線の矢印で概略的に示された」：うに室１の軸に垂
直な才面内で回転１−るプラズマ雲１７が形成される（
第７図９゜Ｑの場合、プラズマ流１γの中性の巨人おシ
子乞」、アノードを構成する室１の内面にｆ＝Ｊメ゛ｊ
Ｊ−るが、正のイオンは磁界の作用を受けて、ゾシズマ
中の電界により形成された電位障壁からそら、Σれ、第
７図に点線で示したように被加工ｊ１１０の面にｆ・］
着する。プラズマ雲の回転により、液加］−片１０←１
、その全周にわたって処理される。力／′−ド２のπｐ
ｉ　ｉｔ’１１２ｂからアノードを構成づ−る室１の内
面までの距離ゝゝδ“（第１図９は、被加工片１０をそ
の全長ゝｔ、／／にわたって処理するように選択される
。

第Ｓ図は本発明の装置の別の態様を示している。

この態様においては、上記カソードと同様の一個のカソ
ード２がアノード室１の両端に配置される。

これらカソード２の各々は互いに電気絶縁され／ζアー
ク開始電楼３を有していると共に、電源４及び５を含む
それ自体の電源ユニン！・をイ］している。

この装置の作動は前記し／ζものと本Ｔｆ的に回しであ
る。この別の態様においては、扱方１ｊ工！１の処月１
がその両端から同時に行なわれるので、すばやく然イ均
一に被加工片１０に被膜を塗布することができる。更に
、この場合は、処理ノーンが広くなつ／ζことにより、
第１図の態様の作動に比べて、装置の大きさを実際上増
加しなくても、７．５ないし２倍の長さの抜力Ｉ］工片
１０を処理てきる。

第１１ネ１及び第Ｓ図に示された装置の態様を用い／こ
時にに上、ノラズマ流に対してロッド１２の影にならな
いような被加工片１０の部分に最も均一な被膜が形成さ
れることに注意されたい。７′ラズマのイオンの７部分
はこれらのロッドに付着する。

これは、第１に、ロッド１２の下の被加工片１０上の被
膜の厚みを薄くシ、そして第ａに、カソード２の物質の
４１着の比率を成る程度下げる。カン−１’　２の個数
を増加すべき場合には（これは例えば比較的長い被加工
片の処理効率を高く１−る必要性によって生じる〕、ロ
ッド１２の本数も増加すべきであるが、このようにする
と、波力ロエ片１０に付着さるへき物質の損失が更に大
きくなると共に、被膜の均一性も悪くなることを理解さ
れたい。

特に色々な断面をもつ長い（、／ｍ以上）被加工片を効
率よく処理することが必要である場合にこれらの損失を
減少するためには、第４図及び第７図に示された装置の
利点を取り入れるのが望ましい。第４図は、アノードを
構成する室１内で多数（この場合は７個）の同様のカソ
ードが’Ｉ’ｌｌ：流［Ｊノド１８に対して１Ｉｑ１１
方向に整列されそしてこれらのカソードにアーク開始電
極３が設けられたようなプラズマアーク装置の更に別の
態様を示している。

この場合には、電流ロッド１８の本数がカソード２の個
数の増加と共に増えないので、カソード物質の損失はあ
まり多くはなく、被膜の均一性は更に良くなる。

第４図に示された装置の作動中には、制御ユニット１９
の助けによりアークが成るカソード２から別のカソード
へと連続的に移行され、従って被加工片１０はその全Ｊ
更にわたり区分ごとに連続的に処理される。制作１ユニ
ットの構造は当業者に明らかであり、具体的な条件に基
い壬だの神の多数の制御ユニットから選択さ扛る。

