JPS5950522A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JPS5950522A JPS5950522A JP57160986A JP16098682A JPS5950522A JP S5950522 A JPS5950522 A JP S5950522A JP 57160986 A JP57160986 A JP 57160986A JP 16098682 A JP16098682 A JP 16098682A JP S5950522 A JPS5950522 A JP S5950522A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- light
- optical system
- glass substrate
- foreign matter
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明に半導体装置の製造装置とじて用いて好適な投影
露光装置に関するものである。
露光装置に関するものである。
半導体装置の製造１桿の一つであるホ） ＩＪソゲラフ
イエ程では、レチクルやマスクのパターン奮投影露光装
置？用いてウェーハ表面のホトレジスト上に投影露光し
ているが、このとき１／チクルがマスクの表面に異物が
付着しているとこれがそのマ筐つェーハ上に結像露光さ
れることになり、所謂ハターン欠陥が発生する。特にレ
チクルやマスクのパターンをウェーハ上にステップアン
ドリピート的に露光する場合には、各素子に異物像の欠
脩が生じることになシ致命的なものとなる。
イエ程では、レチクルやマスクのパターン奮投影露光装
置？用いてウェーハ表面のホトレジスト上に投影露光し
ているが、このとき１／チクルがマスクの表面に異物が
付着しているとこれがそのマ筐つェーハ上に結像露光さ
れることになり、所謂ハターン欠陥が発生する。特にレ
チクルやマスクのパターンをウェーハ上にステップアン
ドリピート的に露光する場合には、各素子に異物像の欠
脩が生じることになシ致命的なものとなる。
このため、レチクルやマスクに付着した異物音検出して
これを取除くことが必要と芒れるか、従来の検出装置で
は充分に満足することはできない。
これを取除くことが必要と芒れるか、従来の検出装置で
は充分に満足することはできない。
向えば、近年最も進んだものとしては、レグ−クルやマ
スク（以下、レチクルで代衣する）を投影露光装置にセ
ットする直前位１百でレヂークルの六外面にレーザ光束
を当射させ、これをレチクルＩＪ ｉ＋＋＋ ’（ｒ走
査芒せながらその反射光金光奄素子にて検出し、この反
射光量の変化？検知することによりＡＡ″０ＩＪｋ検出
するものが実用化されている。
スク（以下、レチクルで代衣する）を投影露光装置にセ
ットする直前位１百でレヂークルの六外面にレーザ光束
を当射させ、これをレチクルＩＪ ｉ＋＋＋ ’（ｒ走
査芒せながらその反射光金光奄素子にて検出し、この反
射光量の変化？検知することによりＡＡ″０ＩＪｋ検出
するものが実用化されている。
しかしながらこの装置では、異物検出後に露光装置に１
／チクルをセットする際や露光の継続中等に新たに付着
する異物全検出することができないという大きな問題が
ある。また、曲の問題として、レーザ走査装置およびこ
れに追従作動される光電素子等の装置機構が極めて複雑
かつ高価になること、レチクルのパターンによる検出ノ
イズが入シ易い一方でレチクル表面のクランク全検出す
ることが難かしいこと、レチクル裏面の無害異物と表面
の有＠異物の識別奮行なうことができないこと等がめる
。
／チクルをセットする際や露光の継続中等に新たに付着
する異物全検出することができないという大きな問題が
ある。また、曲の問題として、レーザ走査装置およびこ
れに追従作動される光電素子等の装置機構が極めて複雑
かつ高価になること、レチクルのパターンによる検出ノ
イズが入シ易い一方でレチクル表面のクランク全検出す
ることが難かしいこと、レチクル裏面の無害異物と表面
の有＠異物の識別奮行なうことができないこと等がめる
。
したがって本発明の目的は、実際の露光状態にあるレチ
クルに付着した有害異物やレチクルのクラックを正確に
検出することができると共に、検出部の構成音ｎ■単な
