JPS5953529A - ポリエステルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はポリエステルの製造法に関するものである。更
に詳しくは本発明は実質的に線状の飽和ポリエステルに
特定な構造を有する化合物を溶融下反応せしめることを
特徴とするポリエステルの製造法に関する。

飽和線状のポリエステル、殊にポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート等は優れた物性を有
し、線維、フィルム、プラエチレン等として広く使用さ
れている。

このポリエステルを繊摺、フィルム、プラスチック等に
成型する際製品の他に、生産開始及び終了等における放
流屑、フィルムウェッブがもの屑、プラスチック容器の
パリ等屑ポリエステルが発生ずる。

この屑ポリエステルを単独で再溶融成型又は新しいポリ
エステルと混合し、再溶融成型し、製品にすることが生
ｌ性、コストの面より有利な方法である。しかし屑ポリ
マーは溶融成型の際熱分解等によりエポリエステルの重
合度が低］しているため、屑ポリマーを使用した製品は
新しいポリエステルを使用した製品に比較し、ポリエス
テルの重合度に依存する機械的物性が劣る欠点がある。

本発明者はかかる点に着目し、極めて知時間のしかも常
圧又は加圧下における反応でも屑ポリマーの重合度を上
列？・せる方法について鋭意研究した結果、ある特定の
化合物を用いてポリエステルを改質するとその目的が達
成されることを知見し、本発明に到達した。

すなわち本発明は、実質的に線状の飽和ｙ１′：リエス
テルからなる屑ポリエステル（Ａ）と該ｄ（リエステル
（Ａ）に対して、０．０１重量％乃至１０重に係の下記
一般式（Ｉ）で示される化合物ＣＢ）の少なくとも１種
及び／又は該ポリエステル（Ａｌに対して０．０１重量
％乃至１０重量％の下記一般式（ＩＴ）　、　　（ＩＩ
Ｉ）で示される化合物（Ｃ）から選ばれた少なくとも１
種をポリエステルの溶融下反応せしめることなＩｎｋと
するポリエステルの製造法に関する。

１１１ 　　　０ 本発明で甫５実質的に線状の飽和ポリエステル（Ａ）を
構成する酸成分としては、テレフタル酸。

イソフタル酸、ナフタンンジカルボン酸、ジフェニルジ
カルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン醒、ジフェ
ノキシエタンジカルボン酸。

ジフェニルエーテルジカルボン酸、メチルテレフクル酸
、メチルイソフタル醪等の如き芳香族ジカルボン酸類；
フハク酸、アジビ／Ｖ、、セパチン酸、デカノンカルボ
ン酸、ドデカンジカルボン酸等の如き脂肪族ジカルボン
酸；シクロヘキサンジカルボン酸の如き脂環族ジカルボ
ン酸；ε−オキシカプロン酸、オキシ安息香酸、ヒドロ
キシエトキシ安息香酸等の如きオキシカルボン酸や）が
例示され、これらのうち芳香族ジカルボン酸、殊にテレ
フタル酸が好ましい。又上記飽和ポリエステルに於て、
酸成分がジカルボン酸である場合のグリコール成分とし
ては、エチレングリ；１−ルアトリメチレングリコール
、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコー
ル、テカメφレンゲリコール、シクロヘキサンジメチロ
ール等が例示され、これらのうち特にエチレングリコー
ル、テトラメチレングリコールが好ましく・。またグリ
コール成分としてポリオキシアルキレングリコールを使
用することも可能であり、例えばポリオキシエチレング
リコール、ポリオキシプロピレングリコール。

ポリオキシテトラメチレングリコール及びこれらの共重
合体が例示される。ポリオキシアルキレングリコールを
使用する場合、この好ましい平均分子量はＳＯＯ〜５ｏ
ｏｏ、より好ましくは６００〜４０００．特に好ましく
けｓｏｏ〜３０００であり、更にその使用値はポリエス
テル中５〜８５重証係程度、好ましくは１０〜Ｂ。

