JPS5952883A - 太陽電池 - Google Patents
太陽電池Info
- Publication number
- JPS5952883A JPS5952883A JP57163341A JP16334182A JPS5952883A JP S5952883 A JPS5952883 A JP S5952883A JP 57163341 A JP57163341 A JP 57163341A JP 16334182 A JP16334182 A JP 16334182A JP S5952883 A JPS5952883 A JP S5952883A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- solar battery
- junction
- contained
- semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
- H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
- H10F10/17—Photovoltaic cells having only PIN junction potential barriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発IJ1.i非晶質半導体を用いた太陽電池に関する
。
。
非晶質シリコンが荷電子制御が可能であることが鉦明さ
れて以来、特に太陽電池への非晶質半導体の応用が注目
され、各方面で研究がなされている。これらの中には太
陽光の有効利用λいう観点から、シリコンに他の■族元
素を添加してなる核元素非晶質半導体を用いる工夫がな
されている。
れて以来、特に太陽電池への非晶質半導体の応用が注目
され、各方面で研究がなされている。これらの中には太
陽光の有効利用λいう観点から、シリコンに他の■族元
素を添加してなる核元素非晶質半導体を用いる工夫がな
されている。
例えば光の入射側の層において、炭素をシリコンに混合
することによって光学的禁止帯幅を広げる。
することによって光学的禁止帯幅を広げる。
それKよってソリコンのみからなる電流発生領域へ到達
する光責が増加するうこれとは逆に電流発生領域を形成
する層においては、ゲルマニラl、をシリコンに混合す
ることによって禁止帯幅を小さくして太陽プロを有効に
吸収する。しかしこれらは、各層を構成する半導体が異
種であってヘテロ接合を形成することになり、接合作成
の土に技術的困難全作なう。
する光責が増加するうこれとは逆に電流発生領域を形成
する層においては、ゲルマニラl、をシリコンに混合す
ることによって禁止帯幅を小さくして太陽プロを有効に
吸収する。しかしこれらは、各層を構成する半導体が異
種であってヘテロ接合を形成することになり、接合作成
の土に技術的困難全作なう。
本発明はこのようなヘテロ接合を形成す−ることなしに
、同種半導体から接合が形成され、しかもエネルギー、
ギャップが調整可能Cあるような太陽電池を提供するこ
とを目的とする。
、同種半導体から接合が形成され、しかもエネルギー、
ギャップが調整可能Cあるような太陽電池を提供するこ
とを目的とする。
この目的は太陽電池の接合を形成する非晶質半導体の各
層が、If1旗、■銭、V核の各々に列する少なくとも
一つずつの同一元素とダングリングボンドを終端する元
素とからなることによって達成される。
層が、If1旗、■銭、V核の各々に列する少なくとも
一つずつの同一元素とダングリングボンドを終端する元
素とからなることによって達成される。
本発明は太陽電池の各層を同一のIVFZ元素半導体と
■−■化合物半導体との腹合半導体によって(イタ成し
ようとする考えに基づいてい心。
■−■化合物半導体との腹合半導体によって(イタ成し
ようとする考えに基づいてい心。
以F図を引用し−C本発明の実施例シこつい゛C説明す
る。第1図に示す太陽電池をよ、金属基板1上にp層2
.1層3.9層4が半導体薄膜で形成され、さらにその
上に透明導電膜5、格子電極6が設けられたものである
。pl@2.1層3.n7#4はすべてB、Si、Pの
三元素からなる非晶質半導体各層であり、ダングリング
ボンドを終端するターミネータとして水素が添加されて
いる。第2図はその非晶質半導体各層における各元素の
含廟量の分布を示す。p層2はBがPより多く、9層4
はPかBよシ多く含まれておシ、これにより荷電子制御
を行う。一方j層3ンまBとPの量が同じか、あるいは
補償のためにBit、PJtのいずれかが多くてもよい
。
る。第1図に示す太陽電池をよ、金属基板1上にp層2
.1層3.9層4が半導体薄膜で形成され、さらにその
上に透明導電膜5、格子電極6が設けられたものである
。pl@2.1層3.n7#4はすべてB、Si、Pの
三元素からなる非晶質半導体各層であり、ダングリング
ボンドを終端するターミネータとして水素が添加されて
いる。第2図はその非晶質半導体各層における各元素の
含廟量の分布を示す。p層2はBがPより多く、9層4
はPかBよシ多く含まれておシ、これにより荷電子制御
を行う。一方j層3ンまBとPの量が同じか、あるいは
補償のためにBit、PJtのいずれかが多くてもよい
。
このような太陽電池の半導体層INは、例えばグロー放
電分解法により原料ガスとしてのSIH’ +B2H6
,PH! の配合化を各層に対応して鴎かに変化させ
ることだけKより、同一般帷で連続的に極めて簡単に形
成でき、しかも良好な18合台、得ることができる。し
かも本発明の最大の特長は、半導体のエネルギー、ギャ
ップをSl量に対する(s+p)量の割合によって調整
できることである。従って1M3のエネルギー・ギヤ、
ツブを太陽光エネルギースペクトルの最大点に合わせ、
変換効率の高い太陽電池を製作することも容易にできる
。
電分解法により原料ガスとしてのSIH’ +B2H6
