JPS5953492A - セフアロスポリン化合物の製造方法 - Google Patents
セフアロスポリン化合物の製造方法Info
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Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、式
〔式中 R1は水素原子またはアシル基を、Rは水素原
子またはエステル残基を、点線はセフェム環の2位寸だ
に3位二重結合を、R4は求核性化合物の残基を示す〕
で表わされる七770スポリン化合物の製造方法に関す
るものである。
子またはエステル残基を、点線はセフェム環の2位寸だ
に3位二重結合を、R4は求核性化合物の残基を示す〕
で表わされる七770スポリン化合物の製造方法に関す
るものである。
前記式CI)のセファロスポリン化合物は抗菌物質ある
いはその合成中間体として重要であり、〔■〕の製造法
としてこれまでに(1)セフェム骨格の3位にアシルオ
キシメチル基を有する化合物とチオール化合物を■水ま
たは水と仔機濱媒の混合溶媒中酸性〜弱塩基性条件下に
反応させる方法(特公昭39−17936.特公昭49
−45880、特公昭46−13023.特開昭46−
3286、特開昭48−68593なと)、■有機溶媒
中で加熱する方法(特開昭55−43043など)、(
9)有機溶媒中酸または酸の錯化合物の存在FI=反応
させる方法(特開昭53−!38987.特開昭54−
76591.特開昭55−9048.特開昭55−2f
1724.特開昭55−49383.特開昭55−13
9387.特開11455−153790なト)、(i
i)セフェム骨格の3位アセトキシノヂル基中のアセト
キシ基を求核試薬によりj(91”換する方法〔ティラ
ー(A、 B、 Taylor ) 、ジャーナルオフ
ザ ケミカル ソサエティ(Joυ団al of t
heChemical 5ociety )、7020
頁(1965(1−)〕、(iii)セフェム骨格の3
位ハイドロキシメチル基中のハイドロキシ基をハロゲン
に変換しついで求核試薬により置換する方法〔パイウッ
ド(A、B。
いはその合成中間体として重要であり、〔■〕の製造法
としてこれまでに(1)セフェム骨格の3位にアシルオ
キシメチル基を有する化合物とチオール化合物を■水ま
たは水と仔機濱媒の混合溶媒中酸性〜弱塩基性条件下に
反応させる方法(特公昭39−17936.特公昭49
−45880、特公昭46−13023.特開昭46−
3286、特開昭48−68593なと)、■有機溶媒
中で加熱する方法(特開昭55−43043など)、(
9)有機溶媒中酸または酸の錯化合物の存在FI=反応
させる方法(特開昭53−!38987.特開昭54−
76591.特開昭55−9048.特開昭55−2f
1724.特開昭55−49383.特開昭55−13
9387.特開11455−153790なト)、(i
i)セフェム骨格の3位アセトキシノヂル基中のアセト
キシ基を求核試薬によりj(91”換する方法〔ティラ
ー(A、 B、 Taylor ) 、ジャーナルオフ
ザ ケミカル ソサエティ(Joυ団al of t
heChemical 5ociety )、7020
頁(1965(1−)〕、(iii)セフェム骨格の3
位ハイドロキシメチル基中のハイドロキシ基をハロゲン
に変換しついで求核試薬により置換する方法〔パイウッ
ド(A、B。
BYWOo(1)%、’J−セント アドパンシイズ
インザ ケミストシイ オフ ベークーラククム アン
チバイオティクス(Recent Ac1vances
in theChemistry ofβ−Lact
am Antibiotics )、139頁(197
7年)〕、(1v)セフェム骨格の3位ハイドロキシメ
チル基をアシル化してアシルオキシメチル基に変えつい
で水接試薬により置換する方?E、 Ci’+’l島等
、グミカル アンド ファーマス−ティカル ブレティ
ン(Chemical & Pharmaceutic
alBulletin )、27巻、696頁(197
9年)〕などが知られている。しかしながら、(I)に
おケル■、■の方法では反応条件下でのβ−ラクタムの
加水分解々どのために目的物の品質、収率が悪く、■の
方法ではラクトン化或いはβ−ラクタム環の開裂などの
副反応が惹起しやすい点、酸としてルイス酸又はその錯
化合物?使用する場合(二は反応装置が制限され又後匙
理工程で取扱いにくい点、反応後、用いた酸を目的物と
の接触により分解、着色を惹起し易いアルカリによって
中和してから中離する必要がある点、さらに原料、酸の
種類によっては目的物〔■〕の収率が極めて悪い点など
に問題があって、ラクトン化、β−ラクタムの分解およ
び着色が起こると目的物〔■〕にこれらに出来する不純
物が混入する原因となり、不純物の除去に手間がかかり
収率低下の原因となり、また■の方法で水分の混入を避
けるため原料を低水分にする必要が生ずるが、これは乾
燥工程を必凹七する点および軟・即された粉末は飛散し
やすいため作業環境を悪化させ、例えば7−アミノセフ
ァロスポラン酸が人間に接触性皮膚炎等を起す性質を有
する〔カーク−オス? −(Kirk−Othmer入
エンサイクエンテ゛イア オフ゛ ケミカル チクノロ
シイ(Encyclopedia of Chemic
al Tecnnology ’)、第3版、1978
. Volume 2. P、907〜9138)の
で工業化−L不利であり、さらに(II)の方法では反
応条件が過酷なだめ反応中に原料、1目的物が分解しや
すく、(I)の方法ではラクトン化を避けるために4位
カルボン酸のエステル化などによる保護が必須であり、
4位カルボン酸がエステル化さ扛たセファロスポリン化
合物はセフェム環内の二重結合のイソメリゼーンヨン乞
おこしや丁く、(1■〕の方法では反応条件’r(in
の方法よりは緩和にすることが出来るが十分とは云えず
、又特殊なアシル化剤乞用いる場合7除いては一般にア
ンル化反応と置換反応の二つの工程乞必要とするなどの
点が問題で収率、目的物の品質が不十分であったり、多
くの手間と設備7要し、工業的に有利な方法とは云えな
い。
インザ ケミストシイ オフ ベークーラククム アン
チバイオティクス(Recent Ac1vances
in theChemistry ofβ−Lact
am Antibiotics )、139頁(197
7年)〕、(1v)セフェム骨格の3位ハイドロキシメ
チル基をアシル化してアシルオキシメチル基に変えつい
で水接試薬により置換する方?E、 Ci’+’l島等
、グミカル アンド ファーマス−ティカル ブレティ
ン(Chemical & Pharmaceutic
alBulletin )、27巻、696頁(197
9年)〕などが知られている。しかしながら、(I)に
おケル■、■の方法では反応条件下でのβ−ラクタムの
加水分解々どのために目的物の品質、収率が悪く、■の
方法ではラクトン化或いはβ−ラクタム環の開裂などの
副反応が惹起しやすい点、酸としてルイス酸又はその錯
化合物?使用する場合(二は反応装置が制限され又後匙
理工程で取扱いにくい点、反応後、用いた酸を目的物と
の接触により分解、着色を惹起し易いアルカリによって
中和してから中離する必要がある点、さらに原料、酸の
種類によっては目的物〔■〕の収率が極めて悪い点など
に問題があって、ラクトン化、β−ラクタムの分解およ
び着色が起こると目的物〔■〕にこれらに出来する不純
物が混入する原因となり、不純物の除去に手間がかかり
収率低下の原因となり、また■の方法で水分の混入を避
けるため原料を低水分にする必要が生ずるが、これは乾
燥工程を必凹七する点および軟・即された粉末は飛散し
やすいため作業環境を悪化させ、例えば7−アミノセフ
ァロスポラン酸が人間に接触性皮膚炎等を起す性質を有
する〔カーク−オス? −(Kirk−Othmer入
エンサイクエンテ゛イア オフ゛ ケミカル チクノロ
シイ(Encyclopedia of Chemic
al Tecnnology ’)、第3版、1978
. Volume 2. P、907〜9138)の
で工業化−L不利であり、さらに(II)の方法では反
応条件が過酷なだめ反応中に原料、1目的物が分解しや
すく、(I)の方法ではラクトン化を避けるために4位
カルボン酸のエステル化などによる保護が必須であり、
4位カルボン酸がエステル化さ扛たセファロスポリン化
合物はセフェム環内の二重結合のイソメリゼーンヨン乞
おこしや丁く、(1■〕の方法では反応条件’r(in
の方法よりは緩和にすることが出来るが十分とは云えず
、又特殊なアシル化剤乞用いる場合7除いては一般にア
ンル化反応と置換反応の二つの工程乞必要とするなどの
点が問題で収率、目的物の品質が不十分であったり、多
くの手間と設備7要し、工業的に有利な方法とは云えな
い。
そこで、本発明者らは、セファ0スポリン化合物〔I〕
の製法を種々検耐しだ結末、醗酵培養で高r11位に生
産されるデアセチルセファロスポリンC(DCPC)或
い(rJ:、D CP C、(! 7 y a 7.ボ
リンC(CP C)の化学的、酵素的反応で得らゎる化
合物、即ち OOR 〔式中の記りおよび点線は前記と同意義〕で表わされる
化合物と求(亥性化合物と(])式〔式中、Wi17J
:酸素原子、イオウ原子またはNR2を、W’は酸X原
子、イオク原子捷たけNR3を、R2、R1は同一また
は相異なって水素原子寸だけ炭化水素基を示す〕で表わ
される部分構造を有する三価寸たけ五f1■の環状リン
化合物、または(2)式〔式中の記すは11f1記と同
意義〕で表わされる部分構造を有する化合物とオキシハ
ロゲン化リン、三ハロゲン化リンまたはfFハロゲン化
リンとの反応物を何機溶媒中で反応させると、驚くべき
ことに、木発r!l’lノB+1.l’L 化合物(1
1T3 (7) 3 (+’(、を二1: o キシメ
チル基中のヒドロキシ基か−「稈で、イ1機溶媒中低温
でも瞬時又は短時間の極めて緩和な条件Fに求核性化合
物によって置換され、収率よ<[]的とする(I)式の
セファロスポリン化合物がtItられることを見出し、
これに基ついてさらに検討した結果本発明を完成させた
。
の製法を種々検耐しだ結末、醗酵培養で高r11位に生
産されるデアセチルセファロスポリンC(DCPC)或
い(rJ:、D CP C、(! 7 y a 7.ボ
リンC(CP C)の化学的、酵素的反応で得らゎる化
合物、即ち OOR 〔式中の記りおよび点線は前記と同意義〕で表わされる
化合物と求(亥性化合物と(])式〔式中、Wi17J
:酸素原子、イオウ原子またはNR2を、W’は酸X原
子、イオク原子捷たけNR3を、R2、R1は同一また
は相異なって水素原子寸だけ炭化水素基を示す〕で表わ
される部分構造を有する三価寸たけ五f1■の環状リン
化合物、または(2)式〔式中の記すは11f1記と同
意義〕で表わされる部分構造を有する化合物とオキシハ
ロゲン化リン、三ハロゲン化リンまたはfFハロゲン化
リンとの反応物を何機溶媒中で反応させると、驚くべき
ことに、木発r!l’lノB+1.l’L 化合物(1
1T3 (7) 3 (+’(、を二1: o キシメ
チル基中のヒドロキシ基か−「稈で、イ1機溶媒中低温
でも瞬時又は短時間の極めて緩和な条件Fに求核性化合
物によって置換され、収率よ<[]的とする(I)式の
セファロスポリン化合物がtItられることを見出し、
これに基ついてさらに検討した結果本発明を完成させた
。
即ち、発明1111は、化合物〔l〕と求核性化合物と
(1)部分構造〔1■〕を有する三価捷たは五価の環状
リン化合物、捷だに(2)部分構造CIV)を有する化
合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化すン捷だは
h・・ロゲン化リンとの反応物を有機溶媒中で反応させ
ることを特徴とする、セファロスポリン化合物〔I〕の
製造方法に関するものである。
(1)部分構造〔1■〕を有する三価捷たは五価の環状
リン化合物、捷だに(2)部分構造CIV)を有する化
合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化すン捷だは
h・・ロゲン化リンとの反応物を有機溶媒中で反応させ
ることを特徴とする、セファロスポリン化合物〔I〕の
製造方法に関するものである。
前記式において、R1は水素原子捷たはアシル基を示す
。R1で示されるアシル基としては、たとえば、従来知
られているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換して
いるアシル基、セファロスポリン誘導体の7位アミ7基
にIr′?換しているアシル基等が用いられる。このよ
うなアシルノ1(の例トじては、たとえば式 %式% 〔式中 R5は水素原子、アルキル、フェニル*または
複素環−(“基を示す。〕で表わされる基、式%式% ) 〔式中、R′は水素、アミノ酸残基、アミ7基の(2護
基捷だは式R8(CH2) n ICo 、 (式中、
R8は複素環1基を、nlは0〜2の整数を、それぞれ
示す。■で表わされる基を R7はアルキル たけ複素環 9とン、七オtぞれ示す。〕で表わさ肚る
基、式 %式%] 〔式中、R9は式R”−C−(式中、RI+はアルキ( −R12 ルー、複素IO*基捷だはフエ,ニル1を、RI2は水
素、アルキルまたは式−R13 R1− (式中、R1
3はアル−キレン捷タハアルケしレン*ヲ、R14けフ
ェニル人カルボキシルまだはそのエステルまたはモノま
たはジアルキルアミノを、それぞ?i. ir<す。)
で表わされる基を、それぞれ示す。)で表わされる基を
、■<10を示す。)で表わされる基を、それぞれ示す
,、〕で表わされる基、式 〔式中、R16はヒドロキシ、ヒドロキシスルホニルオ
キシ、ツノルボキシ、ウレイド、スルファモイル1スル
ホまだはフェノキシカルボニルミルオキシを、R17は
水素、アルキルシ、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシを、
’ch)c’h]示す。〕で表わされる基、式 %式%) アルキル、アシルオキシ、アルケニル 素1基を、R19 は忙)1なる結合手または一S−を
、2それぞれ示す。〕で表わされる基など−7)ζIl
’lいCつtLる。
。R1で示されるアシル基としては、たとえば、従来知
られているペニシリン誘導体の6位アミノ基に置換して
いるアシル基、セファロスポリン誘導体の7位アミ7基
にIr′?換しているアシル基等が用いられる。このよ
うなアシルノ1(の例トじては、たとえば式 %式% 〔式中 R5は水素原子、アルキル、フェニル*または
複素環−(“基を示す。〕で表わされる基、式%式% ) 〔式中、R′は水素、アミノ酸残基、アミ7基の(2護
基捷だは式R8(CH2) n ICo 、 (式中、
R8は複素環1基を、nlは0〜2の整数を、それぞれ
示す。■で表わされる基を R7はアルキル たけ複素環 9とン、七オtぞれ示す。〕で表わさ肚る
基、式 %式%] 〔式中、R9は式R”−C−(式中、RI+はアルキ( −R12 ルー、複素IO*基捷だはフエ,ニル1を、RI2は水
素、アルキルまたは式−R13 R1− (式中、R1
3はアル−キレン捷タハアルケしレン*ヲ、R14けフ
ェニル人カルボキシルまだはそのエステルまたはモノま
たはジアルキルアミノを、それぞ?i. ir<す。)
で表わされる基を、それぞれ示す。)で表わされる基を
、■<10を示す。)で表わされる基を、それぞれ示す
,、〕で表わされる基、式 〔式中、R16はヒドロキシ、ヒドロキシスルホニルオ
キシ、ツノルボキシ、ウレイド、スルファモイル1スル
ホまだはフェノキシカルボニルミルオキシを、R17は
水素、アルキルシ、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシを、
’ch)c’h]示す。〕で表わされる基、式 %式%) アルキル、アシルオキシ、アルケニル 素1基を、R19 は忙)1なる結合手または一S−を
、2それぞれ示す。〕で表わされる基など−7)ζIl
’lいCつtLる。
前記の記号R5〜R19で表わされる基において、「置
換基を有していてもよい」基の場合には基の右Hに*を
4・j’wて表わす。たとえば、「置換基を有していて
もよいアルキル」を1アルキル」として表わす。この場
合、置換基の数は1個に限宇されず、置換される基によ
っては2〜数個の同−捷だけ相異なる置換基を有してい
てもよい。アルキルとしては、直鎖状捷だは分枝状の炭
素数1〜6の低級アルキルがよく、たとえばメチル、エ
チル、n−プロピノへ イソプロピル1.n−ブチル、
イソブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル、n−
ペンチ/L/、インペンチル、n−ヘキシル、イソヘキ
シルなどが用いられる。アルケニルとしては、直鎖状ま
だは分枝状の炭素数2ないし6の低級アルケニルがよく
、だとえはビニル、アリル、インプロペニル、2−メク
リル、2−ブテニル、3−7’テニルなどが用いられる
。複素環基としては、たとえば窒素原子(オキシド化さ
れていてもよい)、酸素原子、硫黄原子などのへテロ原
子を1〜数個含む5〜8員環またはその縮合環などがL
lいられ、たとえば2−または3−ピロリル、2−また
は3−フリル、2−または8−fエニル、2−または8
−ピロリジニル、2−13−または4−ピリジル、N−
オキシド−2−13−または4−ピリジル、2−13−
または4−ピペリジニル、% 2−13−または4−ピ
ラニル、2−18−iた:ま4−テオビラニノベビラジ
ニル、2−14−または5−チアゾリル、2−14−ま
たは5−オキサシリル、3−14−または5−インチア
ゾリル、8−14−または5−イソオキサシリル、2−
14〜または5−イミダゾリル、3−14−または5−
ピラゾリル、3−または4−ピリダジニル、N−オキシ
ド−3−または4−ピリダジニル、2−54−または5
−ピリミジニル、N−オキシド−2−14−または5−
ピリミジニル、ピペラジニル、4−または5−(1,2
,8−チアジアゾリル)、3−4:たは5−(1,2,
4〜チアジアゾリル)、1. 8. 4−チアジアゾリ
ル、1、 2. 5−チアジアゾリル、4−または5−
(1,2,a−オキサジアゾリルノ、3−または5−(
1,2,4−オキサジアゾリル)、l、3゜4−オキサ
ジアゾリル、1. 2. 5−オキサジアゾリル、1,
2.8−または1,2.4−)リアゾリル、l■1また
は2H−テトラゾリル、ピリド(2,8−d)ピリミジ
ル、ベンゾピラニル、1゜8−、 1. 5〜. 1.
6−t 1. 7−、 2. 7−または2,6−
ナフt9i;’ル、キノリル、チェノ(2,8−b)ピ
リジルなどが繁用される。アルコキンとしては、直鎖状
または分枝状の炭素数1〜6の低級アルコキシが好まし
く、たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ンプロポキシ、n−ブトキシ、インブトキシ、5ec−
ブトキシ、tert〜ブトキシ、n−ペンチルオキシ、
イソペンチルオキシ、n−へキシルオキシ、イソへキシ
ルオキシなどが用いられる。ハロゲンとしては、フッ素
、塩素、臭素、ヨウ素が用いられる。
換基を有していてもよい」基の場合には基の右Hに*を
4・j’wて表わす。たとえば、「置換基を有していて
もよいアルキル」を1アルキル」として表わす。この場
合、置換基の数は1個に限宇されず、置換される基によ
っては2〜数個の同−捷だけ相異なる置換基を有してい
てもよい。アルキルとしては、直鎖状捷だは分枝状の炭
素数1〜6の低級アルキルがよく、たとえばメチル、エ
チル、n−プロピノへ イソプロピル1.n−ブチル、
イソブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル、n−
ペンチ/L/、インペンチル、n−ヘキシル、イソヘキ
シルなどが用いられる。アルケニルとしては、直鎖状ま
だは分枝状の炭素数2ないし6の低級アルケニルがよく
、だとえはビニル、アリル、インプロペニル、2−メク
リル、2−ブテニル、3−7’テニルなどが用いられる
。複素環基としては、たとえば窒素原子(オキシド化さ
れていてもよい)、酸素原子、硫黄原子などのへテロ原
子を1〜数個含む5〜8員環またはその縮合環などがL
lいられ、たとえば2−または3−ピロリル、2−また
は3−フリル、2−または8−fエニル、2−または8
−ピロリジニル、2−13−または4−ピリジル、N−
オキシド−2−13−または4−ピリジル、2−13−
または4−ピペリジニル、% 2−13−または4−ピ
ラニル、2−18−iた:ま4−テオビラニノベビラジ
ニル、2−14−または5−チアゾリル、2−14−ま
たは5−オキサシリル、3−14−または5−インチア
ゾリル、8−14−または5−イソオキサシリル、2−
14〜または5−イミダゾリル、3−14−または5−
ピラゾリル、3−または4−ピリダジニル、N−オキシ
ド−3−または4−ピリダジニル、2−54−または5
−ピリミジニル、N−オキシド−2−14−または5−
ピリミジニル、ピペラジニル、4−または5−(1,2
,8−チアジアゾリル)、3−4:たは5−(1,2,
4〜チアジアゾリル)、1. 8. 4−チアジアゾリ
ル、1、 2. 5−チアジアゾリル、4−または5−
(1,2,a−オキサジアゾリルノ、3−または5−(
1,2,4−オキサジアゾリル)、l、3゜4−オキサ
ジアゾリル、1. 2. 5−オキサジアゾリル、1,
2.8−または1,2.4−)リアゾリル、l■1また
は2H−テトラゾリル、ピリド(2,8−d)ピリミジ
ル、ベンゾピラニル、1゜8−、 1. 5〜. 1.
6−t 1. 7−、 2. 7−または2,6−
ナフt9i;’ル、キノリル、チェノ(2,8−b)ピ
リジルなどが繁用される。アルコキンとしては、直鎖状
または分枝状の炭素数1〜6の低級アルコキシが好まし
く、たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ンプロポキシ、n−ブトキシ、インブトキシ、5ec−
ブトキシ、tert〜ブトキシ、n−ペンチルオキシ、
イソペンチルオキシ、n−へキシルオキシ、イソへキシ
ルオキシなどが用いられる。ハロゲンとしては、フッ素
、塩素、臭素、ヨウ素が用いられる。
アミノ酸残基としては、たとえばグリシル、アラニル、
バリル、ロイシル、イソロイシル、セリル、スレオニル
、シスディル、シスチノへメチオニル、α−またはβ−
アスパラギル lレクミル、リシル、アルギニル、フェニルアラニル、
フェニルグリシル トリプトファニル、プロリルなどが用いられる。
バリル、ロイシル、イソロイシル、セリル、スレオニル
、シスディル、シスチノへメチオニル、α−またはβ−
アスパラギル lレクミル、リシル、アルギニル、フェニルアラニル、
フェニルグリシル トリプトファニル、プロリルなどが用いられる。
アルキレンとしては炭素数1〜Gの低級アルキレンが好
捷しく、その例としては、たとえばエチレン、エチレン
、フロピレン、イソプロピレンナトが用いられる。アル
ケニレンとしては、直鎖状捷たは分枝状の炭素数2〜4
の低級アルケニレンが好ましく、たとえばビニレン、プ
ロペニレンなどが用いられる。カルボキシル基における
エステルとしては、たとえばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、ローブチルエステル、イソ
ブチルエステル、tert−ブチルエステルなどの炭素
数1〜6の低級アルキルエステルなどが用いられる。ア
ミノ基の保護基としては、βーラククムおよびペプチド
合成の分野でこの[」的に用いられるものが便宜に採用
される。たと乏−げフタ[Jイル、トルオイル、ナフト
イル、ベンゾイル、、タロロベンゾイル、p−ニトロベ
ンゾイル、I) −tcrt−ブチルベシゾイtly、
p −tert−フチルベンゼンスルホニノヘベン
ゼンスルホニル、トルエンスルホニル、フェニル7′セ
チル等の芳香族アシル基、タトエばホルミル、アセチル
、プロピオニル、バレリル、カブリリル、n−テ゛カッ
イル、アクリロイル、ピバロイル、モノクロロアセデル
、ジクロロアセチル、トリクロロアセチノヘメクンスル
ホニノへ エタンスルホニル トリフルオロアセヂル、マレイノヘサクシニル等(7)
n’Ft 肪にアシル基、たとえば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル ル、イソプロポキシカルボニル キシカルボニル、β、β、β−トリクロロエトキシカル
ボニル ボニル ル ンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシ
カルボニル チルメチルオキシカルボニル、インボルニルオキシカル
ボニル ステル化されたカルボキシル基、たとえシー1゛メ壬ル
カルパモイル、フェニルカルバモイル カルバモイルなどの置換カルバモイル基さらに、例tハ
、) ’J −f−tv, 2−ニトロフェニルチオ、
ベンジリチン、4−ニトロベンジリチン、トリアルキル
シリル、ベンジル、p−ニトロベンジリチンエばジエヂ
ルホスホリル、ジメヂルボスホリル、ジフェニルホスホ
リル、ジ−イソプロピルホスホリル、ジ−イソブチルホ
スホリル、ジブチルホスホリ/L/, 0−ヒドロキ
シフェニルホスホリル、メチル(0−ヒドロキシフェニ
ル)ホスホリル等のホスホリル基だ占えばジメチルホス
フイニ/L/,ジフェニルホスフィニル等のホスフィニ
ル基、タトエハフェニルホスホニル、ブチルホスホニル
等のホスホニル基等のアシル基以外のアミ7基の保護基
が挙げられる。該保護基の選択は本発明においては、特
に限定されるものではない、 これらのうちアミノカルボニル、たトエハシクロアルキ
ル、シクロアルケニル、7′リール、’fM J− 環
J献 アルコキシカルボニル、アシル、オキソ、ハロゲ
ン、シアノ、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシルオキシ、カルバモイルオ
キシ、ヒドロキシスルホニルオキシ、アルキルスルホニ
ルオキシ* ルスルホニルオキシ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、ア
ミノカルボニル、アルキルチオカルボニル、メルカプト アシルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリール
チオ、複素環チオ、第四級アンモニウムなどにより1〜
3個置換されていてもよい。置換されたアルキル基は、
たとえば式 %式%() 〔式中、n2はOないし3の整数を、R2+1、R21
は同一まだは異なって水素原子、アルキル、シクロ″* アルキル、アラルキル、アリール、複素環基、アルコキ
シカルボニル、アシルまたはR2O トR21 カー緒
になってオキソを、R22は水素原子、アルキlへシフ
ロア・レキル、アリール、複素j5”J+’l、・・「
2ゲン、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、−j′リー
ルオギシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ、1ニト
ロキシスルホニルオキシ カルボキシ、アルコキシカルボニル ボニル、アルキルチオカルボニル カプト、アルキルチオ シルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリールチ
オ、複素醋1チオ、第四級アンモニウム〜示す。〕で表
わされるものも用いられる。ここにおいて、シクロアル
キルとしては、炭素数3〜8のものが好ましく、たとえ
ばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンデル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチル、アゲマンチルなどが用
いられる。
捷しく、その例としては、たとえばエチレン、エチレン
、フロピレン、イソプロピレンナトが用いられる。アル
ケニレンとしては、直鎖状捷たは分枝状の炭素数2〜4
の低級アルケニレンが好ましく、たとえばビニレン、プ
ロペニレンなどが用いられる。カルボキシル基における
エステルとしては、たとえばメチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、ローブチルエステル、イソ
ブチルエステル、tert−ブチルエステルなどの炭素
数1〜6の低級アルキルエステルなどが用いられる。ア
ミノ基の保護基としては、βーラククムおよびペプチド
合成の分野でこの[」的に用いられるものが便宜に採用
される。たと乏−げフタ[Jイル、トルオイル、ナフト
イル、ベンゾイル、、タロロベンゾイル、p−ニトロベ
ンゾイル、I) −tcrt−ブチルベシゾイtly、
p −tert−フチルベンゼンスルホニノヘベン
ゼンスルホニル、トルエンスルホニル、フェニル7′セ
チル等の芳香族アシル基、タトエばホルミル、アセチル
、プロピオニル、バレリル、カブリリル、n−テ゛カッ
イル、アクリロイル、ピバロイル、モノクロロアセデル
、ジクロロアセチル、トリクロロアセチノヘメクンスル
ホニノへ エタンスルホニル トリフルオロアセヂル、マレイノヘサクシニル等(7)
n’Ft 肪にアシル基、たとえば、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル ル、イソプロポキシカルボニル キシカルボニル、β、β、β−トリクロロエトキシカル
ボニル ボニル ル ンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシ
カルボニル チルメチルオキシカルボニル、インボルニルオキシカル
ボニル ステル化されたカルボキシル基、たとえシー1゛メ壬ル
カルパモイル、フェニルカルバモイル カルバモイルなどの置換カルバモイル基さらに、例tハ
、) ’J −f−tv, 2−ニトロフェニルチオ、
ベンジリチン、4−ニトロベンジリチン、トリアルキル
シリル、ベンジル、p−ニトロベンジリチンエばジエヂ
ルホスホリル、ジメヂルボスホリル、ジフェニルホスホ
リル、ジ−イソプロピルホスホリル、ジ−イソブチルホ
スホリル、ジブチルホスホリ/L/, 0−ヒドロキ
シフェニルホスホリル、メチル(0−ヒドロキシフェニ
ル)ホスホリル等のホスホリル基だ占えばジメチルホス
フイニ/L/,ジフェニルホスフィニル等のホスフィニ
ル基、タトエハフェニルホスホニル、ブチルホスホニル
等のホスホニル基等のアシル基以外のアミ7基の保護基
が挙げられる。該保護基の選択は本発明においては、特
に限定されるものではない、 これらのうちアミノカルボニル、たトエハシクロアルキ
ル、シクロアルケニル、7′リール、’fM J− 環
J献 アルコキシカルボニル、アシル、オキソ、ハロゲ
ン、シアノ、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、アルコ
キシ、アリールオキシ、アシルオキシ、カルバモイルオ
キシ、ヒドロキシスルホニルオキシ、アルキルスルホニ
ルオキシ* ルスルホニルオキシ、ニトロ、アミノ、カルボキシ、ア
ミノカルボニル、アルキルチオカルボニル、メルカプト アシルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリール
チオ、複素環チオ、第四級アンモニウムなどにより1〜
3個置換されていてもよい。置換されたアルキル基は、
たとえば式 %式%() 〔式中、n2はOないし3の整数を、R2+1、R21
は同一まだは異なって水素原子、アルキル、シクロ″* アルキル、アラルキル、アリール、複素環基、アルコキ
シカルボニル、アシルまたはR2O トR21 カー緒
になってオキソを、R22は水素原子、アルキlへシフ
ロア・レキル、アリール、複素j5”J+’l、・・「
2ゲン、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、−j′リー
ルオギシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ、1ニト
ロキシスルホニルオキシ カルボキシ、アルコキシカルボニル ボニル、アルキルチオカルボニル カプト、アルキルチオ シルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリールチ
オ、複素醋1チオ、第四級アンモニウム〜示す。〕で表
わされるものも用いられる。ここにおいて、シクロアル
キルとしては、炭素数3〜8のものが好ましく、たとえ
ばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンデル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチル、アゲマンチルなどが用
いられる。
アリールとしては、たとえばフェニル、a−−t−フチ
ノペ β−ナフチル、ビフェニル、アントリルなどが用
いられるが、とりわけフェニル、ナフチルなどが繁用さ
れる。アラルキルとしては、たとえばベンジル、フェネ
チル、フェニルプロピル、ナフチル〆ヂルなどが11い
られる。アシル基トして(寸、タトエはホルミル R?基アセチ・・などが用いられ、とりわけ、たとえば
アセチル、プロピオニル、n−)゛チリル、インブヂリ
ル、1]−ペンタノイル、n−ヘキサノイル、ベンゾイ
ル、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキシベンゾイ
ル、フェニルアセチルペ 4−ヒドロキシフェニルアセ
チル アセチル、2−チェニルカルボニル ルボニル セチル、2 tたij3−チェニルアセチル、2−また
は3−フリルアセチル、2−アミノ−4寸だは5−チア
ゾリルアセチルなどが用いられる。第四級アンモニウム
基としては、たとえばピリジニラI8、キメリニウムな
どが用いられる。
ノペ β−ナフチル、ビフェニル、アントリルなどが用
いられるが、とりわけフェニル、ナフチルなどが繁用さ
れる。アラルキルとしては、たとえばベンジル、フェネ
チル、フェニルプロピル、ナフチル〆ヂルなどが11い
られる。アシル基トして(寸、タトエはホルミル R?基アセチ・・などが用いられ、とりわけ、たとえば
アセチル、プロピオニル、n−)゛チリル、インブヂリ
ル、1]−ペンタノイル、n−ヘキサノイル、ベンゾイ
ル、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキシベンゾイ
ル、フェニルアセチルペ 4−ヒドロキシフェニルアセ
チル アセチル、2−チェニルカルボニル ルボニル セチル、2 tたij3−チェニルアセチル、2−また
は3−フリルアセチル、2−アミノ−4寸だは5−チア
ゾリルアセチルなどが用いられる。第四級アンモニウム
基としては、たとえばピリジニラI8、キメリニウムな
どが用いられる。
捷た、シクロアルキル、シクロアルケニル、アラルキル
、アリール、複k ’J3 & 、m ’ lf&アン
モニウムの置換基としては、たとえばアルキル、アルコ
キシ、アルケニル、アリール、アラルキル、メルカプト キル千オ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、
アラルキルスルボニル、トリかロゲノアルキル、ヒドロ
キシ、オキソ、チオキソ、ハロゲン、ニトロ、アミノ、
シアノ、カルバモイルキシ、アシル、アシルオキシ、ア
シルアミノ、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル
、ハロゲノアルキル、モノまだはジアルキルアミノアル
ギルなどが用いられる。(ここにおけるアルキル、アル
コキシ、アルケニル、アリール、アラルキル、アシルは
前記のごときものである)。
、アリール、複k ’J3 & 、m ’ lf&アン
モニウムの置換基としては、たとえばアルキル、アルコ
キシ、アルケニル、アリール、アラルキル、メルカプト キル千オ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、
アラルキルスルボニル、トリかロゲノアルキル、ヒドロ
キシ、オキソ、チオキソ、ハロゲン、ニトロ、アミノ、
シアノ、カルバモイルキシ、アシル、アシルオキシ、ア
シルアミノ、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル
、ハロゲノアルキル、モノまだはジアルキルアミノアル
ギルなどが用いられる。(ここにおけるアルキル、アル
コキシ、アルケニル、アリール、アラルキル、アシルは
前記のごときものである)。
フェノキシの置換基としては、前記で述べたアリールの
置換基のごときものが用いられる。さらに、チアゾリル
の置換基として、たとえばアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、アミンなどで「を換された炭素数2
〜4のアシルアミノをに 用いてもよい。複素環基の置換基として、たとえハアル
ギル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、アミンなどで1
r1′換されたフェニルを用いてもよい。
置換基のごときものが用いられる。さらに、チアゾリル
の置換基として、たとえばアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、ヒドロキシ、アミンなどで「を換された炭素数2
〜4のアシルアミノをに 用いてもよい。複素環基の置換基として、たとえハアル
ギル、アルコキシ、ハロゲン、ニトロ、アミンなどで1
r1′換されたフェニルを用いてもよい。
ウレイドにおける置換基としては、たとえば、ナトリウ
ム、カリウムなどと適宜塩を形成したスルホ、カルバモ
イル 炭素数1〜3のアルキルなどが用いられる。スルファモ
イルにおける置換基としては、例えば、炭素数1〜3の
低級アルキル、アミジノなどが用いられる。アルケニレ
ンの置換基としては、たとえば、カルボキシ、シアノな
どが用いられる。
ム、カリウムなどと適宜塩を形成したスルホ、カルバモ
イル 炭素数1〜3のアルキルなどが用いられる。スルファモ
イルにおける置換基としては、例えば、炭素数1〜3の
低級アルキル、アミジノなどが用いられる。アルケニレ
ンの置換基としては、たとえば、カルボキシ、シアノな
どが用いられる。
で表ねされるンン異性体と式R−C−で表わさ肚RI2
−O′ るアンチ異性体または七肚らの混合物を表ねT。
−O′ るアンチ異性体または七肚らの混合物を表ねT。
上記のアシル基において、式R5−CO−で表わされる
アシル基の具体例として、たとえばホルミル、アセチル
、ヘキサメイル、ベンゾイル、p−二トロベンソイル、
3−(2.6−ジクロロフェニル)=5−メチルインキ
サシ−ルー4−イル−カルボニル、5−メチル−3−フ
ェニル−4−イソキサゾリルカルボニル 4−エチル−
2、3 −E,’オギソーlーピペラジ7カルボニルな
どが用いらねる。
アシル基の具体例として、たとえばホルミル、アセチル
、ヘキサメイル、ベンゾイル、p−二トロベンソイル、
3−(2.6−ジクロロフェニル)=5−メチルインキ
サシ−ルー4−イル−カルボニル、5−メチル−3−フ
ェニル−4−イソキサゾリルカルボニル 4−エチル−
2、3 −E,’オギソーlーピペラジ7カルボニルな
どが用いらねる。
ルNa −カルボベンゾキシ−r−D−l’ルタミル
−D−アラニル、D−フェニルクリシル−D−アラニル
、N−カルボベンゾキシ−D−アラニル、N =カルボ
ベンゾキシーDーフェニルクリシルD−7ラニルーD−
フェニルクリシル、γーDーグルクミルーDーアラニル
、2−(4−エチル−2、3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキ
サミI’)−2−(4−スルホキシフェニル)アセチル
、N−(4・−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジノカルボニル)−D−アラニル、N−(4−エチル−
2.3−ジチオオキソ−l−ピペラジ7カルボニル)−
D−フェニルクリシル、2。
−D−アラニル、D−フェニルクリシル−D−アラニル
、N−カルボベンゾキシ−D−アラニル、N =カルボ
ベンゾキシーDーフェニルクリシルD−7ラニルーD−
フェニルクリシル、γーDーグルクミルーDーアラニル
、2−(4−エチル−2、3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキ
サミI’)−2−(4−スルホキシフェニル)アセチル
、N−(4・−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラ
ジノカルボニル)−D−アラニル、N−(4−エチル−
2.3−ジチオオキソ−l−ピペラジ7カルボニル)−
D−フェニルクリシル、2。
2−ビス−(4−エチル−2.3−ジオキソ−1−ピペ
ラジ7カルポキサミド)アセデル、2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチル、2−(
4−ヒドロキシ−6−メチルニコチンアミl’)−2−
フェニルアセチル2−(4−ヒドロキシ−6−メチルニ
コチンアミ)’)−2−( 4−ヒドロキシフェニル)
アセチル、2−(5.8−ジヒドロ−2−(4−ホルミ
ル−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド〔2.3−
d)ピリミジン−6−カルポキサミド)−2−フェニル
アセチル、2−(3.5−ジオキソ−1。
ラジ7カルポキサミド)アセデル、2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチル、2−(
4−ヒドロキシ−6−メチルニコチンアミl’)−2−
フェニルアセチル2−(4−ヒドロキシ−6−メチルニ
コチンアミ)’)−2−( 4−ヒドロキシフェニル)
アセチル、2−(5.8−ジヒドロ−2−(4−ホルミ
ル−1−ピペラジニル)−5−オキソピリド〔2.3−
d)ピリミジン−6−カルポキサミド)−2−フェニル
アセチル、2−(3.5−ジオキソ−1。
2、4・−トリアジン−6−カルポキサミド)−2−(
4−ヒドロキシフェニル)アセチル、2−(3−フルフ
リデンアミノ−2−オキソイミダゾリジン−■ーカルボ
キサミド)−2−フェニルアセチル、2−(クマリン−
3−カルレボキサ三ド)−2−フェニルアセチル、2−
(4−ヒドロキシ−7−メチル−1、8−ナフチリジン
−3−カルボキサミl’)−2−フェニルアセチル、2
−(4−ヒドロキシ−7−ドリフルオロメチルキノリン
ー3−力ルポキサミド)−2−フェニルアセチル、N−
C2−(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチル〕−D
−フェニルクリシル、2−(6−−y’ロモー1−エチ
ル−1,4ージヒドロー斗ーオキソチェノ(2.3−b
)ピリジン−3−カルボキサEl’)−2−フェニルア
セチル、2−(4・−エチル−2、3−ジオキソ−1−
ピペラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチル、
2−(4−n−ペンチル−2、3−ジオキソ−1−ヒ°
ヘラシ/力/1/ ホキサミド)−2−チェニルアセチ
ル、2−( + − n−オクチル−2、3−ジオキソ
−1−ピペラジ7カルポキサミド)−2−チェニルアセ
チル、2−(4−シクロヘキシル−2、3−ジオキソ−
