JPS5953209B2 - 多結晶シリコンインゴットの鋳造法 - Google Patents
多結晶シリコンインゴットの鋳造法Info
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- JPS5953209B2 JPS5953209B2 JP56122469A JP12246981A JPS5953209B2 JP S5953209 B2 JPS5953209 B2 JP S5953209B2 JP 56122469 A JP56122469 A JP 56122469A JP 12246981 A JP12246981 A JP 12246981A JP S5953209 B2 JPS5953209 B2 JP S5953209B2
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- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 238000005266 casting Methods 0.000 title claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 claims description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 9
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
- Moulds, Cores, Or Mandrels (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は多結晶シリコンインゴットの鋳造法に関するも
のである。
のである。
最近、太陽電池による太陽光発電エネルギー源として見
直され低価格太陽電池の開発が盛んである。
直され低価格太陽電池の開発が盛んである。
しかし高い効率を得るためには欠陥の少ないもので、で
きるだけ完全な単結晶シリコンを用いなければならない
。このため太陽電池の価格は高いものとなり、地上での
使用は現在まで限られたものである。そこで単結晶シリ
コンに代る低価格太陽電池用材料として多結晶の開発が
始められるようになつた。多結晶シリコンは鋳造法によ
つて作ることが行なわれている。このような鋳造法は単
結晶を得る場合のチョクラルスキー法と比較して結晶成
長速度が大きいことと、任意の形状のインゴットが得ら
れることと熟練を必要とせず操作が容易なこと等から低
価格化の可能性が大きい。例えば黒鉛のブロックを鋳型
として用いて、多結晶インゴットを形成し10cmX1
0cmの多結晶板を切り出し10%以上の光電変換効率
を有する太陽電池セルを得ている報告がある。(12t
hIEEE、PhotovoltaicSpecial
istsConferencep861976)Oしか
し、鋳型として黒鉛を用いるためシリコン融液と鋳型と
が濡れないように工夫することが重要であるが、この点
については鋳型の温度をシリコンの融点よりもかなり低
温度に保つことで濡れの問題を解決しようとしている。
(特開昭51−101466)しかしながらこの方法の
欠点は低温度で急速固化させるために、多結晶粒径が大
きくならないことにある。一般に、多結晶粒径が大きい
ものほど太陽電池とした場合に高い光電変換効率が得ら
れる。
きるだけ完全な単結晶シリコンを用いなければならない
。このため太陽電池の価格は高いものとなり、地上での
使用は現在まで限られたものである。そこで単結晶シリ
コンに代る低価格太陽電池用材料として多結晶の開発が
始められるようになつた。多結晶シリコンは鋳造法によ
つて作ることが行なわれている。このような鋳造法は単
結晶を得る場合のチョクラルスキー法と比較して結晶成
長速度が大きいことと、任意の形状のインゴットが得ら
れることと熟練を必要とせず操作が容易なこと等から低
価格化の可能性が大きい。例えば黒鉛のブロックを鋳型
として用いて、多結晶インゴットを形成し10cmX1
0cmの多結晶板を切り出し10%以上の光電変換効率
を有する太陽電池セルを得ている報告がある。(12t
hIEEE、PhotovoltaicSpecial
istsConferencep861976)Oしか
し、鋳型として黒鉛を用いるためシリコン融液と鋳型と
が濡れないように工夫することが重要であるが、この点
については鋳型の温度をシリコンの融点よりもかなり低
温度に保つことで濡れの問題を解決しようとしている。
(特開昭51−101466)しかしながらこの方法の
欠点は低温度で急速固化させるために、多結晶粒径が大
きくならないことにある。一般に、多結晶粒径が大きい
ものほど太陽電池とした場合に高い光電変換効率が得ら
れる。
そこ”で鋳型として石英ルツボを用いてその中にシリコ
