JPS5953272B2 - オキサセフアロスポリン類 - Google Patents
オキサセフアロスポリン類Info
- Publication number
- JPS5953272B2 JPS5953272B2 JP58126784A JP12678483A JPS5953272B2 JP S5953272 B2 JPS5953272 B2 JP S5953272B2 JP 58126784 A JP58126784 A JP 58126784A JP 12678483 A JP12678483 A JP 12678483A JP S5953272 B2 JPS5953272 B2 JP S5953272B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dethia
- carboxylic acid
- oxa
- group
- cephem
- Prior art date
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- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
通常のセフアロスポリンの３位にヘテロチオ基を導入す
るには、ｉ）４位のカルボキシを保護したのち、３位の
官能化メチル基とヘテロ環チオール化合物またはその塩
を作用させる方法、およびｉｉ）４位カルボン酸を遊離
のまま、３位アセトキシメチル基をヘテロ環チオ基で置
換している。
るには、ｉ）４位のカルボキシを保護したのち、３位の
官能化メチル基とヘテロ環チオール化合物またはその塩
を作用させる方法、およびｉｉ）４位カルボン酸を遊離
のまま、３位アセトキシメチル基をヘテロ環チオ基で置
換している。
１１）の方法ではヘテロ環チオール化合物の活性力塙い
条件でのみ、ラクトン化を起さずに目的物が得られる。
条件でのみ、ラクトン化を起さずに目的物が得られる。
１−オキサデチアセフアロスポリンにおいては１１）の
反応が進行せず、Ｉ）の方法のみにより目的物を生成し
た。
反応が進行せず、Ｉ）の方法のみにより目的物を生成し
た。
ところが、１１）のアセトキシメチル基の代りにハロメ
チル基をもつ遊離酸においては、高収率で目的物を得る
ことに成功して、この発明を完成した。これによつて、
４位カルボキシ基を保護せずにヘテロ環チオ基を導入で
きることになつた。この条件では副反応であるラクトン
化は起き難い。この発明は次の反応式で表わされる反応
によつてハロメチル化合物Ｉにチオール化合物■または
その塩を作用させて、ヘテロチオメチル化合物■を製造
する方法によりなる。
チル基をもつ遊離酸においては、高収率で目的物を得る
ことに成功して、この発明を完成した。これによつて、
４位カルボキシ基を保護せずにヘテロ環チオ基を導入で
きることになつた。この条件では副反応であるラクトン
化は起き難い。この発明は次の反応式で表わされる反応
によつてハロメチル化合物Ｉにチオール化合物■または
その塩を作用させて、ヘテロチオメチル化合物■を製造
する方法によりなる。
▲数式、化学式、表等があります▼
（ I ）
（式中、Ａはアミノまたは保護されたアミノ基；□ Ｃ
Ｈ２ＳＨｅを （■） Ｅは水素またはメトキシ基； Ｈａｌはハロゲン； Ｈｅｔは異項環基； 破線はΔ２またはΔ３二重結合： 波線はαまたはβ結合； をそれぞれ示す）。
Ｈ２ＳＨｅを （■） Ｅは水素またはメトキシ基； Ｈａｌはハロゲン； Ｈｅｔは異項環基； 破線はΔ２またはΔ３二重結合： 波線はαまたはβ結合； をそれぞれ示す）。
ここでＡで表わされる保護されたアミノ基としては有機
または無機のアシルアミノ、ジアシルアミノ、ヒドロカ
ルビルアミノ、ヒドロカルビリデンアミノ、スルフアニ
ルアミノ、シリルアミノ、またはアミノ基の酸付加塩で