1−ピペラジ7カルボキサミドド)−2−−fエニル・
アセチtv, 2−( 4’ ( 2−フェニルア
セチル)−2、3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキ
サミド〕−2−チェニルアセチル、2−(3−メチルス
ルホニル−2−オキソイミダゾリジン−1. −カフレ
ボキサミド)−2−フェニルアセチル(3−フルフリデ
ンアミノ−2−オキソイミク°ゾ、 リジン−l−カル
ボキサミド)−2−(4−11ドロキシフエニル)アセ
チル、2−(4−エチル−2、3−ジオキソ−l−ピペ
ラジ7カルボキサミF)−2−(4.−ベンジルオキシ
フェニル)アセチル、2−(4−エチル−2、3−ジオ
キソ−1−ピペラジ7カルポキサミド)−2−(4−メ
トキシフェニル)アセチル、2−(8−ヒドロキシ−1
、5−ナフチリジン−7−カルボキサミド)−2−フェ
ニルアセチルなどが用いられる。
4−ヒドロキシフェニル)アセチル、2−(3−フルフ
リデンアミノ−2−オキソイミダゾリジン−■ーカルボ
キサミド)−2−フェニルアセチル、2−(クマリン−
3−カルレボキサ三ド)−2−フェニルアセチル、2−
(4−ヒドロキシ−7−メチル−1、8−ナフチリジン
−3−カルボキサミl’)−2−フェニルアセチル、2
−(4−ヒドロキシ−7−ドリフルオロメチルキノリン
ー3−力ルポキサミド)−2−フェニルアセチル、N−
C2−(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチル〕−D
−フェニルクリシル、2−(6−−y’ロモー1−エチ
ル−1,4ージヒドロー斗ーオキソチェノ(2.3−b
)ピリジン−3−カルボキサEl’)−2−フェニルア
セチル、2−(4・−エチル−2、3−ジオキソ−1−
ピペラジノカルボキサミド)−2−チェニルアセチル、
2−(4−n−ペンチル−2、3−ジオキソ−1−ヒ°
ヘラシ/力/1/ ホキサミド)−2−チェニルアセチ
ル、2−( + − n−オクチル−2、3−ジオキソ
−1−ピペラジ7カルポキサミド)−2−チェニルアセ
チル、2−(4−シクロヘキシル−2、3−ジオキソ−
1−ピペラジ7カルボキサミドド)−2−−fエニル・
アセチtv, 2−( 4’ ( 2−フェニルア
セチル)−2、3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキ
サミド〕−2−チェニルアセチル、2−(3−メチルス
ルホニル−2−オキソイミダゾリジン−1. −カフレ
ボキサミド)−2−フェニルアセチル(3−フルフリデ
ンアミノ−2−オキソイミク°ゾ、 リジン−l−カル
ボキサミド)−2−(4−11ドロキシフエニル)アセ
チル、2−(4−エチル−2、3−ジオキソ−l−ピペ
ラジ7カルボキサミF)−2−(4.−ベンジルオキシ
フェニル)アセチル、2−(4−エチル−2、3−ジオ
キソ−1−ピペラジ7カルポキサミド)−2−(4−メ
トキシフェニル)アセチル、2−(8−ヒドロキシ−1
、5−ナフチリジン−7−カルボキサミド)−2−フェ
ニルアセチルなどが用いられる。
式 R9− R10− CO−で表わされるアシル基の
具体例として、たとえば、N−C2−(2−アミノ−斗
−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル)−D−
アラニル、N−[2−(2−アミノー4ーチアゾリル)
−2−メトキシイミノアセチル〕−D−フェニルグリシ
ル、2−〔2−アミノ−4−チアゾリル)−2−C2−
(2−アミノ一番−チアゾリル)−2−メトキシイミノ
アセタミドコアセチル、2−(2−クロ・ロアセラミド
−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル、2
−(2−アミノー4ーチアゾリル)−2−メトキシイミ
ノアセチルへ 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−エトキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−プロポキンイ三ノアセチル、2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ブトキシイミノア
セチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ベ
ンジルオキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−アリルオキシイミノアセチル、2−
(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセチルへ 2−(2−アミノ−5−プロ
モー4,−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル
、2−(2−アミノ−4−デアゾリル)−2−オキシイ
ミノアセチノへ 2−チェニル−2−メトキシイミノア
セチル、2−フリル−2−メトキシイミノアセチル、2
−(1,2.4−チアジアゾール−3−イル)−2−メ
トキシイミノアセチル、2−(1,2.4−チアジアゾ
ール−5−イル)−2−メトキシイミノアセチル、2−
(1,3.4−チアジアゾリル)−2−メトキシイミノ
アセチル、’2−(4−ハイドロキシフェニル)−2−
メトキシイミノアセチル、2−フエール−2−メトキシ
イミノアセチル、2−フェニル−2−オキシイミノアセ
チル、2−(4−(r −D −クルクミルオキン)フ
ェニル:)−2−オキシイミノアセチル、2−(4−(
s−アミノ−3−カルボキシプロポキシ キシイミノアセチルなどが用いられる。
具体例として、たとえば、N−C2−(2−アミノ−斗
−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル)−D−
アラニル、N−[2−(2−アミノー4ーチアゾリル)
−2−メトキシイミノアセチル〕−D−フェニルグリシ
ル、2−〔2−アミノ−4−チアゾリル)−2−C2−
(2−アミノ一番−チアゾリル)−2−メトキシイミノ
アセタミドコアセチル、2−(2−クロ・ロアセラミド
−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル、2
−(2−アミノー4ーチアゾリル)−2−メトキシイミ
ノアセチルへ 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−エトキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−プロポキンイ三ノアセチル、2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ブトキシイミノア
セチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ベ
ンジルオキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−アリルオキシイミノアセチル、2−
(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセチルへ 2−(2−アミノ−5−プロ
モー4,−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル
、2−(2−アミノ−4−デアゾリル)−2−オキシイ
ミノアセチノへ 2−チェニル−2−メトキシイミノア
セチル、2−フリル−2−メトキシイミノアセチル、2
−(1,2.4−チアジアゾール−3−イル)−2−メ
トキシイミノアセチル、2−(1,2.4−チアジアゾ
ール−5−イル)−2−メトキシイミノアセチル、2−
(1,3.4−チアジアゾリル)−2−メトキシイミノ
アセチル、’2−(4−ハイドロキシフェニル)−2−
メトキシイミノアセチル、2−フエール−2−メトキシ
イミノアセチル、2−フェニル−2−オキシイミノアセ
チル、2−(4−(r −D −クルクミルオキン)フ
ェニル:)−2−オキシイミノアセチル、2−(4−(
s−アミノ−3−カルボキシプロポキシ キシイミノアセチルなどが用いられる。
具体例として、たとえば、a−スルホフェニルアセチル
、α−カルボキシフェニルアセチル、α−ハイドロキシ
フェニルアセチル、αークレイドフェニルアセチル、α
ースルホクレイドフェニルアセチル、α−スルファモイ
ルフェニルアセチル、σーフェノキシカルボニルフェニ
ルアセチル− ( p− 1− IJ /レオキシカル
ボニルデル、α−ポルミルオキシフェニルアセ−!ール
ナトが用いられる。
、α−カルボキシフェニルアセチル、α−ハイドロキシ
フェニルアセチル、αークレイドフェニルアセチル、α
ースルホクレイドフェニルアセチル、α−スルファモイ
ルフェニルアセチル、σーフェノキシカルボニルフェニ
ルアセチル− ( p− 1− IJ /レオキシカル
ボニルデル、α−ポルミルオキシフェニルアセ−!ール
ナトが用いられる。
式 R −R −CI。−CO−で表わされるアシ
ル基の具体例としては、たとえば、シアノアセチル、ア
ヤトアセチル、フェニルアセデル アセチル、5−アミノ−5−カルボキシバレリル5−オ
キソ−5−カルボキシバレリル、4−カルボキシブチリ
ル、トリフルオロメチルヂオアセチル、シアノメチルヂ
オアセヂル、111−テ]・ラゾリル−1−アセチル、
チェニルアセチ/l/,2−(2−アミノ−4.−デア
ゾリル)アセデル、4.−ピリジルチオアセチル、2−
チェニルヂオアセヂノへ3、5−ジクロロ−1、4・−
ジヒドロ−4−オキソピリジン−1−アセチル、βーカ
ルボキシヒ゛ニルチオアセチル、2−(2−アミノメチ
ルフェニル)アセチルなどが用いられる。
ル基の具体例としては、たとえば、シアノアセチル、ア
ヤトアセチル、フェニルアセデル アセチル、5−アミノ−5−カルボキシバレリル5−オ
キソ−5−カルボキシバレリル、4−カルボキシブチリ
ル、トリフルオロメチルヂオアセチル、シアノメチルヂ
オアセヂル、111−テ]・ラゾリル−1−アセチル、
チェニルアセチ/l/,2−(2−アミノ−4.−デア
ゾリル)アセデル、4.−ピリジルチオアセチル、2−
チェニルヂオアセヂノへ3、5−ジクロロ−1、4・−
ジヒドロ−4−オキソピリジン−1−アセチル、βーカ
ルボキシヒ゛ニルチオアセチル、2−(2−アミノメチ
ルフェニル)アセチルなどが用いられる。
1−記のアシル基中のアミノ基および/捷だはカルボキ
シル基および/まだはヒドロキシル基は、保護基を有し
ている場合も含む。
シル基および/まだはヒドロキシル基は、保護基を有し
ている場合も含む。
該アミ7基の保護基としては.、 nfI述のアミノ堰
の保護基と同様のものが用いられる。また、カルボキシ
ル基の保護基としては、β−ラクタムおよび有機化学の
分野で通常カルボキシル基の保護基として使用し得るも
のはすべて利用でき、たとえは、7チル、エチル、ロー
プロピル、イソプロピル、tert−ブチル、tert
−アミル、ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキ
シベンジル、ベンツヒトリール、I−インダニル、フェ
ナシル、フェニル、p−ニトロフェニル、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、ベンジルオキシメチル、アセトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチル、β−メチルスルホ
ニルエチル、β−トリメチルシリルエチル、メチルチオ
メチル、トリチル、β、β、β−トリクロロエチル、β
−ヨードエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、
アセチルメチルトロベンソイルメチル、p−メシルベン
ゾイルメチル、フタルイミドメチル、プロピオニルオキ
シメチル、1、1−ジメチルプロピル、3−メチル−3
−ブテニル、サクシンイミドメチル、3、5− シte
rtーブチルー4ーヒドロキシベンジル、メシルメチル
、ベンセ゛ンスルホニルメチル、フェニルチオメチル、
ジメチルアミノエチル、ピリジン−】−才キサイド−2
−メチル、メチルスルフイニルメチノへビス(p−メト
キシフェニル)メチル、2−シアノ−1、1−ジメチル
エチル等のエステル残基、シリル基などが用いられる。
の保護基と同様のものが用いられる。また、カルボキシ
ル基の保護基としては、β−ラクタムおよび有機化学の
分野で通常カルボキシル基の保護基として使用し得るも
のはすべて利用でき、たとえは、7チル、エチル、ロー
プロピル、イソプロピル、tert−ブチル、tert
−アミル、ベンジル、p−ニトロベンジル、p−メトキ
シベンジル、ベンツヒトリール、I−インダニル、フェ
ナシル、フェニル、p−ニトロフェニル、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、ベンジルオキシメチル、アセトキ
シメチル、ピバロイルオキシメチル、β−メチルスルホ
ニルエチル、β−トリメチルシリルエチル、メチルチオ
メチル、トリチル、β、β、β−トリクロロエチル、β
−ヨードエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、
アセチルメチルトロベンソイルメチル、p−メシルベン
ゾイルメチル、フタルイミドメチル、プロピオニルオキ
シメチル、1、1−ジメチルプロピル、3−メチル−3
−ブテニル、サクシンイミドメチル、3、5− シte
rtーブチルー4ーヒドロキシベンジル、メシルメチル
、ベンセ゛ンスルホニルメチル、フェニルチオメチル、
ジメチルアミノエチル、ピリジン−】−才キサイド−2
−メチル、メチルスルフイニルメチノへビス(p−メト
キシフェニル)メチル、2−シアノ−1、1−ジメチル
エチル等のエステル残基、シリル基などが用いられる。
ヒドロキシル基の保護基としては、β−ラクタムおよび
有機化学の分野でj市常ヒドロキシル基の保護基として
使用し得るものはすべて利用でき、だとえはアセチル、
クロロアセチルなどのエステル残基、β、β、β−トリ
クロロエトキシカルボニル、βートリメチルシリルエト
キシヵルボニルナトのエステル化されたカルボキシルL
tert−ブチル、ベンジル、p−ニトロベンジル
、トリチル、メチルチオメチル、β−メトキシエトキシ
メチルなどのエーテル残基、トリメチルシリル、ter
t−ブチルジメチルシリルなどのシリルエーテル残基、
2−テトラヒドロピラニル、4,−メトキシ−4−テト
ラヒドロピラニルなどのアセタール残基などが用いられ
る。前M,保護基の選択は、木発111]においてはア
ミ7基、カルボキシル基の保護基と同様、特に限定され
るものではない。
有機化学の分野でj市常ヒドロキシル基の保護基として
使用し得るものはすべて利用でき、だとえはアセチル、
クロロアセチルなどのエステル残基、β、β、β−トリ
クロロエトキシカルボニル、βートリメチルシリルエト
キシヵルボニルナトのエステル化されたカルボキシルL
tert−ブチル、ベンジル、p−ニトロベンジル
、トリチル、メチルチオメチル、β−メトキシエトキシ
メチルなどのエーテル残基、トリメチルシリル、ter
t−ブチルジメチルシリルなどのシリルエーテル残基、
2−テトラヒドロピラニル、4,−メトキシ−4−テト
ラヒドロピラニルなどのアセタール残基などが用いられ
る。前M,保護基の選択は、木発111]においてはア
ミ7基、カルボキシル基の保護基と同様、特に限定され
るものではない。
式〔I〕、〔■〕における記りRは、水素原子またはエ
ステル残基を示す。Rで示されるエステル残基としては
、たとえばメチル、エチル、n −プロピル、イソプロ
ピル、n−ブfノv、イソブチル、第ニブチル、第三ブ
チル、ペンチル、インペンチル、第二ペンブール、第三
ペンチル、〜キン22、イソヘキンルなどの炭素数1な
いし6の低級アルキルjr’s 、 タトエハベンジル
l)−ニトロベンジル、P−メトキンベンジル、ジフ
ェニルメチル、ビス(P−メトキシフェニルラメチルな
どのアラルキ半 ル基などが用いら肚るほか、本発明に支障のないエステ
ル残基が用いら肚てもよい。
ステル残基を示す。Rで示されるエステル残基としては
、たとえばメチル、エチル、n −プロピル、イソプロ
ピル、n−ブfノv、イソブチル、第ニブチル、第三ブ
チル、ペンチル、インペンチル、第二ペンブール、第三
ペンチル、〜キン22、イソヘキンルなどの炭素数1な
いし6の低級アルキルjr’s 、 タトエハベンジル
l)−ニトロベンジル、P−メトキンベンジル、ジフ
ェニルメチル、ビス(P−メトキシフェニルラメチルな
どのアラルキ半 ル基などが用いら肚るほか、本発明に支障のないエステ
ル残基が用いら肚てもよい。
式(1)における記Q、 R4は、求核性化合物の残基
を示す。ここにおいて求核性化合物としては、たとえば
求核性の窒素、炭素、捷だは硫黄を有することによって
特徴付けられる求核性物質でセファロスポリン化学に関
する従来の雑文に広く記載されている物質が用いられる
。かかる求核性化合物としては、たとえば硫黄求核性化
合物、窒素求搾性化合物、炭素床抗性化合物などが用い
られる。
を示す。ここにおいて求核性化合物としては、たとえば
求核性の窒素、炭素、捷だは硫黄を有することによって
特徴付けられる求核性物質でセファロスポリン化学に関
する従来の雑文に広く記載されている物質が用いられる
。かかる求核性化合物としては、たとえば硫黄求核性化
合物、窒素求搾性化合物、炭素床抗性化合物などが用い
られる。
硫黄求核性化合物としては、たとえばアルキルチオール
、アリールチオール、アラルキルチオール、オキシド化
されていてもよい窒素原41個ないし5個を含有するか
、窒素以外のたとえば酸素、硫直などの1114子を含
有していてもよい含窒素複素環チオールなどが用いらオ
t、これらのその核上に置換基ンイ−rTるものも含捷
れる。このような含窒素複素環基としては、たとえばピ
リジル、N−オキシドピリジル、ピリミジル、ピリダジ
ニル、N−オキシドピリジル、トリアジニルなどの6員
含窒素複素環基、イミダゾリル、デアゾリル、チアジア
ゾリル、オキザジアゾリノペ トリアゾリル、テトラゾ
リルなどの5員含窒素複素環基またはそtらの縮合環な
どが用いらオする。また、これら含窒素複素環基−Lの
置換分としてはたとえば水酸基、アミノ基、カルボキシ
ル基、カルバモイル基、低級アルキル基(たとえばメチ
ル、エテル、トリフrニアOメチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチルなど)、低級アルコキシ基
(たとえばメトキン、エトキシ、プロポキン、ブトキン
など〕、ハ価基を介して種々の置換基Znするものが用
いられる。多価糸が低級アルキレン基である場合には、
この置換分はモノまたはジ低級アルキルアミノ基、モリ
ホリノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基
、アルコキシカルボニルJ!、低級アルキルカルバモイ
ル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アシロキシ基、モルホリノカルボニル基などで
あってもよく、又多価基が−S−、−N−基である場合
には、置換分は低級アルキル基および」二記置換分を有
する低級アルキレン基などであってもよい。多価基が−
N−である場合には、さらにアルコキシカルボニル基、
アシル基、カルバモイルJ&、低級アルキルカルバモイ
ル基などか直結していてもよい。
、アリールチオール、アラルキルチオール、オキシド化
されていてもよい窒素原41個ないし5個を含有するか
、窒素以外のたとえば酸素、硫直などの1114子を含
有していてもよい含窒素複素環チオールなどが用いらオ
t、これらのその核上に置換基ンイ−rTるものも含捷
れる。このような含窒素複素環基としては、たとえばピ
リジル、N−オキシドピリジル、ピリミジル、ピリダジ
ニル、N−オキシドピリジル、トリアジニルなどの6員
含窒素複素環基、イミダゾリル、デアゾリル、チアジア
ゾリル、オキザジアゾリノペ トリアゾリル、テトラゾ
リルなどの5員含窒素複素環基またはそtらの縮合環な
どが用いらオする。また、これら含窒素複素環基−Lの
置換分としてはたとえば水酸基、アミノ基、カルボキシ
ル基、カルバモイル基、低級アルキル基(たとえばメチ
ル、エテル、トリフrニアOメチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチルなど)、低級アルコキシ基
(たとえばメトキン、エトキシ、プロポキン、ブトキン
など〕、ハ価基を介して種々の置換基Znするものが用
いられる。多価糸が低級アルキレン基である場合には、
この置換分はモノまたはジ低級アルキルアミノ基、モリ
ホリノ基、カルボキシル基、スルホ基、カルバモイル基
、アルコキシカルボニルJ!、低級アルキルカルバモイ
ル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アシロキシ基、モルホリノカルボニル基などで
あってもよく、又多価基が−S−、−N−基である場合
には、置換分は低級アルキル基および」二記置換分を有
する低級アルキレン基などであってもよい。多価基が−
N−である場合には、さらにアルコキシカルボニル基、
アシル基、カルバモイルJ&、低級アルキルカルバモイ
ル基などか直結していてもよい。
具体的には、たとえばピリジンチオール、ピリミジンチ
オール、メチルピリダジンチオール、4゜5−ジヒドロ
−6−ヒドロキシ−4−メチル−1゜2.4−トリアジ
ン−3−チオール、2−メチル−5,6−シオキソー1
.2,5.6−テトラヒドロ−1,2,4−4リアジン
−3−チオール、2.5−ジヒドロ−2−メチル−5−
オギソー1゜2.4−)リアジン−3−チオール、イミ
グゾールテオール、1. 8. 4−チアジアゾールチ
オール、1. 2. 3−チアジアゾール−5−チオー
ル、2−メチル−1,8,4−チアジアゾールチオール
、チアゾールチオール、5−メチル−1,3゜4−オキ
サジアゾ〜ルチオ〜ル、1. 2. 3−トリアゾール
−5−チオ一ル、1〜メチル−テトラゾールチオール、
1−(2〜ジメチルアミノエテル)−テトラゾールチオ
ール、1−(2−スルホ。
オール、メチルピリダジンチオール、4゜5−ジヒドロ
−6−ヒドロキシ−4−メチル−1゜2.4−トリアジ
ン−3−チオール、2−メチル−5,6−シオキソー1
.2,5.6−テトラヒドロ−1,2,4−4リアジン
−3−チオール、2.5−ジヒドロ−2−メチル−5−
オギソー1゜2.4−)リアジン−3−チオール、イミ
グゾールテオール、1. 8. 4−チアジアゾールチ
オール、1. 2. 3−チアジアゾール−5−チオー
ル、2−メチル−1,8,4−チアジアゾールチオール
、チアゾールチオール、5−メチル−1,3゜4−オキ
サジアゾ〜ルチオ〜ル、1. 2. 3−トリアゾール
−5−チオ一ル、1〜メチル−テトラゾールチオール、
1−(2〜ジメチルアミノエテル)−テトラゾールチオ
ール、1−(2−スルホ。
エテル)−テトラゾールチオール、1−スルホメチルテ
トラゾールチオールなどの複素環チオールが用いらオす
る。その他、メタンチオール、エタンチオール、チオフ
ェノールなどの脂肪族、芳香族チオール、チオ尿素、N
−メチルチオ尿素などのチオ尿素誘導体、チオアセトア
ミド、チオベンズアミドなどのチオアミド誘導体などが
用いらオする。
トラゾールチオールなどの複素環チオールが用いらオす
る。その他、メタンチオール、エタンチオール、チオフ
ェノールなどの脂肪族、芳香族チオール、チオ尿素、N
−メチルチオ尿素などのチオ尿素誘導体、チオアセトア
ミド、チオベンズアミドなどのチオアミド誘導体などが
用いらオする。
これらの硫黄求核性化合物は遊離形のまま、或いはそれ
らの酸性基における塩基との塩又は塩基性基における酸
との塩などの形で反2に用いるこ七ができる。窒素求核
性化合物としては、たとえば二級または三級脂肪族、芳
香族、芳香脂肪族及び環式のアミン類例えばトリアルキ
ルアミン類(トリエチルアミンなど)、ピリジン塩基類
(ピリジン及びアルギルピリジン類など)、1個より多
い異種原子をイ〕する複素環式アミンで少なくとも1個
の異種原子が窒素であるもの、たとえばピリミジン類、
モリホリン類、プリン類、ピリダジン類、ピラジン類、
ピラゾール類、イミダゾール類、トリアゾール類及びチ
アゾール類などがある。
らの酸性基における塩基との塩又は塩基性基における酸
との塩などの形で反2に用いるこ七ができる。窒素求核
性化合物としては、たとえば二級または三級脂肪族、芳
香族、芳香脂肪族及び環式のアミン類例えばトリアルキ
ルアミン類(トリエチルアミンなど)、ピリジン塩基類
(ピリジン及びアルギルピリジン類など)、1個より多
い異種原子をイ〕する複素環式アミンで少なくとも1個
の異種原子が窒素であるもの、たとえばピリミジン類、
モリホリン類、プリン類、ピリダジン類、ピラジン類、
ピラゾール類、イミダゾール類、トリアゾール類及びチ
アゾール類などがある。
好ましい窒素求核性化合物としては、式〔式中、R3は
0であるか又は1〜5の整数であり寸だR23(これは
R3が2〜5の場合には同じであっても異なってもよい
)は脂肪族基、例えば低級アルキル(メチノペエチ/L
/、 n−プロピル、is。
0であるか又は1〜5の整数であり寸だR23(これは
R3が2〜5の場合には同じであっても異なってもよい
)は脂肪族基、例えば低級アルキル(メチノペエチ/L
/、 n−プロピル、is。
−プロピルなど)など、アリール基、例えばフェニルな
ど、芳香脂肪族基、例えばフェニル低級アルキル(ペン
ジノへ フェニルエチルなト)など、又はアルコキシメ
チル [・キシメチル、n−プロポキシメチル、isn−プロ
ポキシメチルなど、又はアシルオキシメヂル例えばアル
カノイルオキシメチル例えばアセトキシメチルナト、ホ
ルミル キシ例えばアルカノイルオキシ例えばアセトキシなど、
エステル化カルボキシ、アルコキシ例えばメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、iso−プロポキシなと、ア
リールオキシ例えばフェノキシなど、アルアルコキシ例
えばベンジルオキシなど、アルキルチオ例えばメチルチ
オ、エチルチオなど、アルキルチオ、アルアルキルチオ
、シアノ、ヒドロキシ、N−モノ低級アルキルカルバモ
イル、例klrf.N−1チルカルパモイ/l/, N
−エチルカルバモイルなど、N−N−ジ低級アルキルカ
ルバモイル[列ti.Jj N − N − シl (
−ルカルパモイル、N−N−ジエチルカルバモイル メチルキル)カルバモイル、例,tばN−(ヒドロキシ
メチル)カルバモイル メチル)カルバモイル 級アルキル、例えばカルバモイルメチノペヵルバモイル
エチルなどの基である〕で表わされる化合物などが用い
られる。具体的には、たとえばピリジン、ピコリン、ニ
コチン酸、ニコチン酸アミド、イソニコチン酸アミド、
ピリジンスルホン酸、ピラジン、2−カルバモイルピラ
ジン、ピリダジン、ピリミジンイミグゾール、l−メチ
ルイミグゾールなどの含窒素複素環化合物などが用いら
れる。
ど、芳香脂肪族基、例えばフェニル低級アルキル(ペン
ジノへ フェニルエチルなト)など、又はアルコキシメ
チル [・キシメチル、n−プロポキシメチル、isn−プロ
ポキシメチルなど、又はアシルオキシメヂル例えばアル
カノイルオキシメチル例えばアセトキシメチルナト、ホ
ルミル キシ例えばアルカノイルオキシ例えばアセトキシなど、
エステル化カルボキシ、アルコキシ例えばメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、iso−プロポキシなと、ア
リールオキシ例えばフェノキシなど、アルアルコキシ例
えばベンジルオキシなど、アルキルチオ例えばメチルチ
オ、エチルチオなど、アルキルチオ、アルアルキルチオ
、シアノ、ヒドロキシ、N−モノ低級アルキルカルバモ
イル、例klrf.N−1チルカルパモイ/l/, N
−エチルカルバモイルなど、N−N−ジ低級アルキルカ
ルバモイル[列ti.Jj N − N − シl (
−ルカルパモイル、N−N−ジエチルカルバモイル メチルキル)カルバモイル、例,tばN−(ヒドロキシ
メチル)カルバモイル メチル)カルバモイル 級アルキル、例えばカルバモイルメチノペヵルバモイル
エチルなどの基である〕で表わされる化合物などが用い
られる。具体的には、たとえばピリジン、ピコリン、ニ
コチン酸、ニコチン酸アミド、イソニコチン酸アミド、
ピリジンスルホン酸、ピラジン、2−カルバモイルピラ
ジン、ピリダジン、ピリミジンイミグゾール、l−メチ
ルイミグゾールなどの含窒素複素環化合物などが用いら
れる。
炭素水接性化合物としては、たとえば無機シアニド類、
′ビロール及び置換ピロール類(例えばインドール類)
、及び安定化されたカルブアニオンを!g−える化合物
、例えばアセチレン類及びβ−ジケトン基を有する化合
物、例えばアセト酢酸エステル及ヒマロン酸エステル類
及びシクロヘキサン−1 ・3−ジオン類又はエナミン
類、イナミン類又はエノール類などが用いられる。たと
えば、式%式%:] 〔式中、R24及びR25は同一であるか又は相異なり
、水氷、シアン、低級アルキル(例えばメチル又はエチ
ルなト)、フェニル、1rt換フエニル(例エバハロ、
低級アルキノへ低級アルコキシ、ニトロ、アミノ又は低
級アルキルアミノフェニルなと)、低級アルコキシカル
ボニル、モノー又ハシ−7 17一ル低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルキルカルボニル、アリール低級アル
キル又はc5又ケc6シクロアルキルから選択され、ま
たR26は、水素、低級アルキル(メチル又はエチルな
ど)、フェニル、置換フェニル( 例,f− Hハロ、
n’;、級7 /l/ キ/l/。
′ビロール及び置換ピロール類(例えばインドール類)
、及び安定化されたカルブアニオンを!g−える化合物
、例えばアセチレン類及びβ−ジケトン基を有する化合
物、例えばアセト酢酸エステル及ヒマロン酸エステル類
及びシクロヘキサン−1 ・3−ジオン類又はエナミン
類、イナミン類又はエノール類などが用いられる。たと
えば、式%式%:] 〔式中、R24及びR25は同一であるか又は相異なり
、水氷、シアン、低級アルキル(例えばメチル又はエチ
ルなト)、フェニル、1rt換フエニル(例エバハロ、
低級アルキノへ低級アルコキシ、ニトロ、アミノ又は低
級アルキルアミノフェニルなと)、低級アルコキシカル
ボニル、モノー又ハシ−7 17一ル低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルキルカルボニル、アリール低級アル
キル又はc5又ケc6シクロアルキルから選択され、ま
たR26は、水素、低級アルキル(メチル又はエチルな
ど)、フェニル、置換フェニル( 例,f− Hハロ、
n’;、級7 /l/ キ/l/。
低級アルコキシ、ニトロ、アミノ又は低級アルキルアミ
ノフェニルなど)、アリール低級アルキル又はC5又は
C6 シクロアルキルを示す〕で表わされる基などをセ
ファロスポリン核の3位置換分に導入し得る化合物など
が用いられる。
ノフェニルなど)、アリール低級アルキル又はC5又は
C6 シクロアルキルを示す〕で表わされる基などをセ
ファロスポリン核の3位置換分に導入し得る化合物など
が用いられる。
また、式〔I〕および〔11〕における点線(OOR
しリリr<
COORを示している。
COORを示している。
・1に発1月において用いられる三師捷たけ三価の環・
I(リンrヒ合物としては、式(II+ )で表わされ
る部t、)、 、p7^造を化学+f?造式の基本部捷
だは一部として有する正価またはlト1曲の環状リン化
合物が用いられる。したがって、式CIn E中のPi
、−j:三舗捷たは6価のリン原子−を示す。また、式
Cn1E中のWは、酸素原子、イオウ原子捷たはNR2
を示し、w’は酸素ハi(子、イオウ原子捷たはNR”
を示す。w、、w’は同一のものを示してもよく、寸た
ト11異なるものを示してもよいが、通常Wとwlが同
一の場合有利に用いられる。R2、R3は同−捷たは相
異なって水素県子または炭(ヒ水素基を示す。R2、R
3で示される炭化水素基としては、だとえはアルキル、
シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アル
キニル、アリーノペアラルキルなどが用いられる。
I(リンrヒ合物としては、式(II+ )で表わされ
る部t、)、 、p7^造を化学+f?造式の基本部捷
だは一部として有する正価またはlト1曲の環状リン化
合物が用いられる。したがって、式CIn E中のPi
、−j:三舗捷たは6価のリン原子−を示す。また、式
Cn1E中のWは、酸素原子、イオウ原子捷たはNR2
を示し、w’は酸素ハi(子、イオウ原子捷たはNR”
を示す。w、、w’は同一のものを示してもよく、寸た
ト11異なるものを示してもよいが、通常Wとwlが同
一の場合有利に用いられる。R2、R3は同−捷たは相
異なって水素県子または炭(ヒ水素基を示す。R2、R
3で示される炭化水素基としては、だとえはアルキル、
シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アル
キニル、アリーノペアラルキルなどが用いられる。
ケニル、シクロアルケニル、アリール、アラルキ十
ル」、(とじては、たと乏、は記りR5〜RI9の説明
で述へたものなどが繁用される。アルキニル;tL!ニ
ジ−cは、直鎖状まだは分枝状の炭素数2〜60低級ア
ルキニル基がよく、たとえばエチニノへ 1−プロピニ
ル、2−プロピニルなどが繁用される。これらのアルキ
ニル基は、置換基を有していてもよく、たとえば前記R
5〜R19で述べたアルキル、アルヶニ* ルの置換基などで置換されていてもよい。
で述へたものなどが繁用される。アルキニル;tL!ニ
ジ−cは、直鎖状まだは分枝状の炭素数2〜60低級ア
ルキニル基がよく、たとえばエチニノへ 1−プロピニ
ル、2−プロピニルなどが繁用される。これらのアルキ
ニル基は、置換基を有していてもよく、たとえば前記R
5〜R19で述べたアルキル、アルヶニ* ルの置換基などで置換されていてもよい。
このような三価または三価の環状リン化合物としては、
たとえば式 または式 〔式中、Ql、Q2は同−捷だは相異なって炭化水素裁
寸だは複素環基を、またはQl、Q2が相互に結W2は
酸素原子、イオウ原子、NR28(R28は水素原子捷
たは炭化水素基)または結合手を、Q8はハロゲン原子
、炭化水素裁寸たは複素環基を、flIL Q3かハロ
ゲン原子の時はW2は結合手を示す)で表わさ?Lる基
を、またはX、、YXZのいずれか三者が結合してオキ
ツノ1(捷たは式−W3 Q4−留一(Q’は炭化水
素裁寸たは複素環基を、W3、W4は同一または]11
異なって酸素原子、イオウ原子 NR29< R29は
水糸)を、他は前記と同意義を示す)で表わされる基を
、池の記号W、Sψは前記と同意義を示す〕で表わされ
る環状リン化合物などが用いられる。式(Xnl)、(
XIIV)中、Q’、Q2n同−才たけ(目先ナッて炭
化水素基または複素環基を示す Ql、Q2で示さては
、たとえば1ft記R5〜R19で述づたごときものが
用いられる。また、QI、Q2は相互に結合して Ql
、Q2が結合している炭化水素基(〕)と共に環状炭化
水素裁寸たは複素環基を示してもよい。環状炭化水素基
としては、たとえばシクロアルケニル、アリール基など
が用いられる。こhらシクロアルケニル、アリール基と
しては、たとえばボ1記R2、R8で述べたものなどが
用いられる。通常、Ql、Q2が同一である場合、また
は相互に結合して環状炭化水素基を示す場合が有利に用
すられる。XXY。
たとえば式 または式 〔式中、Ql、Q2は同−捷だは相異なって炭化水素裁
寸だは複素環基を、またはQl、Q2が相互に結W2は
酸素原子、イオウ原子、NR28(R28は水素原子捷
たは炭化水素基)または結合手を、Q8はハロゲン原子
、炭化水素裁寸たは複素環基を、flIL Q3かハロ
ゲン原子の時はW2は結合手を示す)で表わさ?Lる基
を、またはX、、YXZのいずれか三者が結合してオキ
ツノ1(捷たは式−W3 Q4−留一(Q’は炭化水
素裁寸たは複素環基を、W3、W4は同一または]11
異なって酸素原子、イオウ原子 NR29< R29は
水糸)を、他は前記と同意義を示す)で表わされる基を
、池の記号W、Sψは前記と同意義を示す〕で表わされ
る環状リン化合物などが用いられる。式(Xnl)、(
XIIV)中、Q’、Q2n同−才たけ(目先ナッて炭
化水素基または複素環基を示す Ql、Q2で示さては
、たとえば1ft記R5〜R19で述づたごときものが
用いられる。また、QI、Q2は相互に結合して Ql
、Q2が結合している炭化水素基(〕)と共に環状炭化
水素裁寸たは複素環基を示してもよい。環状炭化水素基
としては、たとえばシクロアルケニル、アリール基など
が用いられる。こhらシクロアルケニル、アリール基と
しては、たとえばボ1記R2、R8で述べたものなどが
用いられる。通常、Ql、Q2が同一である場合、また
は相互に結合して環状炭化水素基を示す場合が有利に用
すられる。XXY。
Zは同一または相異なって式−W2− Q8CW2は酸
素原子、イオウ原子 NR2g (R2gは水素厚子捷
たけ炭化水素基を示す)または結合手を QRはハロゲ
ン原子、炭化水素基または複素d基を、似しQ8がハロ
ゲン原子の時は1■2は結合手を示す〕で表わされる基
を示す。W2で示されるNR2gのR28は、水素原子
または炭化水素基を示す。R28で示される炭fヒ水素
基、Q3で示される炭化水素基、複素d基としては、た
とえばnff記Q1、Q2で述べたものなどが用いられ
る。W實、MQ記のw、 w’と同一であっても寸たは
相異なっていてもよい。Q8で示されるノ・ロゲン原子
としては、たとえば前記R6〜R19で述べたものなど
が用いられる。捷た、X5YXZは、いずれか2C二者
たとえばXとYlYとZなどが結合してオキソノ1(寸
だは式−W3− Q’ −W’−で表わされる基を示し
?1)る。Q4は炭化水素基、複素は基を示し、このよ
うな炭(ヒ水素基、複素環基としてはたとえば前記ql
、Q2で述べたごさきものなどが用いられる。
素原子、イオウ原子 NR2g (R2gは水素厚子捷
たけ炭化水素基を示す)または結合手を QRはハロゲ
ン原子、炭化水素基または複素d基を、似しQ8がハロ
ゲン原子の時は1■2は結合手を示す〕で表わされる基
を示す。W2で示されるNR2gのR28は、水素原子
または炭化水素基を示す。R28で示される炭fヒ水素
基、Q3で示される炭化水素基、複素d基としては、た
とえばnff記Q1、Q2で述べたものなどが用いられ
る。W實、MQ記のw、 w’と同一であっても寸たは
相異なっていてもよい。Q8で示されるノ・ロゲン原子
としては、たとえば前記R6〜R19で述べたものなど
が用いられる。捷た、X5YXZは、いずれか2C二者
たとえばXとYlYとZなどが結合してオキソノ1(寸
だは式−W3− Q’ −W’−で表わされる基を示し
?1)る。Q4は炭化水素基、複素は基を示し、このよ
うな炭(ヒ水素基、複素環基としてはたとえば前記ql
、Q2で述べたごさきものなどが用いられる。
)v3、W4は同一まだは相異なったものでもよく、酸
累l夏子、イオク原子、NR2gまたは結合手を示す。
累l夏子、イオク原子、NR2gまたは結合手を示す。
ここにおいてR29は、水素原子または炭化水素基を示
す。R29で示される炭化水素基としては、たとえば市
前記R2、R8で述べたごときものなどが用いられる。
す。R29で示される炭化水素基としては、たとえば市
前記R2、R8で述べたごときものなどが用いられる。
)■3、W4は、前記のw、 w’と同一のものあるい
Wl、Ql、Q2はr)fJ記と同意義)で表わされる
基であってもよい。W5は、酸素原子、イオク原子また
はNR80を示し、R8+1は水素原子または炭化水素
基を示す。R80で示される炭化水素基としては、前記
R2、R8で述べたごときものなどが用いられる。この
ような三価またはh価の環状リン化合物のなかで、好ま
しい例としては、たとえば式 〔式中、Aはベンゼン環のii’(換基を、X ’ i
□:l、ハ「Jゲン原子、アルキtし、アルギル5ミノ
、アリ−IJオキン、アラルギル、アラルキルオキシ、
アルギル5ミノ、アリール5ミノ、アラルキル与ミノま
たはアリールへ示す〕、式 〔式中のAXX’は前記と同意義〕、または式〔式中、
AはliQ記と同意義を、Xo、Yo、Zoは同一また
は相異なってx+と同意義を示す〕で表わされる環状リ
ン化合物が用いられる。式〔X■〕、〔x■〕、〔X■
〕におけるAは、ベンゼン環の「を換基を示し、反応に
関与しないものであれば如何なるものでも伸 キルチオ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒト来 脂肪族アンル(アセプール、プロピオニルなど)、芳香
族アンル(ベンゾイル、p〜り[10ベンゾイルなど)
ナト力III イソhる。さCつに、Aはたとえばメチ
レンジオキン、 C,aS 、などであってもよく、
こ育らはたとえば塩素、吏素などのハロゲン1東子、ニ
トロ、シフ′ノ基などでjvf換されていてもよい。A
およびXl、Xo、Yo、Zoにおいて、ハロ*
− り2M(子、アルキル、アリール、アフルキル基として
は、記q R5〜RI9 で述べたごときものが用
いられる。Xl、Xo、Yo、Zo の好ましい例と
しては、たとえば塩素、央素、弗素などのハロゲン原子
、メトキシ、エトキシ、2.2.2− ) +7 りr
y aエトキシ、2−シアノエトキシ、2−メチルスル
ホニルエトキシなどの置換されていてもよい01〜c5
の低級アルキルオキシ基、フェノキシ、4−クロロフェ
ノキシ、4・−二トロフエノキシなどの16換されてい
てもよいアリールオキシ基、ベンジルオキシ、アリール
オキシ、p〜ニトロベンジルオキシ、】、1−ジメチル
アリールオキシなどのJ”ll %されていてもよいア
ラルキルオキソノ6(、アルキル、アリール基などが用
いら11る。寸た、Xo、Yo、Zo のうちの−、
どたとえばXoとYo、YoとZOは11に連結してた
とえば0−フェニレンジオギシ、丁−ルンジオキシなど
を示していてもよい。式rXV’l−7は式CXVDで
表わされる叩状リン化合物の場合にけXが一〇−の連結
基を示し仔にグイマーとなっていてもよい。環状リン化
合物の貝体例を示せkl’、例乏−ば0−フエニレンホ
スボロクロリテゴイト、0−フェニレンホスホロ70リ
テエイト、メチル0−フェニレンホスフェイト、エチル
0−フェニレンホス7エイト、n−)oピル0−フェニ
レンホス7エイト、1so−7’ロピル0−フェニレン
ホスフェイト、n−ブチル0−フェニレンホスフェイト
、イソブチル0−フェニレンホスフェイト、5ec−ブ
チルO−7エニレンホスフエイl−、シクロヘキシル0
−7エニレンホスフエイト、フェニル0−フェニレンホ
スフェイト、p−タロロフェニル0−フェニレンホスフ
ェイト、p−アセチルフェニルO−フェニレンホスフェ
イト、2−クロロエチル0−フェニレンホスフェイト、
2,2.2−トリクロrJエチル0−フェニレンホス7
エイト、エトキシカルポニルメチル0−フエニレンホス
フエイト、カルバモイルメチル フエイト、2−シアノエチル0−フェニレンホス7エイ
ト、2−−メチルスルホニルエチル0−フェニレンボス
7エイト、ベンジル0−フェニレンホスフェイト、1.