ンを溶融し、しかる後石英ルツボの底から適当な速度で
結晶を成長させ多結晶粒径を大きくすることが提案され
ている。しかし従来の方法である石英ルツボを用いた多
結晶シリコン塊形成法においては、石英ルツボとシリコ
ン融液とは激しく反応し、冷却固化させると強く固着す
る。
ンを溶融し、しかる後石英ルツボの底から適当な速度で
結晶を成長させ多結晶粒径を大きくすることが提案され
ている。しかし従来の方法である石英ルツボを用いた多
結晶シリコン塊形成法においては、石英ルツボとシリコ
ン融液とは激しく反応し、冷却固化させると強く固着す
る。
このために冷却時に石英とシリコン多結晶塊にクラック
が入り、こまかく割れてしまうために、ノ多結晶シリコ
ン塊を得ることができなかつた。
が入り、こまかく割れてしまうために、ノ多結晶シリコ
ン塊を得ることができなかつた。
この問題を解決するためにグレーデツドクルシブル(G
randedCrucible)という特殊な石英ルツ
ボを用いる方法が開発された。グレーデツドクルシブル
(GrandedCrucible)はルツボの内面丁
の密度を大きくし、外側の密度を粗にした構造であつて
、冷却時に石英ルツボのみが、こまかく割れるようにな
つている。このためシリコン多結晶塊にクラツクが入る
ことはない。この方法でほとんど単結晶に近い大きな結
晶粒径が得られる。(13thPh0t0v01tai
cSpecia1ists.C0nferenceP1
371978)この方法の欠点はグレーデツドクルシブ
ル(Graded.Crucible)という高価な特
殊石英ルツボが1回の使用で゛こまかく割れてしまうこ
とである。
randedCrucible)という特殊な石英ルツ
ボを用いる方法が開発された。グレーデツドクルシブル
(GrandedCrucible)はルツボの内面丁
の密度を大きくし、外側の密度を粗にした構造であつて
、冷却時に石英ルツボのみが、こまかく割れるようにな
つている。このためシリコン多結晶塊にクラツクが入る
ことはない。この方法でほとんど単結晶に近い大きな結
晶粒径が得られる。(13thPh0t0v01tai
cSpecia1ists.C0nferenceP1
371978)この方法の欠点はグレーデツドクルシブ
ル(Graded.Crucible)という高価な特
殊石英ルツボが1回の使用で゛こまかく割れてしまうこ
とである。
これは低価格化をさまたげる大きな要因となつている。
上記の欠点を解決した粉末離型剤を用いる多結晶シリコ
ンインゴツト鋳造法について本願発明者らが既に提案し
たが、この方法は鋳型内面に粉末離型剤(窒化シリコン
)を塗布し、その中でシリコン原料を溶融し、冷却固化
して多結晶シリコンインゴツトを得る方法である。
上記の欠点を解決した粉末離型剤を用いる多結晶シリコ
ンインゴツト鋳造法について本願発明者らが既に提案し
たが、この方法は鋳型内面に粉末離型剤(窒化シリコン
)を塗布し、その中でシリコン原料を溶融し、冷却固化
して多結晶シリコンインゴツトを得る方法である。
粉末離型剤の存在は冷却時に多結晶シリコンと鋳型との
熱膨張係数の相異によつて生ずるストレスを緩和し、ま
た鋳型との固着が原因で生ずる多結晶シリコンインゴツ
トのクラツクの発生を防ぎ、多結晶シリコンインゴツト
を鋳型から容易に分離することができるようにすること
である。従来の方法は多結晶シリコンインゴツトを保持
する鋳型の材質に石英を用6,−,→!(レザ6》FO
した;梼型と溶液との間には漏れはなく多結晶シリコン
インゴツトを容易に取り出すことができたが、石英の軟
化点以上に加熱されるため、石英鋳型の一部が変形し、
くり返し使用することができない等の欠点があつた。カ
ーボン製鋳型(内面にシリコンカーバイトコート)は、
上記の欠点を全て解決した材質であるが離型剤の粉末が
鋳型と多結晶シリコンインゴツトの間につまつているた
めに簡単に多結晶シリコンインゴツトを現状の鋳型から
では取り出しにくい欠点があつた。本発柵の目的はかか
る欠点をな゛くした多結晶シリコンインゴツトの製造方
法を提供することにある。
熱膨張係数の相異によつて生ずるストレスを緩和し、ま
た鋳型との固着が原因で生ずる多結晶シリコンインゴツ
トのクラツクの発生を防ぎ、多結晶シリコンインゴツト
を鋳型から容易に分離することができるようにすること
である。従来の方法は多結晶シリコンインゴツトを保持
する鋳型の材質に石英を用6,−,→!(レザ6》FO
した;梼型と溶液との間には漏れはなく多結晶シリコン
インゴツトを容易に取り出すことができたが、石英の軟
化点以上に加熱されるため、石英鋳型の一部が変形し、
くり返し使用することができない等の欠点があつた。カ
ーボン製鋳型(内面にシリコンカーバイトコート)は、
上記の欠点を全て解決した材質であるが離型剤の粉末が
鋳型と多結晶シリコンインゴツトの間につまつているた
めに簡単に多結晶シリコンインゴツトを現状の鋳型から