,PH! の配合化を各層に対応して鴎かに変化させ
ることだけKより、同一般帷で連続的に極めて簡単に形
成でき、しかも良好な18合台、得ることができる。し
かも本発明の最大の特長は、半導体のエネルギー、ギャ
ップをSl量に対する(s+p)量の割合によって調整
できることである。従って1M3のエネルギー・ギヤ、
ツブを太陽光エネルギースペクトルの最大点に合わせ、
変換効率の高い太陽電池を製作することも容易にできる
。
以上のように本発明は同種半導体からなり、しかも特性
の調整が容易にできる薄膜半導体太陽電池を得るもので
、太陽電池の特性の向上を経済的に達成できる点で極め
て有効であるつなおIVFi元索としてSlの代りにG
e、■族元素としてB以外にAI、In、+la、■旅
元素としてはP以外にSt) + Asが使えることは
いうまでもなり0ターミネータとしては水素ばかりでな
くハロゲンまたはカルコゲン元素を用いてもよい。“ま
た前述のn−1−p構造だけでなく、ショットキバリア
型の構造の太陽電池にも適用できる。
の調整が容易にできる薄膜半導体太陽電池を得るもので
、太陽電池の特性の向上を経済的に達成できる点で極め
て有効であるつなおIVFi元索としてSlの代りにG
e、■族元素としてB以外にAI、In、+la、■旅
元素としてはP以外にSt) + Asが使えることは
いうまでもなり0ターミネータとしては水素ばかりでな
くハロゲンまたはカルコゲン元素を用いてもよい。“ま
た前述のn−1−p構造だけでなく、ショットキバリア
型の構造の太陽電池にも適用できる。
第1図は本発明の一実施例の太陽電池の断面図、第2図
は半導体層の厚さ方向におけ゛るSi 。 B、P各元素の含有量の分布図である。
は半導体層の厚さ方向におけ゛るSi 。 B、P各元素の含有量の分布図である。
Claims (1)
- 1)接合を形成する非晶質半導体の各1−が、■旅、I
VD、1旗の各々に属する少なくとも−りずつの元素と
ダングリングボンドを終端する元素とからなる−ことを
特徴とする太陽電池。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57163341A JPS5952883A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 太陽電池 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57163341A JPS5952883A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 太陽電池 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5952883A true JPS5952883A (ja) | 1984-03-27 |
Family
ID=15772024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57163341A Pending JPS5952883A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 太陽電池 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5952883A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4681984A (en) * | 1985-04-11 | 1987-07-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Solar cell comprising a semiconductor body formed of amorphous silicon and having a layer sequence p-SiC/i/n |
| US4692558A (en) * | 1983-05-11 | 1987-09-08 | Chronar Corporation | Counteraction of semiconductor impurity effects |
| US4734379A (en) * | 1985-09-18 | 1988-03-29 | Fuji Electric Corporate Research And Development Ltd. | Method of manufacture of solar battery |
| US4742012A (en) * | 1984-11-27 | 1988-05-03 | Toa Nenryo Kogyo K.K. | Method of making graded junction containing amorphous semiconductor device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55151328A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-25 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for fabricating hydrogen-containing amorphous semiconductor film |
| JPS564287A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-17 | Rca Corp | Amorphous silicon solar battery |