1−;メチル−2−プロペニル〇ーフエニレンホスフエ
イト、2−プロペニルローフェニレンホスフェイト、3
−メチル−2−ブテニル0−7エニレンホスフエイト、
2−チェニルメチルOーフェニレンホスフェイト、2−
フルフリルメチル0−フェニレンホスフェイト、ビス−
0−フェニレンピロホスフェイト、2−フェニル− 1
, 3. 2−ペンツジオキサホスボール−2−オキシ
ド、2−(p−クロロフェニル) − 1. 3. 2
−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−(n
−ブチル) −1. 3. 2−ベンゾジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−アニリノ−1. 3. 2−
ベンゾジオキサポスホール−2−オキシド、2−フェニ
ルチオ−1, 3. 2−ベンゾジオキサホスホ−ルー
2−オキシド、2−メトキシ−5−メチル−l,3。
Wl、Ql、Q2はr)fJ記と同意義)で表わされる
基であってもよい。W5は、酸素原子、イオク原子また
はNR80を示し、R8+1は水素原子または炭化水素
基を示す。R80で示される炭化水素基としては、前記
R2、R8で述べたごときものなどが用いられる。この
ような三価またはh価の環状リン化合物のなかで、好ま
しい例としては、たとえば式 〔式中、Aはベンゼン環のii’(換基を、X ’ i
□:l、ハ「Jゲン原子、アルキtし、アルギル5ミノ
、アリ−IJオキン、アラルギル、アラルキルオキシ、
アルギル5ミノ、アリール5ミノ、アラルキル与ミノま
たはアリールへ示す〕、式 〔式中のAXX’は前記と同意義〕、または式〔式中、
AはliQ記と同意義を、Xo、Yo、Zoは同一また
は相異なってx+と同意義を示す〕で表わされる環状リ
ン化合物が用いられる。式〔X■〕、〔x■〕、〔X■
〕におけるAは、ベンゼン環の「を換基を示し、反応に
関与しないものであれば如何なるものでも伸 キルチオ、ハロゲン原子、ニトロ、シアノ、ヒト来 脂肪族アンル(アセプール、プロピオニルなど)、芳香
族アンル(ベンゾイル、p〜り[10ベンゾイルなど)
ナト力III イソhる。さCつに、Aはたとえばメチ
レンジオキン、 C,aS 、などであってもよく、
こ育らはたとえば塩素、吏素などのハロゲン1東子、ニ
トロ、シフ′ノ基などでjvf換されていてもよい。A
およびXl、Xo、Yo、Zoにおいて、ハロ*
− り2M(子、アルキル、アリール、アフルキル基として
は、記q R5〜RI9 で述べたごときものが用
いられる。Xl、Xo、Yo、Zo の好ましい例と
しては、たとえば塩素、央素、弗素などのハロゲン原子
、メトキシ、エトキシ、2.2.2− ) +7 りr
y aエトキシ、2−シアノエトキシ、2−メチルスル
ホニルエトキシなどの置換されていてもよい01〜c5
の低級アルキルオキシ基、フェノキシ、4−クロロフェ
ノキシ、4・−二トロフエノキシなどの16換されてい
てもよいアリールオキシ基、ベンジルオキシ、アリール
オキシ、p〜ニトロベンジルオキシ、】、1−ジメチル
アリールオキシなどのJ”ll %されていてもよいア
ラルキルオキソノ6(、アルキル、アリール基などが用
いら11る。寸た、Xo、Yo、Zo のうちの−、
どたとえばXoとYo、YoとZOは11に連結してた
とえば0−フェニレンジオギシ、丁−ルンジオキシなど
を示していてもよい。式rXV’l−7は式CXVDで
表わされる叩状リン化合物の場合にけXが一〇−の連結
基を示し仔にグイマーとなっていてもよい。環状リン化
合物の貝体例を示せkl’、例乏−ば0−フエニレンホ
スボロクロリテゴイト、0−フェニレンホスホロ70リ
テエイト、メチル0−フェニレンホスフェイト、エチル
0−フェニレンホス7エイト、n−)oピル0−フェニ
レンホス7エイト、1so−7’ロピル0−フェニレン
ホスフェイト、n−ブチル0−フェニレンホスフェイト
、イソブチル0−フェニレンホスフェイト、5ec−ブ
チルO−7エニレンホスフエイl−、シクロヘキシル0
−7エニレンホスフエイト、フェニル0−フェニレンホ
スフェイト、p−タロロフェニル0−フェニレンホスフ
ェイト、p−アセチルフェニルO−フェニレンホスフェ
イト、2−クロロエチル0−フェニレンホスフェイト、
2,2.2−トリクロrJエチル0−フェニレンホス7
エイト、エトキシカルポニルメチル0−フエニレンホス
フエイト、カルバモイルメチル フエイト、2−シアノエチル0−フェニレンホス7エイ
ト、2−−メチルスルホニルエチル0−フェニレンボス
7エイト、ベンジル0−フェニレンホスフェイト、1.
1−;メチル−2−プロペニル〇ーフエニレンホスフエ
イト、2−プロペニルローフェニレンホスフェイト、3
−メチル−2−ブテニル0−7エニレンホスフエイト、
2−チェニルメチルOーフェニレンホスフェイト、2−
フルフリルメチル0−フェニレンホスフェイト、ビス−
0−フェニレンピロホスフェイト、2−フェニル− 1
, 3. 2−ペンツジオキサホスボール−2−オキシ
ド、2−(p−クロロフェニル) − 1. 3. 2
−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−(n
−ブチル) −1. 3. 2−ベンゾジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−アニリノ−1. 3. 2−
ベンゾジオキサポスホール−2−オキシド、2−フェニ
ルチオ−1, 3. 2−ベンゾジオキサホスホ−ルー
2−オキシド、2−メトキシ−5−メチル−l,3。
2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−ク
ロロ−5−エトキシカルボニル−ベンゾジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−エトキシカル
ボニル− ンゾジオキサホスホール2−オキシド、5−工トキシカ
ルボニル− ジオキザホスホールー2ーオキシド、2.5−ジクロロ
−]、 3. 2 − ペンツジオキサポスボール−2
−オキシド、4・−りロワー2−メトキン−3. 3.
2 −ベンゾジオキサホスホール2−オキシド、2−
メトキシ−4−メチル−1, 3. 2−ベンゾジオキ
サホスホ−ルー2−オキシド、2.3−す7クレンメチ
ルホスフエイト、5.6−ジメチル2−メトキシ−]、
3. 2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド
、2.2−ジヒドロ−4. 5, 6. 7−チトラク
ロロー2、 2. 2 − )ジメトキシ−1. 3.
2−ベンゾジオキサホスボール、2.2−ジヒドロ−
4=, 5, n, 7−チトラクロロー2. 2.
2−トリフエノキシ−]、 3. 2−ベンゾジオキサ
ホスホ−/L/,2.2−ジヒドロ−2.2−エチレン
ジオキシ−2−メトギン−1, 3,2−ベンゾジオキ
サホスホール、2.2−ジヒドr7〜2−ベンジル−2
.2−ジメトキシ−1. 3. 2−ベンゾジオキサホ
スホール、2.2−ジヒドロ−4.5−ベンゾ−2。
ロロ−5−エトキシカルボニル−ベンゾジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−エトキシカル
ボニル− ンゾジオキサホスホール2−オキシド、5−工トキシカ
ルボニル− ジオキザホスホールー2ーオキシド、2.5−ジクロロ
−]、 3. 2 − ペンツジオキサポスボール−2
−オキシド、4・−りロワー2−メトキン−3. 3.
2 −ベンゾジオキサホスホール2−オキシド、2−
メトキシ−4−メチル−1, 3. 2−ベンゾジオキ
サホスホ−ルー2−オキシド、2.3−す7クレンメチ
ルホスフエイト、5.6−ジメチル2−メトキシ−]、
3. 2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド
、2.2−ジヒドロ−4. 5, 6. 7−チトラク
ロロー2、 2. 2 − )ジメトキシ−1. 3.
2−ベンゾジオキサホスボール、2.2−ジヒドロ−
4=, 5, n, 7−チトラクロロー2. 2.
2−トリフエノキシ−]、 3. 2−ベンゾジオキサ
ホスホ−/L/,2.2−ジヒドロ−2.2−エチレン
ジオキシ−2−メトギン−1, 3,2−ベンゾジオキ
サホスホール、2.2−ジヒドr7〜2−ベンジル−2
.2−ジメトキシ−1. 3. 2−ベンゾジオキサホ
スホール、2.2−ジヒドロ−4.5−ベンゾ−2。
2、 2 − )リメトキシーシ3.2〜ベンゾジオキ
サホスホール、2,2−ジヒドロ−2.2.2−トリフ
エノキシ−1. 3. 2−ベンゾジオキサホスホール
、2.2−ジヒドロ−2. 2 − ( 0−フェニレ
ンジオキシ)−2−7エ/キシ−1. 3. 2−ベン
ゾジオキサホスホール、2−クロロ−2,2−ジヒドロ
−2.2−(0−フェニレンジオキシ)−1.3.2−
ペンツジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2〜メ
トキシ−2、 2 − ( 0−フェニレンジオキシ)
− 1. 3. 2−ベンゾジオキサホスホール、2
.2−ジヒドロ−2.2。
サホスホール、2,2−ジヒドロ−2.2.2−トリフ
エノキシ−1. 3. 2−ベンゾジオキサホスホール
、2.2−ジヒドロ−2. 2 − ( 0−フェニレ
ンジオキシ)−2−7エ/キシ−1. 3. 2−ベン
ゾジオキサホスホール、2−クロロ−2,2−ジヒドロ
−2.2−(0−フェニレンジオキシ)−1.3.2−
ペンツジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2〜メ
トキシ−2、 2 − ( 0−フェニレンジオキシ)
− 1. 3. 2−ベンゾジオキサホスホール、2
.2−ジヒドロ−2.2。
2−トリクロロ−1, 3. 2−ベンゾジオキサホス
ホ− tly, 0, In−フェナンスレンジオキ
シトリメトキンホスホラス、0−フェニレンホスホロク
ロリグイト、0−フェニレンホスホロプロミグイト、〇
ーフエニレンホスホロフロリダイト、メチル0〜フエニ
レンホスフアイト、n−ブチル0−フェニしノンホスフ
ァイト、メトキシカルボニル〆ヂ!し〇ーフェニレンホ
スファイト、フェニル0−フにレンホスファイト、p−
りr:1r7(tたはp−二1・口)フェニルOーフェ
ニレンホスファイl−、2−フェニル−1. 3. 2
−ベンゾジオキサポスボールビス0−フェニレンピロホ
スファイト、2−メトキシ−5−メチル−1, 3.
2−ベンゾジオキサホスホール、5−アセチル−2−フ
ェノキシ−i, 3. 2−ベンゾジオキサホスホール
、9.10−7エナンスレンホスホロクロリグイト、2
−クロロ−4−メチル− 1. 3. 2−ベンゾジオ
キサホスホール、5−エトキシカルボニル− ンツジオキサホスホールへ 2−クロロ−2−チオキソ
−1, 3. 2−ベンゾジオキサホスホール 2−フ
ェノキシ−2−オキソ−1. 3. 2−ペンゾジアザ
ホスホーノへ 2−フェノキシ−1. 3. 2−ペン
ゾオキサアヂホスホーノへ 2.2−ジヒドロ−2−オ
キソ− 2−メトキシ−4,5−ジメチル−1.3,’
2ージオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−2−りr7r7−4・、5−ジメチル−]、3.
2−ジオキザホスホール、2,2−ジヒドロ−2−オギ
ソー2−(l−イミダゾリル) − 4.、 5−ジメ
ヂルー】、3。
ホ− tly, 0, In−フェナンスレンジオキ
シトリメトキンホスホラス、0−フェニレンホスホロク
ロリグイト、0−フェニレンホスホロプロミグイト、〇
ーフエニレンホスホロフロリダイト、メチル0〜フエニ
レンホスフアイト、n−ブチル0−フェニしノンホスフ
ァイト、メトキシカルボニル〆ヂ!し〇ーフェニレンホ
スファイト、フェニル0−フにレンホスファイト、p−
りr:1r7(tたはp−二1・口)フェニルOーフェ
ニレンホスファイl−、2−フェニル−1. 3. 2
−ベンゾジオキサポスボールビス0−フェニレンピロホ
スファイト、2−メトキシ−5−メチル−1, 3.
2−ベンゾジオキサホスホール、5−アセチル−2−フ
ェノキシ−i, 3. 2−ベンゾジオキサホスホール
、9.10−7エナンスレンホスホロクロリグイト、2
−クロロ−4−メチル− 1. 3. 2−ベンゾジオ
キサホスホール、5−エトキシカルボニル− ンツジオキサホスホールへ 2−クロロ−2−チオキソ
−1, 3. 2−ベンゾジオキサホスホール 2−フ
ェノキシ−2−オキソ−1. 3. 2−ペンゾジアザ
ホスホーノへ 2−フェノキシ−1. 3. 2−ペン
ゾオキサアヂホスホーノへ 2.2−ジヒドロ−2−オ
キソ− 2−メトキシ−4,5−ジメチル−1.3,’
2ージオキサホスホール、2,2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−2−りr7r7−4・、5−ジメチル−]、3.
2−ジオキザホスホール、2,2−ジヒドロ−2−オギ
ソー2−(l−イミダゾリル) − 4.、 5−ジメ
ヂルー】、3。
2−ジオギザホスホール、2.2−ジヒドロ−2,2−
エチレンジオキシ−2−メトキシ−4,,5−ジメーf
−ルー]、 3.2−ジオキサホスホール、2.2−ジ
ヒドロ−2,2−ジメトキシ−2−フェノキシ−4,5
−ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2
−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキン−・1・、5−
ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−
ジヒドロ−2,2,2−トリフェノキン−4,5−ジメ
チル−1゜3.2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒ
ドロ−2゜2、2− )リエトキシー4.5−ジフェニ
ル−1,3,2−ジオキサホスホ−/l/、、2.2−
ジヒドロ2.2.2−トリメトキシ−4,5−ジフェニ
ル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−2−メトキシ−4,5−ジフェニル−
1,8,2−ジオキサ小スホーノペ 2.2−ジヒドロ
−2,2,2−トリメトキシ−1、3,2−ジオキサホ
スホール、2.2−ジヒドロ−(以下余白) 2、2.2− )リフトキシ−4−フェニル−1,3,
2−ジオキサホスホール、2.2−ジ1ニドロー2.2
.2−トリメトキシ−4−メチル−1,3,2−ジオキ
サホスホール、2.2−ジヒドロ−2,2,2−トリメ
トキシ−4−メチル−5−フェニルカルバモイル−1゜
3.2−ジオキサホスホールへ 2.2.4.5.6.
’7−へキサヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−]
、 3.2−ベンゾジオキサホスホール、2.2’−オ
キシビス(4,,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ−1
,3,2−ジオキサホスホール)、2.2′−オキシビ
ス(4,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ−1,3,2
−ジオキサホスホ−ルー2−オキシド)などが用いられ
る。これらの環状リン化合物は市販されているかあるい
は自体公知の化合物である( R,S、 Edmund
son等C11emistrC11e Industr
y 1770〜l 778頁、 1962年:に、 D
arellBerlin等Tetrahedron 1
964.年20巻 2709〜2716頁; F、 R
am1rez等”jetrahedron 1968年
24、巻 5041〜5051頁; L、 Ansch
iitz ’!’ Annalen1927年454巻
109〜120頁; T、 Koizumi等Tetr
abedron Letters l 973年476
3〜4766頁;P、 C,Crofts等J、 Ch
em、 Soc、、 1958年4250〜4.254
頁; Marianne M、 C,F、 Ca5te
lijins等J。
エチレンジオキシ−2−メトキシ−4,,5−ジメーf
−ルー]、 3.2−ジオキサホスホール、2.2−ジ
ヒドロ−2,2−ジメトキシ−2−フェノキシ−4,5
−ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2
−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキン−・1・、5−
ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−
ジヒドロ−2,2,2−トリフェノキン−4,5−ジメ
チル−1゜3.2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒ
ドロ−2゜2、2− )リエトキシー4.5−ジフェニ
ル−1,3,2−ジオキサホスホ−/l/、、2.2−
ジヒドロ2.2.2−トリメトキシ−4,5−ジフェニ
ル−1,3,2−ジオキサホスホール、2,2−ジヒド
ロ−2−オキソ−2−メトキシ−4,5−ジフェニル−
1,8,2−ジオキサ小スホーノペ 2.2−ジヒドロ
−2,2,2−トリメトキシ−1、3,2−ジオキサホ
スホール、2.2−ジヒドロ−(以下余白) 2、2.2− )リフトキシ−4−フェニル−1,3,
2−ジオキサホスホール、2.2−ジ1ニドロー2.2
.2−トリメトキシ−4−メチル−1,3,2−ジオキ
サホスホール、2.2−ジヒドロ−2,2,2−トリメ
トキシ−4−メチル−5−フェニルカルバモイル−1゜
3.2−ジオキサホスホールへ 2.2.4.5.6.
’7−へキサヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−]
、 3.2−ベンゾジオキサホスホール、2.2’−オ
キシビス(4,,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ−1
,3,2−ジオキサホスホール)、2.2′−オキシビ
ス(4,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ−1,3,2
−ジオキサホスホ−ルー2−オキシド)などが用いられ
る。これらの環状リン化合物は市販されているかあるい
は自体公知の化合物である( R,S、 Edmund
son等C11emistrC11e Industr
y 1770〜l 778頁、 1962年:に、 D
arellBerlin等Tetrahedron 1
964.年20巻 2709〜2716頁; F、 R
am1rez等”jetrahedron 1968年
24、巻 5041〜5051頁; L、 Ansch
iitz ’!’ Annalen1927年454巻
109〜120頁; T、 Koizumi等Tetr
abedron Letters l 973年476
3〜4766頁;P、 C,Crofts等J、 Ch
em、 Soc、、 1958年4250〜4.254
頁; Marianne M、 C,F、 Ca5te
lijins等J。
Org、 Chem、 1981年46巻 44−53
頁など〕が、又は公知の方法に準じて製造することがで
き、精製したもの或いは反肥により生成したちのビその
まま本反応に用いることができる。
頁など〕が、又は公知の方法に準じて製造することがで
き、精製したもの或いは反肥により生成したちのビその
まま本反応に用いることができる。
木発IT1においては、前記のごとき三価またけ三価の
環状リン化合物の代わりに、部分構造〔■〕を有する化
合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リンまだは
五ハロゲン化リンとの反応物を用いてもよい。部分構造
〔■〕を有する化合物としては、たとえば式 〔式中の記号は10記と同意義〕で表わされる化合物な
どが用いられる。好捷しい例としては、たとえば式 〔式中の記りは前記と同意義〕で表わされる化合物など
が用いられる。具体例としては、だとえはカテコール、
3.4−ジヒドロキシ安息香酸エヂルエステル、2.3
−’;ヒト′ロキシナフクレン、3゜4−ジヒドロキシ
トルエン、2.3−ジヒドロキシトルエン、3.4・−
ジヒドロキジクロルベンゼン、0−アミノフェノールな
どが用いられる。オキシハロゲン化リン、王ハロゲン化
リン、五ハロゲン化リンのハロゲンとしては、たとえば
塩素、9素などが用いられる。具体的には、たとえばオ
キシ塩化リン、三塩化リン、7L塩化リン、ミリ化リン
、オキシ臭化リンなどが用いられる。部分構造(IDを
有する化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リ
ンまたは五ハロゲン化リンとの反応物としては、たとえ
ば両者を反応させて得られる反応混合物などが用いられ
る。通常、部分構造〔IV ’Jを有する化合物1モル
に対しオキシハロゲン化リン、まだは三ハロゲン化リン
を紛当モル喰、または五ハロゲン化リンを約に〜1.0
当帛モルを反応させる。反応は溶媒中で行なうのがよく
、このような溶媒としてはたとえば、塩化メチレン、1
.2−シフ「ノrフエタン、アセトニトリル、酢eニー
f−IL’、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテ
ル、ベンゼン、ブロモベンゼンなどが用いられる。特に
、たとえば塩化メチレン、アセトニトリル、テトラヒド
ロフランなどが繁用される。反応は、塩基の(7(■−
下に行なうと好結咀が得られる場合がある。
環状リン化合物の代わりに、部分構造〔■〕を有する化
合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リンまだは
五ハロゲン化リンとの反応物を用いてもよい。部分構造
〔■〕を有する化合物としては、たとえば式 〔式中の記号は10記と同意義〕で表わされる化合物な
どが用いられる。好捷しい例としては、たとえば式 〔式中の記りは前記と同意義〕で表わされる化合物など
が用いられる。具体例としては、だとえはカテコール、
3.4−ジヒドロキシ安息香酸エヂルエステル、2.3
−’;ヒト′ロキシナフクレン、3゜4−ジヒドロキシ
トルエン、2.3−ジヒドロキシトルエン、3.4・−
ジヒドロキジクロルベンゼン、0−アミノフェノールな
どが用いられる。オキシハロゲン化リン、王ハロゲン化
リン、五ハロゲン化リンのハロゲンとしては、たとえば
塩素、9素などが用いられる。具体的には、たとえばオ
キシ塩化リン、三塩化リン、7L塩化リン、ミリ化リン
、オキシ臭化リンなどが用いられる。部分構造(IDを
有する化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リ
ンまたは五ハロゲン化リンとの反応物としては、たとえ
ば両者を反応させて得られる反応混合物などが用いられ
る。通常、部分構造〔IV ’Jを有する化合物1モル
に対しオキシハロゲン化リン、まだは三ハロゲン化リン
を紛当モル喰、または五ハロゲン化リンを約に〜1.0
当帛モルを反応させる。反応は溶媒中で行なうのがよく
、このような溶媒としてはたとえば、塩化メチレン、1
.2−シフ「ノrフエタン、アセトニトリル、酢eニー
f−IL’、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテ
ル、ベンゼン、ブロモベンゼンなどが用いられる。特に
、たとえば塩化メチレン、アセトニトリル、テトラヒド
ロフランなどが繁用される。反応は、塩基の(7(■−
下に行なうと好結咀が得られる場合がある。
■いられる塩基は、たとえばトリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジイソブチルア
ミン、ジ−n−ブチルアミンなどであり、好1しくけた
とえばトリエチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ジ
−n−ブチルアミンなどである。通常、−50〜100
°C好捷しくは一20〜50°Cで反応を行なう。反応
時間は5〜120分間好ましくは10〜60分間である
が、[1的の反応物が得られる限り反応温度、時間は限
定さねない。jIIられる反応物は、通常甲離すること
なくそのま棟木反応の原料として用いられる。
チルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジイソブチルア
ミン、ジ−n−ブチルアミンなどであり、好1しくけた
とえばトリエチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ジ
−n−ブチルアミンなどである。通常、−50〜100
°C好捷しくは一20〜50°Cで反応を行なう。反応
時間は5〜120分間好ましくは10〜60分間である
が、[1的の反応物が得られる限り反応温度、時間は限
定さねない。jIIられる反応物は、通常甲離すること
なくそのま棟木反応の原料として用いられる。
しかしながら、必I某に応じて未反応の原料即ち部分+
7173aCIV’)を有する化合物、オキシ・・ロゲ
ン化リン、三ノ・ロゲン化リンまたはhノ・ロゲン化リ
ンまだは反応で生ずるハロゲン化水素ノはその塩J11
との塩を反応混合物より除去した後に、発明11111
17)原料として供給することもできる1、 なお、部分構造(lV’llを自する化合物は市販のも
のであるか、あるいは公知の方法あるいはそ11にrl
l−する方法によって製造されることができる3、発明
[月方法においては、化合物〔11〕と求核性化合物と
(1)部分構造Cu1l)を有する三価まだ1は11価
の環状リン化合物、または(2)部分構造〔■〕を有す
る化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リンま
だは万ハロゲン化リンとの反応物(すtに“反応物“と
称する場合もある)を有機溶媒中で反応させることによ
り、目的物〔■〕を製造することができる。
7173aCIV’)を有する化合物、オキシ・・ロゲ
ン化リン、三ノ・ロゲン化リンまたはhノ・ロゲン化リ
ンまだは反応で生ずるハロゲン化水素ノはその塩J11
との塩を反応混合物より除去した後に、発明11111
17)原料として供給することもできる1、 なお、部分構造(lV’llを自する化合物は市販のも
のであるか、あるいは公知の方法あるいはそ11にrl
l−する方法によって製造されることができる3、発明
[月方法においては、化合物〔11〕と求核性化合物と
(1)部分構造Cu1l)を有する三価まだ1は11価
の環状リン化合物、または(2)部分構造〔■〕を有す
る化合物とオキシハロゲン化リン、三ハロゲン化リンま
だは万ハロゲン化リンとの反応物(すtに“反応物“と
称する場合もある)を有機溶媒中で反応させることによ
り、目的物〔■〕を製造することができる。
化合物〔l〕は、R,R’に含まれているカルボキシル
基、スルホ基などの酸性基を遊阿トのitで用いてもよ
いが、たとえばナトリウム、カリウム等の無71L性カ
チオン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルアミン、
ジ−n−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリ
ジン、コリジン、2.6−ルチジンなどの何機アミン等
との塩を形成させて用いてもよい。寸だ、R,R’に塩
基性基が含まれている場合には、たとえば酢酸、泗石酸
、メタンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸
、す1fヒ水素酸、硫酸、リン酸など無機酸との塩など
を形成させて用いてもよい。求核性化合物は、種類に応
じ塩基性塩の形あるいは酸性塩の形をとることができ、
その塩基性塩および酸性塩のいずれも発明E月の原料に
含捷れる。このような塩基性塩、酸性塩としては、たと
えば化合物(1)において述べた様な塩基性における塩
、酸性基における塩などが用いられる。
基、スルホ基などの酸性基を遊阿トのitで用いてもよ
いが、たとえばナトリウム、カリウム等の無71L性カ
チオン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルアミン、
ジ−n−ブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリ
ジン、コリジン、2.6−ルチジンなどの何機アミン等
との塩を形成させて用いてもよい。寸だ、R,R’に塩
基性基が含まれている場合には、たとえば酢酸、泗石酸
、メタンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸
、す1fヒ水素酸、硫酸、リン酸など無機酸との塩など
を形成させて用いてもよい。求核性化合物は、種類に応
じ塩基性塩の形あるいは酸性塩の形をとることができ、
その塩基性塩および酸性塩のいずれも発明E月の原料に
含捷れる。このような塩基性塩、酸性塩としては、たと
えば化合物(1)において述べた様な塩基性における塩
、酸性基における塩などが用いられる。
化合物〔I〕と水は性化合物と(1)部分構造(III
)を有する正価まだはh価の環状リン化合物または(2
)部分構造CIV)を有する化合物とオキシハロゲン化
リン、三ハロゲン化リン1だはHハロゲン化リンとの反
応物と有機溶媒はどのような順序で混合してもよい。化
合物[11)と求核性化合物と環状リン化合物と有機溶
媒を混合する場合には、通常rヒ合物〔[l〕と求核性
化合物をイーJ機溶媒中混合しついで環状リン化合物又
はその何機溶媒溶液を添加するか、環状リン化合物と求
核性化合物を有機溶媒中混合しついで化合物〔■〕又は
その有機溶媒耐液を添加して行なわれる。また、部分構
造[■〕を有する化合物とオキシハロゲン化リン、三ハ
ロゲン化リンまだは五ハロゲン化リンの反応物を用いる
場合も、環状リン化合物の場合と同様にして行なわれる
。混合比率としては、化合物〔旧に対し求核性化合物の
モル比が1. O倍以1−がよく、よ抄好捷しくは1.