ｆｆ１ｆ受、より好ましくは１５〜７ｓ：ｉｉ％程度で
ある。

また、前記飽和ポリエステルには、実質的に線状である
範囲内（例えば全酸成分に対し１モル多以下）で、３官
能以上の化合物例えばトリメチロールプロパン、ペンタ
エリスリトール。

トリメリント酸、ピロメリット酸等が、又単官能化合物
例えばベンゾイル安息香酸、ジンェニルカルボン酸等が
共黛合されていてもよい。

上記飽和ポリエステルの重合度は、オルンクロロフェノ
ール３５℃で測定した極限粘度が０．３以上であること
が好ましく、特Ｋ　Ｏ，４以上であることが好ましく・
。

本発明に於ては、上述した飽和ポリエステルの屑ポリエ
ステル（Ａ）に、前記一般式（Ｄで示される化合物（Ｂ
）から選ばれた１種以上及び／又は一般式（ｎ）又は（
ｍ）で示される化合物（Ｃ）がら選ばれた１種以上を添
加し、反応させろことにより高重合度ポリエステルを得
るのであるが、以下化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）につ
いて説明する。

先ず化合物（Ｂ）すなわち一般式（Ｉ）で示される化合
物について説明する。

４Ｒ８ 一般式（１）に於て、Ｒ，〜Ｒ８は夫々水素原子又は−
価の有機基であるが、該−価の４１機基の好ましいもの
としては炭素数１〜１ｏのアルキル基、炭素数６〜１２
の７リール基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭
素数８〜２０の７ラールキル基等があげられる。これら
のうち、Ｒ１−Ｒ８のすべてが水素原子であることが最
も好ましい。又式中のＤは二価の有機基であるが、例え
ば炭素数１〜１０のフルキレン基、炭素数６〜１２の７
リーレン基、炭素＃！ｉ５〜１２のシクロアルキレン基
、炭素数８〜２０のアラールキレン基等があけられる。

更に具体的にはアルキレン基としては、メチレン、エチ
レン、ブジビンン、プチンン、ペンチ１／ン、ヘキザメ
チレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレン
、ジメチルメチレン等が例示でき、またアリーレン基と
してはフェニレン、ナフチレン。

ジフェニレン、′（〕ヒＲぞ（ここでＲ′は一〇−２−
Ｃｏ−、−８−、　−８ｏ２−、　−ＣＨ，−、−Ｃ１
２ＣＨ，−１−Ｃ（ＣＨ３）２−等である）等が例示で
き、またシクロアルキレン基としてはシクロヘキシレン
が例示できる。又式中のｎは０又は１である。

ｎはＯであるのが最も好ましく、またｎが１の場合りは
７リーレン基であることが好ましい。

一般式（Ｉ）で示される化合物はビスオキサシリ／と呼
ばれる化合物であり、次の如き化合物が例示される。

２．２１−ヒス（２−飼キザブリン）、２．２’−ビス
（４−メチル−２−オキサゾリン）、２．２’−ビス（
４，４−ジメチル−２−オキサゾリン）。

２．２′−ビス（４−エチル−２−オキサゾリン）。

２．２′−ビス（４，４−ジエチル−２−オキサゾリン
）、２．２’−ヒス（４−プルピル−２−オキサプリン
）、２．２’−ビス（４−ブチル−２−オキサゾリン）
、２．２’−ビス（４−へキシル−２−オキサゾリン）
、２．２’−ビス（４−フエ＝　ルー２−オキサゾリン
）、２．２’−ビス（４−シクロヘキシル−２−オキサ
ゾリン）、２．２’−ビス（４−ベンジル−２−オキサ
ゾリン）、２．２’−ｐ−フェニレンビス（２−オキサ
ゾリン）。