ある。
または無機のアシルアミノ、ジアシルアミノ、ヒドロカ
ルビルアミノ、ヒドロカルビリデンアミノ、スルフアニ
ルアミノ、シリルアミノ、またはアミノ基の酸付加塩で
ある。
特に有用なものはペニシリン・セフアロスポリンの側鎖
を構成する保護ないし置換アミノ基である。発酵により
生成するペニシリンと同一の側鎖であるものは製造上、
特に有用である。Ａ基は必要な時点の他種のＡ基と変換
できるので、その構造は、反応に耐え得るものであれば
、定義の範囲内で広範な変化が可能である。
を構成する保護ないし置換アミノ基である。発酵により
生成するペニシリンと同一の側鎖であるものは製造上、
特に有用である。Ａ基は必要な時点の他種のＡ基と変換
できるので、その構造は、反応に耐え得るものであれば
、定義の範囲内で広範な変化が可能である。
また、反応中に不都合な変化をする部分のあるときは、
常法によつて保護してから反応に付すこともできる。Ｈ
ａｌで表わされるハロゲンとしては、塩素と臭素が好適
である。
常法によつて保護してから反応に付すこともできる。Ｈ
ａｌで表わされるハロゲンとしては、塩素と臭素が好適
である。
Ｈｅｔで表わされる異項環基として憾主として１ないし
４個のＮ，Ｏ，８を含む五員環または六員環の異項環基
が好ましく、アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アシル
オキシ、カルボキシ、カルポキシアルキル、アルコキシ
カルボニルアルキル、スルホアルキル、アミノアルキル
、その他の基を置換基として有し得る。
４個のＮ，Ｏ，８を含む五員環または六員環の異項環基
が好ましく、アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、アシル
オキシ、カルボキシ、カルポキシアルキル、アルコキシ
カルボニルアルキル、スルホアルキル、アミノアルキル
、その他の基を置換基として有し得る。
代表的なものは１−（アルキルまたは置換アルキル）−
テトラゾール−５一イル、１，３，４−チアジアゾール
一５−イル、２−メチル−１，３，４−チアジアゾール
一５ーイル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１
−メチル−５−ヒドロキシ−６−オキソ一１，６−ジヒ
トロー１，３，４−トリアジン−２−イル、などである
。原料であるハロメチル化合物（ト）は特開昭４９一１
３３５９４号に記載されている化合物から加水分解．ハ
ログン化．脱保護反応などによつても製造できる。
テトラゾール−５一イル、１，３，４−チアジアゾール
一５−イル、２−メチル−１，３，４−チアジアゾール
一５ーイル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１
−メチル−５−ヒドロキシ−６−オキソ一１，６−ジヒ
トロー１，３，４−トリアジン−２−イル、などである
。原料であるハロメチル化合物（ト）は特開昭４９一１
３３５９４号に記載されている化合物から加水分解．ハ
ログン化．脱保護反応などによつても製造できる。
また、３−クロロ−３−ハロメチル一１−オキサデチア
セフアム化合物の脱ハロゲン化水素などにより製造する
こともできる。この発明は、このように原料製造工程と
結合して連続工程の一部をなす場合も、含むものとする
。（反応操作） この反応を行なうには原料物質１にチオール化合物…ま
たはその塩を溶媒中で作用させる。
セフアム化合物の脱ハロゲン化水素などにより製造する
こともできる。この発明は、このように原料製造工程と
結合して連続工程の一部をなす場合も、含むものとする
。（反応操作） この反応を行なうには原料物質１にチオール化合物…ま
たはその塩を溶媒中で作用させる。
チオール化合物の塩としてはアルカリ金属塩・アルカリ