ものとしかつ全体奮低コストに製造することができる投
影露光装Ｋｋ提供することにある。
クルに付着した有害異物やレチクルのクラックを正確に
検出することができると共に、検出部の構成音ｎ■単な
ものとしかつ全体奮低コストに製造することができる投
影露光装Ｋｋ提供することにある。
このような目的を達成するために本発明に、投影露光用
光源光の一部ｒレチクルの側部に導いてレチクル政面に
略平行に照射させる異物検出九学系ト、レチクルパター
ンの結像位置に一時的に設置可能で前記光の乱反射光ｒ
検１Ｊｉ−ｊる光（てンサと會備えるようにし友もので
ある。
光源光の一部ｒレチクルの側部に導いてレチクル政面に
略平行に照射させる異物検出九学系ト、レチクルパター
ンの結像位置に一時的に設置可能で前記光の乱反射光ｒ
検１Ｊｉ−ｊる光（てンサと會備えるようにし友もので
ある。
以下、本発明を図示の実施列によシ説明する。
第１図は本発明の投影露光装（ｑの全体構成図でめシ、
１は所定のパター７２表面（Ｆ面）に形成したレチクル
、２＆ユこの１／チクルパターンカ投影露光されるウェ
ーハでめる。このウエーノ・２は夫々駆動機構３．４に
よって駆動δれるＸテーブル５、Ｙテーブル６からなる
ＸＹテーブル７上に載置さ７’Ｌ、水平ＸＹ方向に移動
されて前記レチクルパターンが折目状に露光される。
１は所定のパター７２表面（Ｆ面）に形成したレチクル
、２＆ユこの１／チクルパターンカ投影露光されるウェ
ーハでめる。このウエーノ・２は夫々駆動機構３．４に
よって駆動δれるＸテーブル５、Ｙテーブル６からなる
ＸＹテーブル７上に載置さ７’Ｌ、水平ＸＹ方向に移動
されて前記レチクルパターンが折目状に露光される。
ＭｔＪ記レテレチクル投影光学系８は、信置面状の反射
鏡９勿備えｆＣＣ銅鋼ランプ１０才光源して備え、これ
ばコンデンサレンズ１１＝ｒ通してレチクル１＆こ照射
すると共に、レチクル１の下方に設はり縮小結像レンズ
１２にてレチクル１のノくターン像をウェーハ２辰面に
結像できるようにしている。
鏡９勿備えｆＣＣ銅鋼ランプ１０才光源して備え、これ
ばコンデンサレンズ１１＝ｒ通してレチクル１＆こ照射
すると共に、レチクル１の下方に設はり縮小結像レンズ
１２にてレチクル１のノくターン像をウェーハ２辰面に
結像できるようにしている。
Ｊ３はシャッタでめυ、露光時に開動する。
一方、１４は異＊検出光学系であり、前記シャッタ１３
の直上位置に設けたノ１−フミラー１５にて前記光源光
の一部を側方に取り出している。また、この光学系１４
は夫々２個のリレーレンズ１６、】７と反射ミラー１８
．１９と全備えて前記ハーフミラ−１５ｉ／こて取り出
した光音前記レチクルｌの側方位置に互で導き、しかる
上でレチクル１に略その赤面と平行な方向から照射して
いる。
の直上位置に設けたノ１−フミラー１５にて前記光源光
の一部を側方に取り出している。また、この光学系１４
は夫々２個のリレーレンズ１６、】７と反射ミラー１８
．１９と全備えて前記ハーフミラ−１５ｉ／こて取り出
した光音前記レチクルｌの側方位置に互で導き、しかる
上でレチクル１に略その赤面と平行な方向から照射して
いる。
なお、レチクル１の他側部には反射ミラー２０を立設し
、この平行な照射光音反射して再度レチクル１表面に向
かって平行に照射場れるようにしている。２１は反射ミ
ラ−１９０角度変更機構である。
、この平行な照射光音反射して再度レチクル１表面に向
かって平行に照射場れるようにしている。２１は反射ミ
ラ−１９０角度変更機構である。
他方、前記ＸＹテーブル７上のウエーノ・２近傍位匝に
は光７区素子からなる光センサ２２を取着し、。
は光７区素子からなる光センサ２２を取着し、。
ＸＹテーブル７の移動によってレチクルノ（ターン像の
結像位置に移動できるようにしている。この光センサ２
２はその光検出面を前記ウェー・・２０表面と同一レベ
ルに保持している。
結像位置に移動できるようにしている。この光センサ２
２はその光検出面を前記ウェー・・２０表面と同一レベ
ルに保持している。
そして、前記Ｘ、Ｙの各テーブル駆動機構３．４、反射
ミラーの角度変更機構２１．光センサ２２全制御部２３
に接続して、夫々の信号を制御部２３に取シ入れるよう
にし、制御部２３はこれケ演算部２４に出力して０ＲＴ