２．２’−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）。

２．２’−ｏ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）。

２．２’−ｐ−フェニレンビス（４−メチル−２−オキ
サプリン）、２．２’−ｐ−フェニレンビス（４，４−
−ジメチル−２−オキサゾリン）、２．２’−ｍ−フェ
ニレンビス（４−メチル−２−オキサゾリン）＋２＋２
′ｍ−フェニレンビス（４１４−ジメチル−２−オキサ
ゾリン）、２．２’−エチレンビス（２−オキサゾリン
）、２．２’−テトラメチレンビス（２−オキサゾリン
）、２．２’−ヘキサメチレンビス（２−オキサゾリン
）、２．２’−オクタメチレンビス（２−オキサゾリン
）。

２．２′−デカメチレンビス（２−オキサゾリン）。

２．２′−エチレンビス（４−メチル−２−オキサゾリ
ン）、２．２’−テトラメチレンビス（４，４−ジメチ
ル−２−オキサゾリン）　、　　２．２’　−９，９’
　−ジフェノキシエタンビス（２−オキサゾリン）。

２．２′−シクロへ片シロンビス（２−オキサシリン）
、２．２’−ジフェニレンビス（２−オキサゾリン）等
。

こねらは１種又は２１以上を使用するが、かかる化合物
の使用量はポリエステル（Ａ）に対し０．０１重量％乃
至１０重量％である。０．０１重量％に満たない量では
、本発明の目的とする効果が顕著でなく、又１０重ｉ％
を越える場合にはそれ以上の効果が期待出来ない。より
好ましい使用量は０．０２重量％乃至５重量％、特に好
ましくは０．０３重量％乃至３重量％である。

次に化合物（Ｃ）について説明する。

先ず、一般式（ｎ）で示される化合物について式中のＤ
′は前記りと同義の二価の冷機基である。

またＸは二価の有機基であり、かかる基としては例えハ
、チレン基、置換メチレン基、エチレン基、　［換エチ
レン基、０−フェニレン基、ｆｆｉ換基な有するＯ−フ
ェニレン基等がある。この置換メチレン基及び置換エチ
レン基としては、炭素数１−１０のアルキル基、炭素数
６〜１２の７リール基、炭素数５〜１２のシクロアルキ
ル基、炭素数′８〜２０アラールキル基等の１種以上を
置換基として有するメチル基及びエチレン基があげられ
る。この置換基はその中の２ケが互いに結合して６員環
又は５員環を形成していてもよい。また、ＸがＯ−）二
二しン基又は置換基を有するＯ−フェニレン基の場合、
式中の形成される環は６員環となり、例えば炭素数１〜
１０のアルキル基、炭素数６〜１２の７リール基、炭素
数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数８〜２０の７ラ
ールキル基等であり、ｍは１〜４の数である）で表わさ
れる。また、Ｘがナフチレン基又は１を換ナフチレン基
の場合も同様である。前記した置換基としてのアルキル
基、アリール基、アラールキル基及びシクロアルキル基
の具体例は、Ｄにおける有機基で例示したものをあげる
ことができる。Ｘとし−Ｃ装置ｉメチレン、置換エチレ
ン、０−フェニレンが婦ましく、特に０−フェニレンが
好ましい。ｌは０又は１であるが、ｌは０であるのが最
も好ましく、又ｌが１の場合Ｄ′はアリーレン基である
ことが好ましい。

前記一般式（ｎ）で表わされる化合物は、環構造が５員
環の場合にはビスオキサシロンと呼ばれ、また６員環の
場合にはビスオキサジノンと呼ばれる。これらは該当す
るＮＮ’−ジアシルビス（α−又はβ−７ミノカルポン
酸）を、例えば無水酢酸の如き化合物で脱水することに
より容易に製造される。かかる化合物とし′ｃ１１、次
の如き化合物を例示出来る。

１）ビスオキサシロン化合物； ２．２′−ビス（５（４Ｈ）−オキサシロン）。

２．２′−メチレンビス（５（４１）−オキサシロン）
、２．２′−エチレンビス（ｓ（４Ｈ）−オキサシロン
）、２．２’−テトラメチレンビス（ｓ　（４１）−オ
キサシーン）、２．２’−へキサメチレンビス（５（４
１’ｌ）−オキサシロン）２．２′−デカメチレンビス
（ｓ　（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−ｐ−７二
二レンビス（５（４ＩＩ　）−オキサシロン）、２．２
’−ｍ−フェニレンビス（５（４Ｈ）−オキサシロン）
。