土類金属塩、第三級アミン塩、第四級アミン塩などを例
示できる。溶媒としては原料と試薬とを溶解し得る不活
性溶媒であればいずれでもよいが、特にアミド．スルホ
キシドなど極性溶媒またはその混合溶媒が用いられる。
土類金属塩、第三級アミン塩、第四級アミン塩などを例
示できる。溶媒としては原料と試薬とを溶解し得る不活
性溶媒であればいずれでもよいが、特にアミド．スルホ
キシドなど極性溶媒またはその混合溶媒が用いられる。
反応は冷却下または室温で十分進行するが、加温するこ
ともできる。
ともできる。
不活性気体（アルゴン・窒素．など）中、攪拌下に作用
させるのも好ましい。生成物であるへゼロチオメチル化
合物ｌは、たとえば濃縮、抽出、洗浄など、常法により
溶媒、未反応物、副生物などを除去し、再沈澱、クロマ
トグラフイ一、再結晶など、善法により精製すれば取得
できる。このようにして製造した化合物は強力な抗菌作
用を示し、医薬として有用である。
させるのも好ましい。生成物であるへゼロチオメチル化
合物ｌは、たとえば濃縮、抽出、洗浄など、常法により
溶媒、未反応物、副生物などを除去し、再沈澱、クロマ
トグラフイ一、再結晶など、善法により精製すれば取得
できる。このようにして製造した化合物は強力な抗菌作
用を示し、医薬として有用である。
また、Ａｒ，Ｈｅｔ，Ｒ基などを変更して、さらに強力
な抗菌剤を製造するための中間体としても有用である。
以下に実施例を示して、この発明の実施の態様を説明す
る。実施例 １ （１） ７（ｉ−ベンズアミド一３−クロロメチル−１
一デチア一１−オキサ−３−セフエム一４−カルボン酸
１３０巧をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２，５ｍ１に
とかし、窒素気流中、室温に保ちながらナトリウム・１
−メチルテトラゾール−５−イルメルカプチド１０７７
！１ｆをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｄにとかして
加え、６０分間、室温に保つ。
な抗菌剤を製造するための中間体としても有用である。
以下に実施例を示して、この発明の実施の態様を説明す
る。実施例 １ （１） ７（ｉ−ベンズアミド一３−クロロメチル−１
一デチア一１−オキサ−３−セフエム一４−カルボン酸
１３０巧をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２，５ｍ１に
とかし、窒素気流中、室温に保ちながらナトリウム・１
−メチルテトラゾール−５−イルメルカプチド１０７７
！１ｆをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｄにとかして
加え、６０分間、室温に保つ。
次いで氷水に注ぎ、ＰＨを２にして酢酸エチルで抽出す
る。有機層は５９）炭酸水素ナトリウム水で抽出する。
水層をＰＨ２にして再び酢酸エチルで抽出し、水洗し、
硫酸ナナト；ノウム上乾燥し、溶媒を留去する。残留物
にエーテルを加えて固化させれば７α−ベンズアミド一
３−（１−メチルテトラゾール−５ーイル）チオメチル
−１−デチア一１−オキサ−３−セフエム一４−カルボ
ン酸７２ｍｆを得る。収率：４４％。ＩＲ：ν １
７８３，１７２２，１７１０，１６６０，１６４２，１
６３２ｃ！ｎ−１。
る。有機層は５９）炭酸水素ナトリウム水で抽出する。
水層をＰＨ２にして再び酢酸エチルで抽出し、水洗し、
硫酸ナナト；ノウム上乾燥し、溶媒を留去する。残留物
にエーテルを加えて固化させれば７α−ベンズアミド一
３−（１−メチルテトラゾール−５ーイル）チオメチル
−１−デチア一１−オキサ−３−セフエム一４−カルボ
ン酸７２ｍｆを得る。収率：４４％。ＩＲ：ν １
７８３，１７２２，１７１０，１６６０，１６４２，１
６３２ｃ！ｎ−１。
