JPS5953601B2 - 録音盤の製造法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は録音溝の溝切りがスムーズに行われ雑音が少く
録音性能の優れた録音盤の製造法に関するものである。

アルミ製円盤基体に設けられた塗料層面に針を接１０触
させ録音盤を回転せしめつつ、当該針によつて溝を切り
込んで音声を収録する録音システムは従来から行われて
いる。

本発明はこの録音システムに用いられる高性能録音盤を
提供するものである。

従来、円盤基体面１５に塗料を塗布する方法として円盤
基体を平面にしてその面上に塗料を流延する方法、ある
いは磁気ディスクの製法として円盤基体を磁気塗料中に
垂直に浸漬してこれを回転させることによつて磁気塗料
を塗布するディップコーディングと称する方２０法（特
公昭５１−１４２４２号）が知られている。ところで、
前記円盤基体面上に塗料を流延する方法では、塗料付着
量のコントロールが困難で、どうしても多量に余分の塗
料が付着し易くしかも塗料層内への泡の混入、塗料層面
でのむらの現出と２５いう欠点がある。一方ディップコ
ーティング方法は、磁気塗料という特殊塗料の塗布によ
る磁気ディスクの製法としては良好な結果が得られるで
あろうが、この方法をそのまま本発明における録音盤製
造用塗料のごとく磁気塗料に比べて比較的粘３０度の高
い塗料に適用した場合には、やはり上記流延方法同様、
塗料付着量のコントロールが困難で塗料層内への泡の混
入、統料層面でのむらの現出という欠点を解消すること
は出来ない。一般に使用されている録音盤はアルミ製円
盤基３５体の表面に設けられた硝化綿塗料層に切り込ま
れた録音溝によつて音声を再生するものであり、したが
つてこの溝切りの容易さと、その切削精度ならびに塗料
層面の平滑性の如何によつて再生音の音質すなわち録音
性能が左右される。

特にこの録音溝の切削精度は塗料組成による塗膜の性能
はもちろん円盤基体への塗料付着量及びその均一塗布性
（平滑性）によつて左右される。

優れた切削精度が出る塗料組成をもつて最適の塗料付着
量及び均一塗布性（平滑性）を得るためには先に述べた
流延方法あるいは磁気デイスクの製法において行われて
いる、単なるデイツブコーテイング方法をもつてしては
塗料層への泡の混入、あるいは塗料面でのむらの発生及
び塗膜厚の不均一性等録音盤としての致命的欠陥を避け
ることはできない。本発明者達は叙上のごとき問題点を
解消し非常に優れた録音性能をもつた録音盤を提供すべ
る鋭意研究の結果、本発明を完成するに至つたものであ
る。

本発明は回転軸に保持された１枚ないし２枚以上の円盤
基体をその下半分内の適当な位置まで塗料槽内に浸漬し
（第１浸漬）この状態で円盤基体を１回転してから塗料
槽より引き上げ、空気中で回転を続行し円盤基体に付着
した塗料の流動性による塗料層の平滑化を行うと共に実
質的な乾煉を行い、次いで第１浸漬での円盤基体上の侵
入位置から角度（変位角度）θの変位をもつた位置を新
たな侵入位置として第２浸漬を行い、第１浸漬と同様の
処理の後６引き続き第２浸漬において変位させたと同方
向に第２浸漬の円盤基体上の侵入位置から角度（変位角
度）θの変位をもたせた位置を新たな侵入位置とする第
３浸漬、以下同様に第４浸漬・・・・・・第ｎ浸漬を必
要とされる塗料膜厚が得られるまで順次行い、第３浸漬
・・・・・・第ｎ浸漬それぞれに第１浸漬と同様の処理
を行うことによつて円盤基体の両面に均一な塗料層を設
けて成る録音性能の優れた録音盤を提供するものである
。

すなわち本発明は、円盤基体をその下半径以内の適当な
深さまで録音盤製造用の塗料槽内に浸漬してこれを回転
せしめ円盤基体面に塗料層を形成する方法において多重
塗布方式を採用したものである。本発明の多重塗布は塗
音盤製造用の塗料槽内への繰り返し浸漬によつて行うも
のであり、しかも一定の規則に従つて浸漬を繰り返す点
に特徴を有するものである。円盤基体面に設けられた塗
料層に溝を切ることによつて収録する録音盤は、その塗
料層の平滑性（均一性）によつてその音質の良し悪しつ
まり録音性能が決る。