２．２′−す７タレンビス（５（４Ｈ）−オキサシロン
）、２．２’−ジフェニレンビス（５（４Ｈ）−オキサ
シロン）、　　２．２’　−（１，４−（シクロヘキシ
レン）−ビス（６（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’
−ビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２
．２’−メチレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキ
サゾロン）、２．２’−エチレンビス（４−メチル−５
（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−テトラメチレン
ビス（４−メチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．
２’−ヘキサメチレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）−
オキサシロン）。

２．２′−デカメチレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）
−オキサシロン）　、　　２．２’　−ｐ−７エニレン
ビス（４−メチル−５（４１１）−オキサシロン）、２
．２′−ｍ−フェニレンビス（４−メチル−５（４Ｈ）
−オキサシロン）。

２．２′−ナフタレンビス（４−メチル−５（４）Ｉ　
）　−オキサシロン）、２．２’−ジフェニレンビス（
４−メチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）　、　　２．
２’　−（１，４−シクロヘキシレン）−ビス（４−メ
チル−５（４Ｈ）−オキサゾｐンン、２．〆−ビス（４
，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２
’−メチレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オ
キサシロン）　、　　２　、２／−エチレンビス（４，
４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．グー
テトラメチレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ）−
オキサシロン）、２．２’−へキサメチレンビス（４，
４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２′
−オクタメチレンビス（４，４＝ジメチル−５（４Ｈ）
−オキサシロン）、２．２’−デカメチレンビｋ（４，
４−ジメチル−５（４１１）−オキサシロン）、２．２
’−ｐ−フェニレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ
）−オキ１ゾｐン）、２．２’−ｍ−フェニレンビス（
４，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．
２’−ナフタレンビス（４，４−ジメチル−５（４Ｈ）
−オキサシロン）、２．２’−ジフェニレンビス（４，
４−ジメチル−ｓ　（４Ｈ）−オキサシロン）　、　　
２．２’　−（１，４−シクロヘキシレン）−ビス（４
，４−ジメチル−５（４Ｈ）−オキサゾμ７）、２．２
’−ビス（４−イソプロピル−ｓ　（４ｎ　）−オキサ
シロン）。

２、！−メチレンビス（４−イソプロピル−５（４Ｈ）
−オキサシロン）、２．Ｚ’−エチレンビス（４−イソ
プロピル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−テ
トラメチレンビス（４−イソプロピル−５（４Ｈ）−オ
キサシロン）。

２、グーへキサメチレンビス（４−イソプロピル−５（
４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−ｐ−フェニレンビ
ス（４−イン７’ｌ＝ビル−５（４Ｈ）−オキサシロン
Ｌ２＋２’　　ｍ−７エニレンビス（４−イソプロピル
−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−ナフタレン
ビス（４−イソプロピル−５（４Ｈ）−オキサシロン）
１２．２’−ビス（４−インブチル−５（４Ｈ）−オキ
サシロン）、２．２’−メチレンビス（４−インブチル
−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．Ｚ’−エチレンビ
ス（４−ベンゾチルー５（４Ｈ）−オキサシロン）、２
．２’−テトラメチレンビス（４−インブチル−５（４
Ｈ）−オキサシロン）、２．２’−へキサメチレンビス
（４−インブチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．
２’−ｐ−フェニレンビス（４−イソブチル−５（４Ｈ
）−オキサシロン）、２．２′−ｍ−フェニレンビス（
４−イソブチル−５（４Ｈ）−オキサシロン）、２．２
’−ナフタレンビス（４−インブチル−５（４Ｈ）−オ
キサシロン）等； ２）ビスオキサジノン化合物： ２．２′−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン
）、２．２’−メチレンビス（３，１−ベンゾオキサジ
ン−４−オン）、２．２’−エチレンビス（３，１−ペ
ンゾオキザジンー４−オン）。