ＮＭＲ：δＣＤ３ＳＯＣＤ３４．ＯＯｓ３Ｈ，４．３３
ｓ２Ｈ，４．６８ｓ２Ｈ，５．ＯＯｄ（８Ｈｚ）１Ｈ，
５．２０ｓ１Ｈ，７．２〜８．３ｍ５Ｈ，８．７０ｄ（
８Ｈｚ）１Ｈ０ 実施例２ ７β−ベンズアミドー７α−メトキシ−３−クロロメチ
ル−１−デチア一１−オキサ−３−セフエム一４−カル
ボン酸５０ＴＩ９をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍ
１にとかし、１−メチルテトラゾール−５−チオールの
ナトリウム塩４７１１９に加えて室温で５０分間反応さ
せ、次いで氷水中に注ぎ、ＰＨを２として酢酸エチルで
抽出する。
ｓ２Ｈ，４．６８ｓ２Ｈ，５．ＯＯｄ（８Ｈｚ）１Ｈ，
５．２０ｓ１Ｈ，７．２〜８．３ｍ５Ｈ，８．７０ｄ（
８Ｈｚ）１Ｈ０ 実施例２ ７β−ベンズアミドー７α−メトキシ−３−クロロメチ
ル−１−デチア一１−オキサ−３−セフエム一４−カル
ボン酸５０ＴＩ９をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１ｍ
１にとかし、１−メチルテトラゾール−５−チオールの
ナトリウム塩４７１１９に加えて室温で５０分間反応さ
せ、次いで氷水中に注ぎ、ＰＨを２として酢酸エチルで
抽出する。
有機層を５％炭酸水素ナトリウム水で抽出し、水層と洗
液を希塩酸でＰＨ２とし、酢酸エチルで抽出し、水洗．
乾燥したのち、溶媒を減圧下に留去すれば７β−ベンズ
アミドー７α−メトキシ−３−（１メチルテトラゾール
−５−イル）チオメチル一１−デチア一１−オキサ−３
−セフエム一４−カルボン酸を得る。ＩＲ：νＮＵｌｌ ＮＭＲ：δ０Ｄ３Ｓ０ＣＤ３３．５３ｓ３Ｈ，３．９８
ｓ３Ｈ，４．３３ｓ２Ｈ，４．６３ｓ２Ｈ，５．１５ｓ
１Ｈ，７．４〜８．２ｍ５Ｈ０（式中Ａｒは芳香族基；
Ｅは水素またはメトキ基；を表わす）７β−（α一カル
ボキシーα−フエニルアセトアミド）−７α−メトキシ
−３−クロロメチルー１−デチア−１−オキサ−３−セ
フエム−４−カルボン酸６０Ｔ！ｌｆをアセトン１ｄに
とかし、０℃に保ちながら１−メチルテトラゾール−５
−チオールのナトリウム塩２３Ｔｌｌｆをアセトン０．
５７１ｄにとかして加え、室温で２時間かきまぜる。
液を希塩酸でＰＨ２とし、酢酸エチルで抽出し、水洗．
乾燥したのち、溶媒を減圧下に留去すれば７β−ベンズ
アミドー７α−メトキシ−３−（１メチルテトラゾール
−５−イル）チオメチル一１−デチア一１−オキサ−３
−セフエム一４−カルボン酸を得る。ＩＲ：νＮＵｌｌ ＮＭＲ：δ０Ｄ３Ｓ０ＣＤ３３．５３ｓ３Ｈ，３．９８
ｓ３Ｈ，４．３３ｓ２Ｈ，４．６３ｓ２Ｈ，５．１５ｓ
１Ｈ，７．４〜８．２ｍ５Ｈ０（式中Ａｒは芳香族基；
Ｅは水素またはメトキ基；を表わす）７β−（α一カル
ボキシーα−フエニルアセトアミド）−７α−メトキシ
−３−クロロメチルー１−デチア−１−オキサ−３−セ
フエム−４−カルボン酸６０Ｔ！ｌｆをアセトン１ｄに
とかし、０℃に保ちながら１−メチルテトラゾール−５
−チオールのナトリウム塩２３Ｔｌｌｆをアセトン０．
５７１ｄにとかして加え、室温で２時間かきまぜる。
反応液を氷水に注ぎ、希塩酸でｐＨ２として酢酸エチル
で抽出する。有機層を５％炭酸水素ナトリウム水で抽出
する。水層をｐＨ２として酢酸エチルで抽出する。抽出
液を水洗．乾燥し、濃縮すれば７β−（α一カルボキシ
ーα−フエニルアセトアミド）一７α−メトキシ−３−
（１−メチルテトラゾール−５−イル）チオメチル−１
−デチア−１−オキサ−３−セフエム−４−カルボン酸
４４ηを得る。収率：６２％。黄色粉末。ｍｐ１１０〜
１１６℃（分解）。同様にして、対応する７β−アシル
アミノー７α一（水素またはメトキシ）−３−クロロメ
チル−１−デチア−１−オキサ−３−セフエム−４一カ
ルボン酸と１−メチルテトラゾール−５−チオールのナ