0−10.0倍であり環状リン化合物のモル比はlO倍
以−1−がよく、より好寸しくけ1.0〜60倍である
。部分構造(IT)を有する化合物とオキシハロゲン化
リン、三ハロゲン化リンまたは71ハロゲン化リンの反
応物を用いる場合の混合比率としては、化合物〔I〕に
対し求核性化合物のモル比が1.0倍以上がよく、より
好ましくけ1.0〜10.0倍であり、部分構造〔■〕
を有する化合物1.0〜6.0倍、オキシハロゲン化リ
ンまたけ三ハロゲン化リン1.0〜60倍、hハロゲン
化リンに〜2.0倍がよい。
)を有する正価まだはh価の環状リン化合物または(2
)部分構造CIV)を有する化合物とオキシハロゲン化
リン、三ハロゲン化リン1だはHハロゲン化リンとの反
応物と有機溶媒はどのような順序で混合してもよい。化
合物[11)と求核性化合物と環状リン化合物と有機溶
媒を混合する場合には、通常rヒ合物〔[l〕と求核性
化合物をイーJ機溶媒中混合しついで環状リン化合物又
はその何機溶媒溶液を添加するか、環状リン化合物と求
核性化合物を有機溶媒中混合しついで化合物〔■〕又は
その有機溶媒耐液を添加して行なわれる。また、部分構
造[■〕を有する化合物とオキシハロゲン化リン、三ハ
ロゲン化リンまだは五ハロゲン化リンの反応物を用いる
場合も、環状リン化合物の場合と同様にして行なわれる
。混合比率としては、化合物〔旧に対し求核性化合物の
モル比が1. O倍以1−がよく、よ抄好捷しくは1.
0−10.0倍であり環状リン化合物のモル比はlO倍
以−1−がよく、より好寸しくけ1.0〜60倍である
。部分構造(IT)を有する化合物とオキシハロゲン化
リン、三ハロゲン化リンまたは71ハロゲン化リンの反
応物を用いる場合の混合比率としては、化合物〔I〕に
対し求核性化合物のモル比が1.0倍以上がよく、より
好ましくけ1.0〜10.0倍であり、部分構造〔■〕
を有する化合物1.0〜6.0倍、オキシハロゲン化リ
ンまたけ三ハロゲン化リン1.0〜60倍、hハロゲン
化リンに〜2.0倍がよい。
未反応に用いられる有機溶媒は、反応に関’ft。
ない溶媒てあればよく、たとえばホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類
、クロロエタン、インブチルクロリド、メチレンクロリ
ド、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭
素、1.l、1−1リクロロエタン、]、1.2−1−
リクロ口エタン、1.1.2.2−テI−ジクロロエタ
ン、フルオロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、
氷酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、炭
酸エチレンなどのエステル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類、ニトロ
メタン、ニトロエタンナトのニトロ化合物類、アセトン
、メチルエチルケトンナト(7)ケトン類、ベンゼン、
トルエン、メシチレンなどの炭化水素類などが用いられ
、これらは混合して用いてもよい。とりわけ、たとえば
塩化メチレン、アセトニトリル、ホルムアミド、ホルム
アミドとアセトニトリルの混合溶媒、塩化メチレンとア
セトニトリルまたはテトラヒドロフランの混合溶液など
の有機溶媒中で反応させると好結果が得られる。部分構
造[]V)を有する化合物とオキンハロゲン化リン、三
ハロゲン化リンまたは五ハロゲン化リン、との反応物乞
用いる場合には、その物自体に有機溶媒ン兼ねさせるこ
ともできる。用いら肚る原料、有機溶媒の種類によって
は、塩基の添加により反応を有利に進めることができる
。このような塩基は、Ii;i $;[と有機溶媒の混
合時に適宜添加下ることができるが、通常化合物[:n
11.たけ求核性化合物と共に有機溶媒に混合する。塩
基の添加量は、通常化合物〔■〕に対して0〜5倍モル
はが好ましい。このような塩基としては、反応を促進す
るかあるいは反応で生成する酸を中和するかあるいは原
料を溶解しやすくする等のもので反応に影響を写−えな
いものであれば何でもよく、例えばトリエチルアミン、
トリーn−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイ
ソブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジン、
2.6−ルチジンなどが繁用される1、14応の温度、
時間は用いられる化合物〔■〕、環状リン化合物または
反応物、求核性化合物、有機溶媒、塩基などの量、種類
などによって異なるが、−60℃の低温で瞬時反応が終
了する場合もあるが、通常−80〜50℃で数秒から十
数時間の緩和な条件下で反応が終了する。とりわけ、−
40〜40°Cで5〜120分間反応させるのが好まし
い。旧し、一般には、反応温度を上げれば反応時間は短
かくてすむが、副反応等を抑えるために低温で行なわれ
る。かくして得られたセファロスポリン化合物CI)は
、公知の手段、たとえば溶媒抽出、液性変換、転溶、塩
析、晶出、再結晶、クロマトグラフィーなどによって単
離精製することができる。捷た R1で示されるアシル
基の種類によっては、〔I〕を反応混合液よりi41離
すること々く、反応混合液にジメチルアニリン、トリメ
チルシリルクロリド、五塩化リン、メタノール、水を順
次加え公知の方法で7位アシル基の切断を行い抗菌物質
製造の有用な中間体である7−アミノセフェム化合物(
化合物〔■〕においてR1が水素原子を示すもの)に導
くこともできる。、(!i1”l fまた「1的物(i
が遊離のものである場合には、常υくに従って塩にして
もよく、このような塩も式〔■〕の目的物に包含される
。1」釣鉤〔I〕の塩としては、原料化合物(11)で
述べた様なものであって、たとえばリチウム、ナトリウ
ム、カリタム、マグネシウムなどのアルカリ金属、カル
シウムなどのアルカリ土類金層、ジ−n−ブチルアミン
、シンクロヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、ジー
tert−ブチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン
、2,6−ルチジン、トリブチルアミンなどのアミン類
と酸性基における塩、塩酸、硫酸などの鉱酸、シュク酸
、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機
酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸などのスルホン酸
、メチルリン酸、ジメチル燐酸、ジフェニル燐酸などの
燐酸、フェニルホスホン酸などのホスホン酸と塩基性基
における塩などが用いられる。かくしてfr′Iられる
目的物〔I〕は、それ自体抗菌性物質として用いるもの
もあるが、より優れた抗α]性物質を製造するための原
料化合物としても有用なものもある。例えばR1として
5−7タルイミドー5−カルボキシバレル基を有するセ
ファロスポリン化合物〔I〕をそれ自体公知の方法で7
位アシル基を切断し、(2−アミノデアゾール−4−イ
ル)酢酸、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキンイミノ酢酸又は七Jtらの反応性誘導体と
反1.t:させ7−(2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)アセタミド3体、7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセタミド3
体に導ひくことができ、たとえば抗生物質?−42−(
2−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕−3−
(1−(2−N、N−ジメチルアミノエテル) −11
−1−テトラゾール−5−イル〕チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸、7−(2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−メトキシイミノアセタミド)−
1−(1−メナルーIH−テトラゾールー5−イル)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ン製造するこ
ともできる。
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類
、クロロエタン、インブチルクロリド、メチレンクロリ
ド、クロロホルム、1.2−ジクロロエタン、四塩化炭
素、1.l、1−1リクロロエタン、]、1.2−1−
リクロ口エタン、1.1.2.2−テI−ジクロロエタ
ン、フルオロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル
、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、
氷酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、炭
酸エチレンなどのエステル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類、ニトロ
メタン、ニトロエタンナトのニトロ化合物類、アセトン
、メチルエチルケトンナト(7)ケトン類、ベンゼン、
トルエン、メシチレンなどの炭化水素類などが用いられ
、これらは混合して用いてもよい。とりわけ、たとえば
塩化メチレン、アセトニトリル、ホルムアミド、ホルム
アミドとアセトニトリルの混合溶媒、塩化メチレンとア
セトニトリルまたはテトラヒドロフランの混合溶液など
の有機溶媒中で反応させると好結果が得られる。部分構
造[]V)を有する化合物とオキンハロゲン化リン、三
ハロゲン化リンまたは五ハロゲン化リン、との反応物乞
用いる場合には、その物自体に有機溶媒ン兼ねさせるこ
ともできる。用いら肚る原料、有機溶媒の種類によって
は、塩基の添加により反応を有利に進めることができる
。このような塩基は、Ii;i $;[と有機溶媒の混
合時に適宜添加下ることができるが、通常化合物[:n
11.たけ求核性化合物と共に有機溶媒に混合する。塩
基の添加量は、通常化合物〔■〕に対して0〜5倍モル
はが好ましい。このような塩基としては、反応を促進す
るかあるいは反応で生成する酸を中和するかあるいは原
料を溶解しやすくする等のもので反応に影響を写−えな
いものであれば何でもよく、例えばトリエチルアミン、
トリーn−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイ
ソブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピリジン、
2.6−ルチジンなどが繁用される1、14応の温度、
時間は用いられる化合物〔■〕、環状リン化合物または
反応物、求核性化合物、有機溶媒、塩基などの量、種類
などによって異なるが、−60℃の低温で瞬時反応が終
了する場合もあるが、通常−80〜50℃で数秒から十
数時間の緩和な条件下で反応が終了する。とりわけ、−
40〜40°Cで5〜120分間反応させるのが好まし
い。旧し、一般には、反応温度を上げれば反応時間は短
かくてすむが、副反応等を抑えるために低温で行なわれ
る。かくして得られたセファロスポリン化合物CI)は
、公知の手段、たとえば溶媒抽出、液性変換、転溶、塩
析、晶出、再結晶、クロマトグラフィーなどによって単
離精製することができる。捷た R1で示されるアシル
基の種類によっては、〔I〕を反応混合液よりi41離
すること々く、反応混合液にジメチルアニリン、トリメ
チルシリルクロリド、五塩化リン、メタノール、水を順
次加え公知の方法で7位アシル基の切断を行い抗菌物質
製造の有用な中間体である7−アミノセフェム化合物(
化合物〔■〕においてR1が水素原子を示すもの)に導
くこともできる。、(!i1”l fまた「1的物(i
が遊離のものである場合には、常υくに従って塩にして
もよく、このような塩も式〔■〕の目的物に包含される
。1」釣鉤〔I〕の塩としては、原料化合物(11)で
述べた様なものであって、たとえばリチウム、ナトリウ
ム、カリタム、マグネシウムなどのアルカリ金属、カル
シウムなどのアルカリ土類金層、ジ−n−ブチルアミン
、シンクロヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、ジー
tert−ブチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン
、2,6−ルチジン、トリブチルアミンなどのアミン類
と酸性基における塩、塩酸、硫酸などの鉱酸、シュク酸
、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機
酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレ
ンスルホン酸、カンファースルホン酸などのスルホン酸
、メチルリン酸、ジメチル燐酸、ジフェニル燐酸などの
燐酸、フェニルホスホン酸などのホスホン酸と塩基性基
における塩などが用いられる。かくしてfr′Iられる
目的物〔I〕は、それ自体抗菌性物質として用いるもの
もあるが、より優れた抗α]性物質を製造するための原
料化合物としても有用なものもある。例えばR1として
5−7タルイミドー5−カルボキシバレル基を有するセ
ファロスポリン化合物〔I〕をそれ自体公知の方法で7
位アシル基を切断し、(2−アミノデアゾール−4−イ
ル)酢酸、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−メトキンイミノ酢酸又は七Jtらの反応性誘導体と
反1.t:させ7−(2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)アセタミド3体、7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−メトキシイミノアセタミド3
体に導ひくことができ、たとえば抗生物質?−42−(
2−アミノチアゾール−4−イル)アセタミド〕−3−
(1−(2−N、N−ジメチルアミノエテル) −11
−1−テトラゾール−5−イル〕チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸、7−(2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−メトキシイミノアセタミド)−
1−(1−メナルーIH−テトラゾールー5−イル)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ン製造するこ
ともできる。
実施例1
5−メルカプト−1−メチル−I H−テトラソール0
.70gに塩化メチ1冫80 ロクロリゾエイト1.14gを加える。この溶液を一6
0°Cにまで冷却してから、7β−(D−5−カルボキ
シ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロキン
メチル−3−セエフエムー4ーカルボン酸のジトリエチ
ルアミン塩2.12gを塩化メチレノ10m1に溶かし
た溶液を一度に加える。その後一旦15℃にまで昇温し
てから再び冷却し、テトラヒドロ7ラン( T H F
)29 mlと水20m1を加えて分液する。水層を
T H F 5 mlと塩化メチレン10m1で抽出し
、有機層を合せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧にて約10m1にまで濃縮してからエーテル100m
1に加え、析出する沈殿を沖取する。エーテルで洗って
から、真空乾燥して、7β−(D−5−カルボキシ−5
−フタルイミドバレルアミド)−8−、(1−メチル−
I Hーテトラゾール− 5−イル)チオメチル−3−
セエフエムー4ーカルボン酸1. 8 :93(収率7
3.7チ)を得た。
.70gに塩化メチ1冫80 ロクロリゾエイト1.14gを加える。この溶液を一6
0°Cにまで冷却してから、7β−(D−5−カルボキ
シ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロキン
メチル−3−セエフエムー4ーカルボン酸のジトリエチ
ルアミン塩2.12gを塩化メチレノ10m1に溶かし
た溶液を一度に加える。その後一旦15℃にまで昇温し
てから再び冷却し、テトラヒドロ7ラン( T H F
)29 mlと水20m1を加えて分液する。水層を
T H F 5 mlと塩化メチレン10m1で抽出し
、有機層を合せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減
圧にて約10m1にまで濃縮してからエーテル100m
1に加え、析出する沈殿を沖取する。エーテルで洗って
から、真空乾燥して、7β−(D−5−カルボキシ−5
−フタルイミドバレルアミド)−8−、(1−メチル−
I Hーテトラゾール− 5−イル)チオメチル−3−
セエフエムー4ーカルボン酸1. 8 :93(収率7
3.7チ)を得た。
IR(KBr)ffi’;3841)、2950.17
75,1715.1584.)394NMR ( DM
S O −d a ) ;δ1.4 0〜2.4 0
( 6 H 、 m 、 − (CL’)a−) 、
362(2H, br 、 2−CHs) 8.94
( 3 H 、 s 、>ll−CHl)。
75,1715.1584.)394NMR ( DM
S O −d a ) ;δ1.4 0〜2.4 0
( 6 H 、 m 、 − (CL’)a−) 、
362(2H, br 、 2−CHs) 8.94
( 3 H 、 s 、>ll−CHl)。
4、30 (2I(、ABq 、 J=t 5Hz 、
8−CH2) 、 4.78 (IH。
8−CH2) 、 4.78 (IH。
t 、 J=8Hz 、 −CH−L 5.(1 1(
IH 、d 、 J =5Hz 、 6 −■ 実施例2 l−(2−ジメチルアミノエチル)−5−メルカプト−
IH−テトラゾール1.04gに塩化メチレン60m1
とトリエチルアミン061gを加え、室温で0−フェニ
レンホスホロクロリゾエイト1、 1 4 yを加える
。この溶液を一60℃にまで冷却してから、7β−(
1)−5・−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミ
ド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4ーカ
ルボン酸のジトリエチルアミン塩212gを塩化メチレ
ン10mLに溶かした溶液を一度に加える1,その後1
5’Cに11−C昇温してから、析出した沈り役を江j
取し、塩化メチレンで洗う。得られた固形物を塩化メチ
レン30m1に懸濁し、水冷下トリエチルアミン0.7
19を加えて30分攪拌し、不溶物を濾過して除く。ρ
液にINのエタノール塩酸10m1およびエーテル20
m1を0°C以下で滴下する。析出した沈殿を戸数し、
塩化メチレンで洗ってから真空乾燥して、7β−(D−
5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8
−4:1−( 2−ジメチルアミノエチル)−1H−テ
トラゾール−5−イルコチオメチル)−3−セエフエム
ー4ーカルボン酸の塩酸塩1.51g(収率72.41
+)を得た。
IH 、d 、 J =5Hz 、 6 −■ 実施例2 l−(2−ジメチルアミノエチル)−5−メルカプト−
IH−テトラゾール1.04gに塩化メチレン60m1
とトリエチルアミン061gを加え、室温で0−フェニ
レンホスホロクロリゾエイト1、 1 4 yを加える
。この溶液を一60℃にまで冷却してから、7β−(
1)−5・−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミ
ド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4ーカ
ルボン酸のジトリエチルアミン塩212gを塩化メチレ
ン10mLに溶かした溶液を一度に加える1,その後1
5’Cに11−C昇温してから、析出した沈り役を江j
取し、塩化メチレンで洗う。得られた固形物を塩化メチ
レン30m1に懸濁し、水冷下トリエチルアミン0.7
19を加えて30分攪拌し、不溶物を濾過して除く。ρ
液にINのエタノール塩酸10m1およびエーテル20
m1を0°C以下で滴下する。析出した沈殿を戸数し、
塩化メチレンで洗ってから真空乾燥して、7β−(D−
5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8
−4:1−( 2−ジメチルアミノエチル)−1H−テ
トラゾール−5−イルコチオメチル)−3−セエフエム
ー4ーカルボン酸の塩酸塩1.51g(収率72.41
+)を得た。
IR(KBr)cWL11775. 1715. 16
4ONMR(DMSO−δ6);δ1.8 0 −2.
4 0 ( 6H 、 m 、 −(Nく2。
4ONMR(DMSO−δ6);δ1.8 0 −2.
4 0 ( 6H 、 m 、 −(Nく2。
C I 2戸−)、2.88(6)I,S, )
、8.5〜3.8(48 H 、 m 、 2−CH2&−CH2NC) 、 4
.8 0 ( 2H 、 l+r。
、8.5〜3.8(48 H 、 m 、 2−CH2&−CH2NC) 、 4
.8 0 ( 2H 、 l+r。
8−CH2)、 4.5 〜4.9 ( 8H
、 m 、−C 11く ++シ ー N,J
’JCH2−)、5(+8( tll, (+ 、 J
=−5Hz 、(’6il)、 fi.6(1( lI
I, +1 、 J=5+u+tl 3Hz 、(、’
7ー1f) + 7.!10 ( /111 、 s
。
、 m 、−C 11く ++シ ー N,J
’JCH2−)、5(+8( tll, (+ 、 J
=−5Hz 、(’6il)、 fi.6(1( lI
I, +1 、 J=5+u+tl 3Hz 、(、’
7ー1f) + 7.!10 ( /111 、 s
。
7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩212gと5−メ
ルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール0.52g
に塩化メチレン80m1とトリエチルアミンO,St、
、を加えて溶かし一15°Cに冷却する。この溶液にメ
チル0−フェニレンホスフェイト1.679を加え、−
15〜−10°Cで30分間反応する。反応液にTHF
20mLと水20m1を加え、6N−塩酸でpH2とし
分液する。 水層1THF5 rnlと塩化メチレン1
0aLで抽出し、有機層を合せ無水硫酸マグネムで乾燥
する。
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩212gと5−メ
ルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール0.52g
に塩化メチレン80m1とトリエチルアミンO,St、
、を加えて溶かし一15°Cに冷却する。この溶液にメ
チル0−フェニレンホスフェイト1.679を加え、−
15〜−10°Cで30分間反応する。反応液にTHF
20mLと水20m1を加え、6N−塩酸でpH2とし
分液する。 水層1THF5 rnlと塩化メチレン1
0aLで抽出し、有機層を合せ無水硫酸マグネムで乾燥
する。
以下実施例1と同様に処理して、目的物1.648(収
率90.9%)を得た。水晶のIRおよびNMR値は実
施例1で得たもの地一致した。
率90.9%)を得た。水晶のIRおよびNMR値は実
施例1で得たもの地一致した。
実施例4
実施例8でメチル0−フェニレンホスフェイト167g
を使用するのに代えて、0−フエニレンホスホロクロリ
テエイト1.71gの塩化メヂレノ15m1の溶液にト
リエチルアミン091gを加え、これにメタノール02
9gを室温で加え、室温で10分間反応して製造したメ
チルO−フェニレンホスフェイトの溶液を使用して同様
に反応および後処理し目的物1.62g(収率89.8
チ)を得た。
を使用するのに代えて、0−フエニレンホスホロクロリ
テエイト1.71gの塩化メヂレノ15m1の溶液にト
リエチルアミン091gを加え、これにメタノール02
9gを室温で加え、室温で10分間反応して製造したメ
チルO−フェニレンホスフェイトの溶液を使用して同様
に反応および後処理し目的物1.62g(収率89.8
チ)を得た。
水晶のIR値は実施例1で得たものと一致した。
実施例5
7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4
−カルボン酸のジトリ−n−ブチルアミン塩1.75g
と5−メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール0
.85gの塩化メチレン20rnLの溶液を一25°C
に冷却し、メチル0−フェニレンホスフェイト074g
を加えて、−25〜−20°Cで2時間反応する。反応
液にTHF15mlと水15m1を加えてよく攪拌して
から分液する。水層をT HF 5 IILlとCH2
C/210 alで抽出し、有機層を合せ水20m1で
洗ってから、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧で
溶媒を留去してから、少量のアセトンに溶かし、エーテ
ル100 WLLに加える。析出した沈殿をP取し、エ
ーテルで洗ってから真空乾燥して、目的物1.14g(
収率94.7%)を得た。水晶のIR値は実施例1で得
たものと一致した。
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4
−カルボン酸のジトリ−n−ブチルアミン塩1.75g
と5−メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール0
.85gの塩化メチレン20rnLの溶液を一25°C
に冷却し、メチル0−フェニレンホスフェイト074g
を加えて、−25〜−20°Cで2時間反応する。反応
液にTHF15mlと水15m1を加えてよく攪拌して
から分液する。水層をT HF 5 IILlとCH2
C/210 alで抽出し、有機層を合せ水20m1で
洗ってから、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧で
溶媒を留去してから、少量のアセトンに溶かし、エーテ
ル100 WLLに加える。析出した沈殿をP取し、エ
ーテルで洗ってから真空乾燥して、目的物1.14g(
収率94.7%)を得た。水晶のIR値は実施例1で得
たものと一致した。
実施例6
l−(2−ジメチルアミノエチル)−5−メルカプト−
IH−テトラゾール052gに塩化メチレン40aLと
トリエチルアミン040gを加え、さらに7β−(1)
−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−
3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4−カルボン
酸のジトリエチルアミン塩1.41gを加える。この溶
液にメチル0−フェニレンホスフェイト1.12gを加
工て20〜256Cで10分間反応する。反応液を冷却
し、0℃以下でINのエーテル塩酸5 mLを滴下し、
析出した沈殿を戸数し、塩化メ′チレンて洗う。得られ
tコ固形物を塩化メチレン’I O=mlに懸濁し、水
冷下トリエチルアミン047gを加えて30分攪拌し、
不溶物を7濾過して除く。炉液にINのアJレコール塩
酸6.7 wLLおよびエーテル10m1を0°C以下
で滴下する。析出した沈殿を戸数し、塩化メチレンで洗
ってから真空乾燥して、目的物100.、(収率71.
9%)を得た。水晶のIRおよびNMR値は実施例2で
得たものと一致した。
IH−テトラゾール052gに塩化メチレン40aLと
トリエチルアミン040gを加え、さらに7β−(1)
−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−
3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4−カルボン
酸のジトリエチルアミン塩1.41gを加える。この溶
液にメチル0−フェニレンホスフェイト1.12gを加
工て20〜256Cで10分間反応する。反応液を冷却
し、0℃以下でINのエーテル塩酸5 mLを滴下し、
析出した沈殿を戸数し、塩化メ′チレンて洗う。得られ
tコ固形物を塩化メチレン’I O=mlに懸濁し、水
冷下トリエチルアミン047gを加えて30分攪拌し、
不溶物を7濾過して除く。炉液にINのアJレコール塩
酸6.7 wLLおよびエーテル10m1を0°C以下
で滴下する。析出した沈殿を戸数し、塩化メチレンで洗
ってから真空乾燥して、目的物100.、(収率71.
9%)を得た。水晶のIRおよびNMR値は実施例2で
得たものと一致した。
実施例7
0−フエニレンホスホロクロリテー+1ト0.76gを
塩化メチレン10m1に溶かし、トリエチルアミン04
0gを加えてから、p−ニトロフェノール056gを室
温で少しずつ加え、室温で10分間反応する。この反応
液を一20°Cに冷却した7β−(1)−5−カルボキ
シ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セエフエムー4−カルボン酸のジトリエチ
ルアミン塩1.41y、5−メルカプト−1−メチル−
IH−テトラゾール0.859tトリエチルアミン0.
209の塩化メチレン20m1の溶液に加え、−20±
2℃で20分間反応する。以下実施例3と同様に後処理
して、目的物o、911g(収率75.7チ)を得た。
塩化メチレン10m1に溶かし、トリエチルアミン04
0gを加えてから、p−ニトロフェノール056gを室
温で少しずつ加え、室温で10分間反応する。この反応
液を一20°Cに冷却した7β−(1)−5−カルボキ
シ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セエフエムー4−カルボン酸のジトリエチ
ルアミン塩1.41y、5−メルカプト−1−メチル−
IH−テトラゾール0.859tトリエチルアミン0.
209の塩化メチレン20m1の溶液に加え、−20±
2℃で20分間反応する。以下実施例3と同様に後処理
して、目的物o、911g(収率75.7チ)を得た。
水晶のIR値は実施例1で得たものと−致しな。
実施例8
2.2.2−1−ジクロロ−1,8,2−ベンゾジオキ
サホスホール0.74.を塩化メチレン10m1に溶か
し、l−リエチルアミン030gを加工てから室温でメ
タノール010gを加え、室温で10分間反応する。こ
の反応液を水冷し、トリエチルアミン0.20g15−
メルカプト−1−メチル−I H−テトラゾール017
gおよび7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミ
ドバレルアミ1’)−8−ヒドロキシメチル−3−セエ
フエムー4−カル、::ン酸のシトリエチルアミン塩0
.71gを順次加え、水冷下30分反応する。以下実施
例3と同様に後処理して、同一目的物0.404g(収
率66.8%)を得た。本島のIR値は実施例1で得た
ものと一致した。
サホスホール0.74.を塩化メチレン10m1に溶か
し、l−リエチルアミン030gを加工てから室温でメ
タノール010gを加え、室温で10分間反応する。こ
の反応液を水冷し、トリエチルアミン0.20g15−
メルカプト−1−メチル−I H−テトラゾール017
gおよび7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミ
ドバレルアミ1’)−8−ヒドロキシメチル−3−セエ
フエムー4−カル、::ン酸のシトリエチルアミン塩0
.71gを順次加え、水冷下30分反応する。以下実施
例3と同様に後処理して、同一目的物0.404g(収
率66.8%)を得た。本島のIR値は実施例1で得た
ものと一致した。
実施例9
2.2.2−1−ジクロロ−1,8,2−ベンゾジオキ
サホスホールO,T4Q塩化メチジメチレン10m1し
、トリエチルアミン0.4gを加えてから室温でp−ク
ロロフエ、ノール0.51 g4−少しオー)加える。
サホスホールO,T4Q塩化メチジメチレン10m1し
、トリエチルアミン0.4gを加えてから室温でp−ク
ロロフエ、ノール0.51 g4−少しオー)加える。
この溶液にトリエチルアミン(1,2q15−メルカプ
ト−1−メチル−l H−テトラゾ−ル01TQおよび
7β−(I)−5−カルホキシー5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒ!−ロキジメチルー3−セエフエム
−4−カルボン酸のシi・リエチルアミン塩071gを
順次加え、室温で40分反応する。以下実施例3と同様
に後処理し−C1目的物0.486g(収率72.0%
)を得た。本島のIR値は実施例1で得たものと一致し
た。
ト−1−メチル−l H−テトラゾ−ル01TQおよび
7β−(I)−5−カルホキシー5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒ!−ロキジメチルー3−セエフエム
−4−カルボン酸のシi・リエチルアミン塩071gを
順次加え、室温で40分反応する。以下実施例3と同様
に後処理し−C1目的物0.486g(収率72.0%
)を得た。本島のIR値は実施例1で得たものと一致し
た。
実施例10
ビス(0−フェニレンジオキソ)クロロホスホラス1.
18gを塩化メチレン10m1に溶かし、これに水冷下
トリエチルアミン0.2g15−メルカプト−1−メチ
ル−IH−テトラゾール0.17 gおよび7β−(D
−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−
3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4−カルボン
酸のシトリエチルアミン塩0.710を順次加え、水冷
下30分間反応する。以下実施例8と同様に後処理して
、1−1約物043gを得た。本島のIR値は実施例1
で得たものと一致した。
18gを塩化メチレン10m1に溶かし、これに水冷下
トリエチルアミン0.2g15−メルカプト−1−メチ
ル−IH−テトラゾール0.17 gおよび7β−(D
−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−
3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー4−カルボン
酸のシトリエチルアミン塩0.710を順次加え、水冷
下30分間反応する。以下実施例8と同様に後処理して
、1−1約物043gを得た。本島のIR値は実施例1
で得たものと一致した。
実施例11
7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー
4−カルボン酸のジトリエチルアミン塩071gと5−
メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール017g
を塩化メチレン5 mlに溶かす。この溶液にトリエチ
ルアミン0゜2gとメチル0−フェニレンホスファイト
051gを加え、室温で22時間反応する。以下実施例
3と同様に後処理して、同一目的物0.41g(収率6
7.7%)を得た。本島のIRおよびNMR値は実施例
1で得たものと一致した。
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエムー
4−カルボン酸のジトリエチルアミン塩071gと5−
メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾール017g
を塩化メチレン5 mlに溶かす。この溶液にトリエチ
ルアミン0゜2gとメチル0−フェニレンホスファイト
051gを加え、室温で22時間反応する。以下実施例
3と同様に後処理して、同一目的物0.41g(収率6
7.7%)を得た。本島のIRおよびNMR値は実施例
1で得たものと一致した。
実施例12
7761’ −(1)−5−カルボキシ−5−フタルイ
ミドバレルアミド)−3−ヒトbキシメチルー8−セフ
ェム−4−カルボン酸のジトリ−n −ブチルアミン塩
874 mgと2−メルカプトベンゾチアゾール251
mgの塩化メチレン10mLの溶液を一10℃に冷却
し、エチル0−フェニレンポスーノJfI・400 m
gを加え−10〜−5°Cで2時間かきまぜた。反応液
にT HF 8 mlと水8 m、lを加えかきまぜて
から分液する。水層をTHF8mLと塩化メチレン5
rnLで抽出し、有機層を合せ水10m1を加え分液し
有機層に無水硫酸マグネンウノ・を加えI:I3燥した
。
ミドバレルアミド)−3−ヒトbキシメチルー8−セフ
ェム−4−カルボン酸のジトリ−n −ブチルアミン塩
874 mgと2−メルカプトベンゾチアゾール251
mgの塩化メチレン10mLの溶液を一10℃に冷却
し、エチル0−フェニレンポスーノJfI・400 m
gを加え−10〜−5°Cで2時間かきまぜた。反応液
にT HF 8 mlと水8 m、lを加えかきまぜて
から分液する。水層をTHF8mLと塩化メチレン5
rnLで抽出し、有機層を合せ水10m1を加え分液し
有機層に無水硫酸マグネンウノ・を加えI:I3燥した
。
減圧で溶媒を留去し、少量のアセト二1−リル・水・蟻
酸(20:2:0.1)の混合溶媒にとか1ツ、シリカ
ゲルカラムクロマI・グラフィーに何した。
酸(20:2:0.1)の混合溶媒にとか1ツ、シリカ
ゲルカラムクロマI・グラフィーに何した。
目的物を含有する区画を集め、減圧で濃縮し残留油分に
エーテルを加えて生じた粉末を70取し、エーテルでン
5Lい乾燥すると7β−(1)−5−ブシルボキンー5
−フタルイミドバレルアミド)−3−[(ベンゾチアゾ
ール−2−イル)チオメチル〕〜3−セフェムー4−カ
ルボン酸5551nf/ (収率85.0%)を得た。
エーテルを加えて生じた粉末を70取し、エーテルでン
5Lい乾燥すると7β−(1)−5−ブシルボキンー5
−フタルイミドバレルアミド)−3−[(ベンゾチアゾ
ール−2−イル)チオメチル〕〜3−セフェムー4−カ
ルボン酸5551nf/ (収率85.0%)を得た。
IR(KBr): cm−’ 8820.1775.1
715NMR(DMS 0−da) :δ1.30〜2
.40 (6H、m 。
715NMR(DMS 0−da) :δ1.30〜2
.40 (6H、m 。
−CH2C’H2CH2−) 、 8.62 (2H、
A11ll 、 J−1811z。
A11ll 、 J−1811z。
2−CH2)、 4.8 8 (2H、AB+1.
J= 1 4 夏TZ 、3 CIb )。
J= 1 4 夏TZ 、3 CIb )。
4.73(IT(、奮、、J=7Hz、 ンCH−)
、 5.0 4 (IH,d、、J=5Hz
、Cg−−H)、5.68(IH,q 、J=5&8H
7、CT−H)7.86 (4H、S 、 CIC’、
’l 、 8.80(l H、+I 、J= 8H7、
−CONH−)実施例13 7β−(υ−5−カルボキシー5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルホン酸のシトリ−n−ブチルアミン塩874 my
と5−メルカプト−2−メチル−1,8,4−チアジア
ゾール198mgの塩化メチレン10m1の溶液を−2
0〜−15℃に冷却しメチル0−フェニレンホスフェ・
イト372mgを加え水冷下に1.5時間かきまぜt。
、 5.0 4 (IH,d、、J=5Hz
、Cg−−H)、5.68(IH,q 、J=5&8H
7、CT−H)7.86 (4H、S 、 CIC’、
’l 、 8.80(l H、+I 、J= 8H7、
−CONH−)実施例13 7β−(υ−5−カルボキシー5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルホン酸のシトリ−n−ブチルアミン塩874 my
と5−メルカプト−2−メチル−1,8,4−チアジア
ゾール198mgの塩化メチレン10m1の溶液を−2
0〜−15℃に冷却しメチル0−フェニレンホスフェ・
イト372mgを加え水冷下に1.5時間かきまぜt。
反応液を実施例12と同様に処理し、7β−(D−5−
カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−〔
(2−メチル−1,8,4−チアジアゾール−5−イル
)チオメチルシー3−セフエ′ムー4−カルボン酸50
2mg(収率81.8チ)を得た。
カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−〔
(2−メチル−1,8,4−チアジアゾール−5−イル
)チオメチルシー3−セフエ′ムー4−カルボン酸50
2mg(収率81.8チ)を得た。
IR(KBr):am−’ 8f300,1775.