| JPS56114387A (en) * | 1980-02-13 | 1981-09-08 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of photovoltaic force element |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP57163341A patent/JPS5952883A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55151328A (en) * | 1979-05-16 | 1980-11-25 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for fabricating hydrogen-containing amorphous semiconductor film |
| JPS564287A (en) * | 1979-06-18 | 1981-01-17 | Rca Corp | Amorphous silicon solar battery |
| JPS56114387A (en) * | 1980-02-13 | 1981-09-08 | Sanyo Electric Co Ltd | Manufacture of photovoltaic force element |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4692558A (en) * | 1983-05-11 | 1987-09-08 | Chronar Corporation | Counteraction of semiconductor impurity effects |
| US4742012A (en) * | 1984-11-27 | 1988-05-03 | Toa Nenryo Kogyo K.K. | Method of making graded junction containing amorphous semiconductor device |
| US4681984A (en) * | 1985-04-11 | 1987-07-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Solar cell comprising a semiconductor body formed of amorphous silicon and having a layer sequence p-SiC/i/n |
| US4734379A (en) * | 1985-09-18 | 1988-03-29 | Fuji Electric Corporate Research And Development Ltd. | Method of manufacture of solar battery |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6368892B1 (en) | Monolithic multi-junction solar cells with amorphous silicon and CIS and their alloys | |
| US4365107A (en) | Amorphous film solar cell | |
| US5730808A (en) | Producing solar cells by surface preparation for accelerated nucleation of microcrystalline silicon on heterogeneous substrates | |
| JP2589462B2 (ja) | 光電装置 | |
| JP2008153646A (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
| JPH07123111B2 (ja) | 半導体膜の製造方法及び光起電力構造体の製造方法 | |
| JPS5952883A (ja) | 太陽電池 | |
| JPH0595126A (ja) | 薄膜太陽電池およびその製造方法 | |
| JPS61222277A (ja) | 光起電力装置及びその製造方法 | |
| JP2675754B2 (ja) | 太陽電池 | |
| Guha et al. | Science and technology of amorphous silicon alloy photovoltaics | |
| JPS6188570A (ja) | アモルフアスシリコン太陽電池の製造方法 | |
| JPH05275725A (ja) | 光起電力装置及びその製造方法 | |
| Liu et al. | Enhanced device performance of Si nanowires/Si nanocrystals heterojunction solar cells with ultrathin Al2O3 passivation | |
| JPS62159475A (ja) | アモルフアスSi太陽電池 | |
| JPS6225275B2 (ja) | ||
| JPS6095977A (ja) | 光起電力装置 | |
| JPH04290274A (ja) | 光電変換装置 | |
| JP2744680B2 (ja) | 薄膜太陽電池の製造方法 | |
| JPH0586677B2 (ja) | ||
| CN106601856B (zh) | 三结太阳能电池及其制备方法 | |
| JPS63244887A (ja) | アモルフアス太陽電池 | |
| JPS6284571A (ja) | 多層構造型アモルフアス太陽電池 | |
| JPS63274184A (ja) | 光電変換素子およびその製造方法 | |
| CN101794827A (zh) | 一种非晶硅薄膜太阳电池膜系和薄膜太阳电池以及薄膜太阳电池的制造方法 |