トリウム塩とから次の化合物を製造することができる。
で抽出する。有機層を５％炭酸水素ナトリウム水で抽出
する。水層をｐＨ２として酢酸エチルで抽出する。抽出
液を水洗．乾燥し、濃縮すれば７β−（α一カルボキシ
ーα−フエニルアセトアミド）一７α−メトキシ−３−
（１−メチルテトラゾール−５−イル）チオメチル−１
−デチア−１−オキサ−３−セフエム−４−カルボン酸
４４ηを得る。収率：６２％。黄色粉末。ｍｐ１１０〜
１１６℃（分解）。同様にして、対応する７β−アシル
アミノー７α一（水素またはメトキシ）−３−クロロメ
チル−１−デチア−１−オキサ−３−セフエム−４一カ
ルボン酸と１−メチルテトラゾール−５−チオールのナ
トリウム塩とから次の化合物を製造することができる。
（１》 ７β−（α−インダニルオキシカルポニルーα
−フエニルアセトアミド）−３−（１−メチルテトラゾ
ール−５−イル）チオメチル−１ーデチア−１−オキサ
−３−セフエム−４−カルボン酸。
−フエニルアセトアミド）−３−（１−メチルテトラゾ
ール−５−イル）チオメチル−１ーデチア−１−オキサ
−３−セフエム−４−カルボン酸。
一゜ＩＲ：νＮＵｊ０１１７６０，１６９０，
・１６７０傭−１。
・１６７０傭−１。
ｍａｘ（２） ７β一（α一カルボキシーα−ｐ−ヒド
ロキシフエニルアセトアミド）−３−（１−メチルテト
ラゾール−５−イル）チオメチル−１−デチア−１−オ
キサ−３−セフエム−４−カルボン東ＩＲ：νＫＢ！３
４００，１７６４，１６８０，ｍａｘ１６０５，１５１
５儂−１。
ロキシフエニルアセトアミド）−３−（１−メチルテト
ラゾール−５−イル）チオメチル−１−デチア−１−オ
キサ−３−セフエム−４−カルボン東ＩＲ：νＫＢ！３
４００，１７６４，１６８０，ｍａｘ１６０５，１５１
５儂−１。
．） ７β−［α一カルボキシーα一（３−チエニル）
アセトアミド］−３−（１−メチルテトラゾール−５−
イル）チオメチル−１−デチアー１−オキサ−３−セフ
エム−４−カルボン酸。
アセトアミド］−３−（１−メチルテトラゾール−５−
イル）チオメチル−１−デチアー１−オキサ−３−セフ
エム−４−カルボン酸。
ｍｐ１５６−１６０℃。） ７β−［α一カルポキシー
α−（２−チエニル）アセトアミド］−３−（１−メチ
ルテトラゾール−５−イル）チオメチル−１−デチアー
１−オキサ−３−セフエム−４−カルボン酸。
α−（２−チエニル）アセトアミド］−３−（１−メチ
ルテトラゾール−５−イル）チオメチル−１−デチアー
１−オキサ−３−セフエム−４−カルボン酸。
ｍｐ１５５〜１６０℃（分解）。ｌ） ７β−（α−イ
ンダニルオキシカルボニルーα−フエニルアセトアミド
）−７α−メトキシー３−（１−メチルテトラゾール−
５−イル）チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−
セフエム−４−カルボン酸。
ンダニルオキシカルボニルーα−フエニルアセトアミド
）−７α−メトキシー３−（１−メチルテトラゾール−
５−イル）チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−
セフエム−４−カルボン酸。
ｍｐ１２３〜１２５℃（分解）。５） ７β−（α一カ
ルボキシーα−ｐ−ヒドロキシフエニルアセトアミド）
−７α−メトキシー３−（１−メチルテトラゾール−５
−イル）チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−セ
フエム−４−カルポン酸。
ルボキシーα−ｐ−ヒドロキシフエニルアセトアミド）
−７α−メトキシー３−（１−メチルテトラゾール−５
−イル）チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−セ