17’15N M R(D M S O−(l g )
:δ1.80−2.40 (6H,m。
17’15N M R(D M S O−(l g )
:δ1.80−2.40 (6H,m。
−CH2CH2CH2−)、2.71(8H,6、−C
Ha )、3.62(2H、ABq 、 J=19H2
、2−C)−(2) 、 4.87 (2H、ABq。
Ha )、3.62(2H、ABq 、 J=19H2
、2−C)−(2) 、 4.87 (2H、ABq。
J=18Hz 、8−CH2)、4.76(IH,1,
、J−7HzンCH−)。
、J−7HzンCH−)。
5.06(IH,d、J=5Hz、C6−H)、5.6
5(111,11,J−5&8 Hz + C’ H)
+ 7−92(411+ s+ O′、) 、881
(11−1、d 、 J=8Hz 、 C0NII)実
施例14 0−フエニレンホスホロクロリテエイl−477mgの
塩化メチレン51!L溶液を−20〜−10’Cに冷却
し、トリーn−ブチルアミン468mg、”)エノール
285mgを加え5分間同温でかきまぜてフェニルO−
フェニレンホスフェイトの溶液を調製した。7β−(D
−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−
3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
のジI・ジ−n−ブチルアミン塩874 mg 、 2
−カルボキシメチルチオ−5−メルカプト−1,8,4
−チアジアゾール812myを塩化メチレン5 ml中
でかきまぜながら水冷下にトリーn−ブチルアミン27
8 myを加え、−10〜−5°Cに冷却し上記のフェ
ニル0−フェニレンホスフェイトの溶液を加え同温で2
時間かきまぜた。反応液を実施例12に準じて処理し、
7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
リルアミド)−8−((・2−カルボキシメチルチオ−
1,8,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチルク
ー3−セフェム−4−カルボン酸501mg(収率72
.2%)を得た。
5(111,11,J−5&8 Hz + C’ H)
+ 7−92(411+ s+ O′、) 、881
(11−1、d 、 J=8Hz 、 C0NII)実
施例14 0−フエニレンホスホロクロリテエイl−477mgの
塩化メチレン51!L溶液を−20〜−10’Cに冷却
し、トリーn−ブチルアミン468mg、”)エノール
285mgを加え5分間同温でかきまぜてフェニルO−
フェニレンホスフェイトの溶液を調製した。7β−(D
−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−
3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
のジI・ジ−n−ブチルアミン塩874 mg 、 2
−カルボキシメチルチオ−5−メルカプト−1,8,4
−チアジアゾール812myを塩化メチレン5 ml中
でかきまぜながら水冷下にトリーn−ブチルアミン27
8 myを加え、−10〜−5°Cに冷却し上記のフェ
ニル0−フェニレンホスフェイトの溶液を加え同温で2
時間かきまぜた。反応液を実施例12に準じて処理し、
7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
リルアミド)−8−((・2−カルボキシメチルチオ−
1,8,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチルク
ー3−セフェム−4−カルボン酸501mg(収率72
.2%)を得た。
IR(KBr ): am−’ 8800,1775
.1718NMR(DMSO−(16):δ 1.80
〜2.40 (6H、m 。
.1718NMR(DMSO−(16):δ 1.80
〜2.40 (6H、m 。
−CH2CH2CH2−) 、 8.59 (2H、b
r 、 2−CHQ、4.18(2H,s、−8CH
2COO−)、4.88(2H,ABq、J =18H
z、8−CH2)、4.72(IH,t、J=6Hz、
CH)。
r 、 2−CHQ、4.18(2H,s、−8CH
2COO−)、4.88(2H,ABq、J =18H
z、8−CH2)、4.72(IH,t、J=6Hz、
CH)。
5.04 (I H、(1、J−5)!z 、 Ca
H) 95−40〜5−80 (I H9br、Cy
−H)、7.90(4H,s、 (Jf、、 ) 、8
.78(IH。
H) 95−40〜5−80 (I H9br、Cy
−H)、7.90(4H,s、 (Jf、、 ) 、8
.78(IH。
(1、J = 8 Hz 、 −CONH−)実施例1
5 7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−8−セフェム−4−
カルボン酸のジl−リ−n−ブチルアミン塩874my
、1−カルボキシメチル−5−メルカプト−I J(−
テトラゾール:a12mt)!v・渥介し、塩化メチレ
ン10m1を加え水冷しトリー 11ブチルアミン27
8++lS+を加えた。10分間か、き;Lぜてから、
メチル0−フェニレンホスフェイト872 myを−2
5〜−20°Cで加え2時間同温でかきまぜた。反応液
を実施例12と同様の方法で処理し、7β〜(D−5−
カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8−4
(1−カルボキシメチル−IH−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル〕−8−セフェムー4−カルボン酸47
6 mg(収率73.7%)を得た。
5 7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−8−セフェム−4−
カルボン酸のジl−リ−n−ブチルアミン塩874my
、1−カルボキシメチル−5−メルカプト−I J(−
テトラゾール:a12mt)!v・渥介し、塩化メチレ
ン10m1を加え水冷しトリー 11ブチルアミン27
8++lS+を加えた。10分間か、き;Lぜてから、
メチル0−フェニレンホスフェイト872 myを−2
5〜−20°Cで加え2時間同温でかきまぜた。反応液
を実施例12と同様の方法で処理し、7β〜(D−5−
カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8−4
(1−カルボキシメチル−IH−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル〕−8−セフェムー4−カルボン酸47
6 mg(収率73.7%)を得た。
IR(KBr):am ’ 8800.1778,1
718NMR(DMS O−dg) ;δ 1.40−
2.40 (6H、m 、 −CH2CH2CH2−)
、 8.62 (2H、br 、 2−CH2)、
4.83(2H,ABq、J=14Hz、a−Clh)
、4.71(IH,f、。
718NMR(DMS O−dg) ;δ 1.40−
2.40 (6H、m 、 −CH2CH2CH2−)
、 8.62 (2H、br 、 2−CH2)、
4.83(2H,ABq、J=14Hz、a−Clh)
、4.71(IH,f、。
J=6Hv、 ンC)()、 4.99 (IH,(1
、J=511z 、C6−II)。
、J=511z 、C6−II)。
5.28 (2H,S 、/’NCH2C0−) 、
5.62 (IH,(+ 、 +J−F)&3Hz 、
CT−H)、7.89(4H,Fl 、α)、8.77
(IH,d 、J=8Hz 、−CONII−)実施例
16 実施例12において2−メルカプトベンゾチアソールの
代りに2−エトキシ力ルホニルメチルチオー5−メルカ
プ1−−1.a、4−チアジアゾール854mgを用い
て同様に行い7β−(D−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド)−3−[(2−工]・キシカルボ
ニルメチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−5−イ
ル)チオメチル〕−3−セフェムー4−カルボン酸60
0mg(収率83.2%)を得た。
5.62 (IH,(+ 、 +J−F)&3Hz 、
CT−H)、7.89(4H,Fl 、α)、8.77
(IH,d 、J=8Hz 、−CONII−)実施例
16 実施例12において2−メルカプトベンゾチアソールの
代りに2−エトキシ力ルホニルメチルチオー5−メルカ
プ1−−1.a、4−チアジアゾール854mgを用い
て同様に行い7β−(D−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド)−3−[(2−工]・キシカルボ
ニルメチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−5−イ
ル)チオメチル〕−3−セフェムー4−カルボン酸60
0mg(収率83.2%)を得た。
IR(KBr ) 二 cm”−’ 8820
,1775.1715NMR(DMS 0−d6);δ
1.00〜2.40 (9H、m 、 −CH3&−
CH2CH2CH2−) 、 2.9〜4.5 (8H
、m 、 2−CH3,a−CH2,−5−CI(2C
O−、Co2C1−127、4,75(11−1,t、
J=6Hz、 −>CH) 、5.06(11−1,d
、J=5Hz。
,1775.1715NMR(DMS 0−d6);δ
1.00〜2.40 (9H、m 、 −CH3&−
CH2CH2CH2−) 、 2.9〜4.5 (8H
、m 、 2−CH3,a−CH2,−5−CI(2C
O−、Co2C1−127、4,75(11−1,t、
J=6Hz、 −>CH) 、5.06(11−1,d
、J=5Hz。
C6−If) 、 5.40〜5.90 (IH,br
、C7−H) 、 7.90 (4H。
、C7−H) 、 7.90 (4H。
S、lci[’ ) m s、60〜9.10 (IH
,br 、 −CONH−)実施例17 7β−[:1L−5−カルボキシ−5−(ベンズアミド
)バレルアミドツー3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸のジトリ−n−ブチルアミン塩87
4mgを塩化メチレン10m1に溶かし、−50〜−4
00cでピリジン198mq−)いてメチル0−フェニ
レンホスフェイh 872 mqの塩化メチレン8mL
f$、液を加えてがら−10−0’Cに昇温させ同温で
2時間かきまぜた。反応液に水15m1を加えPHを7
.0に合せ、分液j7水層を塩化メチレン5 mlで2
回洗い、再びpHe、 Oとし、減圧で濃縮後残留物を
アンバーライトXAD−2カラムクロマトグラフィーに
付し、水、水−メタノール混液にて順に溶出し目的物を
含む区画を濃縮し、N−〔7β−(1) −5−(ベン
ズアミド)アジピンアミド)−3−セフェム−3−イル
メチル〕ヒリジニオー4−カルボン酸モノナトリウム塩
410my (収率73.1%)を得た。
,br 、 −CONH−)実施例17 7β−[:1L−5−カルボキシ−5−(ベンズアミド
)バレルアミドツー3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸のジトリ−n−ブチルアミン塩87
4mgを塩化メチレン10m1に溶かし、−50〜−4
00cでピリジン198mq−)いてメチル0−フェニ
レンホスフェイh 872 mqの塩化メチレン8mL
f$、液を加えてがら−10−0’Cに昇温させ同温で
2時間かきまぜた。反応液に水15m1を加えPHを7
.0に合せ、分液j7水層を塩化メチレン5 mlで2
回洗い、再びpHe、 Oとし、減圧で濃縮後残留物を
アンバーライトXAD−2カラムクロマトグラフィーに
付し、水、水−メタノール混液にて順に溶出し目的物を
含む区画を濃縮し、N−〔7β−(1) −5−(ベン
ズアミド)アジピンアミド)−3−セフェム−3−イル
メチル〕ヒリジニオー4−カルボン酸モノナトリウム塩
410my (収率73.1%)を得た。
IR(KBr):c+n”−’ 8860,3250,
1765゜1645.1680.1605 NMR(D20):δ 1.50〜2.60 (6II
、 m 、−(CIh%−)。
1765゜1645.1680.1605 NMR(D20):δ 1.50〜2.60 (6II
、 m 、−(CIh%−)。
8.14(2H,ABq、J−19Hy、、2−CH2
)、4.36(団。
)、4.36(団。
” + りH) H5o5 (I H+ d + J−
5H7+ C’ −II ) + 532 (2H,A
Bq、J=15Hz、8−CH2)、5.60(IH,
d、J=5Hz 、CI−H) 、 7.0−9.0(
IOH,m、−Q &◎−)実施例18 0−フェニレンホスホロクロリゾエイト286mgの塩
化メチレン8 ml溶液に5−メルカプト−1−メチル
−IH−テトラゾール174mgを加え=20〜−10
°Cに冷却し、トリエチルアミン152m9の塩化メチ
レン1rrLL溶液をかきまぜながら加えた。この溶液
を室温に戻してから、?−(D−5〜カルホキシー5−
(ベンジルオキシカルボニルアミノ)バレルアミドツー
3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ジトリエチルアミン塩710mgの塩化メチレン7 r
nt 溶D H中に−30〜−20°Cに冷却しかきま
ぜながら加えた。
5H7+ C’ −II ) + 532 (2H,A
Bq、J=15Hz、8−CH2)、5.60(IH,
d、J=5Hz 、CI−H) 、 7.0−9.0(
IOH,m、−Q &◎−)実施例18 0−フェニレンホスホロクロリゾエイト286mgの塩
化メチレン8 ml溶液に5−メルカプト−1−メチル
−IH−テトラゾール174mgを加え=20〜−10
°Cに冷却し、トリエチルアミン152m9の塩化メチ
レン1rrLL溶液をかきまぜながら加えた。この溶液
を室温に戻してから、?−(D−5〜カルホキシー5−
(ベンジルオキシカルボニルアミノ)バレルアミドツー
3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ジトリエチルアミン塩710mgの塩化メチレン7 r
nt 溶D H中に−30〜−20°Cに冷却しかきま
ぜながら加えた。
5分間同温でかきまぜてから2 N−HCj’ 15i
Lテトラヒドロフラン10m1を加え分液し有機層を飽
和食塩水5 mlで21+il 15);い、フ11(
水硫酸マグイ・シウムで乾イ、・ν1し、減圧下に濃縮
した後エーテル中に加え生じた粉末を組数しt北この粉
末をアセトニトリル−水の混液に溶かし、シリカゲルク
ロマ1−グラフィーに付し、アセトニトリル−水−蟻酸
(20:2;0.1)で溶出し、1」約物を含l、−区
画ヲ11ノ’J Ill l ”−チルを加えて生じた
粉末を11月[V乾燥−おると7β−(1)−5−力/
レホ千シー5−(ベンシルレオキノ力ルポニルアミノ)
バレルアミド]−a−[(t−メチル−IH−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチルー3−セフェムー4−カル
ボン酸870mg(収率61.1%)を得た。
Lテトラヒドロフラン10m1を加え分液し有機層を飽
和食塩水5 mlで21+il 15);い、フ11(
水硫酸マグイ・シウムで乾イ、・ν1し、減圧下に濃縮
した後エーテル中に加え生じた粉末を組数しt北この粉
末をアセトニトリル−水の混液に溶かし、シリカゲルク
ロマ1−グラフィーに付し、アセトニトリル−水−蟻酸
(20:2;0.1)で溶出し、1」約物を含l、−区
画ヲ11ノ’J Ill l ”−チルを加えて生じた
粉末を11月[V乾燥−おると7β−(1)−5−力/
レホ千シー5−(ベンシルレオキノ力ルポニルアミノ)
バレルアミド]−a−[(t−メチル−IH−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチルー3−セフェムー4−カル
ボン酸870mg(収率61.1%)を得た。
IR(KBr )cm’ :8800.1775.17
15NMR(DMS O−+16) :δ 1.80〜
1.90 (4H、m 。
15NMR(DMS O−+16) :δ 1.80〜
1.90 (4H、m 。
CH2X2 ) 、 2.00〜2.80 (2H、m
、CH2) 、 8.67 (2H。
、CH2) 、 8.67 (2H。
hr 、2−CH2)、8.98(8H,s 、N−C
I(s ) 、4.80(2H、hr 、 8−CH2
) 、 4.80〜5.20 (4H、m 、−C1(
20−。
I(s ) 、4.80(2H、hr 、 8−CH2
) 、 4.80〜5.20 (4H、m 、−C1(
20−。
−とH&C@−H) 、 5.68(or、、 、J=
5&8H2、CI−I−1)。
5&8H2、CI−I−1)。
7.10〜7.60 (m 、 6H、Q−&−0−C
ONH−) 、 8.78(I H、+1 、 J=
8Hz 、 −CONH−)実施例19 実施例5で7β−(1)−5−カルボキシ−5−7タル
イミドバレルアミド ル−3−セフェl,ー4ーカルホン酸のン1ーリーj1
ーブチルアεン塩1、75gの代り(−7β−〔1)−
5−(p −t−フチルヘンスアミl=’ )−5−カ
ルポキンハレリルアE +” ] −]3−=ヒ]−ロ
キジメチルー3−セフェム4−カルボン酸のジトリ−n
−ブチルアミン塩1.81gを用いて同様に行い、7−
〔D−5−(I)−も−フチルヘンズアミド)−5−カ
ルボキンバレリルアミド:]−a−(1−メチル−IH
−テ1−ラゾールー5−イル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸1.18g(収率93.4%)を得
た。
ONH−) 、 8.78(I H、+1 、 J=
8Hz 、 −CONH−)実施例19 実施例5で7β−(1)−5−カルボキシ−5−7タル
イミドバレルアミド ル−3−セフェl,ー4ーカルホン酸のン1ーリーj1
ーブチルアεン塩1、75gの代り(−7β−〔1)−
5−(p −t−フチルヘンスアミl=’ )−5−カ
ルポキンハレリルアE +” ] −]3−=ヒ]−ロ
キジメチルー3−セフェム4−カルボン酸のジトリ−n
−ブチルアミン塩1.81gを用いて同様に行い、7−
〔D−5−(I)−も−フチルヘンズアミド)−5−カ
ルボキンバレリルアミド:]−a−(1−メチル−IH
−テ1−ラゾールー5−イル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸1.18g(収率93.4%)を得
た。
IR(KBr )cm−’ :1776.1727.1
64ONMR(+16−pMSO):δ1.28(9H
,S、CH3X8)。
64ONMR(+16−pMSO):δ1.28(9H
,S、CH3X8)。
1.70&2.21 (6H、CH2X8 ) 、 8
.54&8.77 (2H、ABq。
.54&8.77 (2H、ABq。
J=18Hz、2−CH2)、3.91(8H,3,−
N−CHa)。
N−CHa)。
4.20&4.87(2H,ABq、J=13Hz、3
−CH2)、4.89(IH、−:):H) 、 5.
02 (tH、d 、 J=5Hz 、C6−H) 。
−CH2)、4.89(IH、−:):H) 、 5.
02 (tH、d 、 J=5Hz 、C6−H) 。
5.64 (111(、11、J=5&81(y、 、
Cy−H)、 7.48&7.81 (41(、q )
、s、42(IH,r+1. J = 8 Hz 、
) C0NH)。
Cy−H)、 7.48&7.81 (41(、q )
、s、42(IH,r+1. J = 8 Hz 、
) C0NH)。
8.79(IH,<1.J=8H7,−CONH−)実
施例20 0−フエニレンホスホロクロリテエイト0.450qを
塩化メチレン2mlに溶解し、0〜5“C’QIパj−
−n−フタルイミド0.487gの塩化メチ1./1m
l溶Wを加えついでメタノール76.0 mgの塩fs
yチレン2ml溶液を加え室温で20分間かきまぜて
メチル0−フェニレンホスフエイ1〜の溶WM ’:r
製造した。7β−(1)−5−カルホキシー5−フタ
ルイミドバレルアミド)、−8−ヒドロキシメチル−3
−セフエノ、−4−カルボン酸のシトリ−11−7チル
アミン塩1. o 82 gと2−メルカブトヘンスオ
キサソール0.267gの塩化メチレン5rnl溶液を
−20〜−−25°Cに冷却しかきまぜながら上記のメ
チルO−フェニレンホスフェイト溶液ヲ加工、−20〜
−10°Cで80分間反応させ、反応液に水15rnL
を加え分液し、有機層に水15.mLを加えN −Nr
+ OHでpH9,0とし分液した。有機層より更に7
7(5meで2回抽出し水層ゲ合せて塩化メチレン5m
(’で/′、Ig イ、/J(層を2 N −11Ce
テpl’l 2 トL 塩(LS ) チL/ 7−1
’TTF(1:1)混液て抽出(711機層を飽和食塩
水て2回洗い、jijjホ(I4i、酸−7’r イ、
シI’77.で、:12.、I、、l、°)し、r1
1媒不−′留去してカ1’、) 、t−−テtb ’a
:”Jllえ’l【りl’+ン1、a−71’ II’
<、乾燥すると7β−(I)−5−カルホキシー5−フ
タルイミトバレルアi l’ ) −8−(ベンズオキ
サゾール−2−イル)チオメチル 3−セフェム−4−
カルボン酸588mg(収率7882%)が得られtこ
。
施例20 0−フエニレンホスホロクロリテエイト0.450qを
塩化メチレン2mlに溶解し、0〜5“C’QIパj−
−n−フタルイミド0.487gの塩化メチ1./1m
l溶Wを加えついでメタノール76.0 mgの塩fs
yチレン2ml溶液を加え室温で20分間かきまぜて
メチル0−フェニレンホスフエイ1〜の溶WM ’:r
製造した。7β−(1)−5−カルホキシー5−フタ
ルイミドバレルアミド)、−8−ヒドロキシメチル−3
−セフエノ、−4−カルボン酸のシトリ−11−7チル
アミン塩1. o 82 gと2−メルカブトヘンスオ
キサソール0.267gの塩化メチレン5rnl溶液を
−20〜−−25°Cに冷却しかきまぜながら上記のメ
チルO−フェニレンホスフェイト溶液ヲ加工、−20〜
−10°Cで80分間反応させ、反応液に水15rnL
を加え分液し、有機層に水15.mLを加えN −Nr
+ OHでpH9,0とし分液した。有機層より更に7
7(5meで2回抽出し水層ゲ合せて塩化メチレン5m
(’で/′、Ig イ、/J(層を2 N −11Ce
テpl’l 2 トL 塩(LS ) チL/ 7−1
’TTF(1:1)混液て抽出(711機層を飽和食塩
水て2回洗い、jijjホ(I4i、酸−7’r イ、
シI’77.で、:12.、I、、l、°)し、r1
1媒不−′留去してカ1’、) 、t−−テtb ’a
:”Jllえ’l【りl’+ン1、a−71’ II’
<、乾燥すると7β−(I)−5−カルホキシー5−フ
タルイミトバレルアi l’ ) −8−(ベンズオキ
サゾール−2−イル)チオメチル 3−セフェム−4−
カルボン酸588mg(収率7882%)が得られtこ
。
丁 R(KBr )cm−’ : 8810,2
980,1775゜1715.1530.150O NMR(+16−DMS O) :δIJ O〜2.4
0 (6H、m 。
980,1775゜1715.1530.150O NMR(+16−DMS O) :δIJ O〜2.4
0 (6H、m 。
−(’l12CHzC’th )、168(2H,A
Bq、2−CH2)。
Bq、2−CH2)。
4.28&4.66 (2H、ABq 、 J= 14
Hz、 8−CH2) 、4.78(I H、v 、
J=7]−1z、−−δJT)、5.04(11(、・
+ 、 J = 5l−1z lC6−H)、5.68
(IH,q、J=5&8Hz、C7−H)、7.208
.78 (IH,d 、 J=8Hz 、 −〇 〇N
H−)実施例21 0−フエニレンホスホロクロリテエイト376mgの塩
化メチレン5 ml溶液にメタノール57、OmgとI
・リー■1−ブチルアミン865mgの塩化メチレフ6
ml溶液を−20〜−10°Cでかきまぜながら加え
てから室温に戻し1時間かきまぜメチル()−フエニレ
ンホスフエイ1〜のd何kを亨わ青し7た。、7I−(
1)−5−カルボキシ−5−フクルイE l’ハレルア
E F ) −8−ヒドロキシメチル−3−セフェj、
−4−カルホン酸のジトリ−■1−フチルア′ミン塩8
74 mgを塩化メチレン5 ml、に溶解させ、ビリ
ンン158mgの塩化メチレン21!L溶液を5〜o
0cて加えてから−40〜−30°Cに冷却[ッかきま
ぜICから上記のメチル0−フェニレンホスフェイト溶
液を加え、−30〜−10°Cで45分間0〜10°C
で30分間かきまぜ析出した粉末を1取し塩化メチレン
で洗い乾燥すると、77*−(+)−5−カルボキシ−
5−フタルイミドバレルアミド)−a −セフェム−3
−ピリジニオメチル−4−カルホキシレーl−465m
y (収率82.4%)力Cil)られた。
Hz、 8−CH2) 、4.78(I H、v 、
J=7]−1z、−−δJT)、5.04(11(、・
+ 、 J = 5l−1z lC6−H)、5.68
(IH,q、J=5&8Hz、C7−H)、7.208
.78 (IH,d 、 J=8Hz 、 −〇 〇N
H−)実施例21 0−フエニレンホスホロクロリテエイト376mgの塩
化メチレン5 ml溶液にメタノール57、OmgとI
・リー■1−ブチルアミン865mgの塩化メチレフ6
ml溶液を−20〜−10°Cでかきまぜながら加え
てから室温に戻し1時間かきまぜメチル()−フエニレ
ンホスフエイ1〜のd何kを亨わ青し7た。、7I−(
1)−5−カルボキシ−5−フクルイE l’ハレルア
E F ) −8−ヒドロキシメチル−3−セフェj、
−4−カルホン酸のジトリ−■1−フチルア′ミン塩8
74 mgを塩化メチレン5 ml、に溶解させ、ビリ
ンン158mgの塩化メチレン21!L溶液を5〜o
0cて加えてから−40〜−30°Cに冷却[ッかきま
ぜICから上記のメチル0−フェニレンホスフェイト溶
液を加え、−30〜−10°Cで45分間0〜10°C
で30分間かきまぜ析出した粉末を1取し塩化メチレン
で洗い乾燥すると、77*−(+)−5−カルボキシ−
5−フタルイミドバレルアミド)−a −セフェム−3
−ピリジニオメチル−4−カルホキシレーl−465m
y (収率82.4%)力Cil)られた。
IR(KI3r )cm−’ :8875,8020,
2920,1772゜1710.139O NMR(D20−1−NaOD ) :δ1.80〜2
.60 (6II 、 m 。
2920,1772゜1710.139O NMR(D20−1−NaOD ) :δ1.80〜2
.60 (6II 、 m 。
−CI 1□CHzC1h −) 、 2.90 &
8.55 (2H、A B +1 、 J−・+ 8)
1z、 2−CH2)、 5.10 (IH,d 、
J=51−IZ、C’ −■() 。
8.55 (2H、A B +1 、 J−・+ 8)
1z、 2−CH2)、 5.10 (IH,d 、
J=51−IZ、C’ −■() 。
5.82&5.66(2H,Al1q 、J =171
−12,8−−(jf )。
−12,8−−(jf )。
5.63(1)−■、d 、J=5f(z、Cy−H)
、7.78 (4H,s 。
、7.78 (4H,s 。
@ )、8.03〜9.06(5H,m、’%3 )実
施例22 0−フエニレンポスホロクロリタイト528mgの塩化
メチレン8 ml溶液に2.6−ルチジン646m9と
メタノール96.8 myの塩化メチレン7ml溶液を
かきまぜなから水冷下に加え、5分間反応させて、メチ
ル0−フェニレンホスファイトの溶液を製造した。この
溶液にイソニコチン酸アミド376mgを加え10分間
かきまぜてから7p−(1)−5f−カルボキシ−5−
フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸の2.6−ルチジン塩9
28 mgを加え水冷下2時間ついで室温で5時間かき
まぜ反応させた後−20〜−10℃に一夜おいた。反応
液に水15m1を加えN −Na OHでpH7,0に
し、水層を塩化メチレンで洗った後、pH6,0,にし
減圧で濃縮し、濃縮液をアンバーライトXAD−2のカ
ラムクロマトグラフィーに付し、水、水−メタノール混
液で溶出した。目的物を主に含む区画を集め濃縮し凍結
乾燥すると7/ゲー(+)−5−カルホキ、 5−−7
タルイミトバレルアミト)−3−セフエン、 3(4−
カルバモイルピリジニオ ルボキンレートナトリτ″2ノ〜塩56011147(
収率631係)が得られた。
施例22 0−フエニレンポスホロクロリタイト528mgの塩化
メチレン8 ml溶液に2.6−ルチジン646m9と
メタノール96.8 myの塩化メチレン7ml溶液を
かきまぜなから水冷下に加え、5分間反応させて、メチ
ル0−フェニレンホスファイトの溶液を製造した。この
溶液にイソニコチン酸アミド376mgを加え10分間
かきまぜてから7p−(1)−5f−カルボキシ−5−
フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸の2.6−ルチジン塩9
28 mgを加え水冷下2時間ついで室温で5時間かき
まぜ反応させた後−20〜−10℃に一夜おいた。反応
液に水15m1を加えN −Na OHでpH7,0に
し、水層を塩化メチレンで洗った後、pH6,0,にし
減圧で濃縮し、濃縮液をアンバーライトXAD−2のカ
ラムクロマトグラフィーに付し、水、水−メタノール混
液で溶出した。目的物を主に含む区画を集め濃縮し凍結
乾燥すると7/ゲー(+)−5−カルホキ、 5−−7
タルイミトバレルアミト)−3−セフエン、 3(4−
カルバモイルピリジニオ ルボキンレートナトリτ″2ノ〜塩56011147(
収率631係)が得られた。
IR(KBr)cm−’ :8850.IT78.1’
108,1618。
108,1618。
468
NMR ( D20 ) :δ 1.80〜2.60
( 6H,m 、−C112CthCH2−)、2.9
0&355(2H,A旧1+J−18LIz+ 2.
−=CH2 )、5.10(IH,+I 、J=5)1
z,C6−II) 、5.84 A5、68(2H,A
Bq 、J =14Hz,8ーCH2)、5.60(I
H。
( 6H,m 、−C112CthCH2−)、2.9
0&355(2H,A旧1+J−18LIz+ 2.
−=CH2 )、5.10(IH,+I 、J=5)1
z,C6−II) 、5.84 A5、68(2H,A
Bq 、J =14Hz,8ーCH2)、5.60(I
H。
実施例28
0−フエニレンホスホロクロリテエ( +− 0. 4
69gの塩化メチレン5 ml溶液を−50〜−−−4
0°Cに冷却し、トリーn−ブチルアミノ0.455g
とメタノール7 8. 8 myの塩化メチレン5 m
l溶液をかきまぜながら加え、室温に戻し20分間反応
さぜメチル0−フエニレンポスフエイj・のIf 液全
製造1,。
69gの塩化メチレン5 ml溶液を−50〜−−−4
0°Cに冷却し、トリーn−ブチルアミノ0.455g
とメタノール7 8. 8 myの塩化メチレン5 m
l溶液をかきまぜながら加え、室温に戻し20分間反応
さぜメチル0−フエニレンポスフエイj・のIf 液全
製造1,。
た。7β−(1)〜5ーカルボキシー5ーフタルイミI
−バレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸のジトリ−ローブチルアミン塩1.
066gと4.6−シメチルー2−メルカプトピリミジ
ン塩酸塩0.822gの塩化メチレン5ml懸濁液にト
リーローブチルアミン0.889gを加えて溶解させ、
−30〜−35℃に冷却しかきまぜながら上記のメチル
0−フェニレンホスフェイト溶液を加えてから0〜5°
Cに戻し1時間反応させた。反応液に水15mLを加え
分液し、有機層に水15mLを加えpH 6. 0にし
て再び分液し、有機層に水20mlを加えN − Na
O HでpH 9. 0にして分液し水層を塩化メチ
レン5 mlで2回洗った。
−バレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸のジトリ−ローブチルアミン塩1.
066gと4.6−シメチルー2−メルカプトピリミジ
ン塩酸塩0.822gの塩化メチレン5ml懸濁液にト
リーローブチルアミン0.889gを加えて溶解させ、
−30〜−35℃に冷却しかきまぜながら上記のメチル
0−フェニレンホスフェイト溶液を加えてから0〜5°
Cに戻し1時間反応させた。反応液に水15mLを加え
分液し、有機層に水15mLを加えpH 6. 0にし
て再び分液し、有機層に水20mlを加えN − Na
O HでpH 9. 0にして分液し水層を塩化メチ
レン5 mlで2回洗った。
水層に塩化メチレン−テトラヒドロフラン(1:1)4
5mlを加え、2 N − HC l テpH 2.
0 ニL, ”’C分液し有機層を飽和食塩水で洗い硫
酸マグネジウドで乾燥し溶媒を留去した残留物にエーテ
ルを加えて生した粉末を戸数し乾燥すると7β−(D−
5−カルホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−3
−=( 4 、6−シメチルビリミシンー 2−イル)
チー)メチル−3−セフエン、 4 カ+lホシ酸0、
680g(収率825φ)か11)1°,;Jlrこ。
5mlを加え、2 N − HC l テpH 2.
0 ニL, ”’C分液し有機層を飽和食塩水で洗い硫
酸マグネジウドで乾燥し溶媒を留去した残留物にエーテ
ルを加えて生した粉末を戸数し乾燥すると7β−(D−
5−カルホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−3
−=( 4 、6−シメチルビリミシンー 2−イル)
チー)メチル−3−セフエン、 4 カ+lホシ酸0、
680g(収率825φ)か11)1°,;Jlrこ。
TR(KBr )++m ’ : 3290,2980
.256(1。
.256(1。
1778、1710,1580.153ONMR (
116−DMS O ) :δIJ(1〜2.4 0
( 6 1−1 、 m 。
116−DMS O ) :δIJ(1〜2.4 0
( 6 1−1 、 m 。
C I I2(川。CH2−) 、 2.85 (6H
、 s 、CI(*x2 )、 3.55(2H,2
−CH2)、8.98&4.36(2H,A13q,J
=1411z。
、 s 、CI(*x2 )、 3.55(2H,2
−CH2)、8.98&4.36(2H,A13q,J
=1411z。
2−CH2)、4.78(IH,L,J=71−1z,
−とH)、4.99(□ IH,tl + J= 5Hz+”−FT)、5.
56( III,tl 、J =5x 3Hz
,C?−H) 、 6.9 8 ( IH, S 、F
H) 、 7.87 ( 4H 、 s 。
−とH)、4.99(□ IH,tl + J= 5Hz+”−FT)、5.