２５或いはプリンタ２６に異物の状態’ｋＰ示させるよ
うにしている。
ミラーの角度変更機構２１．光センサ２２全制御部２３
に接続して、夫々の信号を制御部２３に取シ入れるよう
にし、制御部２３はこれケ演算部２４に出力して０ＲＴ
２５或いはプリンタ２６に異物の状態’ｋＰ示させるよ
うにしている。
以上の構成の投影露光装置によれば、レチクルの異物の
検出および露光に次のように行なわれる。
検出および露光に次のように行なわれる。
先ず、レチクルＩｔ図示位置にセットした上下水銀ラン
プ１０ケ点灯し、かつシャッタ１３全開にする。このと
き、ＸＹテーブル７上にはウェーハの代りに標準板を載
置しておき、この赤面にレチクルパターン像が焦点を結
ぶように縮小結像レンズ１２全藺整する。この準備工程
の完了後、シャッタ１３’に閉成して異物検査音開始す
る。
プ１０ケ点灯し、かつシャッタ１３全開にする。このと
き、ＸＹテーブル７上にはウェーハの代りに標準板を載
置しておき、この赤面にレチクルパターン像が焦点を結
ぶように縮小結像レンズ１２全藺整する。この準備工程
の完了後、シャッタ１３’に閉成して異物検査音開始す
る。
シャッタ１３の閉成により、ランプ１０の光はハーフミ
ラ−１−５によって側方へ反射芒れ、リレーレンズ１６
．１７と反射ミラー１８．１９によってレチクルｌ ９
１１１方へ導かれる。セして、最終の反射ミラー１９の
角度全角度変更機構２１によって適宜調節すれば、反射
光はレチクル１の表面に略平行（微少角度を有してもよ
い）に照射ちれる。
ラ−１−５によって側方へ反射芒れ、リレーレンズ１６
．１７と反射ミラー１８．１９によってレチクルｌ ９
１１１方へ導かれる。セして、最終の反射ミラー１９の
角度全角度変更機構２１によって適宜調節すれば、反射
光はレチクル１の表面に略平行（微少角度を有してもよ
い）に照射ちれる。
また、一部の光は反対側に設けｙｃ平面または曲面状の
反射ミラー２０に当射して反射された後にレチクル表面
およびレチクルのガラス基板の側面に照射きれる。
反射ミラー２０に当射して反射された後にレチクル表面
およびレチクルのガラス基板の側面に照射きれる。
そして、この状態金床ちながら、第２図に示すようにＸ
Ｙテーブル７ケ移動芒ぜてプロセンサ２２奮ウ工−ハ相
当位１鉦内の種々の位置に順次移動嘔せる。すると、異
物Ｘ１．Ｘ２やクランクＸ３の生じている箇所では光が
乱反射されるために、光子ンサ２２は位置［Ｐｔ ｘ
”ｔ ％ Ｐ８において庁■己異物Ｘ１、Ｘ２やクラ
ンクＸ３の乱反射光音検出し、これにより異物やクラン
クの検１１ｔ’（ｒ可能にするのである。この場合、異
物Ｘ２が有るレチクルガラス面側の異物の内、パターン
１ａの上方に有る異物は無害であるため検出しなくてよ
い。また、仮肋線のようなシャンク２７ｉ設けてレチク
ル表面にのみ光が照射されるようにすれば、裏面側（レ
チクルガラス面側）の異物全検出しないようにすること
も用来る。さらに表面側も同様に選択的に、かくずこと
もｏＪ能である。図中、ｌａはパターンである。
Ｙテーブル７ケ移動芒ぜてプロセンサ２２奮ウ工−ハ相
当位１鉦内の種々の位置に順次移動嘔せる。すると、異
物Ｘ１．Ｘ２やクランクＸ３の生じている箇所では光が
乱反射されるために、光子ンサ２２は位置［Ｐｔ ｘ
”ｔ ％ Ｐ８において庁■己異物Ｘ１、Ｘ２やクラ
ンクＸ３の乱反射光音検出し、これにより異物やクラン
クの検１１ｔ’（ｒ可能にするのである。この場合、異
物Ｘ２が有るレチクルガラス面側の異物の内、パターン
１ａの上方に有る異物は無害であるため検出しなくてよ
い。また、仮肋線のようなシャンク２７ｉ設けてレチク
ル表面にのみ光が照射されるようにすれば、裏面側（レ
チクルガラス面側）の異物全検出しないようにすること
も用来る。さらに表面側も同様に選択的に、かくずこと
もｏＪ能である。図中、ｌａはパターンである。
したがって、ＸＹテーブルの各、駆動地検３．４の位置
信号と、その時々の光センサ２２の信号γ制御部２３に
送出すれば、０ＲＴ２５やプリンタ２６にはレチクルに
おける異物等の存在箇所ケ正確に検出することができる
。
信号と、その時々の光センサ２２の信号γ制御部２３に
送出すれば、０ＲＴ２５やプリンタ２６にはレチクルに
おける異物等の存在箇所ケ正確に検出することができる
。
異物検出後はレチクル表面の異９勿ｒ除去し、ＸＹテー