第７図１に示された装置の態様は第４図に示されたもの
と実質的に同様であるが、両者の相違点は、第７図１の
場合には制御ユニツ［・１９がなく、そして史にアノー
ドを構成する室１が個々のアノード区分１ａ・−１ｄに
分割されていて、これら区分が絶縁パツキン８によって
互いに電気的に絶縁されていることである。これらアノ
ード区分の各々には、ＧＢ気系１６と、アークを組付す
る直流電源４とが設けられている。アークを開始させる
パルス電Ｗ＋＋ｉ　５が７つだけ設けられているが、ア
ノード区分の数に尾（してこのような電源を多数設けて
もよいことかり］らかであろう。カソード２の全個数は
アノード区分１ａ　・・−１ｄの個数に雪しく、各々の
カソードはアノード区分１ａ・・・・・−１ｄの各々に
おいて１ｔｌ＋方向に整列される。電源４及び５の働き
は第７図から明らかであり、詳細な説明は不要であろう
。

この１、う′ｆｒ、朝様において被加工片１０を処理す
るｌ’ｔ、’１には、多数のアークがゝゝアノード区分
−カノード″、）？−電′シ（的な７ｊ［に同時に発生
される。従つて、被加工片１０は多数（この場合に１．
７個）のゾシズマ流によって処理され、これはノ０シズ
マスゾレープロセスを相当強力なものにづ−ると共Ｖこ
、’ｌ”Ｊに細長い被加工片を処理する１１；ｌ、には
ゾシズマスプレー７″ロセスを受け／ζζ方力１丁ノ１
の面のｔ′↓を向上させる。

第ろ図及び第７図に示された装置の態様において全ての
カソード２に電流を供給するよう（ｌこ働く電流ロッド
１８は、例えは第４図に示されたように一体的なロッド
であってもよいし、第’７　ｉｌｌ　Ｌ’こ示されたよ
うに個々の区分１８　ａ−１８ｅて構成されてもよいこ
とに注意され／こい。第７図の態様のカソード電極の方
が製造し易いことが明らかであろう。

カソード２及びロッド１８の影Ｑ″Ｃなるところの被加
工片１０の表面（ｔこ形成される被膜の非」テフーさを
少なくする／こめには、処理中に液加二１−片をカソー
ド２の巾より小さな程度て蜘１方向に動かすとＪ（にそ
の刺ｌのまわりで周期的に回１ｌｌＪ、させるのか望ま
しい。

被加工片１０がその全長にわたって均一な断面をイ］シ
ぞしてその全長が相当に長い場合には（長い一／ヤフト
、ストリンプ、ワイヤ、バンド等）、第３図に示された
本発明の装置の更に別の態様を用いるのかがＪ’、　Ｌ
　＜　、この装置は寸法は比較的小へいが７月常Ｖこ効
率の良い連続作動型の装置である。

この９１に別の態様ににれば、アノードを構成する′−
１’、　１に人［二１９ａ及び出Ｊｌ　９　ｂが設けら
れ、これらの入１１及び出Ｄ　ＶＣはパツキン部月２０
が設けられる。この装置の作］の中Ｖこは、抜力［［エ
バ１０が矢印で示されたｌＱｉ方向に室１ｆ：通して移
動され、連につ０的な、・ゾラズマスブレーン０ロセス
を受ける。

