JPS5951907A - 高分子物質表面の親水性化方法 - Google Patents
高分子物質表面の親水性化方法Info
- Publication number
- JPS5951907A JPS5951907A JP16263882A JP16263882A JPS5951907A JP S5951907 A JPS5951907 A JP S5951907A JP 16263882 A JP16263882 A JP 16263882A JP 16263882 A JP16263882 A JP 16263882A JP S5951907 A JPS5951907 A JP S5951907A
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- Japan
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- polymeric substance
- formula
- irradiation
- alkyl
- heating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高分子物質表面の親水性化方法に関する。
高分子物質表面の親木性化は、その表面に接着性、濡れ
、生体適合性、帯電性、染色性などの特性をイリ°与す
るため、さまざまな処理手段を用いて行われる。
、生体適合性、帯電性、染色性などの特性をイリ°与す
るため、さまざまな処理手段を用いて行われる。
例えば、ラミホー1〜熱処理、放射線処理、プラズマ処
理、光照射処理などである。とりわけ熱処理、光照射処
理によるグラ中1〜処理については、学問的にも極めて
興味深い対象として過去より、数多く研究され、それに
用いられるモノマ、−としては―メチロールアクリルア
ミド、スチレン、アクリロニ1−リル、クリシジルメタ
クリレ−1−、メタクリル酸メチル、メタクリルアミド
、アクリルアミド、耐″醸ビニル、アクリル酸などがあ
り、高分子物質の機能向−1−を目途として現在も広く
研究が進められいてる。しかるに、実際的意味において
、高分子物質表面の親ないのが実情であり、多くは、練
り込み、あるい(Jトセi6)塗?11″によ1j、そ
σ月1的を達しでいるにい/)のか112 :仄−CT
、ちる。
理、光照射処理などである。とりわけ熱処理、光照射処
理によるグラ中1〜処理については、学問的にも極めて
興味深い対象として過去より、数多く研究され、それに
用いられるモノマ、−としては―メチロールアクリルア
ミド、スチレン、アクリロニ1−リル、クリシジルメタ
クリレ−1−、メタクリル酸メチル、メタクリルアミド
、アクリルアミド、耐″醸ビニル、アクリル酸などがあ
り、高分子物質の機能向−1−を目途として現在も広く
研究が進められいてる。しかるに、実際的意味において
、高分子物質表面の親ないのが実情であり、多くは、練
り込み、あるい(Jトセi6)塗?11″によ1j、そ
σ月1的を達しでいるにい/)のか112 :仄−CT
、ちる。
本発明R,、:、は l!’l+分子−物1g′7表面
り、−、’1′>l;久的な親ノー(・1′1加1、と
11 ;++ iJ防電、防膏処叩を施オためfΦ′l
の千ツマ−j:Tiの長面グラフ1−処理について4・
、9意(il[究し、八X、いI↓、極めで優旧た・1
′1能をイイずろモノマー〆4) +゛、げにその処理
方法を(昌1出ずに至1″− リ5本発明に到達し、でものびある。
り、−、’1′>l;久的な親ノー(・1′1加1、と
11 ;++ iJ防電、防膏処叩を施オためfΦ′l
の千ツマ−j:Tiの長面グラフ1−処理について4・
、9意(il[究し、八X、いI↓、極めで優旧た・1
′1能をイイずろモノマー〆4) +゛、げにその処理
方法を(昌1出ずに至1″− リ5本発明に到達し、でものびある。
兄
叩1−.、高う)1′物!rT ハ面#親4く性f’s
”1ルニ1tヅ’H’i L+ 。
”1ルニ1tヅ’H’i L+ 。
一般式
%式%:
(()
げ−だし71式中lくは(1: 5= (じl 11の
アルキル、アラルキルまたはアルキルアリール基、R)
は二Iユチレン基、1り2はフパ[1ピレン、またはフ
チ+/ y 」3、Xは11または(f〕H3,お、上
び++ 。
アルキル、アラルキルまたはアルキルアリール基、R)
は二Iユチレン基、1り2はフパ[1ピレン、またはフ
チ+/ y 」3、Xは11または(f〕H3,お、上
び++ 。
+1’lはりまたは整数、かつ++ 十m = ’Iへ
一100Cあろ1、) て示びれるモノマーを加熱もしくは尤11((旧により
高分子物質表面にタラ攻1−化さ仕ることを′1、ν徴
どすン)高分子物質表面のれ!水性化か−、を提供する
ものである。
一100Cあろ1、) て示びれるモノマーを加熱もしくは尤11((旧により
高分子物質表面にタラ攻1−化さ仕ることを′1、ν徴
どすン)高分子物質表面のれ!水性化か−、を提供する
ものである。
本発明において、前記−・般式(1)でボされる(]−
合物は、アミルアルコール、オクチル)′ル」−ル、う
「”ノリルアルコール、ステアリルアル−一−ルといっ
たアルコール類、もし7くはシタロt\キシル7′ルコ
ールなどのアリサイクIJツク2J:アル」−ル類ある
いはフレソール、S +:! c−フチルフェノール、
ノニルフェノールなとのアルキル1醒換フエノールもし
くは非置換フェノール類に公/f11の方(′lモてエ
ヂレンオキシ1へおよび/またはプロピレンオキシ1−