では取り出しにくい欠点があつた。本発柵の目的はかか
る欠点をな゛くした多結晶シリコンインゴツトの製造方
法を提供することにある。
上記の目的を達成するためには、鋳型からシリコンイン
ゴツトが容易に取り出すことができ鋳型を連続して使用
できるようにする必要がある。
ゴツトが容易に取り出すことができ鋳型を連続して使用
できるようにする必要がある。
そのために本発明においては、鋳型の底面に上部が大き
く下部が小さい傾斜をつけた穴を開け、その穴ど問じ傾
きをもつたカーボン板を鋳型上部より挿入し穴を塞ぐよ
うに鋳型の底面の一部が脱着できるように構成し、この
鋳型の中にシリコン原料を入れ加熱融解し、これを冷却
固化することによつて多結晶シリコンインゴツトを形成
する。以下本発明の実施例について図面を用いて説明す
る。第1図は本発明の一実施例を説明するための図であ
る。
く下部が小さい傾斜をつけた穴を開け、その穴ど問じ傾
きをもつたカーボン板を鋳型上部より挿入し穴を塞ぐよ
うに鋳型の底面の一部が脱着できるように構成し、この
鋳型の中にシリコン原料を入れ加熱融解し、これを冷却
固化することによつて多結晶シリコンインゴツトを形成
する。以下本発明の実施例について図面を用いて説明す
る。第1図は本発明の一実施例を説明するための図であ
る。
図のようにカーボン鋳型1の底面の一部がカーボン板4
によつて脱着できるように構成され、この鋳型の内側全
面にシリコンカーバイト(SiC)膜をコーテング2す
る。
によつて脱着できるように構成され、この鋳型の内側全
面にシリコンカーバイト(SiC)膜をコーテング2す
る。
もちろん底面に挿入するカーボン板4の鋳型内面にもコ
ートする。更にシリコンカーバイト膜の上に粉末離型剤
(窒化シリコン)3を塗布し、その鋳型の中でシリコン
原料を入れ加熱融解する。窒化シリコン粉末の塗布方法
は、粉末を有機溶媒に混ぜてスラリー状とし、このスラ
リーをハケまたはスピンナーなどで鋳型内壁に塗り、約
300℃程度に加熱して有機溶媒をとばし乾燥して固め
る方法である。
ートする。更にシリコンカーバイト膜の上に粉末離型剤
(窒化シリコン)3を塗布し、その鋳型の中でシリコン
原料を入れ加熱融解する。窒化シリコン粉末の塗布方法
は、粉末を有機溶媒に混ぜてスラリー状とし、このスラ
リーをハケまたはスピンナーなどで鋳型内壁に塗り、約
300℃程度に加熱して有機溶媒をとばし乾燥して固め
る方法である。
塗布粉末離型剤層はち密でないた・め、ピンホールが生
ずるが、このピンホールからシリコン融液がしみ出して
も、鋳型表面のち密なSiCコーテング層の働きにより
、シリコン融液と鋳型との反応はピンホール部にのみ限
定される。このようなSiCコーテング層は通常の半導
体結晶成長用治具コーテング法として用いられているS
iH4とCH4の熱分解気相成長法によつて高純度CV
D−SiCとして形成する。シリコン原料は鋳型内で完
全に融液となり、このような条件のもとで鋳型の底より
固化させると1時間後に全部固化し多結晶シリコンイン
ゴツトが得られる。
ずるが、このピンホールからシリコン融液がしみ出して
も、鋳型表面のち密なSiCコーテング層の働きにより
、シリコン融液と鋳型との反応はピンホール部にのみ限
定される。このようなSiCコーテング層は通常の半導
体結晶成長用治具コーテング法として用いられているS
iH4とCH4の熱分解気相成長法によつて高純度CV
D−SiCとして形成する。シリコン原料は鋳型内で完
全に融液となり、このような条件のもとで鋳型の底より
固化させると1時間後に全部固化し多結晶シリコンイン
ゴツトが得られる。
カーボン製鋳型底部に傾斜を持つた穴を開け、その穴に
入るカーボン板に傾斜をつけ、両者を合わせると完全に
穴を塞ぐようにする。
入るカーボン板に傾斜をつけ、両者を合わせると完全に
穴を塞ぐようにする。
その穴はシリコン融液の圧力によつて密閉されることに
なり、そのため融液が漏れることはない。固化した多結
晶シリコンインゴツトを鋳型から取り出す場合、カーボ
ン板4を上に押し上げることにより多結晶シリコンイン
ゴツトを押し上げ、ノまた鋳型と多結晶シリコンインゴ
ツトの間につまつている粉末離型剤も同時に押し上げら
れる。
なり、そのため融液が漏れることはない。固化した多結
晶シリコンインゴツトを鋳型から取り出す場合、カーボ
ン板4を上に押し上げることにより多結晶シリコンイン
ゴツトを押し上げ、ノまた鋳型と多結晶シリコンインゴ
ツトの間につまつている粉末離型剤も同時に押し上げら
れる。
このようにして多結晶シリコンインゴツトを容易に鋳型
から取り出すことができる。鋳型自体には何ら損傷なく
、再度使用することが可能である。力−ホン製のため、
他の鋳型材質より価格面においても格安であり鋳型を加
熱する必要な消費電力が少なくすむ事、低コストのため
の理想的な鋳型材質である。第2図は底面の脱着構造の
変形を示し、第1図を同一記号は同一構成要素を示す。