不発１１）Ｊの装置の」１記態様のいずれにおいても、
１つ又Ｃ１、多数の被加工片１０を同時に処理できる（
二とにｌｌ−、＜；′！烙れ／こい。多数の被加工片を
処理する場合に０１１、被加工）１が互いに３１１−行
関係に配置され、ぞし−Ｃ処理中Ｑ寸波力１１土片を動
かないように１−ることもてきるし、或いは例え―°遊
星ギヤのような一般の駆動装置（ｔこ」−ってＱ）ｈの
まわりで回転させることもでき、り１、 本発明の喘定の実施例について説明し／こが、色々な変
更が当業者に明らかてあろうから、本発明はここに開示
した実施例又はその細部に限定されるものではなく、特
許請求の範囲に限定されｌＣ本発明の精神及び範囲内で
、本発明を別のやり力で実施することもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図はカソードが１つの」場合の本発明による被膜塗
布用のプラズマアーク装置を示づ一縦断面図、第２図及
び第３図はアノードを構成１−る室が円筒パイプの形状
を有１−る場合Ｖこ本発明装置に使用Ｊ　ルーｔｙ　：
／　−ト（Ｄ形状を示シｆｔ−カニ／　−ｌ’）Ｅｉｉ
ｉｌｌｉｒ１７８Ｉｓ第ｑ図は第１図の■−ＩＸＩ線に
沿った１ｌ）−＋　ｉ＋’ｉ’ｉ図であって、不発１す
１装置の作動を示づ一概略図、第５１２は、カソードが
ａつの場合の本発明装置の別の態様を示１″縦断面図、 第４図は１１つのカソードをイ）ｆる本発明装置の更に
別の態様であって一体的なアノードをイ１−１−る装置
を示１″断面図、 第７図はグつのカソード庖・イー」−′１−る本発明装
置の更に別の態様であって区分化されたアノードを有す
る装置を示す断面図、そして 第ｇシＩ　ｋ：Ｊ、第Ｓ図と同様の図であるが、本発明
のノ°ラズマアーク装置が連続作業に用いられるような
更に別の態様を示す図である。 ドアノート １８−・・　１ｄ　アノード区分 ２・カソード ２ａ・カソードの開１０ ２１）・カソードの（１１１面 ３　・アーク開始電極 ４、５・・電源 １０　被加工片 １６　・磁気系 １８　−電流ロンド １９　・：ｌｉ制御ユニノト 第１頁の続き ク ソヴイエト連邦ハルコフ・ウリ ツサ・グルテラ１２ケーヴイ３２ ■出　願　人　ヴアレンチン・グレボヴイツチ・パドル
力 ソヴイエト連邦ハルコフ・ウリ ツサ°ダニレフスコゴ１０ケーヴ イ１２２ ■出　願　人　レオニド・パフロヴイッチ・サブレフ ソヴイエト連邦ハルコフ・ウリ ツサ・ペー・モロゾヴア３ケー ヴイ３ ■出　願　人　リムマ・イワノフナ・ステユパク ソヴイエト連邦ハルコフ・ウリ ツサ・グルテラ１２ケーヴイ３２ 特許庁長官　若　杉　和　夫　殿 １、事件の表示 昭和５７年　特許側　第１６１５５８号２、発明の名称
　　　　被膜塗布用のプラズマアーク装置３、補正をす
る考 事件との関係　　　出願人 氏　名　ゲンナデイ　ヴアシリエヴイ・ノチ　クリｊ、
−チコ（外３名） ４、代理人 ５、　？１ｉ正命令の日付　　　自　　発６、？ｄｉ正
の対象　　　　　明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 （１）本願明細書１４頁１６行の“パイプ連結９１げを
１パイプ連結部１１」と訂正する。 （２）同書１８頁１１行の“δ”をｒｓＪと訂正する。 （３）同書同頁１６〜１８行の′°これら・・・・・て
いる。゛を次のように訂正する。 １゛これらカソード２の各々には、アーク開始電極３が
設けられており、これらカソード２の各々は互いに電気
絶縁されており、また、これらカソード２の各々は、電
ｔＡ４及び５を含むそれ自体の電源ユニノＩ〜を有して
いる。」（４）同書２０頁１〜５行の“特に色・・・・
・ましい。”を次のように訂正する。 ［比較的に長い（１ｍより長い）被加工片、特に、断面
の変化するような液加］二片を効率良く処理する場合に
おいてこれらの損失を減少させるためには、第６図及び
第７図に示された変形例を利用するのが望ましい。電流
ロッド１８は、前述のロッド１２（第１図、第５図参照
）と原理的には異ならないが、すべてのカソード２に対