フエム−４−カルポン酸。
ｍｐ１１７〜１２２℃（分解）。７） ７β−（α一カ
ルボキシーα−ｐ−アセトキシフエニルアセトアミド）
−７α−メトキシー−３−（１−メチルテトラゾール−
５−イル）チオメチル−１−デチアーオキサ−３−セフ
エム−４−カルボン酸。
ルボキシーα−ｐ−アセトキシフエニルアセトアミド）
−７α−メトキシー−３−（１−メチルテトラゾール−
５−イル）チオメチル−１−デチアーオキサ−３−セフ
エム−４−カルボン酸。
ｍｐ１１０〜１１５℃。（分解）。８） ７β−（α一
カルボキシーα−ｐ−カルバモイルオキシフエニルアセ
トアミド）−７α−メトキシ−３−（１−メチルテトラ
ゾール−５−イル）チオメチル−１−デチア−１−オキ
サー３−セフエム−４−カルボン酸。
カルボキシーα−ｐ−カルバモイルオキシフエニルアセ
トアミド）−７α−メトキシ−３−（１−メチルテトラ
ゾール−５−イル）チオメチル−１−デチア−１−オキ
サー３−セフエム−４−カルボン酸。
ｍｐ１５４〜１５７℃（分解）。９） ７β−［α一カ
ルボキシーα−（３−チエニル）アセトアミド］−７α
−メトキシ−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル
）チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−セフエム
−４−カルボン酸。
ルボキシーα−（３−チエニル）アセトアミド］−７α
−メトキシ−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル
）チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−セフエム
−４−カルボン酸。
Ｍｐｌｌ〜１１３℃（分解）。（１１７β−〔α一カル
ボキシ一α−（２−チエニル）アセトアミド］−７α−
メトキシ−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）
チオメ― チル−１−デチア一１−オキサ−３−セフエ
ム一４−カルボン酸。
ボキシ一α−（２−チエニル）アセトアミド］−７α−
メトキシ−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）
チオメ― チル−１−デチア一１−オキサ−３−セフエ
ム一４−カルボン酸。
ＭｐｌＯ４〜１０９℃（分解）。実施例 ４
７β−（α一カルボキシ一α−フエニルアセトアミド）
−３−クロロメチル−１−デチア一１−オキサ−３−セ
フエム一４−カルボン酸８５ｍｆ１をアセトン１ｄにと
かし、０℃にて２−メチル−１，３，４−チアジアゾー
ル一５−チオールのナトリウム塩４２１１１ｆｉをアセ
トン２ｍ１にとかして加え、０℃で４時間かきまぜる。
−３−クロロメチル−１−デチア一１−オキサ−３−セ
フエム一４−カルボン酸８５ｍｆ１をアセトン１ｄにと
かし、０℃にて２−メチル−１，３，４−チアジアゾー
ル一５−チオールのナトリウム塩４２１１１ｆｉをアセ
トン２ｍ１にとかして加え、０℃で４時間かきまぜる。
反応液を氷冷した５％炭酸水素ナトリウノ水に注ぎ、酢
酸エチルで洗い、〔水層を希硫酸でＰＨ２として酢酸エ
チルで抽出する。有機層を水洗、乾燥し、濃縮すれば７
β−（α−カルボキシ−α−フエニルアセトアミド）−
３一（２−メチル−１，３，４−チアジアゾール一５一
イル）−チオメチル−１−デチア一１−オキサ−３−セ
フエム一４−カルボン酸５９ηを得る。
酸エチルで洗い、〔水層を希硫酸でＰＨ２として酢酸エ
チルで抽出する。有機層を水洗、乾燥し、濃縮すれば７
β−（α−カルボキシ−α−フエニルアセトアミド）−
３一（２−メチル−１，３，４−チアジアゾール一５一
イル）−チオメチル−１−デチア一１−オキサ−３−セ