56( III,tl 、J =5x 3Hz
,C?−H) 、 6.9 8 ( IH, S 、F
H) 、 7.87 ( 4H 、 s 。
α) 、 8.22 (IH 、 tl 、 J=8H
z +’−CONH−)実施例24 1)5−メルカプト−1−メチル−] ]Hーテトラゾ
〜ル0.195を塩化メチレン5 mlに溶かし、−1
0°Cに冷し、0−フエニレンホスホロクロリテエイl
− o. 2 6 8 gの塩化メチレン5ml溶Mj
e加工、− 2 0〜−25°Cに冷1ツシフエニルメ
チル7β−(5−ジフェニルメチルオキノカルホニル−
5−ワタルイミ1ーベレリルー1ミ!゛)3−に1−ロ
キシメチlし 3−セフエン、 4−、−ノJノ17ポ
キル−1〜1.1709の塩化メチレン8ml溶液を滴
Fl、lr″O7MAて20分間かきまぜ反応させた。
z +’−CONH−)実施例24 1)5−メルカプト−1−メチル−] ]Hーテトラゾ
〜ル0.195を塩化メチレン5 mlに溶かし、−1
0°Cに冷し、0−フエニレンホスホロクロリテエイl
− o. 2 6 8 gの塩化メチレン5ml溶Mj
e加工、− 2 0〜−25°Cに冷1ツシフエニルメ
チル7β−(5−ジフェニルメチルオキノカルホニル−
5−ワタルイミ1ーベレリルー1ミ!゛)3−に1−ロ
キシメチlし 3−セフエン、 4−、−ノJノ17ポ
キル−1〜1.1709の塩化メチレン8ml溶液を滴
Fl、lr″O7MAて20分間かきまぜ反応させた。
反応液に水10+n4を加え室温に戻し、分液し有機層
を水洗1ツ芒硝で乾燥、濃縮しエーテル80m1中に加
え生した粉末を組数した。氷晶をシリカケルクロマトグ
ラフィーに付し酢酸エチル:「1−ヘキサン(4:1)
の混合溶媒で溶出し、目的物を含む区画を集め濃縮しエ
ーテルを加えるとジフェニルメチル7β−(5−ジフェ
ニルメチルオキンカルポニル−5−フタルイミドバレリ
ルアミド・)−8−(1−メチル−IH−テトラソール
4−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルポキシ
レ−1・が得られた。
を水洗1ツ芒硝で乾燥、濃縮しエーテル80m1中に加
え生した粉末を組数した。氷晶をシリカケルクロマトグ
ラフィーに付し酢酸エチル:「1−ヘキサン(4:1)
の混合溶媒で溶出し、目的物を含む区画を集め濃縮しエ
ーテルを加えるとジフェニルメチル7β−(5−ジフェ
ニルメチルオキンカルポニル−5−フタルイミドバレリ
ルアミド・)−8−(1−メチル−IH−テトラソール
4−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルポキシ
レ−1・が得られた。
JR(KBr )pm−’ : 8850,80
80,2980゜1780.1717 NMR(+16−DMS O) :δ1.30〜2.4
0 (6H、m 。
80,2980゜1780.1717 NMR(+16−DMS O) :δ1.30〜2.4
0 (6H、m 。
−CH2CH2CH2−) 、 8.68 (2H、b
road 5 、2−CHQ。
road 5 、2−CHQ。
3.88(3H,s 、 −N−CHs)、4.24(
2H,broad S 。
2H,broad S 。
暇
a−CH2) 、 4.90〜5.20 (2H,m、
Cg−H&−(!’H)。
Cg−H&−(!’H)。
5.78(IH,q、J=5&8Hz)、6.81&6
.90(2H。
.90(2H。
s 、 −COOCHCX2 ) 、 ?、1 (1〜
7.6(1(201+ 、m 。
7.6(1(201+ 、m 。
(Q−)2 C−’X2 ) 、 7.91 (4H、
S、α\887(I H、d 、 J=8Hz 、 −
CONH−)2)5−メルカプl−−1−メチル−IH
−テ]・ラソール0.182g、l−リ−n−ブチルア
ミノ0.485gを塩化メチレン5 mlに溶かし、−
100Cに冷し、0−フエニレンホスホロクロリテエイ
l−0,250gの塩化メチレン5 ml溶液を加え−
20〜−25°Cに冷し、ジフェニルメチル−7β−(
5−ジフェニルメチルオキンカルホニル−5−フタルイ
ミドバレリルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート1.09gを加え1)と
同様に反応及び後処理すると1)とIR、NMR値が同
じ目的物が得られた。
S、α\887(I H、d 、 J=8Hz 、 −
CONH−)2)5−メルカプl−−1−メチル−IH
−テ]・ラソール0.182g、l−リ−n−ブチルア
ミノ0.485gを塩化メチレン5 mlに溶かし、−
100Cに冷し、0−フエニレンホスホロクロリテエイ
l−0,250gの塩化メチレン5 ml溶液を加え−
20〜−25°Cに冷し、ジフェニルメチル−7β−(
5−ジフェニルメチルオキンカルホニル−5−フタルイ
ミドバレリルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレート1.09gを加え1)と
同様に反応及び後処理すると1)とIR、NMR値が同
じ目的物が得られた。
実施例25
1)7β−(2−チェニルアセタミド)−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルホン酸トリーn−ブ
チルアミン塩0.540g、5−メルカプト−1−メチ
ル−IH−テトラゾール0、175 gを酢酸エチル1
0m1に加えかきまぜjfから一206Cに冷却し、メ
チル0−フエニレンホスポリテエイl−0,870、;
Iの酢酸エチル5ml溶液を加えた。水冷下に1.5時
間かきまぜ反応させた後、水10mtを加え分液し、有
機層に水20m1を加えpH9,0にして分液し、水層
を酢酸エチル5 mlで洗った。水層に酢酸エチル20
raLを加えpH2,0にして分液し有機層を飽和食塩
水で洗い、芒硝で乾燥し、酢酸エチルを減圧で留去後エ
ーテルを加え生じた粉末を組数すると7β−(2−チェ
ニルアセタミド)−8−(1−メチル−IH−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸o、as。
シメチル−3−セフェム−4−カルホン酸トリーn−ブ
チルアミン塩0.540g、5−メルカプト−1−メチ
ル−IH−テトラゾール0、175 gを酢酸エチル1
0m1に加えかきまぜjfから一206Cに冷却し、メ
チル0−フエニレンホスポリテエイl−0,870、;
Iの酢酸エチル5ml溶液を加えた。水冷下に1.5時
間かきまぜ反応させた後、水10mtを加え分液し、有
機層に水20m1を加えpH9,0にして分液し、水層
を酢酸エチル5 mlで洗った。水層に酢酸エチル20
raLを加えpH2,0にして分液し有機層を飽和食塩
水で洗い、芒硝で乾燥し、酢酸エチルを減圧で留去後エ
ーテルを加え生じた粉末を組数すると7β−(2−チェ
ニルアセタミド)−8−(1−メチル−IH−テトラゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸o、as。
g(収率84.1%)が得られた。氷晶のIR。
NMRは標品に一致した。
2)上記1)で7β−フェニルアセタミド−8−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジ−n−ブ
チルアミン塩0.477gを用いて、I−記1)に準じ
て反応後処理すると7−フェニルアセタミド−3−(1
−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−ビーフ−r、 J・−4−カルホン酸o、861
g(収率809φ)が得られた。氷晶のI r(、NM
Rは標品(こ一致し tこ 。
キンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジ−n−ブ
チルアミン塩0.477gを用いて、I−記1)に準じ
て反応後処理すると7−フェニルアセタミド−3−(1
−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオメチル
−3−ビーフ−r、 J・−4−カルホン酸o、861
g(収率809φ)が得られた。氷晶のI r(、NM
Rは標品(こ一致し tこ 。
実施例26
5−メルカプト−1−メチル−IH−テトう′〕゛−ル
180 mgに0−フェニレンホスホロクロ’Iタイト
271+ngの塩化メチレン4 ml溶液を加え、次に
トリエチルアミン1571N!7の塩化メチレン3 m
l溶液を加え一56Cに冷却しかきまぜなから7β−(
1)−5−カルボキン−5−フタルイミドバレルアミド
)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸のジトリエチルアミン塩732+ngを加え同温で
5分間かきまぜ反応させた。反II液に水lOmL、テ
トラヒドロフラン7 mlをjx+ 5−1pH2,0
にして分液し、有機層に水20mLを加えpH7,0に
し、減圧で塩化メチレン、テトラヒ1ζロフランを留去
し新に塩化メチレン10m1を加え、N 、−Na O
HでpH9,0とし分液し水層を塩化メチレン10m1
で洗った後、塩化メチレン−テトうl二1−ローフうノ
(1:1)20rnLを加えた。2N−HCeでpH2
0にし分液し有機層を飽和食塩水で洗い、芒硝乾燥後濃
縮し残留物にエーテルを加えて生じた粉末を戸数し乾燥
すると7/j−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイ
ミドバレルアミド)−8−(1−メチル−I H−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸410mg(収率65.7%)が得られた。
180 mgに0−フェニレンホスホロクロ’Iタイト
271+ngの塩化メチレン4 ml溶液を加え、次に
トリエチルアミン1571N!7の塩化メチレン3 m
l溶液を加え一56Cに冷却しかきまぜなから7β−(
1)−5−カルボキン−5−フタルイミドバレルアミド
)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸のジトリエチルアミン塩732+ngを加え同温で
5分間かきまぜ反応させた。反II液に水lOmL、テ
トラヒドロフラン7 mlをjx+ 5−1pH2,0
にして分液し、有機層に水20mLを加えpH7,0に
し、減圧で塩化メチレン、テトラヒ1ζロフランを留去
し新に塩化メチレン10m1を加え、N 、−Na O
HでpH9,0とし分液し水層を塩化メチレン10m1
で洗った後、塩化メチレン−テトうl二1−ローフうノ
(1:1)20rnLを加えた。2N−HCeでpH2
0にし分液し有機層を飽和食塩水で洗い、芒硝乾燥後濃
縮し残留物にエーテルを加えて生じた粉末を戸数し乾燥
すると7/j−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイ
ミドバレルアミド)−8−(1−メチル−I H−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸410mg(収率65.7%)が得られた。
水晶のIRおよびNMRスペクl−ラムは実施例1で得
たものと一致しtこ 。
たものと一致しtこ 。
実施例27
(1)0−フェニレンホスホロクロリゾエイト762m
g(4mM)の塩化メチレン10ar溶液にトリーn−
ブチルアミン741mg(4mM)を加え、次にメタノ
ール128my(4mM)の塩化メチレン5ml溶Mを
滴下しメチル0−フェニレンホスフェイトの溶液を調製
した。7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミ
ドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸シI・ジ−n−ブチルアミン874
mgと5−メルカプl−−−1−=メチル l II
テトラゾール174+nqを塩化メチレン5 ml
に溶かし、上記の溶液中に−15〜−10℃で滴[した
。
g(4mM)の塩化メチレン10ar溶液にトリーn−
ブチルアミン741mg(4mM)を加え、次にメタノ
ール128my(4mM)の塩化メチレン5ml溶Mを
滴下しメチル0−フェニレンホスフェイトの溶液を調製
した。7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミ
ドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸シI・ジ−n−ブチルアミン874
mgと5−メルカプl−−−1−=メチル l II
テトラゾール174+nqを塩化メチレン5 ml
に溶かし、上記の溶液中に−15〜−10℃で滴[した
。
同温で40分間かき混ぜ反応させた後塩化メチレンを減
圧下に留去し、残留物を水:アセ]・ニトリル(8:2
V/V)の混液に溶かした。この溶液中の7β−(D−
5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8
−(1−メチル−l H−テ1−ラゾールー5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸のIケを高
速液体クロマトグラフィーによって定限したところ58
7mg(収率898係)であった。
圧下に留去し、残留物を水:アセ]・ニトリル(8:2
V/V)の混液に溶かした。この溶液中の7β−(D−
5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8
−(1−メチル−l H−テ1−ラゾールー5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸のIケを高
速液体クロマトグラフィーによって定限したところ58
7mg(収率898係)であった。
(2)〜(18)
(1)の反応で、メタノール128mgの代りに表−1
に記載の各種のハイドロキシ化合物4mMを用い(1)
に準じて0−フェニレンホスポロクロリゾエイトをエス
テル化した溶液を製造し、この溶液を用いて、反応温度
−15〜−10℃で(1)の方法に準じて反応および定
量を行った。反応時間および7β〜(1)−5−カルボ
キシ−5−フタルゴミ1−バレルアミド)−8−(1−
メチル〜l I(−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸の収量について得ら
れた結果を表−1に示した。
に記載の各種のハイドロキシ化合物4mMを用い(1)
に準じて0−フェニレンホスポロクロリゾエイトをエス
テル化した溶液を製造し、この溶液を用いて、反応温度
−15〜−10℃で(1)の方法に準じて反応および定
量を行った。反応時間および7β〜(1)−5−カルボ
キシ−5−フタルゴミ1−バレルアミド)−8−(1−
メチル〜l I(−テトラゾール−5−イル)チオメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸の収量について得ら
れた結果を表−1に示した。
表−1
(21CHaOH8549882,0
(31CHsOH4051184,9
(4) CzHsOH6050584,0(51C
2H60H12050784,a(61C/5ccH2
0H549384,9(7) BrCH2CH20
H2050984,6(81n−CaHyOH1405
8188,8f91 i −C3H7OH1804
B4 72.1(IQ) BrCH2CH(Br)C
H20H2047579,0(11) n−C4H9
0H15049182,0(12) 1−C4H90
H150502g8.5(13) 5ee−C4Hs
OH21051885,8(14)〇−OH27050
583,9(15) (3−a(1049582,3
(16)○叩H550984,6 (17) CI(2=CH−CH20H404988
2,8(18) CH2=C(CHs)CIhOH4
049081,5実施例28 0−フエニレンホスホロクロリゾエイl−762mgの
塩化メチレン12m1溶液にトリーn−ブチルアミン7
41 mgを一10〜0°Cで加え21次に+1−プロ
ピルアミン286 mgを室温で加え、同+%aて10
分間反応させ、2−オキソ−2−プロピルアミノ−1,
8,2−ベンゾジオキサホスホールの溶液を製造した。
2H60H12050784,a(61C/5ccH2
0H549384,9(7) BrCH2CH20
H2050984,6(81n−CaHyOH1405
8188,8f91 i −C3H7OH1804
B4 72.1(IQ) BrCH2CH(Br)C
H20H2047579,0(11) n−C4H9
0H15049182,0(12) 1−C4H90
H150502g8.5(13) 5ee−C4Hs
OH21051885,8(14)〇−OH27050
583,9(15) (3−a(1049582,3
(16)○叩H550984,6 (17) CI(2=CH−CH20H404988
2,8(18) CH2=C(CHs)CIhOH4
049081,5実施例28 0−フエニレンホスホロクロリゾエイl−762mgの
塩化メチレン12m1溶液にトリーn−ブチルアミン7
41 mgを一10〜0°Cで加え21次に+1−プロ
ピルアミン286 mgを室温で加え、同+%aて10
分間反応させ、2−オキソ−2−プロピルアミノ−1,
8,2−ベンゾジオキサホスホールの溶液を製造した。
この溶液に7β−(+)−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド ロキシメチルー8ーセフェム−4−カルホン酸のジトリ
−n−ブチルアミン塩8 7 4 mgと5−メルカプ
ト−1−メチル−IH〜テトラソール174mgの塩化
メチレン5 rnt溶峠を−15−−−10°Cで滴下
し同温で15050分間反応た後、塩化メチレンを減圧
下に留去し、得ら第1だ残留物にー) (、 N −(
実施例2’H1)と同様に処理し定:11じたと.−7
+,7β−(D−,5−カルボキシ−5−フタルイミド
バレルアミド)−g−(1−メチル−1H−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸の含j7< 454 mg (収率755%)であ
った。
イミドバレルアミド ロキシメチルー8ーセフェム−4−カルホン酸のジトリ
−n−ブチルアミン塩8 7 4 mgと5−メルカプ
ト−1−メチル−IH〜テトラソール174mgの塩化
メチレン5 rnt溶峠を−15−−−10°Cで滴下
し同温で15050分間反応た後、塩化メチレンを減圧
下に留去し、得ら第1だ残留物にー) (、 N −(
実施例2’H1)と同様に処理し定:11じたと.−7
+,7β−(D−,5−カルボキシ−5−フタルイミド
バレルアミド)−g−(1−メチル−1H−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸の含j7< 454 mg (収率755%)であ
った。
実施例29
(1)ヒロカテコール5.5gに塩化メチレン110m
1およびトリエチルアミン152gを加えて溶かした。
1およびトリエチルアミン152gを加えて溶かした。
10〜20°Cでかき混ぜなからオキシ塩化リンフ、
29 gを約10分間で滴ドした。この反応液を窒素気
流下に沖過し、少ポの塩化メチレンで洗うとほぼ澄明な
7J’液124 mLか得られtこ。
29 gを約10分間で滴ドした。この反応液を窒素気
流下に沖過し、少ポの塩化メチレンで洗うとほぼ澄明な
7J’液124 mLか得られtこ。
(2)7β−(1)−5−カルホキノー5−フタルイミ
]・ハレルアjF)−3−ヒドロキノメチル−3−セフ
ェ1.−4−カルホン酸のン1−リエチルアミン塩84
9 mgと5−メルカプ]・−1−メチル−11■−テ
トラゾール168mgの塩化メチレン6 ml溶液をか
き混ぜ、−10〜0°Cに冷却しなから(1)で得られ
た炉液9.4 mlを滴下し同温で2時間反応させた後
−夜0〜5℃においた。水冷下2 N−HCl 10
mlを加えPH2にし、テトラヒドロフランと水の混[
(1: 1 、V/V)18mlを加え不溶物を枦去し
同混液2 mlて洗う。
]・ハレルアjF)−3−ヒドロキノメチル−3−セフ
ェ1.−4−カルホン酸のン1−リエチルアミン塩84
9 mgと5−メルカプ]・−1−メチル−11■−テ
トラゾール168mgの塩化メチレン6 ml溶液をか
き混ぜ、−10〜0°Cに冷却しなから(1)で得られ
た炉液9.4 mlを滴下し同温で2時間反応させた後
−夜0〜5℃においた。水冷下2 N−HCl 10
mlを加えPH2にし、テトラヒドロフランと水の混[
(1: 1 、V/V)18mlを加え不溶物を枦去し
同混液2 mlて洗う。
ン戸洗液を分液し、有機層を水10mLで洗い、水層を
塩化メチレン2 atで抽出し’i+T−のr1機層と
合せjll(水硫酸マグネシウムで1:を燥し約5 m
lまで濃縮後エーテル’l0m1中に加え析出した粉末
を戸数しエーテルで洗い乾燥すると7β−(1)−5−
カルホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−3−(
1−メチル−I H−テトラソール−5−イル)チオメ
チル−3−セフェム−4−カルホン酸514mg(収率
71.0%)がfUら′IIた。水晶のN)、’IR,
IR値は標品に一致した。
塩化メチレン2 atで抽出し’i+T−のr1機層と
合せjll(水硫酸マグネシウムで1:を燥し約5 m
lまで濃縮後エーテル’l0m1中に加え析出した粉末
を戸数しエーテルで洗い乾燥すると7β−(1)−5−
カルホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−3−(
1−メチル−I H−テトラソール−5−イル)チオメ
チル−3−セフェム−4−カルホン酸514mg(収率
71.0%)がfUら′IIた。水晶のN)、’IR,
IR値は標品に一致した。
実施例30
7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のシトリエチルアミン塩849 mgと2
−メルカプトペンツチアゾール194mgを塩化メチレ
ン6 mlに溶かし、かき混ぜながら一10〜08Cで
実施例29(11で得られたP液94m1を滴下し、同
温で40分間反応させた後−夜θ〜5°Cにおいた。反
応液を実施例2!lN2)と同様に処理すると7β−(
1)−5−カノーボキシー5−フタルイミドバレルアミ
ド)−3−〔(ヘンジチアソール−2−イル)チ”オメ
チル〕−3−セフェムー4−カルボン酸467mg(収
率59.6チ)が得られた。水晶のIRおよびNMR値
は実施例12で得られたものと一致した。
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のシトリエチルアミン塩849 mgと2
−メルカプトペンツチアゾール194mgを塩化メチレ
ン6 mlに溶かし、かき混ぜながら一10〜08Cで
実施例29(11で得られたP液94m1を滴下し、同
温で40分間反応させた後−夜θ〜5°Cにおいた。反
応液を実施例2!lN2)と同様に処理すると7β−(
1)−5−カノーボキシー5−フタルイミドバレルアミ
ド)−3−〔(ヘンジチアソール−2−イル)チ”オメ
チル〕−3−セフェムー4−カルボン酸467mg(収
率59.6チ)が得られた。水晶のIRおよびNMR値
は実施例12で得られたものと一致した。
実施例31
+113,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルエステル8
.64gに塩化メチレン44m1およびトリエチルアミ
ン6.06gを加えて溶かし、10〜20℃でオキン塩
化リン2.92gを約10分間で滴下した。反応液を窒
素気流下に沖過し、P渣を塩化メチレン20m1で洗浄
瀘過した。ρ液と洗液を合せると62 m、lの溶液が
得られた。
.64gに塩化メチレン44m1およびトリエチルアミ
ン6.06gを加えて溶かし、10〜20℃でオキン塩
化リン2.92gを約10分間で滴下した。反応液を窒
素気流下に沖過し、P渣を塩化メチレン20m1で洗浄
瀘過した。ρ液と洗液を合せると62 m、lの溶液が
得られた。
+2+5−−メルカプト−1−メチル−IH−テトラゾ
ール168mgに(1)で得られた溶液17.6 ml
を加えて溶かし、かき混ぜなが「ノ0〜5゛Cで7β−
(D−5−カルボキシ−5〜フタルイE t’バレルア
ミド)−3−ヒドロキシメチル−3−ナノエム−4−カ
ルボン酸のジトリエチルアミン塩849 mgを加え同
温で2時間反応させた。反応液に水10mL及び塩fヒ
メチレン10m1を加丸、PH2に調整し分液し有機層
を水5 mlで洗浄した。
ール168mgに(1)で得られた溶液17.6 ml
を加えて溶かし、かき混ぜなが「ノ0〜5゛Cで7β−
(D−5−カルボキシ−5〜フタルイE t’バレルア
ミド)−3−ヒドロキシメチル−3−ナノエム−4−カ
ルボン酸のジトリエチルアミン塩849 mgを加え同
温で2時間反応させた。反応液に水10mL及び塩fヒ
メチレン10m1を加丸、PH2に調整し分液し有機層
を水5 mlで洗浄した。
有機層に水20nLlを加えN −Na OH水てPH
85にして分液し、有機層を水10m1で洗い、水層を
合せ塩化メチレン5 ratで2回洗った。水層に塩化
メチレン15rnLとテトラヒドロフラン15m1を加
え4N−J(Cj’でPH2にして分Mj、、水Mを塩
化メチレノとテi・ラヒドロフランの混液(1: 1
、V/V)10mlで洗い、有機層を合せて飽fn食塩
水10m1で2回洗浄し、硫酸マクネジウドで乾燥し溶
媒を留去した。残留物にエーテルを加え生じた粉末を1
取しエーテルで洗い乾燥すると7β−(J)−5−カル
ホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−S−(1−
メチル−11(−テトラシーツL/−5−イル)チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸51 ’Omy
(70,5%)か得られた。氷晶のIR値は標品に一致
しtこ。
85にして分液し、有機層を水10m1で洗い、水層を
合せ塩化メチレン5 ratで2回洗った。水層に塩化
メチレン15rnLとテトラヒドロフラン15m1を加
え4N−J(Cj’でPH2にして分Mj、、水Mを塩
化メチレノとテi・ラヒドロフランの混液(1: 1
、V/V)10mlで洗い、有機層を合せて飽fn食塩
水10m1で2回洗浄し、硫酸マクネジウドで乾燥し溶
媒を留去した。残留物にエーテルを加え生じた粉末を1
取しエーテルで洗い乾燥すると7β−(J)−5−カル
ホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−S−(1−
メチル−11(−テトラシーツL/−5−イル)チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸51 ’Omy
(70,5%)か得られた。氷晶のIR値は標品に一致
しtこ。
実施例32
(1)2.8−シヒ1−ロキシナフタレン127gに塩
化メチレン44mjとトリエチルアミン606gを加え
て溶かし、かき混ぜ10〜208Cに冷却しながら、オ
キシ塩化リン2.92gを滴下した。反応液を窒素気流
下に沖過し、ン戸渣を塩化メチレノ20 m、lで洗浄
濾過し、炉液洗液を合せると56m1の溶液が得られた
。
化メチレン44mjとトリエチルアミン606gを加え
て溶かし、かき混ぜ10〜208Cに冷却しながら、オ
キシ塩化リン2.92gを滴下した。反応液を窒素気流
下に沖過し、ン戸渣を塩化メチレノ20 m、lで洗浄
濾過し、炉液洗液を合せると56m1の溶液が得られた
。
(215−−メルカプト−1−メチル−1H−テトラソ
ール168 mgに(1)で得た溶液15.9 mlを
加えて溶かし、かき混ぜ0〜5パCに冷却しなから7β
−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミ
ド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カル
ホン酸のジトリエチルアミン塩849 mgを加え同温
で2時間、室温で5時間反応させた後0〜5℃に一夜お
き実施例8N21と同様に処理すると7β−(1)−5
−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド>−8−
(1−メチル−L H−テトラソール−5−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボッ酸か得られた。氷
晶のN M R値は標品に一致した。
ール168 mgに(1)で得た溶液15.9 mlを
加えて溶かし、かき混ぜ0〜5パCに冷却しなから7β
−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミ
ド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−カル
ホン酸のジトリエチルアミン塩849 mgを加え同温
で2時間、室温で5時間反応させた後0〜5℃に一夜お
き実施例8N21と同様に処理すると7β−(1)−5
−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド>−8−
(1−メチル−L H−テトラソール−5−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボッ酸か得られた。氷
晶のN M R値は標品に一致した。
実施例33
(1) ピロカテコール220gに塩化メチレン44
m1と1〜リエチルアミン6.06gを加えて溶かし、
三塩化リン2.61gを水冷下に滴下して実施例82(
1)と同様に処理し、52m1の溶液を得た。
m1と1〜リエチルアミン6.06gを加えて溶かし、
三塩化リン2.61gを水冷下に滴下して実施例82(
1)と同様に処理し、52m1の溶液を得た。
(2+ (11で得られた溶液14.8 mlを用い
て実施例32(2)に準じて30分間反応させてから同
様に処理し17−(1)−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド)−8−(1−メチル−L H−テ
トラソール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸488m9(60,0係)が得られた。氷
晶のIR,NMR値は標品に一致した。
て実施例32(2)に準じて30分間反応させてから同
様に処理し17−(1)−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド)−8−(1−メチル−L H−テ
トラソール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸488m9(60,0係)が得られた。氷
晶のIR,NMR値は標品に一致した。
実施例34
(1) ピロカテコール220gを塩化メチレノ44
m1トトリエチルアミン10.1 gに溶かし、水冷下
かき混ぜなから五塩化リン396gを少ボーづつ加え、
実施例82(11と同様に処理し、48m1の溶液を得
た。
m1トトリエチルアミン10.1 gに溶かし、水冷下
かき混ぜなから五塩化リン396gを少ボーづつ加え、
実施例82(11と同様に処理し、48m1の溶液を得
た。
(21+11で得られた溶液117m1を用いて、実施
例3N21と同様に反応および後処理し、7β−(D=
5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド) −
8−(1−メチル−I H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸が得られた
。氷晶のIR値は標品に一致した。
例3N21と同様に反応および後処理し、7β−(D=
5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド) −
8−(1−メチル−I H−テトラゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸が得られた
。氷晶のIR値は標品に一致した。
実施例35
(1) ピロカテコール2.20gを塩化メチレン4
0m1およびジイソ−ブチルアミン7、76 gに溶か
し、水冷下オキシ塩化リン2.92gを10分間かけて
滴下し室温で10分間かき混ぜると赤褐色の反応液50
m1が得られた。
0m1およびジイソ−ブチルアミン7、76 gに溶か
し、水冷下オキシ塩化リン2.92gを10分間かけて
滴下し室温で10分間かき混ぜると赤褐色の反応液50
m1が得られた。
(21(11の反応液14.2 mlを用いて実施例8
N21に準じて水冷下50分間ついで室温で2.5時間
反応させた。反応液を実施例81(2+と同様に後処理
すると7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミ
ドバレルアミド)−8−(1−メチル−1H−テトう゛
ゾールー5−イル)チ4゛ノ千ル3−セフェムー4−カ
ルホン酸471 mq(65,2%)が得られた。氷晶
のNMR値は標品に−・致しtこ。
N21に準じて水冷下50分間ついで室温で2.5時間
反応させた。反応液を実施例81(2+と同様に後処理
すると7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミ
ドバレルアミド)−8−(1−メチル−1H−テトう゛
ゾールー5−イル)チ4゛ノ千ル3−セフェムー4−カ
ルホン酸471 mq(65,2%)が得られた。氷晶
のNMR値は標品に−・致しtこ。
実施例36
(1) ピロカテコール2.20gを塩化メチ1/ン
40mLとトリエチルアミン6.06gに溶かし7、水
冷上三塩化リン2.61gを滴下し塩化メチレン4ml
で洗い入れた。室温で10分間かき混ぜてから再び5°
Cに冷却しメタノール064gを加えると内温か18℃
まで上った。室温で10分間かき混ぜ後窒素気流下に反
応液を濾過1枦211jを塩化メチレンで洗い枦洗液を
合せると55mjの溶液が得られた。
40mLとトリエチルアミン6.06gに溶かし7、水
冷上三塩化リン2.61gを滴下し塩化メチレン4ml
で洗い入れた。室温で10分間かき混ぜてから再び5°
Cに冷却しメタノール064gを加えると内温か18℃
まで上った。室温で10分間かき混ぜ後窒素気流下に反
応液を濾過1枦211jを塩化メチレンで洗い枦洗液を
合せると55mjの溶液が得られた。
(2)5−メルカプト−1−メチル−I I(−テトラ
ゾール168rngに(1)で得られた溶液15.6
mlを加えて溶かし、水冷下7β−(D−5−カルホキ
シー5−フタルイミドバレルアミド) −3、、、、l
ニトロキシメチル−3−セフェム−4−カルホン酸のジ
トリエチルアミン塩849 mgを加え同n11(て1
.5時間室温で2.0時間かき混ぜ反応させた後0〜5
℃で一皮おいた。更に室温で6時間反応させてから、反
応液を実施例31(2+と同様に後処理すると7μm(
D−5−カルボキシ−5−7タルイミドバレルア芝l’
)−3−(1−メチル−I H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルホン酸482
+ng(66,8%)が得られた。水晶のIR値は標品
に一致した。
ゾール168rngに(1)で得られた溶液15.6
mlを加えて溶かし、水冷下7β−(D−5−カルホキ
シー5−フタルイミドバレルアミド) −3、、、、l
ニトロキシメチル−3−セフェム−4−カルホン酸のジ
トリエチルアミン塩849 mgを加え同n11(て1
.5時間室温で2.0時間かき混ぜ反応させた後0〜5
℃で一皮おいた。更に室温で6時間反応させてから、反
応液を実施例31(2+と同様に後処理すると7μm(
D−5−カルボキシ−5−7タルイミドバレルア芝l’
)−3−(1−メチル−I H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−3−セフェム−4−カルホン酸482
+ng(66,8%)が得られた。水晶のIR値は標品
に一致した。
実施例37
5−メルカプト−1−メチル−11−r−テ]・ラゾー
ル450mgと7β−(1)−5−カルホキシー 5−
フタルイミドバレルアミド)−a−ヒドロキシメチル−
3−セフェム−4−カルホン酸のシトリフチルア2ン塩
487mgを塩化メチレン10m1に溶かし−25〜−
20°Cに冷却しなから2,2−ンヒドロー4,5−ジ
メチル−T2,2.2−1−リメトキシー1.8.2−
ジオキサホスホール0.5 mlを約5分間で滴下した
。5分間同温でかき混ぜ往水15+njを加え分散し水
層を塩化メチレン5 +++jで洗い、有機層を合せ水
15m1を加えN−N+IOI■水でpH3,5にして
分液し、水層を塩化メチレン5 mlで洗った。水層に
テトラヒドロフラン10m1と塩化メチレン15m1を
加え、2 N −IICl テP)(2,8にして分液
[ッ、有機層を水5 ml、飽和食塩水5mlの順に洗
い、無zJ<硫酸マダイ・ンウムで乾燥し、溶媒を留去
(ッた。残留物に少量のアセ1〜〕を加えて溶かしエー
テルを加えて生じた粉末を瀘取し、エーテルで洗い乾燥
すると7β−(D−5〜カルボキン−5−フタルゴミ1
〜バレルアミド)−3−(1−メチル−] ]H−テト
ラゾールー5−イルチオメチル−3−セフニド−4−カ
ルボン酸215 m2(71,5%)か得られtコ。水
晶のIR,NMR値は標品と一致した。
ル450mgと7β−(1)−5−カルホキシー 5−
フタルイミドバレルアミド)−a−ヒドロキシメチル−
3−セフェム−4−カルホン酸のシトリフチルア2ン塩
487mgを塩化メチレン10m1に溶かし−25〜−
20°Cに冷却しなから2,2−ンヒドロー4,5−ジ
メチル−T2,2.2−1−リメトキシー1.8.2−
ジオキサホスホール0.5 mlを約5分間で滴下した
。5分間同温でかき混ぜ往水15+njを加え分散し水
層を塩化メチレン5 +++jで洗い、有機層を合せ水
15m1を加えN−N+IOI■水でpH3,5にして
分液し、水層を塩化メチレン5 mlで洗った。水層に
テトラヒドロフラン10m1と塩化メチレン15m1を
加え、2 N −IICl テP)(2,8にして分液
[ッ、有機層を水5 ml、飽和食塩水5mlの順に洗
い、無zJ<硫酸マダイ・ンウムで乾燥し、溶媒を留去
(ッた。残留物に少量のアセ1〜〕を加えて溶かしエー
テルを加えて生じた粉末を瀘取し、エーテルで洗い乾燥
すると7β−(D−5〜カルボキン−5−フタルゴミ1
〜バレルアミド)−3−(1−メチル−] ]H−テト
ラゾールー5−イルチオメチル−3−セフニド−4−カ
ルボン酸215 m2(71,5%)か得られtコ。水
晶のIR,NMR値は標品と一致した。
実施例38
+11 1−シーフェニルホスファイl−1,86gの
塩化メチレノ12m1溶液に0−クロラニル1.476
gの塩化)チレン10m1溶液を室温で加え、2゜2〜
ジヒドロ−4,5,6,7テ1へラウロロー2,2.2
−1−リフエノキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホス
ホールの塩化メチレン溶液28m1を得た。
塩化メチレノ12m1溶液に0−クロラニル1.476
gの塩化)チレン10m1溶液を室温で加え、2゜2〜
ジヒドロ−4,5,6,7テ1へラウロロー2,2.2
−1−リフエノキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホス
ホールの塩化メチレン溶液28m1を得た。
(2)実施例37において、2.2−ジヒドロ−4゜5
−ジメチル−2、2、2−)リメトキシ−1゜3.2−
ジオキサホスホール0.5 mLの代りに上記の(1)
で得られた溶液8.、Omlを用いて同様に反応および
後処理を行い7β−(D−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド)−8−<1−メチル−IH−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸220mg(78,1%)が得られた。水晶
のIR。
−ジメチル−2、2、2−)リメトキシ−1゜3.2−
ジオキサホスホール0.5 mLの代りに上記の(1)
で得られた溶液8.、Omlを用いて同様に反応および
後処理を行い7β−(D−5−カルボキシ−5−フタル
イミドバレルアミド)−8−<1−メチル−IH−テト
ラゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸220mg(78,1%)が得られた。水晶
のIR。
NMR値は標品と一致した。
実施例39
1−(2−ジメチルアミノエチル)−5−メルカプト−
IH−テトラゾール0.178gをアセトニトリル15
m1に懸副し、トリエチルアミン0.152gを加えて
溶かし、7β−(1)−5−カルホキシー5−フタルイ
ミドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸のシトIJ−n−フチルアミン塩
0.874gを加えて溶かし〜25℃に冷却し、メチル
0−フェニレンホスフェイト0.744 、の塩化メチ
レン5 ml溶液を−25〜−20°Cで滴下した。か
き混ぜながら同温で20分間反応させ、反応液に水5
mlを加え減圧下に濃縮して得られた残留物を水とアセ
トニl−’Jルノ混液(8: 2 、V、/V )テ正
確ニ50 miミニ馴し、この溶液中の目的物7p−(