して共通なものとされている。その結果、カソード２は
、−緒に結合されている。この装置には、カソード２も
連続的にオン、オフするための制御ユニット■９も設け
られている。この制御ユニット１９は、１つのアーク開
始電極３のみについて点線で示されたように、各カソー
ド２のアーク開始電極３に接続される。」 （５）同書２２頁１８行の“小さな°゛を「小さくない
」と訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　アノードを構成する非磁性金属の加二［室１
   と、この室１内に配置されていて、蒸発１ｍがアノード
   １に向けられた消耗性カソード２と、このカソード２に
   接触したアーク開始電極３と、上記アノード１及０・カ
   ソード２に接続されていてアークを維持する直流電源４
   と、上記カソード２及びアーク開始型４＠　３に接続さ
   れていてアークを開始さセるパルス電源５と、上記アノ
   ード１に取シ付けられていて、アノード１の面から被加
   工片１０へと荷電プラズマ粒子の向きを変える磁気系１
   ６とを備えた被膜塗布用のプラズマアーク装置において
   、アノードを構成する加工室１は均一断面のパイプであ
   って、その外面に上記磁気系１６が取り付けられ、カソ
   ード２の断面形状は上記パイプの断面形状と実質的に一
   致し、カソード２には被加工片１０を加工位置に設置１
   −るための開口２ａが設けられており、カソード２は上
   記パイプと軸方向に整列されて、カソードの側面２ｂが
   蒸発面となり、この側面２ｂの巾はアノード１の長さよ
   り短いことを特徴とするプラズマアーク装置。 ＠　カソード２の側面２ｂの１１］はアノード１の長を
   の０．０３！いし０．Ｓである舶許ＲＪ求の範囲第（１
   ）項に記載の装置。 （３）加工室１は円筒パイプの形状に作られるｑ−￥「
   請求の範囲第（１）項又は第（２）項に記載の装置。 ＠）　カソード２の側面２ｂは円筒形状にされる特許請
   求の範囲第（３項に記載の装置。 釣）　カソード２の側面２ｂは多角形状にされる特許請
   求の範囲第３項に記載の装置。 （乙）　カソード２の蒸発面２ｂ以外の全ての面はスク
   リーンで仮われる特許請求の範囲第（１）、１１！１な
   いし第σ）項のいずれかに記載の装置。 （７）　　アノードを構成づ−る加工室１内には、上記
   カソード２と同様の、アーク開始電極３ｆ−」きのカソ
   ード２がもう１つ配置されており、これらの両力ソード
   ２は上記室１の周囲に対して軸方向に整列され、互いに
   電気的に絶縁される牛）許ｉｊ！’Ｉ求の旗囲第（１）
   ザ１ないし第（乙）項のいずれかに記載の装置。 （ｇ）　　アノードをＩ′ｆ＋成する加工室１内ＣＣは
   、上記力、ノード２と同様のアーク開始電極３付きのカ
   ン−１・′２が多数配置されており、全てのカソード２
   は共通の′電流ロンド１８によってそれら自体の間が接
   続されていると共に軸方向に整列され、更に、カッ−１
   ・２を順θ（にメン及びオフに切換えるように各カソー
   ド２のアーク開始電極３には開側１ユニント１９が接に
   プ（、されている特許請求の範囲第（１）項ないし第ω
   ）、Ｔ１′１のいずれかに記載の装置。 （９）　　アノードを構成する加工室１は瓦いに電気的
   に絶縁されゾこ個々のアノード区分１ａ・　・　１ｄに
   分割さね、上記装置は、史に、上３己のカソード２と同
   様の、アーク開始電極３　（１きのカソード２を多数備
   え、これらカッ−ド２の全個数は上記のアノード１区分
   １ａ　・−１ｄの個数に等しく、上記）７ノーじ２は共
   通の電流ロンド１８によってそれら自体の間が電気的に
   接細７審わており、そして各ツノノー・ド２（、ｉ各７
   ２のアノード（７分１ａ・−１ｄに第６いて軸〕Ｊ　１
   ｉｌｌ　ｌ◇二焙／／、、≦れる生゛１１イＦ　ｒ；ｒ
   ｔ求の範囲第（１）項ないし第（乙）項のいずれかに記
   載の装置。