フエム一４−カルボン酸５９ηを得る。
収率：５８％。
Ｍｐｌ３Ｏ〜１３２５Ｃ（分解）。実施例 ５
（１）ジイソプロピルアミン２９ａをテトラヒドロフラ
ン０．５７１１１にとかし、窒素気流中、−３０℃で１
．９３Ｍｎ−ブチルリチウム／へキサン溶液０．１１ｄ
を加えて５分間かきまぜる。
ン０．５７１１１にとかし、窒素気流中、−３０℃で１
．９３Ｍｎ−ブチルリチウム／へキサン溶液０．１１ｄ
を加えて５分間かきまぜる。
これに７α−ベンズアミド一３ξ−クロロ−３ξ−クカ
ロメチル一１−デチア一１−オキサセフエム一４α一カ
ルボン酸３７ηをテトラヒドロフラン２ｄにとかして加
え、１５分後１−メチルテトラゾール−５−チオールの
ナトリウム塩１６．６／テトラヒドロフラン０．５Ｗ１
ｔ溶液を加えて、２０分後０℃に、４０分後室温にまで
温め、一夜放置する。反応液の薄層クロマトグラムは７
α−ベンズアミド一３−（１−メチルテトラゾール−５
−イノリチオメチル一１−デチア一１−オキサ−３−セ
フエム一４−カルボン酸のスポツトを示す。（２） ７
α−ベンズアミド一３ξ−クロロ−３ξ一クロロメチル
一１−デチア一１−オキサセフアム一４α一カルボン酸
３７ｍｆｉをテトラヒドロフラン１ｄにとかし、窒素気
中、室温でＮ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド
４９Ｉ１１を加えて１０分間かきまぜる。
ロメチル一１−デチア一１−オキサセフエム一４α一カ
ルボン酸３７ηをテトラヒドロフラン２ｄにとかして加
え、１５分後１−メチルテトラゾール−５−チオールの
ナトリウム塩１６．６／テトラヒドロフラン０．５Ｗ１
ｔ溶液を加えて、２０分後０℃に、４０分後室温にまで
温め、一夜放置する。反応液の薄層クロマトグラムは７
α−ベンズアミド一３−（１−メチルテトラゾール−５
−イノリチオメチル一１−デチア一１−オキサ−３−セ
フエム一４−カルボン酸のスポツトを示す。（２） ７
α−ベンズアミド一３ξ−クロロ−３ξ一クロロメチル
一１−デチア一１−オキサセフアム一４α一カルボン酸
３７ｍｆｉをテトラヒドロフラン１ｄにとかし、窒素気
中、室温でＮ，Ｏ−ビストリメチルシリルアセトアミド
４９Ｉ１１を加えて１０分間かきまぜる。
次いで０℃に冷やし、１，５−ジアザビシクロ［５，４
，０Ｊ−５一ウンデセン１８ｔ１１を加えて３０分間か
きまぜる。次に１−メチルテトラゾール−５−イルチオ
ールのナトリウム塩２８ｍｉをテトラヒドロフラン０．
５ｄにとかして加え、室温にて３．５時間かきまぜる。
，０Ｊ−５一ウンデセン１８ｔ１１を加えて３０分間か
きまぜる。次に１−メチルテトラゾール−５−イルチオ
ールのナトリウム塩２８ｍｉをテトラヒドロフラン０．
５ｄにとかして加え、室温にて３．５時間かきまぜる。
反応液に氷水と酢酸エチルと５％炭酸水素ナトリウム水
を加え、水層を分取する。水層をＰＨｌ．５として酢酸
エチルで抽出し、水洗．芒硝乾燥後、濃縮して、残留物
にエーテルを加えれば７α−ベンズアミド一３−（１−
メチルテトラゾール−５−イル）チオメチル−１−デチ
ア一１−オキサ−３−セフエム一４−カルボ◆ン酸１８
１！ｆを得る。収率：４４％。標品とＮＭＲ．ＩＲ．お
よびＴＬＣで一致する。参考例（原料化合物１の製造例
） （７Ｉ６１の反応操作け次の通２りで奉る。
を加え、水層を分取する。水層をＰＨｌ．５として酢酸
エチルで抽出し、水洗．芒硝乾燥後、濃縮して、残留物
にエーテルを加えれば７α−ベンズアミド一３−（１−
メチルテトラゾール−５−イル）チオメチル−１−デチ
ア一１−オキサ−３−セフエム一４−カルボ◆ン酸１８
１！ｆを得る。収率：４４％。標品とＮＭＲ．ＩＲ．お
よびＴＬＣで一致する。参考例（原料化合物１の製造例
） （７Ｉ６１の反応操作け次の通２りで奉る。
７α−ベンズアミド一３−クロロメチル−１ーデチア一