２．２′−テトラメチレンビス（３，１−ペンツオキサ
ジン−４−オン）、２．２’−へキサメチレンビス（３
，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。

２．２′−デカメチレンビス（３，Ｊ−ベンゾオキサジ
ン−４−オン）、２＋”　　ｐ−フェニレンビス（３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン）。

２．２’−ｍ−フェニレンビス（３，ｌ−ベンゾオキサ
ジン−４−オン）、２．２’−ナフタレンビス（３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）。

２．２’　−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）　、　２．２’　−（
１，４−シクロヘキシレン）ビス（３，１−ペンゾオキ
サジン−４−オン）、２．２’−ビス（４，４−ジヒド
ロ−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）。

２．２′−メチレンビス（４，５−ジヒドロ−１１３゜
６Ｈ−才キサジン−６−オン）、２．２’−エチレンビ
ス（４，５−ジヒドｑ　−１，３，６Ｈ−オキサジン−
６−オン）、２．２’−テトラメチレンビス（４，５−
ジヒドロ−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）　、
　　２．２’　−ｐ−フェニレンビス（４，５−ジヒド
＋ｉ　−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）、　　
２．２’−ｙｎ−フェニレンビス（４゜５−ジヒドロ−
１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）、２．２’−ビ
ス（４−メチル−５−ヒドロ−１，３，６Ｈ−オキサジ
ン−６−オン）。

２．２′−エチレンビス（４−メチル−５−ヒトＩ：Ｉ
−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）。

２．２’−ｐ−フェニレンビス（４−メチル−５−ヒド
ロ−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）。

２．２’−ｍ−フェニレンビス（４−メチル−５−ヒド
ロ−１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）。

２．２’−ｐ−フェニレンビス（４−ヒドロ−５２＋２
’　　ｍ−フェニレンビス（４−ヒドロ−５−メチル−
１，３，６Ｈ−オキサジン−６−オン）等。

次に一般式（ｍ）で示される化合物について説明する。

＋１　　　　　１１ 　　　０ 前記一般式（１０）にて示される化合物は、ビスベンゾ
オキサジノンと呼ばれる化合物であり、人はベンゼン、
２〜３個のベンゼン環からなる縮合環化合物、或（・は
一般式（■−Ｒ′刊Ｊ（ｎｒは前記ど同じ）で示される
芳香族基が好ましい。

又Ｒ，，Ｒ，。としてＩＪ５例えば炭素数１〜１ｏのア
ルキル基、炭素数３〜１２のジクロフルキル基。

炭素数６〜】８の７リール基等が好ましく、更に具体的
にはフルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イ
ンプロピル、プづ−ルウペンチル、ヘキシル、オクチル
等が例示でき、ジクロフルキル基としては、シクロペン
チル、シクロヘキシル等が例示でき、また７リール基と
してはフェニル、ナフチル基等が例示できる。

前記一般式（ｍ）で衣わされるビスベンゾオキサジノン
化合物は、下記（■）式で示されるジアミノジカルボン
酸 〔但し、式中人は四価の芳香族基である〕と芳香族脂肪
族酸誘導体とを有機溶媒中加熱するか、あるいはポリリ
ン酸中加熱することで容易にＮ造される。特に好ましく
は芳香族若しくは脂肪族の酸無水物、或（・は酸ハμゲ
ン化物との反応により製造される。ビスベンゾオキサジ
ノン化合物の製造は、これらの方法に限定されるもので
はない。