ブル７上にウェーハ２忙セツトしてこれケ露光位置に設
定すれば、ＸＹテーブル７とンヤノタ１３の相関作柑に
よってノブ「望の籟Ｘｒ行なうことができるのである。
ブル７上にウェーハ２忙セツトしてこれケ露光位置に設
定すれば、ＸＹテーブル７とンヤノタ１３の相関作柑に
よってノブ「望の籟Ｘｒ行なうことができるのである。
ここで、異物の検出はウェーハ２上−＼の名露光毎に行
なうようにしてもよい。
なうようにしてもよい。
したがって、以上の投影露光装置でに、レチクル１を投
影露光位置にセットした状態で異物検出上行ない、かつ
各１シヨツトの露光ｍ、ｖｃ検出７行なうことができる
ので、露光＋＊ Ｆ］ｉ■ｘでに付層した異物の検出が
可能でめ先ガ廁な卸元孕用能ｅこする。また、本装置ｌ
ｌに従来から備えられている投影光学系８ ｖｃ ＋）
レーレンズ１６．１７や反射ミラー１８．１９からなる
検出光学系１４と、光学センサ２２を伺設すれば構成で
きるので、全体構成を簡略化しかつ低コスト＋Ｃできる
。更に、レチクルｋｃ ｌ１ｔｌ射する光の調般でレチ
クル表、裏面の異物葡１刊１Ｆ＜的に検出でき、壕１こ
クランクをで検出することもできるのでおる。
影露光位置にセットした状態で異物検出上行ない、かつ
各１シヨツトの露光ｍ、ｖｃ検出７行なうことができる
ので、露光＋＊ Ｆ］ｉ■ｘでに付層した異物の検出が
可能でめ先ガ廁な卸元孕用能ｅこする。また、本装置ｌ
ｌに従来から備えられている投影光学系８ ｖｃ ＋）
レーレンズ１６．１７や反射ミラー１８．１９からなる
検出光学系１４と、光学センサ２２を伺設すれば構成で
きるので、全体構成を簡略化しかつ低コスト＋Ｃできる
。更に、レチクルｋｃ ｌ１ｔｌ射する光の調般でレチ
クル表、裏面の異物葡１刊１Ｆ＜的に検出でき、壕１こ
クランクをで検出することもできるのでおる。
なお、第３図に示すように、レチクル１の支持板２８？
ｒ光透過部拐に゛Ｃ形成すると共に、その内側面一部荀
デーパ若しくは曲面アーパ状に形成し、この支持板２８
内に反射ミラー１９九ｒ導入するようにし２てもよ（ハ
。このようにすｉｌ−ば、支持板２８内に辱か′ｉ１．
た元に内側面Ｖこて屈折して微少角度でｌ／ヂクル賢而
面当射されることになる。この場合、反射ミラー１９の
角ｂｗ変更機構２１ケ不要にできる。以上本ｆ＋ｌＩ＆
よし′ンズ精像光学系でのべたが、ミラー反射投影光学
系の走置方式お」、ひステップアンドリピート方式の霧
光装置でも同様に行うこと−ができる。
ｒ光透過部拐に゛Ｃ形成すると共に、その内側面一部荀
デーパ若しくは曲面アーパ状に形成し、この支持板２８
内に反射ミラー１９九ｒ導入するようにし２てもよ（ハ
。このようにすｉｌ−ば、支持板２８内に辱か′ｉ１．
た元に内側面Ｖこて屈折して微少角度でｌ／ヂクル賢而
面当射されることになる。この場合、反射ミラー１９の
角ｂｗ変更機構２１ケ不要にできる。以上本ｆ＋ｌＩ＆
よし′ンズ精像光学系でのべたが、ミラー反射投影光学
系の走置方式お」、ひステップアンドリピート方式の霧
光装置でも同様に行うこと−ができる。
’ｆ７ｊ％ｔ−’チクル１（１面よυ当射する光は、偏
光ｒかけた光＝ｋ Ｉｌｌいる共に、光センザー直前で
それに対応させる偏光ファイター盆設けて、選択的な方
向の光のみ奮受光さること全行なってもよい。
光ｒかけた光＝ｋ Ｉｌｌいる共に、光センザー直前で
それに対応させる偏光ファイター盆設けて、選択的な方
向の光のみ奮受光さること全行なってもよい。
以上のように本発明の投影露光装置によれば、レチクル
の表面にこれと略平行に光ケ照射する異るので、レチク
ルを投影露光装置ｒＣセットした状態でしかも露光の直
前に異物の検出７行なうことができ、これによシ正確な
異物の検出ｆ ｏｌ能にして好適な投影露光全行なうこ
とができる。また、異物検出光学系と光センサ會付設す
るだけでよいので構成ケ簡単なものとし、低コストに製
造できる。更に光の照射のコントロールによって無害異
物と有害異物の確認が可能であり、レチクルのガラス基
板表面のクランフケ検出することができるという効呆も
奏する。
の表面にこれと略平行に光ケ照射する異るので、レチク
ルを投影露光装置ｒＣセットした状態でしかも露光の直
前に異物の検出７行なうことができ、これによシ正確な
異物の検出ｆ ｏｌ能にして好適な投影露光全行なうこ