このようにして固化した多結晶シリコンインゴツトに熱
応力が生じないように除々に冷却して、温度を室温まで
下げる。この方法で多結晶シリコンの粒径が3mm〜2
0mmのものが容易に得られた。窒化シリコンの融点は
1900℃と高く、シリコンカーバイトは更にこれより
も高いため、シリコン融液と鋳型との間にも反応もない
。また窒化シリコンの成分が多結晶シリコン中に一部溶
けこむがこれが不純物として働くことはない。尚、鋳型
の材料にカーボンを用いた場合について説明したが、そ
れ以外の例えば窒化シリコンのようにシリコン融点以上
の軟化点を持つ材料を用いても同様の効果が得られる。
から取り出すことができる。鋳型自体には何ら損傷なく
、再度使用することが可能である。力−ホン製のため、
他の鋳型材質より価格面においても格安であり鋳型を加
熱する必要な消費電力が少なくすむ事、低コストのため
の理想的な鋳型材質である。第2図は底面の脱着構造の
変形を示し、第1図を同一記号は同一構成要素を示す。
このようにして固化した多結晶シリコンインゴツトに熱
応力が生じないように除々に冷却して、温度を室温まで
下げる。この方法で多結晶シリコンの粒径が3mm〜2
0mmのものが容易に得られた。窒化シリコンの融点は
1900℃と高く、シリコンカーバイトは更にこれより
も高いため、シリコン融液と鋳型との間にも反応もない
。また窒化シリコンの成分が多結晶シリコン中に一部溶
けこむがこれが不純物として働くことはない。尚、鋳型
の材料にカーボンを用いた場合について説明したが、そ
れ以外の例えば窒化シリコンのようにシリコン融点以上
の軟化点を持つ材料を用いても同様の効果が得られる。
以上説明したように多結晶シリコンインゴツトを形成す
るに際して、本発明の方法を用いてシリコン融点以上の
軟化点を持つ材料の鋳型内で直接シリコンを溶融するこ
とによつて多結晶シリコンインゴツトを形成することが
できた。
るに際して、本発明の方法を用いてシリコン融点以上の
軟化点を持つ材料の鋳型内で直接シリコンを溶融するこ
とによつて多結晶シリコンインゴツトを形成することが
できた。
その結果シリコンインゴツトは鋳型内よりたやすく取り
出すことができるようになり連続して使用することが可
能となつた。得られた多結晶シリコンインゴツトの結晶
性は何ら問題なく結晶粒径が大きく、欠陥の少ない多結
晶シリコンインゴツトが容易に得られた。
出すことができるようになり連続して使用することが可
能となつた。得られた多結晶シリコンインゴツトの結晶
性は何ら問題なく結晶粒径が大きく、欠陥の少ない多結
晶シリコンインゴツトが容易に得られた。
第1図は本発明の一実施例を説明するための図で、第2
図は鋳型における底面の脱着構造の変形を示す図である
。 図において1・・・・・・カーボン製鋳型、2・・・・
・・シリコンカーバイト (SiC)コーテング、3・
・・・・・窒化シリコン(Si3N4)粉末離型剤、4
・・・・・・鋳型の底面における脱着部。
図は鋳型における底面の脱着構造の変形を示す図である
。 図において1・・・・・・カーボン製鋳型、2・・・・
・・シリコンカーバイト (SiC)コーテング、3・
・・・・・窒化シリコン(Si3N4)粉末離型剤、4
・・・・・・鋳型の底面における脱着部。
Claims (1)
- 1 シリコン融点以上の軟化点を持つ材質より成り、か
つ底部の一部を脱着できるように構成した鋳型を用い、
該鋳型の内側にシリコンカーバイトをコーテングした後
、粉末離型剤を塗布した後、該鋳型の中で多結晶シリコ
ンを鋳造することを特徴とする多結晶シリコンインゴッ
トの鋳造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56122469A JPS5953209B2 (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 多結晶シリコンインゴットの鋳造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56122469A JPS5953209B2 (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 多結晶シリコンインゴットの鋳造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5826019A JPS5826019A (ja) | 1983-02-16 |
| JPS5953209B2 true JPS5953209B2 (ja) | 1984-12-24 |
Family