かかる化合物としては、次の如き化合物を例示すること
ができる。

２．８−ジメチル−４１４，６Ｈ−ベンゾ〔１，２−ｄ
　：　５，４−ｄ’）ビス−（１，３）　−’Ｊ−キサ
ジンー４．６−ジオン、２．７−シメチルー４Ｈ，９Ｉ
（−ベンゾ（１，２−ｄ　：　４，５−ｄ’）ビス−（
１，３）−オキサジン−４，９−ジオン、２．８−ジフ
ェニル−４Ｈ，６Ｈ−ベンゾ（１，２−ｄ　：　５，４
−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，６−ジオ
ン。

２．７−ジフェニル−４Ｈ、９Ｈ−ベンゾ〔ｌ、２−ｄ
：４，５−ｄ’）ビス−（１，３）−オキサジン−４，
６−ジオン　ｓ、　６ｔ−ビス（２−メチル−４Ｈ、３
，１−ペンゾオキサンンー４−オン）。

６．６′−ビス（２−工φルー４　）１　、３．１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、６．６’−ビス（２−フ
ェニル−４）１　、３．１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６．６’−メチレンビス（２−メチル−４Ｈ、３
，１−ベンゾオキサジン−４−オン）。

６．６’−メチレンビス（２−フェニル−４Ｈ、３゜１
−ベンゾオキサジン−４−オン）、６．６’−エチレン
ビス（２−メチル−４１（、３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、６．６’−エチレンビス（２−フェニル
−４Ｈ、３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６．
６’−ブチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）＋Ｌ６′−ブチレンビス（２
−フェニル−４Ｈ、３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）。

６．６′−オキシビス（２−フェニル−４Ｈ，３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）、６．６’−スルホニル
ビス（２−メチル−４Ｈ、３，１−ベンゾオキサジン−
４−τン）、Ｇ、６’−スルホニルビス（２−フェニル
−４１１、３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６
．６’−カルボニルビス（２−メチル−４Ｈ、３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）、６．６’−カルボニル
ビス（２−フェニル−４Ｈ、３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）。

７１デーメチレンビス（２−メチル−４Ｈ、３，ｔベン
ゾオキサジン−４−オン）、７．７’−メチレンビス（
２−フェニル−４Ｍ、３．１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、７．７’−ビス（２−メチル−４Ｈ、３，１−
ペンゾオキザジンー４−オン）。

７．７／−エチレンビス（２−メチル−４Ｈ，３，夏−
ペンゾオキサジン−４−オン）、７．７’−オキシビス
（２−メチル−４Ｈ、３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、７．７’−スルホニルビス（２−メチル−４Ｈ
，３，１−ペンゾオキザジンー４−オン）、７１デーカ
ルボニルビス（２−メチル−４Ｈ、３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）等。

化合物（Ｃ）として、前記一般式（ＩＩ）、（ｍ）で示
される化合物の少なくとも１種を使用するが、かかる化
合物の使用量は、ポリエステル（Ａ）に対し０．０１１
祉チ乃至ｔｏｉ量チである。０．０１１ｉ％に満たない
量では重合度が十分上らないし、又、１０憲童裂を越え
る場合にはそれ以上の効果が期待出来なかったり、或い
はかえって重合度が上りにくかったりして好ましくない
。

より好ましい使用量は０．０２憲童裂乃至５重量％、特
に好ましくは０．０５．ｌｔ址う乃至ｓ［量φである。

本発［３１１に於ては、ポリエステル（Ａ）の溶融下、
ポリエステ／Ｌ−（Ａ）と所定量の化合’１ｋＪｆＢ）
及び化合物（Ｃ）とを混合１反応せしめる。この反応温
度の好ましい範囲はポリエステルの融点以上３２０″Ｃ
以下であり、より好ましくはポリエステルの融点以上２
９０°Ｃ以下である。また反応圧力は加圧であってもよ
いが常圧乃至は減圧が好ましい。