とができる。また、異物検出光学系と光センサ會付設す
るだけでよいので構成ケ簡単なものとし、低コストに製
造できる。更に光の照射のコントロールによって無害異
物と有害異物の確認が可能であり、レチクルのガラス基
板表面のクランフケ検出することができるという効呆も
奏する。
第１図は本発明の投影露光装置の構成図、第２図は作用
葡説明するための一部拡大図、第３図は他の実施列の第
２図と同様の図である。 １・・レチクル、２・・・ウエーノ・、７・・・ＸＹテ
ーブル、ト・・投影露光光学系、１０・・水銀ランプ、
１２・・・縮小結像レンズ、１３・・・シャッタ、１４
・・・異物検出光学系、２２・・・光センサ、２３・・
・制御部、２７・・・シャッタ、２８・・・支持板。 第 １ 図 グＯ 第 ２ 図 ２り 第 ３ 図
葡説明するための一部拡大図、第３図は他の実施列の第
２図と同様の図である。 １・・レチクル、２・・・ウエーノ・、７・・・ＸＹテ
ーブル、ト・・投影露光光学系、１０・・水銀ランプ、
１２・・・縮小結像レンズ、１３・・・シャッタ、１４
・・・異物検出光学系、２２・・・光センサ、２３・・
・制御部、２７・・・シャッタ、２８・・・支持板。 第 １ 図 グＯ 第 ２ 図 ２り 第 ３ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ガラス基板上に描かれた像をウェーハ表面に投影
露光する投影光学系と、露光用照明光学系吉この照明光
源光の一部を前記ガラス基板の側部に導りて少なくとも
ガラス基板の像面と略平行に照射する第２照明光学系と
、前記ガラス基板の結像位置に設置可能で前記第２照明
光学系の照射光によるガラス基板からの乱反射光全検出
する光センサと全備えること’ｔ％徴とする投影露光装
置。 ２、光センサは光電素子からなシ、ウェーハを載置し７
（ｘｙテーブルの一部に取着してなる特許請求の範囲第
１項記載の投影露光装置。 ３、第２照明光学系はガラス基板表面忙対して微少角度
で光を照射してなる特許請求の範囲第１墳又Ｖ工第２項
に記載の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57160986A JPS5950522A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57160986A JPS5950522A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5950522A true JPS5950522A (ja) | 1984-03-23 |
Family
ID=15726390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57160986A Pending JPS5950522A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950522A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61100932A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-19 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
| JP2007180549A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および方法 |
-
1982
- 1982-09-17 JP JP57160986A patent/JPS5950522A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61100932A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-19 | Hitachi Ltd | 露光装置 |
| JP2007180549A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および方法 |
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