1)−5−カルボキシ−5〜フタルイミドバレルアεド
)−8−[1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H−
テトラゾール、シー5−イル〕チオメチル〕−3−セフ
エム−4−カルボン酸の含量を高速液体クロマトグラフ
ィーで定量した所0.593g(収率90.0%)が含
有されていた。上記の50mLの稀釈液のうち45、0
mlをとり、N−HCl!4.0rnlを加え濃縮後
即乾するとアメ状の固形物が得られた。この固形物をエ
タノールに溶かしエーテルを加えて生じた粉末を1取し
エーテルで洗い乾燥すると上記目的物の塩酸塩0.54
gが得られた。水晶のN M R(pは実施例2て得
られたものと一致した。
IH−テトラゾール0.178gをアセトニトリル15
m1に懸副し、トリエチルアミン0.152gを加えて
溶かし、7β−(1)−5−カルホキシー5−フタルイ
ミドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸のシトIJ−n−フチルアミン塩
0.874gを加えて溶かし〜25℃に冷却し、メチル
0−フェニレンホスフェイト0.744 、の塩化メチ
レン5 ml溶液を−25〜−20°Cで滴下した。か
き混ぜながら同温で20分間反応させ、反応液に水5
mlを加え減圧下に濃縮して得られた残留物を水とアセ
トニl−’Jルノ混液(8: 2 、V、/V )テ正
確ニ50 miミニ馴し、この溶液中の目的物7p−(
1)−5−カルボキシ−5〜フタルイミドバレルアεド
)−8−[1−(2−ジメチルアミノエチル)−1H−
テトラゾール、シー5−イル〕チオメチル〕−3−セフ
エム−4−カルボン酸の含量を高速液体クロマトグラフ
ィーで定量した所0.593g(収率90.0%)が含
有されていた。上記の50mLの稀釈液のうち45、0
mlをとり、N−HCl!4.0rnlを加え濃縮後
即乾するとアメ状の固形物が得られた。この固形物をエ
タノールに溶かしエーテルを加えて生じた粉末を1取し
エーテルで洗い乾燥すると上記目的物の塩酸塩0.54
gが得られた。水晶のN M R(pは実施例2て得
られたものと一致した。
実施例40
7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸のシトリ−〇−ブチルアミン塩1.75g、
イソニコチン酸アミド0.298gをホルムアミド4
mlとアセ1−二トリル6mlに溶かし、−20℃に冷
却した。かき混ぜながら−20〜−15°Cでメチルθ
−フェニレンホスフェイト0、’14gの塩化メチレン
2 ml溶液を滴下した後同温で30分反応させた。反
応液を10°Cに昇温させ、アセトニ(・リル50m1
およびエーテル50m1を加え析出した粉末を戸数し1
セトニl−’Jルて洗い乾燥すると7β−(+)−5−
カルホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−3−セ
フェム−3=(4−カルバモイルピリジニウム)メチル
−4−カルホキシレーt−1,04y (収率855%
)か得られた。
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸のシトリ−〇−ブチルアミン塩1.75g、
イソニコチン酸アミド0.298gをホルムアミド4
mlとアセ1−二トリル6mlに溶かし、−20℃に冷
却した。かき混ぜながら−20〜−15°Cでメチルθ
−フェニレンホスフェイト0、’14gの塩化メチレン
2 ml溶液を滴下した後同温で30分反応させた。反
応液を10°Cに昇温させ、アセトニ(・リル50m1
およびエーテル50m1を加え析出した粉末を戸数し1
セトニl−’Jルて洗い乾燥すると7β−(+)−5−
カルホキシー5−フタルイミドバレルアミド)−3−セ
フェム−3=(4−カルバモイルピリジニウム)メチル
−4−カルホキシレーt−1,04y (収率855%
)か得られた。
N M R(D20−)−に2COa ) :実施例
22で得られたものと同し値であった。
22で得られたものと同し値であった。
実施例41
実施例5においてメチル0−フェニレンホスフェイト0
74gの代りに2−フェニル−1,3゜2−ベンゾジオ
キサホスホ−ルー2−オキシド093gの塩化メチレン
4妃溶液を用いて、10分間反応させた後実施例5と同
様に後処理し、[i曲物1.12g(収率93.1%)
を得た。氷晶のIRおよ(J N M R値は実施例1
で得られたものと一致しtこ。
74gの代りに2−フェニル−1,3゜2−ベンゾジオ
キサホスホ−ルー2−オキシド093gの塩化メチレン
4妃溶液を用いて、10分間反応させた後実施例5と同
様に後処理し、[i曲物1.12g(収率93.1%)
を得た。氷晶のIRおよ(J N M R値は実施例1
で得られたものと一致しtこ。
実施例42
7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルホン酸ノカリウム塩57J(和物0、6709を水
5 mlに溶かし、テトラヒドロフラン5 mlを加え
てから、56C以下で4 N −HCl テpH2,5
にし、塩化メチレンlOmLを加えて分液した。
アミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4−
カルホン酸ノカリウム塩57J(和物0、6709を水
5 mlに溶かし、テトラヒドロフラン5 mlを加え
てから、56C以下で4 N −HCl テpH2,5
にし、塩化メチレンlOmLを加えて分液した。
水層をテトラヒドロフラン2.5 mlと塩化メチレン
51、lて抽出し有機層を合せて無水硫酸マダイ・シラ
ノ・で乾燥し絨圧下に濃縮しrlVびテトラヒドロフラ
ン10m1と塩化メチlノン50耐を加え濃縮した。残
留物をテトラヒドロフラン10m1に溶かし、5−メル
カプト−1−メチル−IH−テトラ゛l−ル0.174
gを加え、−15〜−10℃でメチルO−フェニレンホ
スフェイト0.744gをテトラヒドロフラン4 ml
に溶かした溶液を加えた。同温度で50分かき混ぜてか
らM、II下に濃縮し残留物を少量のテトラヒドロフラ
ンに溶か肱エーテル100 ml中に加え析出した粉末
を戸数しエーテルで洗0乾燥すると7β−(1) −5
−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8−
(1−メチル−IH−テ1ヘラゾールー5−イlし)チ
オメチル−3−−t!フエムー4−カルボン酸0.56
0g(93,1係)力く得られた。氷晶のNMR,IR
スペクトル(よ実施例1で得られたものと一致しtコ。
51、lて抽出し有機層を合せて無水硫酸マダイ・シラ
ノ・で乾燥し絨圧下に濃縮しrlVびテトラヒドロフラ
ン10m1と塩化メチlノン50耐を加え濃縮した。残
留物をテトラヒドロフラン10m1に溶かし、5−メル
カプト−1−メチル−IH−テトラ゛l−ル0.174
gを加え、−15〜−10℃でメチルO−フェニレンホ
スフェイト0.744gをテトラヒドロフラン4 ml
に溶かした溶液を加えた。同温度で50分かき混ぜてか
らM、II下に濃縮し残留物を少量のテトラヒドロフラ
ンに溶か肱エーテル100 ml中に加え析出した粉末
を戸数しエーテルで洗0乾燥すると7β−(1) −5
−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−8−
(1−メチル−IH−テ1ヘラゾールー5−イlし)チ
オメチル−3−−t!フエムー4−カルボン酸0.56
0g(93,1係)力く得られた。氷晶のNMR,IR
スペクトル(よ実施例1で得られたものと一致しtコ。
実施例43
実施例5においてメチル0−フエニレンホスフエイl−
0,74gの代りに2ニオキ゛ノー4,5−ジメチル−
2,2−ジヒドロ−2−メトキシ−1゜3.2−ジオキ
サホスホール0.65gの塩イヒメチレン4 ml溶液
を用いて30分間反応させ?、m後実施例5と同様に後
処理し、目的物0.95 g (79,0%)を得た。
0,74gの代りに2ニオキ゛ノー4,5−ジメチル−
2,2−ジヒドロ−2−メトキシ−1゜3.2−ジオキ
サホスホール0.65gの塩イヒメチレン4 ml溶液
を用いて30分間反応させ?、m後実施例5と同様に後
処理し、目的物0.95 g (79,0%)を得た。
氷晶のIRおよびNMR値は実施例1で得られたものと
一致した。
一致した。
実施例44
(1) デアセチルセファロスポリン0ナトリウト(
純1=9o、 1 % ) 8.781/に水24 r
nl! ”e IJIIえテ溶かし、テトラヒドロフラ
ン(Tll l” ) 8F/f’Y加える。40%炭
酸カリ水溶液とクロル炭酸フェニル8.76、!9ビp
H9,5〜10.0.15〜20°Cで交1iに滴−ド
する。滴下後10分間かき混せてから′用F40献ケ加
え3〜5 ”Cに冷却しながら濃塩酸ン滴下しpH2,
5にし、塩化メチレン657nI!Y加えて分液し水層
を四にTl1F17 InI!と塩化メチレン34ゴの
混液で抽出した。11機層を合せて無水硫酸マグ不ンウ
ムで乾燥しトリーn−ブナルアミン8.169ンIJ1
1え成用下(:乾固し残留物に塩化メチレン乞7111
1え111ひ乾固した。残留物を塩(Uメチレン(二溶
力・しエーテル中に滴下し析出する扮禾乞d1取すると
7β−[1)−5−カルボキン−5−フェノキシカルボ
ニルアミノバレルアミド)−8−ヒドロキシノブ−ルー
3−−−七フエムー4−カルボン酸のジトリ−n−ブチ
ルアミン塩16.2.!iiが得られた。
純1=9o、 1 % ) 8.781/に水24 r
nl! ”e IJIIえテ溶かし、テトラヒドロフラ
ン(Tll l” ) 8F/f’Y加える。40%炭
酸カリ水溶液とクロル炭酸フェニル8.76、!9ビp
H9,5〜10.0.15〜20°Cで交1iに滴−ド
する。滴下後10分間かき混せてから′用F40献ケ加
え3〜5 ”Cに冷却しながら濃塩酸ン滴下しpH2,
5にし、塩化メチレン657nI!Y加えて分液し水層
を四にTl1F17 InI!と塩化メチレン34ゴの
混液で抽出した。11機層を合せて無水硫酸マグ不ンウ
ムで乾燥しトリーn−ブナルアミン8.169ンIJ1
1え成用下(:乾固し残留物に塩化メチレン乞7111
1え111ひ乾固した。残留物を塩(Uメチレン(二溶
力・しエーテル中に滴下し析出する扮禾乞d1取すると
7β−[1)−5−カルボキン−5−フェノキシカルボ
ニルアミノバレルアミド)−8−ヒドロキシノブ−ルー
3−−−七フエムー4−カルボン酸のジトリ−n−ブチ
ルアミン塩16.2.!iiが得られた。
I R(1<:Hr)m’;3250,2930,17
60.1785゜1660.160O NfxlR(d6−1)へ480):δ0.7〜2.4
および2.6〜3.1 (m 。
60.1785゜1660.160O NfxlR(d6−1)へ480):δ0.7〜2.4
および2.6〜3.1 (m 。
(el13C112C112C1−12) 3N&−(
CH2) 8CO−) 、 3.45(br、 2−C
H2)、3.95(m、 −CH) 、 4.15(b
r。
CH2) 8CO−) 、 3.45(br、 2−C
H2)、3.95(m、 −CH) 、 4.15(b
r。
3−CI]2)、494(d、に5H2,C6−H)、
5.52(q。
5.52(q。
J =5X8Hz 、 C7−1−I) 、 6.9〜
7.6 (m’、C> ) 、 7.7〜8.9 (m
、 −0−CONH−、C−C0NI−1、−COO
I−I )(2)7β−〔D−5−カルボキシ−5−フ
ェノキシカルボニルアミノバレルアミド〕−3−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸のシトリ−
n−ブチルアミン塩8.64p−4塩化メチレン100
rrLe(二溶かし、5−メルカプト−1−メチル−I
ll−テトラゾール1.74g’(J加えて溶かし、−
20〜−25℃の冷却下にメチル0−フェニレンホスフ
ェイト8.72gの塩化メチレン1゜I溶液を5分間に
滴下した後0〜−5℃で60分間かき混せた。反応液に
冷水807/7乞加え、N−N a O)J 、7J(
でp148.5にし分液し水層ゲ塩IKノー1−レン2
0 M テ211112>L イ、水1r4 ニi”
l−1F 50 rtlとJy、、: +b メチレン
501ney加え濃塩酸を滴下しpH1,5どし分岐し
有機層7とり、水層を史にT I−I F 15meと
塩化メチレン15m1の混液で抽出し11機層を合せて
g 、7J(硫酸マグイ・ンウムで乾燥後溶媒を少:且
になる王で濃縮した。残留液レエーテルsoome中に
滴下し析出した粉末を1取しエーテルでaい真空乾燥す
ると、7β−(D−5−カルボギン−5−フェノキンカ
ルボニルアミノバレルアミド)−3−(1−メゾルー1
1−1−テトラゾール−5−イル)ヵオメテルー3−セ
フェムー4−カルボン酸5.4+、!7(収率91.4
係)し得た。
7.6 (m’、C> ) 、 7.7〜8.9 (m
、 −0−CONH−、C−C0NI−1、−COO
I−I )(2)7β−〔D−5−カルボキシ−5−フ
ェノキシカルボニルアミノバレルアミド〕−3−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸のシトリ−
n−ブチルアミン塩8.64p−4塩化メチレン100
rrLe(二溶かし、5−メルカプト−1−メチル−I
ll−テトラゾール1.74g’(J加えて溶かし、−
20〜−25℃の冷却下にメチル0−フェニレンホスフ
ェイト8.72gの塩化メチレン1゜I溶液を5分間に
滴下した後0〜−5℃で60分間かき混せた。反応液に
冷水807/7乞加え、N−N a O)J 、7J(
でp148.5にし分液し水層ゲ塩IKノー1−レン2
0 M テ211112>L イ、水1r4 ニi”
l−1F 50 rtlとJy、、: +b メチレン
501ney加え濃塩酸を滴下しpH1,5どし分岐し
有機層7とり、水層を史にT I−I F 15meと
塩化メチレン15m1の混液で抽出し11機層を合せて
g 、7J(硫酸マグイ・ンウムで乾燥後溶媒を少:且
になる王で濃縮した。残留液レエーテルsoome中に
滴下し析出した粉末を1取しエーテルでaい真空乾燥す
ると、7β−(D−5−カルボギン−5−フェノキンカ
ルボニルアミノバレルアミド)−3−(1−メゾルー1
1−1−テトラゾール−5−イル)ヵオメテルー3−セ
フェムー4−カルボン酸5.4+、!7(収率91.4
係)し得た。
I R(Iぐ1骨 )a「’;8270,8020,2
920.1780゜1725.153O NMR(d6−1)MS O) ;δ1.4〜2.4
(6Ii 、 m 、 −(0112斤−) 。
920.1780゜1725.153O NMR(d6−1)MS O) ;δ1.4〜2.4
(6Ii 、 m 、 −(0112斤−) 。
8.69 (211、br 、 2 CI−、
+2 ) 、8.9 4 (8)] 、s 、N
Cl1a ) 。
+2 ) 、8.9 4 (8)] 、s 、N
Cl1a ) 。
4.30(2H,br 、 3−CH2) 、 5.0
5(ll−1,d 、J−=5Hz 。
5(ll−1,d 、J−=5Hz 。
C6Jl) 、 5.65(III、q 、J−=5X
811z 、 C7−II) 、 6.9〜7.6(5
月9m、〇−)、8.08(団1 (I I J=81
17.+−0CONN−)、8.83 (11−1,d
、J=8Hz 、−CONH−ン実施例45 (1)デアセチルセファロスポリンCナトリウム(純度
901係)10.95.!i+に水25■乞加えて溶か
しアセトニトリル7rnI!乞加える。15〜20パC
に冷却しながら40%炭酸カリ水溶液とクロル炭酸エブ
ールs、ssgをpi−19,5〜10で交互に滴下し
かき混ぜ反応させる。反応液をθ減圧下に濃縮しアセト
ニトリルレ留去し、0〜5°Cに冷却し濃塩酸でpH2
,5にし析出物wF取し冷水で洗ってから水200−に
懸濁しかき混ぜながらトリエチルアミンBrn1!2加
えて溶かし減圧下に濃縮し凍結乾燥後無水リン酸をへ扛
だテンケータ中で真空乾燥下ると、7β−(D−5−カ
ルボキシ−5−エトキンカルボニルアミノバレルアミド
)−3−ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジトリエテルアミン塩15.2g7a=得た。
811z 、 C7−II) 、 6.9〜7.6(5
月9m、〇−)、8.08(団1 (I I J=81
17.+−0CONN−)、8.83 (11−1,d
、J=8Hz 、−CONH−ン実施例45 (1)デアセチルセファロスポリンCナトリウム(純度
901係)10.95.!i+に水25■乞加えて溶か
しアセトニトリル7rnI!乞加える。15〜20パC
に冷却しながら40%炭酸カリ水溶液とクロル炭酸エブ
ールs、ssgをpi−19,5〜10で交互に滴下し
かき混ぜ反応させる。反応液をθ減圧下に濃縮しアセト
ニトリルレ留去し、0〜5°Cに冷却し濃塩酸でpH2
,5にし析出物wF取し冷水で洗ってから水200−に
懸濁しかき混ぜながらトリエチルアミンBrn1!2加
えて溶かし減圧下に濃縮し凍結乾燥後無水リン酸をへ扛
だテンケータ中で真空乾燥下ると、7β−(D−5−カ
ルボキシ−5−エトキンカルボニルアミノバレルアミド
)−3−ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ジトリエテルアミン塩15.2g7a=得た。
I R(KHr )cm ’ : 3550
〜3 150 、 2930 、 2840 。
〜3 150 、 2930 、 2840 。
2670.2480.1762.1710〜1660,
1600゜535 NMR(1)20 ) ;δ1.14(all、1.、
+ 7117.丁I+3)。
1600゜535 NMR(1)20 ) ;δ1.14(all、1.、
+ 7117.丁I+3)。
1.26(181−1,t、J=7Hz、rシI−13
X 6 ) 、 1.5〜1.!+(4H,m、
−CH5(J−1゜−) 、 2.2〜2.5(211
,m。
X 6 ) 、 1.5〜1.!+(4H,m、
−CH5(J−1゜−) 、 2.2〜2.5(211
,m。
−CH5CO−) 、 8.19 (12H,(1、J
=7112 、四l、、x6 ) 。
=7112 、四l、、x6 ) 。
154(21−1,A、BQ、2−CH2) 、4.0
8(2+1.q。
8(2+1.q。
J=71−1z 、−CO2CH□−)、4.26(2
1+、S、3−(川。)。
1+、S、3−(川。)。
5.08 (tH,d 、J=5)1z 、C6N)
、5.59 (111,(+ 。
、5.59 (111,(+ 。
J−5H2,C7−11)
(2)7β−(D−5−カルボキン−5−−1−トギシ
カルボニルアミノバレルアミド)−3−ヒト[1キシメ
カルー3−セフェム−4−カルボン酸Dトリエチルアミ
ン塩1.80jjに塩化メブーレン15mj?とアセト
ニトリル5ml、5−メルカフ゛トー1−メfルーIH
−7−トラジー/IzO,85,!7およびトリーロー
ブチルアミン02m1を加えて溶かした。溶液奢−15
〜−10”Cに冷却しかき渇せなからメブールO−フェ
ニレンホスフェイト0.74 、qの塩化メチレン2d
溶液乞5分間がけて滴下I〜た後0・〜5°Cで30分
間かき混せた。反宅:メfν馨ρ1&1!丁にi、l:
H縮し残留物に塩化メチレン20がと4< 15 i
勺)III ;?0〜5℃に冷却j、N−NaOH水テ
pa」9.Of:l−L分液し水層をとり、有機層7水
8rnlで洗い水層7合せて塩化メチレン5ゴで15u
った。水層にテトラヒドロフラン10dと塩化メチレン
20rnI!−i加え0〜5℃に冷却し、2N−1−(
C1水でpH2とし分岐した。
カルボニルアミノバレルアミド)−3−ヒト[1キシメ
カルー3−セフェム−4−カルボン酸Dトリエチルアミ
ン塩1.80jjに塩化メブーレン15mj?とアセト
ニトリル5ml、5−メルカフ゛トー1−メfルーIH
−7−トラジー/IzO,85,!7およびトリーロー
ブチルアミン02m1を加えて溶かした。溶液奢−15
〜−10”Cに冷却しかき渇せなからメブールO−フェ
ニレンホスフェイト0.74 、qの塩化メチレン2d
溶液乞5分間がけて滴下I〜た後0・〜5°Cで30分
間かき混せた。反宅:メfν馨ρ1&1!丁にi、l:
H縮し残留物に塩化メチレン20がと4< 15 i
勺)III ;?0〜5℃に冷却j、N−NaOH水テ
pa」9.Of:l−L分液し水層をとり、有機層7水
8rnlで洗い水層7合せて塩化メチレン5ゴで15u
った。水層にテトラヒドロフラン10dと塩化メチレン
20rnI!−i加え0〜5℃に冷却し、2N−1−(
C1水でpH2とし分岐した。
有機層をとり、水層にテトラヒドロフラン5rnl!と
塩化メチレンl Q 71d!f加え分岐し有機層を合
せて)1!(水硫酸マダイ・シウムで乾燥し濃縮後エー
テルを加えて生じた粉末乞r取し乾燥すると、7β−(
D−5−カルボキシ−5−エトキンカルボニルアミノバ
レルアミド)−8−(1−メチル−114−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−七フ工l・−4−カル
ボン酸0.97j7(収率89.2%〕を得た。
塩化メチレンl Q 71d!f加え分岐し有機層を合
せて)1!(水硫酸マダイ・シウムで乾燥し濃縮後エー
テルを加えて生じた粉末乞r取し乾燥すると、7β−(
D−5−カルボキシ−5−エトキンカルボニルアミノバ
レルアミド)−8−(1−メチル−114−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−七フ工l・−4−カル
ボン酸0.97j7(収率89.2%〕を得た。
IR(KHr)cm’;8350,2950.1775
,1710゜53O NMR(d6−DMSO);δ1.18 (8H,t
、J=7Hz 。
,1710゜53O NMR(d6−DMSO);δ1.18 (8H,t
、J=7Hz 。
−CH5) 、 1.4〜2.4 (6H,m、 −C
H2CH2CH2−) 。
H2CH2CH2−) 。
3.98 (8H−s 、N CHa ) 、:3.6
8 (21−1、ABq、2−CH2) 、 8.97
(2H,q、J=71−1z 、 −0−C112−
) 。
8 (21−1、ABq、2−CH2) 、 8.97
(2H,q、J=71−1z 、 −0−C112−
) 。
4.29 (2H9AHq 、3 Ctl。) 、5
.06 (III 、 d 、J ・511z + C
s 1月、566(11]、q、J−5×8(IZl
c7A1)17.25(11−1,d、J=811z、
−0CON11−)、8.79(+ll。
.06 (III 、 d 、J ・511z + C
s 1月、566(11]、q、J−5×8(IZl
c7A1)17.25(11−1,d、J=811z、
−0CON11−)、8.79(+ll。
d 、 J=8Hz 、 −CONtl−)実施例46
(1)塩化/flzy2Od中に7β−(D−5−カル
ボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジトリエテ
ルアミン塩3.58.9と5−メルカプト−1〜メチル
−I H−テトラゾール0.87gyr溶かした。この
溶液に攪拌下−25℃−−20℃に冷却しながら、エテ
ルO−フェニレンポスフエイト1.50.!7の塩化メ
チレン8.8d溶1(Q、 ”x滴下し、混液を−5”
C−0℃で1時間攪拌した。この反応混液に水50 m
l 、テトラヒドロフラン(T1−I F )20d、
塩化メチ(7ン20 rat! 2加え、4N−塩酸で
pH2に調整した。分岐後、水層を塩化メチレン20r
nl!とTHF2omの混液で抽出した。ft桟層と抽
出液を合せ無水硫酸マグイ・ンウノ、で乾燥、θ浅圧濃
縮し残清乞アセトン20dに溶かし、ニーデル30〇−
中に滴下して生じた沈澱kf取、エーテル/;L争し真
空乾燥すると7β−(D−5−カルボキン−5−フタル
イミドバレルアミド)−3−(l−メチル−IH−テト
ラゾール−5−イル)チオ)f−ルー3−セフェム−4
−カルボン酸2.86g(収率95.1%)が得ら牡た
。氷晶のIR及びNMRスペクトルは実施例1で得たも
のと一致した。
ボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロ
キシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジトリエテ
ルアミン塩3.58.9と5−メルカプト−1〜メチル
−I H−テトラゾール0.87gyr溶かした。この
溶液に攪拌下−25℃−−20℃に冷却しながら、エテ
ルO−フェニレンポスフエイト1.50.!7の塩化メ
チレン8.8d溶1(Q、 ”x滴下し、混液を−5”
C−0℃で1時間攪拌した。この反応混液に水50 m
l 、テトラヒドロフラン(T1−I F )20d、
塩化メチ(7ン20 rat! 2加え、4N−塩酸で
pH2に調整した。分岐後、水層を塩化メチレン20r
nl!とTHF2omの混液で抽出した。ft桟層と抽
出液を合せ無水硫酸マグイ・ンウノ、で乾燥、θ浅圧濃
縮し残清乞アセトン20dに溶かし、ニーデル30〇−
中に滴下して生じた沈澱kf取、エーテル/;L争し真
空乾燥すると7β−(D−5−カルボキン−5−フタル
イミドバレルアミド)−3−(l−メチル−IH−テト
ラゾール−5−イル)チオ)f−ルー3−セフェム−4
−カルボン酸2.86g(収率95.1%)が得ら牡た
。氷晶のIR及びNMRスペクトルは実施例1で得たも
のと一致した。
(2) に記(1)テ、エテルO−フェニレンホスフ
ェイトの塩化メチレン溶液72g−27°Cで滴下し、
混液を約39°Cで5分間攪拌後、0℃に冷却した後、
−に記(1)と同様に後処理すると白色粉末272I(
収率90.4%)が得ら肚た。氷晶のIRスペクトルは
」1記(1)で得られたものに一致した。
ェイトの塩化メチレン溶液72g−27°Cで滴下し、
混液を約39°Cで5分間攪拌後、0℃に冷却した後、
−に記(1)と同様に後処理すると白色粉末272I(
収率90.4%)が得ら肚た。氷晶のIRスペクトルは
」1記(1)で得られたものに一致した。
実施例47
(1) ピロガロール1.10gとメチルホスホロジ
クロリゾエイト1.30g乞混7、塩化メチレン8rn
l!乞加えた。この混合物に攪拌下、−35°C−−3
0℃に冷却しながらトリエチルアミン1.86g?滴下
し、0−5 ”Cで2111間攪拌すると4−ヒドロキ
ン−2−メトキン−2−オー\″−ソー1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール’1ira ’、 > r 、
千イ)1又1心山i劇物が得られた。
クロリゾエイト1.30g乞混7、塩化メチレン8rn
l!乞加えた。この混合物に攪拌下、−35°C−−3
0℃に冷却しながらトリエチルアミン1.86g?滴下
し、0−5 ”Cで2111間攪拌すると4−ヒドロキ
ン−2−メトキン−2−オー\″−ソー1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホール’1ira ’、 > r 、
千イ)1又1心山i劇物が得られた。
(2)塩化メチレン20dに7β−(1’)−5−力ル
ポキン−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジトリエチ
ルアミン塩8.58!lと5−メルカプト−1−メチル
−I l−1−テトラゾール0.87 gヲ溶かした。
ポキン−5−フタルイミドバレルアミド)−3−ヒドロ
キンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ジトリエチ
ルアミン塩8.58!lと5−メルカプト−1−メチル
−I l−1−テトラゾール0.87 gヲ溶かした。
この溶液に攪拌下、−25”C〜−20°Cに冷却しな
がら(1)で得られた反11色、混合物の全(11を加
え、反J、δ器に伺着している反応混合物を塩化メチレ
ン67で洗って加えた。この)1市濁/Vj、A: −
5−0°Cで1時間攪拌し、反応混合物を実施例46−
(1)と同様に処理すると、7β−(D−5−カルボキ
ン−5−フタルイミドバレルアミド)−3−(1−メチ
ル−IH−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフ1−ムー=4−カルボン酌2.76F (収率91
,8%)が得ら扛た。氷晶の同定は11<スペクトルに
、Lり行った。
がら(1)で得られた反11色、混合物の全(11を加
え、反J、δ器に伺着している反応混合物を塩化メチレ
ン67で洗って加えた。この)1市濁/Vj、A: −
5−0°Cで1時間攪拌し、反応混合物を実施例46−
(1)と同様に処理すると、7β−(D−5−カルボキ
ン−5−フタルイミドバレルアミド)−3−(1−メチ
ル−IH−テトラゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフ1−ムー=4−カルボン酌2.76F (収率91
,8%)が得ら扛た。氷晶の同定は11<スペクトルに
、Lり行った。
(3) ピロガロールの代りに3+4−I/に1゛τ
l八ン安息香酸エチルエステル1.59.!i’Y用い
て(1)と同じ方法で行って得られた5−エトキシカル
ボニル−2−メトキシ−2−オキソ−1,8,2−ベン
ゾンオキサホスホールの反応混合物を用いて、(2)と
同じ方/i!Gで行うと(2)と同じ生成物2.85a
?(収率94.7%)が得られた。氷晶の同定はr R
スペクトルで行った。
l八ン安息香酸エチルエステル1.59.!i’Y用い
て(1)と同じ方法で行って得られた5−エトキシカル
ボニル−2−メトキシ−2−オキソ−1,8,2−ベン
ゾンオキサホスホールの反応混合物を用いて、(2)と
同じ方/i!Gで行うと(2)と同じ生成物2.85a
?(収率94.7%)が得られた。氷晶の同定はr R
スペクトルで行った。
(4) ピロガロールの代りに3+4 iyヒドロ
キントルエン1.09gg用いて、(11と同じ方法で
行って得られた2−メトキン−5−メカルー2−オキソ
−1,8,2−−:ンゾジオキサホスホールの反応混合
物ン用いて、(2)と同じ方法で行うと生成物2.83
.!i’(収率94.1%)が得ら扛だ。氷晶のIRス
ペクトルは(2)で得たものに一致した。
キントルエン1.09gg用いて、(11と同じ方法で
行って得られた2−メトキン−5−メカルー2−オキソ
−1,8,2−−:ンゾジオキサホスホールの反応混合
物ン用いて、(2)と同じ方法で行うと生成物2.83
.!i’(収率94.1%)が得ら扛だ。氷晶のIRス
ペクトルは(2)で得たものに一致した。
実施例48
5−メルカプト−1−メチル−111−テトラゾール8
7メ〃7と7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(ンン)−メトキシイミノアセタミドクー
3−ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム塩216m9乞混ぜホルムアミド17ne、
アセトニトリル1mlン加え撹拌してmかした。この溶
液にメチル0−フェニレンホスフェイト280 m7の
塩・化メチレン075旬液°ン攪¥r下、水溶で冷却し
ながら加え05時間水浴で冷却しながら攪拌した。冷水
14を加え、取し冷水0.5 mlで洗い真空乾燥する
と7β−〔2−(2−アミノデアゾールー4−イル)−
2−(シンノルメトキシイミノアセタミド)−3−(1
−メチル−11−1−テトラゾール−5−イル)チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸210m’?(収
率82.6%)が得らtた。
7メ〃7と7β−(2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2−(ンン)−メトキシイミノアセタミドクー
3−ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
ナトリウム塩216m9乞混ぜホルムアミド17ne、
アセトニトリル1mlン加え撹拌してmかした。この溶
液にメチル0−フェニレンホスフェイト280 m7の
塩・化メチレン075旬液°ン攪¥r下、水溶で冷却し
ながら加え05時間水浴で冷却しながら攪拌した。冷水
14を加え、取し冷水0.5 mlで洗い真空乾燥する
と7β−〔2−(2−アミノデアゾールー4−イル)−
2−(シンノルメトキシイミノアセタミド)−3−(1
−メチル−11−1−テトラゾール−5−イル)チオメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸210m’?(収
率82.6%)が得らtた。
NMR(DMSO−d6)δ; 3.67 (211、
l)r 、 2−C1(□) 。
l)r 、 2−C1(□) 。
8.88,8.98(6H,2本のs 、 N−CH3
,0−CH8) 、 4.27(2H,br、 3−C
H2)y 5.09 (IH、d 、J=51(z 、
C6−I()。
,0−CH8) 、 4.27(2H,br、 3−C
H2)y 5.09 (IH、d 、J=51(z 、
C6−I()。
5.76(IH,Q、J=5&8H2,C7−J灼、6
.78(IH。
.78(IH。
s、 >H) 、 9.55(IH,d、J=81−1
z、C0N)l)実施例49 7β−アミノ−3−ヒト「1キシメブール−3−セフェ
ム−4−カルボン酸280”l?、5−メルカプト−1
−メチル−111−テトラゾール174■。
z、C0N)l)実施例49 7β−アミノ−3−ヒト「1キシメブール−3−セフェ
ム−4−カルボン酸280”l?、5−メルカプト−1
−メチル−111−テトラゾール174■。
ホルムアミド4 m13 、アセ、トニトリル1 ml
の混合物に攪拌上水浴で冷却しながらトリエチルアミン
25B”’?を加えた。得ら肚た溶液にメチルO−フェ
ニレンホスフェイト650〜の塩化メチレン2ml溶液
とアセトニトリル5m12攪拌下、−10℃−0℃に冷
却しながら加え次に0−5℃で0.5時間攪拌した。生
じた沈澱をf取し、アセトコ11ル5meで洗い、水6
mlとアセトニトリル2mlの混液に懸濁させた。懸濁
液に約0.1 mlの35チ塩酸乞加えて溶かした。2
5%アンモニア水で水冷下E pl−14にし、生じた
結晶乞r取し冷水2mlで洗い真空乾燥すると7β−ア
ミノ−3−(1−メプールーIH−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸28
0m?(収率85.3%)がC)ら扛だ。
の混合物に攪拌上水浴で冷却しながらトリエチルアミン
25B”’?を加えた。得ら肚た溶液にメチルO−フェ
ニレンホスフェイト650〜の塩化メチレン2ml溶液
とアセトニトリル5m12攪拌下、−10℃−0℃に冷
却しながら加え次に0−5℃で0.5時間攪拌した。生
じた沈澱をf取し、アセトコ11ル5meで洗い、水6
mlとアセトニトリル2mlの混液に懸濁させた。懸濁
液に約0.1 mlの35チ塩酸乞加えて溶かした。2
5%アンモニア水で水冷下E pl−14にし、生じた
結晶乞r取し冷水2mlで洗い真空乾燥すると7β−ア
ミノ−3−(1−メプールーIH−テトラゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸28
0m?(収率85.3%)がC)ら扛だ。
IR(K13r)cm ’ ; 1790.1615.
1535.141ONMR(D20(−CF3COOD
)δ;3.71 (2FI 、s 、2 CH2)
。
1535.141ONMR(D20(−CF3COOD
)δ;3.71 (2FI 、s 、2 CH2)
。
8.96(81−1,s、N−Cl−13) 、4.2
2(2H,s、3−CI−1□ル5.06(IH,d
、J m51−1z、C6J−J) 、 5.17(1
1−1,d 。
2(2H,s、3−CI−1□ル5.06(IH,d
、J m51−1z、C6J−J) 、 5.17(1
1−1,d 。
−T −51−1z 、Cy l I )実施例50
7β−(D−5−カルボキン−5−ベンズアミドバレル
アミド)−3〜ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸0.954 &と1−メチルピロール0.2
44.9を混ぜ、ホルムアミド2m(!とア七トニトυ
ル4ml乞加えた。この溶液にメチルO−フエニレンホ
スフエイ) 0.744.9 ノ塩化メチレン2ml溶
液ン攪打下、−5−0’″Cニー冷却しながら加え、混
液乞−5−〇℃で05時間攪拌した。反応混1(νに塩
化メチレン24me、 TH,F 12ml 、水20
m1!y加え、4N−塩酸でpHv2にした。
アミド)−3〜ヒドロキンメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸0.954 &と1−メチルピロール0.2
44.9を混ぜ、ホルムアミド2m(!とア七トニトυ
ル4ml乞加えた。この溶液にメチルO−フエニレンホ
スフエイ) 0.744.9 ノ塩化メチレン2ml溶
液ン攪打下、−5−0’″Cニー冷却しながら加え、混
液乞−5−〇℃で05時間攪拌した。反応混1(νに塩
化メチレン24me、 TH,F 12ml 、水20
m1!y加え、4N−塩酸でpHv2にした。
分液し、水層ぞ塩化メチレン−THF(2:1)15m
lで抽出した。有機層と抽出液を合せ、実施例46−(
1)の方法で処理すると7β〜(D−5−カルボキン−
5−ベンズアミドバレルアミド)−3−(1−メチルピ
ロール−2−イル)メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸0.944p(収率87.3チ)が得らオtた。
lで抽出した。有機層と抽出液を合せ、実施例46−(
1)の方法で処理すると7β〜(D−5−カルボキン−
5−ベンズアミドバレルアミド)−3−(1−メチルピ
ロール−2−イル)メチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸0.944p(収率87.3チ)が得らオtた。
JR(Kl(r)m’ ; 1770.1725,16
45.158ONM R(1)20 + N a FI
COa )δ冊、5〜2.7 < 6Hl m l(
”12) a ) 、2.80.316 (2H,A
、I4q 、J−18Hz 。
45.158ONM R(1)20 + N a FI
COa )δ冊、5〜2.7 < 6Hl m l(
”12) a ) 、2.80.316 (2H,A
、I4q 、J−18Hz 。
2 CH2) 、3.4418.90 (2H、AB
Q 、J−14H2−8−CHI2) 、 146(
8H,s 、N−CH8) 、 4.42 (ll−1
゜m、)(j−1−)、4.96(1)]、]d、J=
5Hz、C6−H。
Q 、J−14H2−8−CHI2) 、 146(
8H,s 、N−CH8) 、 4.42 (ll−1
゜m、)(j−1−)、4.96(1)]、]d、J=
5Hz、C6−H。
5.58(11−1,d 、J=5Hz、C7−H)
、5.8−6.2,6.6−6.8(8H,m、−
5) 、 7.2−8.0 (5t−Lm、〇−)実施
例51 (1)2−メチル−5−オキソ−3−チオキソ−2,8
,4,5−テトラヒドロ−as−)リアジン0.480
g、ホルムアミド4 ml 、アセトニトリル4mlの
混合物にトリエチルアミン0.416mef加えた。得
らnた溶液に7β−(D−5−カルボキン−5−フタル
イミドバレルアミド)−3−ヒドロキンメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジカリウム塩1.1679’&
加えた。この混合物にメチルO−フエニレンホスフエイ
)1.12.9の塩化メチレン8ml溶液を攪拌下−2
0−−15°Cに冷却しながら加え、ついで0−5“C
で0.5時間攪拌した。反1.こ:/ld液乞減圧濃縮
し残留/rνに冷4< 80 me乞加えた。生じた沈
澱をン戸数し冷/I< ] Om(で〆1(、いL″工
空乾燥すると、7β−(II−5−カルボキシ−5−フ
タルイミドバレルアミド)−’1−(2,5−ジヒドロ
−2−メチル−5−オキソ−aS−)リアジン−3−イ
ル)チオメチル−3−セフェノへ−4−カルボン酸1.
14 、!i’ (収率90.7%)が得られた。
、5.8−6.2,6.6−6.8(8H,m、−
5) 、 7.2−8.0 (5t−Lm、〇−)実施
例51 (1)2−メチル−5−オキソ−3−チオキソ−2,8
,4,5−テトラヒドロ−as−)リアジン0.480
g、ホルムアミド4 ml 、アセトニトリル4mlの
混合物にトリエチルアミン0.416mef加えた。得
らnた溶液に7β−(D−5−カルボキン−5−フタル
イミドバレルアミド)−3−ヒドロキンメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸ジカリウム塩1.1679’&
加えた。この混合物にメチルO−フエニレンホスフエイ
)1.12.9の塩化メチレン8ml溶液を攪拌下−2
0−−15°Cに冷却しながら加え、ついで0−5“C
で0.5時間攪拌した。反1.こ:/ld液乞減圧濃縮
し残留/rνに冷4< 80 me乞加えた。生じた沈
澱をン戸数し冷/I< ] Om(で〆1(、いL″工
空乾燥すると、7β−(II−5−カルボキシ−5−フ
タルイミドバレルアミド)−’1−(2,5−ジヒドロ
−2−メチル−5−オキソ−aS−)リアジン−3−イ
ル)チオメチル−3−セフェノへ−4−カルボン酸1.