１−オキサ−３−セフエム一４−カルボン酸ジフエニル
メチル２５９ηを塩化メチレン１０ｍ１にとかし、窒素
気流中、氷冷下にアニソ一〃、Ｑ．５ｌとトリフルオロ
酢酸０．５ｍ１とを加え、氷冷水に４０分間かきまぜる
。
１−オキサ−３−セフエム一４−カルボン酸ジフエニル
メチル２５９ηを塩化メチレン１０ｍ１にとかし、窒素
気流中、氷冷下にアニソ一〃、Ｑ．５ｌとトリフルオロ
酢酸０．５ｍ１とを加え、氷冷水に４０分間かきまぜる
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下式で表わされる７β−アリールマロンアミド−３
−異項環チオメチル−１−デチア−１−オキサ−３−セ
フエム−４−カルボン酸またはその塩：▲数式、化学式
、表等があります▼ （式中、 Ａｒはフェニル、低級アルカノイルオキシフェニル、カ
ルバモイルオキシフェニルまたはチエニル基；Ｅは水素
原子またはメトキシ基； Ｈｅｔは１−メチル−５−テトラゾリルまたは２−メチ
ル−１，３，４−チアジアゾール−５−イル基；Ｒは水
素原子またはインダニル基； をそれぞれ示す）。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58126784A JPS5953272B2 (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | オキサセフアロスポリン類 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58126784A JPS5953272B2 (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | オキサセフアロスポリン類 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6499477A Division JPS53149991A (en) | 1977-06-01 | 1977-06-01 | Preparation of 3-heterothiomethyl-1-oxadethia-3-cephem-4-carboxylic acid |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5998088A JPS5998088A (ja) | 1984-06-06 |
| JPS5953272B2 true JPS5953272B2 (ja) | 1984-12-24 |
Family
ID=14943848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58126784A Expired JPS5953272B2 (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | オキサセフアロスポリン類 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953272B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0641928A (ja) * | 1991-07-10 | 1994-02-15 | Kaihatsu Koken Kk | 路肩成形機 |
-
1983
- 1983-07-11 JP JP58126784A patent/JPS5953272B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5998088A (ja) | 1984-06-06 |
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