および/またはブチ(ノンA−〜シ1−をイ:I加せし
めて得られる化合物にアクリル前、メタクリル酸、アク
リル酸エステル、もしく +tスタクリル酸エステルを
縮合せしめて盆トらAしる化合物である。
合物は、アミルアルコール、オクチル)′ル」−ル、う
「”ノリルアルコール、ステアリルアル−一−ルといっ
たアルコール類、もし7くはシタロt\キシル7′ルコ
ールなどのアリサイクIJツク2J:アル」−ル類ある
いはフレソール、S +:! c−フチルフェノール、
ノニルフェノールなとのアルキル1醒換フエノールもし
くは非置換フェノール類に公/f11の方(′lモてエ
ヂレンオキシ1へおよび/またはプロピレンオキシ1−
および/またはブチ(ノンA−〜シ1−をイ:I加せし
めて得られる化合物にアクリル前、メタクリル酸、アク
リル酸エステル、もしく +tスタクリル酸エステルを
縮合せしめて盆トらAしる化合物である。
また、本発明においで高分子物質とは、−1:とI7で
合成高分子化合物であり、ポリエステル、ボ1Jアミ1
−、ポリアクリロニ1ヘリルどいった合成繊組−から、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポ
リスチレン樹脂、A r3S 4itl脂ン(・どの合
1戊粒目指の成型品およびフィルj、をいう。
合成高分子化合物であり、ポリエステル、ボ1Jアミ1
−、ポリアクリロニ1ヘリルどいった合成繊組−から、
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポ
リスチレン樹脂、A r3S 4itl脂ン(・どの合
1戊粒目指の成型品およびフィルj、をいう。
これl゛、高分子物質の表面処理力aくどしでば、に記
一般式(1)で示される七ツマ−の水溶?1νあるスジ
1ノー、コーチrンクなどの方法による表面ンクマ布を
行−】だのも、そのままもし、くはす吃燥f名・、5、
・さ処理の場合は、l □ (1〜l 80 ’(二し
;で31)秒〜濱)勺、1、JV(紫外線)照射の場合
、主どして:l t)l)〜/15f)Ill 71に
最大波長をもつ光で10秒〜5分間の照射をjfi二し
7(はN2′f?−囲気中0行うことにより表面処理を
行う、。
一般式(1)で示される七ツマ−の水溶?1νあるスジ
1ノー、コーチrンクなどの方法による表面ンクマ布を
行−】だのも、そのままもし、くはす吃燥f名・、5、
・さ処理の場合は、l □ (1〜l 80 ’(二し
;で31)秒〜濱)勺、1、JV(紫外線)照射の場合
、主どして:l t)l)〜/15f)Ill 71に
最大波長をもつ光で10秒〜5分間の照射をjfi二し
7(はN2′f?−囲気中0行うことにより表面処理を
行う、。
こυ〕■す合、熱重合に才♂いでは、1列えはj重硫酸
アア□: Z ll、過ヤイ1゜うつ。イア5、過酸イ
1、ッゾ(ルンJ・どをJl、イY什し7めろのかIf
ましく、また)+6jj((jl・lc7戸J3合は、
ベンゾフェノン、ビアセヂル、/\ンツーrルアルWル
エーデル、過酸化ベンツ・アルなど増感剤を共存さぜる
ことかりrましい。
アア□: Z ll、過ヤイ1゜うつ。イア5、過酸イ
1、ッゾ(ルンJ・どをJl、イY什し7めろのかIf
ましく、また)+6jj((jl・lc7戸J3合は、
ベンゾフェノン、ビアセヂル、/\ンツーrルアルWル
エーデル、過酸化ベンツ・アルなど増感剤を共存さぜる
ことかりrましい。
また、表面処理後は、水洗もしくは溶剤洗浄を行い、未
グラ孟1ヘモノマーオ9よび^′〕i分子物Jnイ(面
1・の重合物を洗浄してもよい。
グラ孟1ヘモノマーオ9よび^′〕i分子物Jnイ(面
1・の重合物を洗浄してもよい。
以1−のとおり、極めて簡便な方法で表面処理された高
勿子物質の表面ば、驚嘆ずへきことに梗めで好適な親水
性を示し、防f[、防曇]′1、流滴処理などが、半永
久的に完遂することカビCさ7,1゜以下本発明を実施
例により説明する。
勿子物質の表面ば、驚嘆ずへきことに梗めで好適な親水
性を示し、防f[、防曇]′1、流滴処理などが、半永
久的に完遂することカビCさ7,1゜以下本発明を実施
例により説明する。
(実施例中の部、%は重−■部を表す。)実施例
市販のボリエステルフ、rル13を10(・mmにLJ
J191し・、これを表−1に示した++V7 i告物
質(イj1.1j1(II″ンブル)に該化合物あたり
、4重置′/、の;、H,+。
J191し・、これを表−1に示した++V7 i告物
質(イj1.1j1(II″ンブル)に該化合物あたり
、4重置′/、の;、H,+。
硫酸フ′ンモニウ11を含む5 %氷1容イ′1シに1
フ7古じ、1時曲後浴より引きにげで一昼夜風・)・λ
じlF= −また、−・方で表−1に示した構j告物質
に1ヅ。
フ7古じ、1時曲後浴より引きにげで一昼夜風・)・λ
じlF= −また、−・方で表−1に示した構j告物質
に1ヅ。
ル
のペンツフェノンを加えた!; %酢酸工千称水溶液を
調製し、同打冒;ボリエステルノ、rル11を浸漬し、
1時間後、浴より引き1.げで ・仔実施例2 市販のボリスチ1ノン樹脂ペレッ1−を17υ〜181
1℃[f−ル棟り(3分間)し、180℃にて30秒、
1])旧UX/−て加圧プレスし、冷却プレスを行い、
J m +n X Iυen+ X 10 cmの樹脂
板を成形した。
調製し、同打冒;ボリエステルノ、rル11を浸漬し、
1時間後、浴より引き1.げで ・仔実施例2 市販のボリスチ1ノン樹脂ペレッ1−を17υ〜181
1℃[f−ル棟り(3分間)し、180℃にて30秒、