ID=14836612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56122469A Expired JPS5953209B2 (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | 多結晶シリコンインゴットの鋳造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953209B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62163918A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-20 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62163919A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-20 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62200222A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62200221A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62200224A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Canon Inc | 変位測定装置 |
| JPS62201313A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-05 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62201314A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-05 | Canon Inc | エンコ−ダ− |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6149416A (ja) * | 1984-08-17 | 1986-03-11 | Hoxan Corp | 多結晶シリコンウエハ製造用カ−ボン皿のコ−テイング方法 |
| US5431869A (en) * | 1993-01-12 | 1995-07-11 | Council Of Scientific & Industrial Research | Process for the preparation of polycrystalline silicon ingot |
| EP1811064A1 (fr) * | 2006-01-12 | 2007-07-25 | Vesuvius Crucible Company | Creuset pour le traitement de silicium à l'état fondu |
-
1981
- 1981-08-06 JP JP56122469A patent/JPS5953209B2/ja not_active Expired
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62163918A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-20 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62163919A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-20 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62200222A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62200221A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62200224A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Canon Inc | 変位測定装置 |
| JPS62201313A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-05 | Canon Inc | ロ−タリ−エンコ−ダ− |
| JPS62201314A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-05 | Canon Inc | エンコ−ダ− |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5826019A (ja) | 1983-02-16 |
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