好ましい反応時間は３０秒乃至は６０分であり、より好
ましくは１分乃至は３０分、特に好ましくは１分乃至１
５分である。

この反応は通常のポリエステル重合反応器の中で（Ａ）
、　（Ｂ）及び／又は（Ｃ）を混合攪拌下反応させる方
法はもちろんのこと、例えばエクストルーダ中で混合反
応させることができる。また屑ポリマー（Ａ）と（Ｂ）
及び／又はｆｃ）を反応させる時期は例えば不定型の屑
ポリマーを溶融しベレット化する時、不定型層ポリマー
をそのまま再溶融成型する時、ベレット化した屑ポリマ
ーを溶融成型する時等に（Ｂ）及び／又は（Ｃ）を添加
することが挙げられ、これらのときに新しいポリエステ
ルを混合することももちろん可能である。

尚（Ａ）、　（Ｂ）、　（Ｃ）を混合反応させる場合に
、ポリエステル（Ａ）に化合物（Ｂ）を予め反応させ、
次いで化合物（Ｃ）を反応せしめる方法；ポリエステル
（Ａ）に化付物（Ｃ）を予め反応させ、次いで化合物（
Ｂ）を反応させる方法等も適宜使用出来、又化合物（Ｂ
）及び／又は化合物（Ｃ）を多量に混合せしめたポリエ
ステル（いわゆるマスターポリマー）を予め作り、これ
を所定量ポリエステル（Ａ）に添加反応せしめる、いわ
ゆるマスターバッチ方式も好ましく採用出来る。

本発明に於ては上記ポリエステルと化合物（Ｂ）及び／
又は化合物（Ｃ）との反応に際し、ポリエステル中ある
いは反応の際に種々の添加剤例えば紫外線吸収剤、熱安
定剤、ｌ＆燃剤、増白剤、滑剤、核剤、顔料、フィラー
等が添加されてもよい。

以下実施例をあげて本発明を詳述する。尚実施例中の「
部」とあるのはいずれも「重量部」を意味する。

実施例１〜４　比較例１ 俸ト１（粘度０．６５のポリエチレンテレ７クレートを
溶融成型した際に発生した極限粘度０．６２の屑ポリエ
ステル（Ａ）　１００部に第１表に示した化合物（Ｂ）
及び／又は（Ｃ）の所定量を添加混合しエクストルーダ
ーにより約２８０°Ｃ２平均滞留時間約３分で溶融押出
しした。得られたポリマーの極限粘度を第１表に示す。

比較例として化合物（Ｂ）、　（Ｃ）を緋加しない場合
についての例を示す。

第１我からも明らかなように、化合物（Ｂ）及び／又は
（Ｃ）の添加により、屑ポリエステル（Ａ）の重合度が
向上し、実用に供し得るようになる。

実施例５〜７　比較例２ ！　限粘度０．６５のポリエチレンテレフタレートを溶
融成型した際に発生した極限粘度０．６２の屑ポリエス
テル（Ａ）　５部部と極限粘度０．６５のポリエチレン
テレフタレート５０部に第２表に示した化合物（Ｂ）及
び／又は（Ｃ）の所定量を添加混合し、エクストルーダ
ーにより約２８０℃、平均滞留時間約３句で溶融押出し
した。得られたポリマーの極限粘度を第２表に示す。比
較例として化合物を添加しない場合についての例を示す
。第２表からも明らかなように、化合物ＣＢ）及び／又
は（Ｃ）の添加により、屑ポリエステル（Ａ）の重合度
が向上し、実用に供し得るようになる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 実質的に線状の飽和ポリエステルからなる屑ポリエステ
   ル（Ａ）と該ポリエステル（Ａ）に対して、０．０１重
   量％乃至１０重ｉ係の下記一般式（１）で示される化合
   物ＣＢ＋の少なくともｌ　ｆ！ＩＩ及び／又は該ポリニ
   スデル（Ａｌに対して０．０１重量％乃至１０重量％の
   下記一般式（ｎ）、　　（ｎｌｌ）で示される化合物（
   Ｃ）から選ばれた少なくとも１種をポリエステルの溶融
   下反応せしめることを％徴とするポリエステルの製造法
   。 Ｒ，Ｒ。 １ ４Ｒ８ １１ＩＩ 　　　　０