1])旧UX/−て加圧プレスし、冷却プレスを行い、
J m +n X Iυen+ X 10 cmの樹脂
板を成形した。
実施例1同様にして、得られた5%水溶液なら行った。
表面処理後、その表面の表面固有抵抗を測定した結果を
表−2に示した。
表−2に示した。
表−2
表−2により、本発明例は表面固有抵抗値が低く、マ)
F電防止性が優九でいることが確認でさる、リ″■にて
光照射して処理した表面処理ポリエステルフィルムを温
水中(60℃)に24時間浸漬し、乾燥後のフィルムの
接触角および表面固イT 41(抗(値)を測定した結
果を表−13に示す。
F電防止性が優九でいることが確認でさる、リ″■にて
光照射して処理した表面処理ポリエステルフィルムを温
水中(60℃)に24時間浸漬し、乾燥後のフィルムの
接触角および表面固イT 41(抗(値)を測定した結
果を表−13に示す。
表−:(
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 高分子物質表面を親水性化するに際し、一般式 %式%(1) (ただし2式中J(はCs −Cr。のアルキル、アラ
ルキルまたはアルキルアリール基、1(lはエチレン基
、R2はプロピレン、またはブチレン基、Xは■4また
はCH3−およびn 。 InはOまたは整数、かつn + m = 4〜100
である。) で示される七ツマ−を加熱もしくは光照射により高分子
物質表面にグラ中1−化させることを特徴どする高分子
物質表面の親水性化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16263882A JPS5951907A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 高分子物質表面の親水性化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16263882A JPS5951907A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 高分子物質表面の親水性化方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5951907A true JPS5951907A (ja) | 1984-03-26 |
| JPH0261969B2 JPH0261969B2 (ja) | 1990-12-21 |
Family
ID=15758417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16263882A Granted JPS5951907A (ja) | 1982-09-17 | 1982-09-17 | 高分子物質表面の親水性化方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5951907A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0421345B1 (en) * | 1989-10-03 | 1996-03-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for forming cured-resin layer having an antistatic surface |
| EP0906921A1 (en) * | 1997-10-03 | 1999-04-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Modified ethylene resin having improved wettability |
| JP2010053237A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Chisso Corp | 合成樹脂成形品表面の親水性疎水性制御法および合成樹脂成形品 |
-
1982
- 1982-09-17 JP JP16263882A patent/JPS5951907A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0421345B1 (en) * | 1989-10-03 | 1996-03-20 | Mitsubishi Chemical Corporation | Process for forming cured-resin layer having an antistatic surface |
| EP0906921A1 (en) * | 1997-10-03 | 1999-04-07 | Mitsubishi Chemical Corporation | Modified ethylene resin having improved wettability |
| JP2010053237A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Chisso Corp | 合成樹脂成形品表面の親水性疎水性制御法および合成樹脂成形品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0261969B2 (ja) | 1990-12-21 |
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