14 、!i’ (収率90.7%)が得られた。
IR(KHr)Cm−’;1775,1715.164
5N M I< (D 20 + N a OD )δ
i 1.8−2.6 (61−] 、 m 。
5N M I< (D 20 + N a OD )δ
i 1.8−2.6 (61−] 、 m 。
−(CH12)8−) 、3.04.L60(2H,
A13q 、J=181−1z。
A13q 、J=181−1z。
2−CH2) 、 3.86 (3H,s 、N−CH
8)、 4.02.4.89(2夏4 p AB q、
J−18Hz 、 8 CHz ) −4,99
(III 、d 。
8)、 4.02.4.89(2夏4 p AB q、
J−18Hz 、 8 CHz ) −4,99
(III 、d 。
J=51−1z、C6−H) p5.55(IH,d、
J=5Hz、C7−II)。
J=5Hz、C7−II)。
7.75(IH,S、トリアジン−1月、7.80 (
41−1、s 、Q−)(2+1リアジンの代りに2−
チオウラノル0.384g’2用いて(1)と同様に実
施すると、7β−(D−5−カルボキン−5−フタルイ
ミドバレルアミド)−8−(4−ヒドロキンピリミジン
−2〜イル)y″オメテル3−セフェム−4−カルボン
酸1.10g(収率896%)が得られた。
41−1、s 、Q−)(2+1リアジンの代りに2−
チオウラノル0.384g’2用いて(1)と同様に実
施すると、7β−(D−5−カルボキン−5−フタルイ
ミドバレルアミド)−8−(4−ヒドロキンピリミジン
−2〜イル)y″オメテル3−セフェム−4−カルボン
酸1.10g(収率896%)が得られた。
■<(K)Sr)C+n’; 17?0,1710,
153ON M R(D 20 + N a OD )
δ;1.8−2.6(6H,m。
153ON M R(D 20 + N a OD )
δ;1.8−2.6(6H,m。
−(Cl−42) 8−) 、 3.02 、8.50
(2H,ABM 、 J=ts1(z。
(2H,ABM 、 J=ts1(z。
2−CH2)、 3.97.4.88(2H,Anq
、J=18H2゜8 C1−1z) 、5.01
(I H、d、J=514z 、Ce−H) −5,5
4実施例52 2−メルカプトベンズイミダゾール0.195.!i’
と7β−(D−5−カルボキン−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸を混ぜ、ホルムアミド2m7!とアセトニ
トリル2m1ya:加えた。得られた溶液に/−フル0
−フェニレンホスフェイト0.558gの塩化メチレン
1.5 ml溶液を攪拌下に、−10”C−−5°Cに
冷却しながら加えついで0−5℃でで1時間攪拌した。
、J=18H2゜8 C1−1z) 、5.01
(I H、d、J=514z 、Ce−H) −5,5
4実施例52 2−メルカプトベンズイミダゾール0.195.!i’
と7β−(D−5−カルボキン−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸を混ぜ、ホルムアミド2m7!とアセトニ
トリル2m1ya:加えた。得られた溶液に/−フル0
−フェニレンホスフェイト0.558gの塩化メチレン
1.5 ml溶液を攪拌下に、−10”C−−5°Cに
冷却しながら加えついで0−5℃でで1時間攪拌した。
反応混液を実施例51−(1)と同様の方法で処理する
と7β−(D−5−カルボキン−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−(ベンズイミダゾール−2−j n−
) f−iノrIL−3−セフェム−4−カルボン酸0
.560.ζノ(収t88.1係)が得ら牡た。
と7β−(D−5−カルボキン−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−(ベンズイミダゾール−2−j n−
) f−iノrIL−3−セフェム−4−カルボン酸0
.560.ζノ(収t88.1係)が得ら牡た。
IR(KBr)>−’;1785,1770.17+0
.1640゜39O NM R(D 20 N a II Co a )δ
i 1.:11−2.6(611,m。
.1640゜39O NM R(D 20 N a II Co a )δ
i 1.:11−2.6(611,m。
(CH2) B ) −2,96、128(2H、A
Hq 、j−=1811y、。
Hq 、j−=1811y、。
2 CH2) 、8.84.4.40 (2H、AB
q 、−T−1311z 。
q 、−T−1311z 。
8 C112) −4,57(IH,m、 〕C11
) −4,92(III 、rl 。
) −4,92(III 、rl 。
(以 下 余 白)
実施例53
(1)7β−(1,)−5−カルボキシ−5−フタルイ
ミドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジトリエテルアミン塩1.687
9と2−メルカプト安息香酸0゜53gを混ぜ、塩化メ
チレフ 14 mlとT I(F 7…Cを加えた。得
られた溶液に攪拌ドー20−−15℃に冷却しながらメ
チル0−フエニレンホスフエイ)0.8639の塩化メ
チレン2.8 mff溶液を加え、ついで0−5°Cで
0.5時間攪拌した。
ミドバレルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジトリエテルアミン塩1.687
9と2−メルカプト安息香酸0゜53gを混ぜ、塩化メ
チレフ 14 mlとT I(F 7…Cを加えた。得
られた溶液に攪拌ドー20−−15℃に冷却しながらメ
チル0−フエニレンホスフエイ)0.8639の塩化メ
チレン2.8 mff溶液を加え、ついで0−5°Cで
0.5時間攪拌した。
反応混液を実施例46−(11と同様の方法で処理する
と7β−(])−]5−カルボキンー5−フタルイミド
バレルアミド−3−(2−カルボキシフェニル)チオメ
チル−3−セフエン、−4−カルボン酸136り(収率
917%)が?1)られだ。
と7β−(])−]5−カルボキンー5−フタルイミド
バレルアミド−3−(2−カルボキシフェニル)チオメ
チル−3−セフエン、−4−カルボン酸136り(収率
917%)が?1)られだ。
11も(K13r)Cm ;1770,1710,
1535,1465,139ONMI(、(1)I’v
lSO−d6)δ; 1.2−2.4 (6II 、
m 、−(CII2)3−)+ 3.55 (21−1
,l)r 、 2−CI−12)、 4.06(21−
1゜br 、 3 CL12)、 4.75 (I
II + t、J=71−lz 、 ’>CI−(−)
。
1535,1465,139ONMI(、(1)I’v
lSO−d6)δ; 1.2−2.4 (6II 、
m 、−(CII2)3−)+ 3.55 (21−1
,l)r 、 2−CI−12)、 4.06(21−
1゜br 、 3 CL12)、 4.75 (I
II + t、J=71−lz 、 ’>CI−(−)
。
5.06(tel、 d 、 J =511z 、 (
づ6−H) 、 5.61 (I Ll 、 q 。
づ6−H) 、 5.61 (I Ll 、 q 。
(2)2−メルカプト安息香酸の代りに、2−メルカフ
″トビリジンN−オキシドo443グを1目いて(1)
と同様に反応を行った。反応ltEを減圧濃縮し残留物
を水−アセトニトリル(1:1)50…eに溶かした。
″トビリジンN−オキシドo443グを1目いて(1)
と同様に反応を行った。反応ltEを減圧濃縮し残留物
を水−アセトニトリル(1:1)50…eに溶かした。
アセトニトリルを減圧■に留去し牛した沈澱をカ3取し
、冷水10meでbLい貞空脅、′L・〜冥「ると7β
−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルア
ミド) −a−(N−オギンドピリジンー2−イル)チ
オメチル−3−セフエン・−4−カルボン酸1.s1!
i+(収イX923%)が得られた。
、冷水10meでbLい貞空脅、′L・〜冥「ると7β
−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルア
ミド) −a−(N−オギンドピリジンー2−イル)チ
オメチル−3−セフエン・−4−カルボン酸1.s1!
i+(収イX923%)が得られた。
111、(KI3r )□ +、 1’iT5,
1715,1580.1470,189ONMIQD2
0+Na0I))δ; 1.8−2.6 (61−1、
m 、 −(CH2) a−) 。
1715,1580.1470,189ONMIQD2
0+Na0I))δ; 1.8−2.6 (61−1、
m 、 −(CH2) a−) 。
2.99 、3.53 (2)T、 Al3q 、J−
18Hz 、2 CH2) 、 8.911.4.25
(211,AHq 、、I−14Hz ’、8−CL(
2)、4.95 (III、+1 、J=5Hz 。
18Hz 、2 CH2) 、 8.911.4.25
(211,AHq 、、I−14Hz ’、8−CL(
2)、4.95 (III、+1 、J=5Hz 。
C6)1 ) 、558 (I Hr d 2.I=5
1(z p C714) p 7.18B (811、
III 1実施例54 1−カルボギンメチ゛ルー5−メルカプ) −I H−
テトラゾール0.2811とトリエチルアミン0゜36
37に塩1じメチレン6m7?を加える。この溶液に7
β−(’ 1)−5−カルボキン−5−フタルイミドバ
レルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエl
\−4−カルボン酸のジトリエチルアミン塩0.847
9を加える。この溶液に攪拌しながら−20〜−15℃
てメチル0−フーJZニレン フォスフエイト0450
グの塩化メチレン1.2…Cの溶液をl111える。こ
の溶液を一5〜0°’C:”C] IIIJll攪打し
てから、得1゛〕れた反応/1りな実施例46−(])
と同様に処理して7β−(D−5−カルボキレ−5−フ
タルイミドバレルアミド)−1−(l−力ルボギ7メチ
ル−111−7−トラゾール−5−イル)チオメチル−
3−しj−ノj−ノ・−4−カルボン酸0.711!7
(収率918%)が7H7られだ。
1(z p C714) p 7.18B (811、
III 1実施例54 1−カルボギンメチ゛ルー5−メルカプ) −I H−
テトラゾール0.2811とトリエチルアミン0゜36
37に塩1じメチレン6m7?を加える。この溶液に7
β−(’ 1)−5−カルボキン−5−フタルイミドバ
レルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セエフエl
\−4−カルボン酸のジトリエチルアミン塩0.847
9を加える。この溶液に攪拌しながら−20〜−15℃
てメチル0−フーJZニレン フォスフエイト0450
グの塩化メチレン1.2…Cの溶液をl111える。こ
の溶液を一5〜0°’C:”C] IIIJll攪打し
てから、得1゛〕れた反応/1りな実施例46−(])
と同様に処理して7β−(D−5−カルボキレ−5−フ
タルイミドバレルアミド)−1−(l−力ルボギ7メチ
ル−111−7−トラゾール−5−イル)チオメチル−
3−しj−ノj−ノ・−4−カルボン酸0.711!7
(収率918%)が7H7られだ。
IH,(KHr)d’;1770.1710.158O
NMI(、(1)へISO−(16)δ : 1.3
〜2.4 (61−1、m 、−(CL12 )3
−)。
NMI(、(1)へISO−(16)δ : 1.3
〜2.4 (61−1、m 、−(CL12 )3
−)。
3.62 (211、br、 2−CI−12)、 4
.17&、4.47 (2H、AH(1。
.17&、4.47 (2H、AH(1。
J=1411z 、 3−CH2) + 4.71 (
11−1,t 、J =5I−4z、ズ11−)。
11−1,t 、J =5I−4z、ズ11−)。
4.99 (IH,d 、J−5Hz 、C6−H)、
5.28(2)1゜S、NCll2CO)、 5.6
2(tf−1,、、、J =5&;811z、C7−I
I)。
5.28(2)1゜S、NCll2CO)、 5.6
2(tf−1,、、、J =5&;811z、C7−I
I)。
7.89(411,s、α) 、 8.77(ill、
d、 J=+3Hz 、C0NII)実施例55 (1)7β−(+)−5−カルボギン−5−フタルイド
バレルアミド)、−8−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸のジトリエチルアミン塩0.975
S’とエタンチオール0.172.gの塩化メチレン1
0mj?の溶液に攪拌しながら−20〜−15℃てメチ
ル0−フエニレンノオスフエイト0.5149の塩化メ
チレン1.39…Cの溶液を滴ドしてから、0〜5°C
でlIt!j間攪1゛1する。
d、 J=+3Hz 、C0NII)実施例55 (1)7β−(+)−5−カルボギン−5−フタルイド
バレルアミド)、−8−ヒドロキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸のジトリエチルアミン塩0.975
S’とエタンチオール0.172.gの塩化メチレン1
0mj?の溶液に攪拌しながら−20〜−15℃てメチ
ル0−フエニレンノオスフエイト0.5149の塩化メ
チレン1.39…Cの溶液を滴ドしてから、0〜5°C
でlIt!j間攪1゛1する。
反応’/(’i l ’−水20 ml ト’]” H
I’ 20…Cを加えてから、35%塩酸てρ11を2
に調整する。この2M を丙に塩化メチレンso、、、
eを加えてから分tfkする。
I’ 20…Cを加えてから、35%塩酸てρ11を2
に調整する。この2M を丙に塩化メチレンso、、、
eを加えてから分tfkする。
水層を15meノ塩化メチv ン−1” II F’混
2f&(2;l 、 v/v)で抽出する。自機層を合
せ、水10m1 テ2 iil 25’11 ツテカら
、/J(10me ;p;加える。7Jufl’j。
2f&(2;l 、 v/v)で抽出する。自機層を合
せ、水10m1 テ2 iil 25’11 ツテカら
、/J(10me ;p;加える。7Jufl’j。
のp I−1をI N Na0)lで7に調整してから
分岐し、イー> 81層を水5I11eで抽出する。水
層を合せ、減圧にて〆層線する。濃縮液をアンバーライ
)XAI)−2のカラムクロマトグラフィー(100〜
200メツシエのXAI)−2: ’10m1 、カラ
ムの高さ:40c1n)にf、1シ、水、水−アセトン
の混液(20: l 、 v/v ) で溶出した。各
区画をT L C(展開溶媒;アセトニトリル:水:9
9%蟻酸=40:2 : 0.1 )で調べ、目的物(
Iff:約016)を含む区画を合せ、減圧にて濃縮し
てから、凍結乾燥すると7β−(D −5−カルボキシ
−5−フタルイミドバレルアミド)−3−エチルチオメ
チル−3−セエフエムー4−カルボン酸ジナトリクム塩
(1,515g(収率63.0係)が得ろねた。
分岐し、イー> 81層を水5I11eで抽出する。水
層を合せ、減圧にて〆層線する。濃縮液をアンバーライ
)XAI)−2のカラムクロマトグラフィー(100〜
200メツシエのXAI)−2: ’10m1 、カラ
ムの高さ:40c1n)にf、1シ、水、水−アセトン
の混液(20: l 、 v/v ) で溶出した。各
区画をT L C(展開溶媒;アセトニトリル:水:9
9%蟻酸=40:2 : 0.1 )で調べ、目的物(
Iff:約016)を含む区画を合せ、減圧にて濃縮し
てから、凍結乾燥すると7β−(D −5−カルボキシ
−5−フタルイミドバレルアミド)−3−エチルチオメ
チル−3−セエフエムー4−カルボン酸ジナトリクム塩
(1,515g(収率63.0係)が得ろねた。
JR(KBr)cm 、1760.1710,1
610.189ONMIも(1)20) δ ;
1.18(81−1,t、CI(a)、 1.4〜2
.7(8H。
610.189ONMIも(1)20) δ ;
1.18(81−1,t、CI(a)、 1.4〜2
.7(8H。
m 、 −(Cl−12)8−、−C,l−12−CI
−la ) 、 2.98 & 8.55 (2I−1
゜ABq 、 J=181−1z、 2−CH2)、
8.28&3.81 (2H。
−la ) 、 2.98 & 8.55 (2I−1
゜ABq 、 J=181−1z、 2−CH2)、
8.28&3.81 (2H。
Al3q 、 J−=14l−1z 、 8−CH2)
、 4.98 (iH,d 、 J=5I−1z。
、 4.98 (iH,d 、 J=5I−1z。
C6−If)、 5.48(IH,d、J=51−1z
、C7−第4) 。
、C7−第4) 。
7.88(41−1,s 、 Cl: )(2)7β〜
(1)−5−カルボキシ−5−ノ々ル[ミドバレルアミ
ド)−3−ヒトIJギシメチル3−セフェム−4−カル
ボン酸ジカリクノ・塩0、5 s o 9とチオフェノ
ール0. ]、 657にホルムアミド2Inlとアセ
トニトリル2 mlを力目える。
(1)−5−カルボキシ−5−ノ々ル[ミドバレルアミ
ド)−3−ヒトIJギシメチル3−セフェム−4−カル
ボン酸ジカリクノ・塩0、5 s o 9とチオフェノ
ール0. ]、 657にホルムアミド2Inlとアセ
トニトリル2 mlを力目える。
得られた溶液に攪打しながらメチル0−フェニレンフォ
スフエイト0.5589の塩化メチレン1、5 meの
溶液を−30〜−20℃で加え”’Cから、0〜5℃で
45分間攪拌する。反応液を減圧にて濃縮し、濃縮液に
40m/?の冷水を加える。生じた粉末を第5取し、1
0m/?の冷水でbl、ってから、20m/の50%含
水アセトニトリル 溶液tD pl−1 ヲI N Na01−1で7に調
整してから、減圧にてアセトニトリルを留去する。濃縮
液を(1)と同じ方を去でI N Na01−1でXA
.l)−2カラノ・クロマトグラフィーに付して(目的
物の1<r:約0、96)、7β−(])−]5ーカル
ボギシー5−フタルイミドバレルアミド)−3−フェニ
ルチオ−3−セフェム−4−カルボン酸ジナトリウノ・
塩019’l(収率621%)を得た。
スフエイト0.5589の塩化メチレン1、5 meの
溶液を−30〜−20℃で加え”’Cから、0〜5℃で
45分間攪拌する。反応液を減圧にて濃縮し、濃縮液に
40m/?の冷水を加える。生じた粉末を第5取し、1
0m/?の冷水でbl、ってから、20m/の50%含
水アセトニトリル 溶液tD pl−1 ヲI N Na01−1で7に調
整してから、減圧にてアセトニトリルを留去する。濃縮
液を(1)と同じ方を去でI N Na01−1でXA
.l)−2カラノ・クロマトグラフィーに付して(目的
物の1<r:約0、96)、7β−(])−]5ーカル
ボギシー5−フタルイミドバレルアミド)−3−フェニ
ルチオ−3−セフェム−4−カルボン酸ジナトリウノ・
塩019’l(収率621%)を得た。
IH(KHr)cm ;1765,1?10,16
05.189ONM+も( 1)へIs(J − d6
+])20) δ ; 1.2 〜2.5 ( 6
H 、m 。
05.189ONM+も( 1)へIs(J − d6
+])20) δ ; 1.2 〜2.5 ( 6
H 、m 。
−(c112)a −) 、 3.1 1&8.49(
21−1,A.Bq 、J=181−1z。
21−1,A.Bq 、J=181−1z。
2−CII2)、 4.3 6 ( 11−1,
m, >CH−)、4.8 1 ( II−1
,d 。
m, >CH−)、4.8 1 ( II−1
,d 。
、1・;511z 、 C6 −H ) 、 5.4
2 (IH, d 、 J=5Hz 、 C7−H)
。
2 (IH, d 、 J=5Hz 、 C7−H)
。
7、34(51−111)rl−O)、 7.84(4
11,s,α)実施例56 7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩353gとトリエ
チルアミン076gを25mlの塩化メチレンに溶かす
。この溶液に攪拌しながら−45〜−40℃でメチル0
−フェニレンフォスフエイト2.79Fの塩化メチレン
7、 5 mlの溶液を滴下し、同温度で30分間攪拌
する。この反応液にエーテル50mey加考てから20
〜25℃で20分間攪拌する。生じた粉末ヲ沢取し、エ
ーテルで15(、ってから真空乾燥する。得られた粉末
ン水10mlとアセトニトリル2omlの混液にmかし
、INNaOHでpl−1 7. 0に+iL+]整し
てか「り、/’ +5 l□−lす![を減圧にて留去
する。IJ 糾i 1(ンZアンバー’−yイ(・XA
D−2のカラ7・クロマトグラフィー(10()へ20
0メツシユのXAD−2 : 1 5 0me, 力”
yJ。
11,s,α)実施例56 7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩353gとトリエ
チルアミン076gを25mlの塩化メチレンに溶かす
。この溶液に攪拌しながら−45〜−40℃でメチル0
−フェニレンフォスフエイト2.79Fの塩化メチレン
7、 5 mlの溶液を滴下し、同温度で30分間攪拌
する。この反応液にエーテル50mey加考てから20
〜25℃で20分間攪拌する。生じた粉末ヲ沢取し、エ
ーテルで15(、ってから真空乾燥する。得られた粉末
ン水10mlとアセトニトリル2omlの混液にmかし
、INNaOHでpl−1 7. 0に+iL+]整し
てか「り、/’ +5 l□−lす![を減圧にて留去
する。IJ 糾i 1(ンZアンバー’−yイ(・XA
D−2のカラ7・クロマトグラフィー(10()へ20
0メツシユのXAD−2 : 1 5 0me, 力”
yJ。
の高さ:45cIn)に付し、水で溶出した。溶出l(
ν乞TLC(展開溶媒;アセトニトリル:水:99チ蟻
酸−80:15:2)で調べ、[1的物(+<r:約0
.12)乞含む区画を集めた。得ら第1,た溶itシネ
で濃縮し、INNaQ)lでI)H6.O n調整L
テカl=.,凍結乾燥すると7β−(D−5−カルボキ
ン−5−ブタフレイミドバレルアミド)−3−セフェム
−3−トリエチルアンモニオメチル−4−カルボン酸ジ
ナトリウム塩2.769(収率907%〕力冒1tられ
だ。
ν乞TLC(展開溶媒;アセトニトリル:水:99チ蟻
酸−80:15:2)で調べ、[1的物(+<r:約0
.12)乞含む区画を集めた。得ら第1,た溶itシネ
で濃縮し、INNaQ)lでI)H6.O n調整L
テカl=.,凍結乾燥すると7β−(D−5−カルボキ
ン−5−ブタフレイミドバレルアミド)−3−セフェム
−3−トリエチルアンモニオメチル−4−カルボン酸ジ
ナトリウム塩2.769(収率907%〕力冒1tられ
だ。
IR(KI3r)cm’ ; 8450, 1775,
1710. 1612. 1465NMR( 1)2
0 )δ;1.34(911, t,、I=711z,
( −t’l13)x3)。
1710. 1612. 1465NMR( 1)2
0 )δ;1.34(911, t,、I=711z,
( −t’l13)x3)。
1 3 0〜2.6 o ( 61−1 、口],
−(C目12)8−)、2.9〜4.3 ( 10
11。
−(C目12)8−)、2.9〜4.3 ( 10
11。
m 、 2−C112. 3−CH12, N( CH
12(シ11B)3)、 5.13(Ill。
12(シ11B)3)、 5.13(Ill。
d 、 J=5Ilz, C6−H) 、 5.6
1 ( 1 11, d 、 、f ’=511z 、
C7−2( )す、7.88(41−1.8,α)実
施例57 7β−(1)−5−カルボキシ」5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジトリエテルアミン塩8.53S’と1
−(2−ジメチルアミノエチル)−11,1−テトラゾ
−/L/1.88りを25m1の塩化メチレンに溶かす
。この溶液に攪拌しながら−45〜−40℃でメチル0
−フェニレンフォスフエイト2゜79グの塩化メチレン
7.5−の溶液を滴下し、同温度で30分間攪拌する。
1 ( 1 11, d 、 、f ’=511z 、
C7−2( )す、7.88(41−1.8,α)実
施例57 7β−(1)−5−カルボキシ」5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジトリエテルアミン塩8.53S’と1
−(2−ジメチルアミノエチル)−11,1−テトラゾ
−/L/1.88りを25m1の塩化メチレンに溶かす
。この溶液に攪拌しながら−45〜−40℃でメチル0
−フェニレンフォスフエイト2゜79グの塩化メチレン
7.5−の溶液を滴下し、同温度で30分間攪拌する。
その後反応液を20〜25℃で20分間攪拌する。生じ
た粉末をf取し、塩化メチレンで洗ってから真空乾燥す
る。得らitた粉末を実施例56と同様に処理すると(
1)約物ノRf :約0.17)、7β−(1) −5
−h ル、II シー5−フタルイミドバレルアミド−
3−セフェム−3−〔ジメチル(2−(1,2,3,4
−テトラソ゛−ルー1−イル〕エチルアンモニオ〕メチ
ル−4−カルボン酸ジナトリウム塩2.67 L!(収
率82゜3%)が得られた。
た粉末をf取し、塩化メチレンで洗ってから真空乾燥す
る。得らitた粉末を実施例56と同様に処理すると(
1)約物ノRf :約0.17)、7β−(1) −5
−h ル、II シー5−フタルイミドバレルアミド−
3−セフェム−3−〔ジメチル(2−(1,2,3,4
−テトラソ゛−ルー1−イル〕エチルアンモニオ〕メチ
ル−4−カルボン酸ジナトリウム塩2.67 L!(収
率82゜3%)が得られた。
IR(K13r)cm 、 8450.’i’7
To、1710.1613.189ONMI’L(1)
20 )δ; IJO〜2.60(611,m、−(C
H2)a−) 。
To、1710.1613.189ONMI’L(1)
20 )δ; IJO〜2.60(611,m、−(C
H2)a−) 。
4.90〜5.40 (81−1、m 、 −NCII
2 、 C6−H) 、 5.53 (由。
2 、 C6−H) 、 5.53 (由。
実施例58
7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジカリウム塩1水和物1.20gと4−
シアノピリジン312”9をホルムアミド4mJとアセ
トニトリル8川eI:溶かす。この溶液に攪拌しなから
0〜5℃でメチル0−フェニレンフォスフエイト1.1
2pの塩化メチレン3meの溶液を滴下し、同温度で3
0分間攪拌する。
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジカリウム塩1水和物1.20gと4−
シアノピリジン312”9をホルムアミド4mJとアセ
トニトリル8川eI:溶かす。この溶液に攪拌しなから
0〜5℃でメチル0−フェニレンフォスフエイト1.1
2pの塩化メチレン3meの溶液を滴下し、同温度で3
0分間攪拌する。
この溶液にIN NaOH3,5mlを加えてから、塩
化メチレンとアセトニトリルを減圧にて留去する。
化メチレンとアセトニトリルを減圧にて留去する。
濃縮液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(507
のシリカゲルをアセトニトリル−水−99%ギ酸(80
:15:2)の混液でカラノ・に充填する。
のシリカゲルをアセトニトリル−水−99%ギ酸(80
:15:2)の混液でカラノ・に充填する。
カラムの高さ:88c+++)に付し、アセトニトリル
−水(2,5:1)の混液で溶出した。溶出液をTL
C(展開溶媒;アセトニトリル:水:99%蟻酸=80
:15:2)で調べ、目的物(Rf:約0゜22)を含
む区画を集めた。得られた溶液を濃縮し、IN”Na0
1−1でpH6,0に調整し、凍結乾燥すると7β−(
])−]5−カルボキシー5−フタルイミトハンルアミ
ド−3−セフェム−3−(4−シアノピリジニオ)メチ
ル−4−カルボン酸ジナトリウム塩1.0852 (収
率88.3%)が得られた。
−水(2,5:1)の混液で溶出した。溶出液をTL
C(展開溶媒;アセトニトリル:水:99%蟻酸=80
:15:2)で調べ、目的物(Rf:約0゜22)を含
む区画を集めた。得られた溶液を濃縮し、IN”Na0
1−1でpH6,0に調整し、凍結乾燥すると7β−(
])−]5−カルボキシー5−フタルイミトハンルアミ
ド−3−セフェム−3−(4−シアノピリジニオ)メチ
ル−4−カルボン酸ジナトリウム塩1.0852 (収
率88.3%)が得られた。
IR(KBr)cm ;8420;1770.1?1
0,1618.1’195NMR(D20 )δ; 1
.40〜2.70(6H,m、−(CI−12)3−)
。
0,1618.1’195NMR(D20 )δ; 1
.40〜2.70(6H,m、−(CI−12)3−)
。
3.04&8.68(2H,ABq、J=18Hz、2
C112)。
C112)。
5.13(Nl、 d 、 J=51−1z 、 C6
−H) 、 5.44&5.70 (211゜ABq
、 J= 15fiz 、3−CH2ン 、5.68(
ll−1,d、J=51−1z。
−H) 、 5.44&5.70 (211゜ABq
、 J= 15fiz 、3−CH2ン 、5.68(
ll−1,d、J=51−1z。
d d 、 8cu )
実施例59
7β−(D−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレル
アミド)−3−ヒドロキシメチル−8−セフェム−4−
カルボン酸のジカリウム塩1水和物1.209とニコチ
ン酸メチル411 m9をホルムアミド4−とアセトニ
トリル8mlに溶かす。この溶液に攪拌しながら−10
〜−5℃でメチル0−フェニレンフォスフエイト1.4
9!i’の塩化メチレン4mlの溶液を滴下し、同/i
IA度で30分間反応する。
アミド)−3−ヒドロキシメチル−8−セフェム−4−
カルボン酸のジカリウム塩1水和物1.209とニコチ
ン酸メチル411 m9をホルムアミド4−とアセトニ
トリル8mlに溶かす。この溶液に攪拌しながら−10
〜−5℃でメチル0−フェニレンフォスフエイト1.4
9!i’の塩化メチレン4mlの溶液を滴下し、同/i
IA度で30分間反応する。
この反応液を実施例58 (1=I的物(7)TLf:
約023)と同様に後処理して7β〜(D−5−カルボ
キン−5−フタルイミドバレルアミド)−3−セフェム
−8−(8−メトキシカルボニルピリジニオ)メチル−
4−カルボン酸ジナトリウム塩1.182(収率91.
5%)が得られた。
約023)と同様に後処理して7β〜(D−5−カルボ
キン−5−フタルイミドバレルアミド)−3−セフェム
−8−(8−メトキシカルボニルピリジニオ)メチル−
4−カルボン酸ジナトリウム塩1.182(収率91.
5%)が得られた。
IH(t<Br)C+++ ;344’5,17
70.1708,1618,1895NMr+、(1)
20)δ;1.30〜2.60(6H,m、 (CH
2)B−)。
70.1708,1618,1895NMr+、(1)
20)δ;1.30〜2.60(6H,m、 (CH
2)B−)。
2.95&3.62 (2Ll 、 Anq 、J=1
8Hz 、 2 CH2) 。
8Hz 、 2 CH2) 。
tto(all、S、−C113)+ 5.12(11
−1,rl、J=5flz。
−1,rl、J=5flz。
C6−H)、 5.3 6 & 5.72 (2H、
ABq 、J=15Hz 、 8−CLI2) 、
5.62 (N1. d 、 J=5Llz、 C7
−11) 、’ 7.79 (4H。
ABq 、J=15Hz 、 8−CLI2) 、
5.62 (N1. d 、 J=5Llz、 C7
−11) 、’ 7.79 (4H。
S 、α)、 80〜9.8 (4f−1、口1.
μ縫=〉)実施例60 7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミFバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩?、069どa−
i//メチルアミノプロ町オニオニトリル1477化メ
チレン50meに溶かした。この溶液に攪(十F−45
〜−40℃に冷却しながらメチル0−フエニレンホスフ
エイ)8.729の塩化メチレン10mff溶液を滴下
し同温で30分間撹拌した。ついでこの混液を加温し2
0〜25℃で20分間撹拌した。生じた粉末状の沈澱を
1取し塩化メチレンで洗った。この粉末を水12m/’
とアセトニlル24 nlの混液に溶かし4N塩酸でp
i−13,4にした。この溶液をアセトニトリル810
me中に投打しながら注加し約5℃に冷却した。溶媒を
傾斜により除き残った粘稠油状物にアセトニトリル90
n(を攪拌下に加えた。生じた粉末状の沈澱をj5′取
しアセトニトリルで15しい真空乾燥すると7β−(+
3−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)
−8−(2−ンアノエチル)ジメチルアンモニオメチル
−3−セフエン、−4−カルボン酸4.78!7(収率
81.9%)が得られた。
μ縫=〉)実施例60 7β−(1)−5−カルボキシ−5−フタルイミFバレ
ルアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸のジトリエチルアミン塩?、069どa−
i//メチルアミノプロ町オニオニトリル1477化メ
チレン50meに溶かした。この溶液に攪(十F−45
〜−40℃に冷却しながらメチル0−フエニレンホスフ
エイ)8.729の塩化メチレン10mff溶液を滴下
し同温で30分間撹拌した。ついでこの混液を加温し2
0〜25℃で20分間撹拌した。生じた粉末状の沈澱を
1取し塩化メチレンで洗った。この粉末を水12m/’
とアセトニlル24 nlの混液に溶かし4N塩酸でp
i−13,4にした。この溶液をアセトニトリル810
me中に投打しながら注加し約5℃に冷却した。溶媒を
傾斜により除き残った粘稠油状物にアセトニトリル90
n(を攪拌下に加えた。生じた粉末状の沈澱をj5′取
しアセトニトリルで15しい真空乾燥すると7β−(+
3−5−カルボキシ−5−フタルイミドバレルアミド)
−8−(2−ンアノエチル)ジメチルアンモニオメチル
−3−セフエン、−4−カルボン酸4.78!7(収率
81.9%)が得られた。
IT(、(’KBr)cm : 8400,2
247. 1777、 1715゜1617.1892 NMTL(1)20+NaO]))δ四80’ 2.
60(6H,m、−((”、H2)B−)。
247. 1777、 1715゜1617.1892 NMTL(1)20+NaO]))δ四80’ 2.
60(6H,m、−((”、H2)B−)。
2.8−4.4(148,+η、 ;N(Cf13)2
.2−C:II2. a (う112゜−CI12C
II2CN) 、 5.20 (目1. rl、、1−
511z、(シ5−11)。
.2−C:II2. a (う112゜−CI12C
II2CN) 、 5.20 (目1. rl、、1−
511z、(シ5−11)。
5.61(IN、 d、J=511z、’ c7−■)
、 7.86(什、s 、CFC)実施例61 6.709の7β−(lJ−5−カルボキシ−5−フタ
ルイミドバレルアミド)−3−ヒト【jギシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ジカリクト塩5水和物を水
20+nl?に溶かした。この溶液にTHI’ 80
meを加え、0〜5℃に冷却しながら4N塩酸でpH2
,0にした。この混液に塩化メチレン35m1を加え分
岐し、水層>THF6mlと塩化メチレン10m1の混
液で抽出した。有機層と抽出液を合せ、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物にホルムアミド
10me、アセトニトリル40rr+/及びジエチルア
ミン293グを加えた。この溶液に投打上−35〜−3
0°C(二冷却しながら、メチル0−フェニレンホスフ
ェイト3.72gの塩化メJ−レン10 me ni
l(’j−を11均下゛し混ntを−35〜−80℃で
10分間ついで一5〜0℃で30分間攪拌した。反応混
合物にエーテル100□eを加え、溶媒を傾斜して除き
残った粘稠油を水7ml?とアセトニトリル14m/の
混lFiに溶かし、0〜5℃で4N塩酸な用tz−てp
l−1285にした。この溶液を0〜5℃で4 N −
Na01−1 k用いてpH6,0にし、アセトニトリ
ルを織圧留去した。濃縮液をシリカゲルクロマトグラフ
ィー(シリカゲル250グをアセトニトリル−水−蟻酸
(80:15:2)でカラム(二充填した。カラムの層
高:6acm)に付し、アセトニトリル−水(a:i)
で溶出した。溶出液をT L C(シリカゲルプレート
。
、 7.86(什、s 、CFC)実施例61 6.709の7β−(lJ−5−カルボキシ−5−フタ
ルイミドバレルアミド)−3−ヒト【jギシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸ジカリクト塩5水和物を水
20+nl?に溶かした。この溶液にTHI’ 80
meを加え、0〜5℃に冷却しながら4N塩酸でpH2
,0にした。この混液に塩化メチレン35m1を加え分
岐し、水層>THF6mlと塩化メチレン10m1の混
液で抽出した。有機層と抽出液を合せ、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧濃縮した。残留物にホルムアミド
10me、アセトニトリル40rr+/及びジエチルア
ミン293グを加えた。この溶液に投打上−35〜−3
0°C(二冷却しながら、メチル0−フェニレンホスフ
ェイト3.72gの塩化メJ−レン10 me ni
l(’j−を11均下゛し混ntを−35〜−80℃で
10分間ついで一5〜0℃で30分間攪拌した。反応混
合物にエーテル100□eを加え、溶媒を傾斜して除き
残った粘稠油を水7ml?とアセトニトリル14m/の
混lFiに溶かし、0〜5℃で4N塩酸な用tz−てp
l−1285にした。この溶液を0〜5℃で4 N −
Na01−1 k用いてpH6,0にし、アセトニトリ
ルを織圧留去した。濃縮液をシリカゲルクロマトグラフ
ィー(シリカゲル250グをアセトニトリル−水−蟻酸
(80:15:2)でカラム(二充填した。カラムの層
高:6acm)に付し、アセトニトリル−水(a:i)
で溶出した。溶出液をT L C(シリカゲルプレート
。
展開溶媒;アセトニトリル:水:99%蟻酸=80:1
5:2、検出:U■クランプで調べ、目的物(n、r:
約0.27)を含む区画を集め減BE濃縮し、I N
−NaO[1でpH6,0にし凍結乾燥すると、7β−
(1) −5−カルボキシ−5−フタルイミドノ(レル
アミド)−3−ジエチルアミノメチル−フェA−4−カ
ルボン酸すトリウム塩481グ(収率82.8%)が得
られた。
5:2、検出:U■クランプで調べ、目的物(n、r:
約0.27)を含む区画を集め減BE濃縮し、I N
−NaO[1でpH6,0にし凍結乾燥すると、7β−
(1) −5−カルボキシ−5−フタルイミドノ(レル
アミド)−3−ジエチルアミノメチル−フェA−4−カ
ルボン酸すトリウム塩481グ(収率82.8%)が得
られた。
ITL(1<13r)cm ; 1766、17
05,1607.1391N〜IIL( 1)20)δ
;1.2〜2.7( 1211,m, (旧3X21(
CH2)8−)、 2.8〜8.6(611,nt,
−(泪2(、1++3X 2 。
05,1607.1391N〜IIL( 1)20)δ
;1.2〜2.7( 1211,m, (旧3X21(
CH2)8−)、 2.8〜8.6(611,nt,
−(泪2(、1++3X 2 。
2−CH2)、 8.75&4.08(21−1,Al
bl,、に14 117 。
bl,、に14 117 。
8−CH12)、 5.07( tll, d,J=5
11z,(シロ11)。
11z,(シロ11)。
5、58(11−1,d,J−511z,C7 II
)。
)。
7、86(4H,s,σ)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 〔式中、R1は水素原子またはアシル基を、Rは水素原
子まだはエステル残基を、点線はセフェム環の2位寸だ
け3位二重結合を示す〕で表わされる化合物と求核性化
合物と(1)式 〔式中、Wは酸素原子、イオク原子捷たはNR2を、W
lは酸素原子、イオク原子またはNR3を、R2、R1
は同一まだは相異なって水素1ネ子捷だけ炭化水素基を
示す〕で表わされる部分構造を有する三師捷だけh価の
環状リン化合物、捷だは(2)式〔式中の記号は前記と
同意義〕で表わされる部分構造を有する化合物とオキシ
・・ロゲン化リン、三ハロゲン化リンまたは五ハロゲン
化リンとの反応物を有機溶媒中で反応させることを特徴
とする、式 〔式中、R1、Rおよび点線は前記と同意義を、R4は
求核性化合物の残基を示す〕で表わされるセファロスポ
リン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16355682A JPS5953492A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | セフアロスポリン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16355682A JPS5953492A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | セフアロスポリン化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5953492A true JPS5953492A (ja) | 1984-03-28 |
| JPH0357911B2 JPH0357911B2 (ja) | 1991-09-03 |
Family
ID=15776138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16355682A Granted JPS5953492A (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | セフアロスポリン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5953492A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6110591A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-18 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 7−アミノ−3−(n−含有複素環置換メチル)−3−セフエム−4−カルボキシレ−トまたはその塩類の製造法 |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP16355682A patent/JPS5953492A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6110591A (ja) * | 1984-06-26 | 1986-01-18 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 7−アミノ−3−(n−含有複素環置換メチル)−3−セフエム−4−カルボキシレ−トまたはその塩類の製造法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0357911B2 (ja) | 1991-09-03 |
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