ところで円盤基体を塗料槽内に浸漬してこれを単純に回
転せしめるだけでは塗料の円盤基体への付着状態、すな
わち塗料層の平滑性が悪いことはすでに述べた通りであ
り、したがつて得られる録音盤はこれに録音した場合雑
音が多く、録音性能のきわめて悪いものである。本発明
は塗料槽への円盤基体の浸漬、回転塗布を一定の規則に
従つて数回にわけて実施する（繰り返し浸漬）どとによ
つて平滑な塗料層の形成に成功したものである。

本発明では円盤基体をその下半径以内の適当な深さにま
で塗料槽内に浸漬することを繰り返し浸漬の第１規則と
するものである。

すなわち、円盤基体全体を塗料槽内に完全浸漬するので
はなく、最大浸漬深度を円盤基体の下半分としこの浸漬
状態で適宜回転速度をもつて回転せしめることで、塗料
の流動性を応用して円盤基体全面に、次に示す繰り返し
浸漬の第２規則との相乗効果をもつて平滑性に優れた塗
料層を形成せしめるものである。上記第１規則をもつて
浸漬した円盤基体をその浸漬状態を保持してｌ回転せし
めた後塗料槽から引き上げ６引き続きこれを空気中にて
回転を続行して円盤基体に付着した塗料の流動性による
塗料層の平滑化を行うと共に、塗料層を実質的に乾燥す
る。この浸漬、１回転塗布、引き上げ、回転乾燥を順次
繰り返すのであるが、その際ただ単純にこれを繰り返す
のではなく一定の規則（繰り返し浸漬の第２規則）に従
つて浸漬を繰り返すのである。この第２規則は円盤基体
の塗料槽への第２回目以降の侵入位置（円盤基体上の位
置）を一定間隔づつ変位させるものである。この変位と
は、第１浸漬の円盤基体の侵入位置から一定角度θだけ
回転移動した円盤基体上の位置を第２浸漬の侵入位置と
し、以後順次第２侵入位置から一定角度θだけ同じ回転
方向に回転移動した円盤基体上の位置を第３侵入位置、
第３侵入位置から一定角度θだけ同じ回転方向に回転移
動した円盤基体上の位置を第４侵入位置、以下順次同様
の変位をもつて第５侵入位置・・・・・・第ｎ侵入位置
とするものである。すなわち６この変位（繰り返し浸漬
の第２規則）に従つて、浸漬、１回転塗布引き上げ、回
転乾燥の順序で構成された塗布操作を第１〜第ｎまで順
次繰り返すことによつて、円盤基体面への多重塗布を完
了し、平滑性に優れた塗料層を有する録音性能の良い録
音盤を得るものである。本発明でいう変位角度θは３６
０度を均等に分割する角度であればよく、特に限定はし
ない。

しかし５一般的には４０度、６０度、９０度、１２０度
のいづれかが選択され、特にθ＝９０で、浸漬回数ｎ＝
４という繰り返し浸漬の第２規則を採用する場合が多い
。なお、本発明でいう円盤基体としては、一般にアルミ
製のものが用いられるが、かならずしもこれに限るもの
ではない。

次に本発明を図面に従つてさらに具体的に説明する。

図面は繰り返し浸漬の第１規則、及び同第２規則に従つ
た円盤基体への塗布工程を示すものであり、図イ〜図二
はそれぞれ第１浸漬〜第４浸漬の状態を例示したもので
ある。第１浸漬（図イ）ではアルミ製円盤基体１のａ点
を侵入位置としてアルミ製円盤基体１の下半径以内の長
さｈを浸漬深さとして、粘度１５０ＣＰＳの硝化綿塗料
を満たした塗料槽２内に浸漬し、これを矢印の方向に回
転速度２〜５回／Ｍｉで回転せしめアルミ製円盤基体１
が１回転してａ点が塗料槽２内のもとの位置にもどつた
時点でアルミ製円盤基体１を塗料槽２から引き上げ、引
き続きこれを空気中で回転乾燥することにより第］回の
塗布を完了するものである。続いて、すでに説明した繰
返し浸漬の第２規則に従つてそれぞれ９０度変位せしめ
たｂ点６Ｃ点、ｄ点を侵入位置とし第２浸漬（図口）、
第３浸漬（図ハ）、第４浸漬（図ニ）を順次行うもので
ある。上記具体例にあつては、塗料槽内での円盤体の回
転速度を２〜５回／Ｍｉｎとしたが、回転速度はこれを
特に規定するものではなく、使用する塗料の組成、粘度
、塗料層の要求厚さなどの相互関係において決める必要
がある。

録音盤として要求される塗料層厚さは０．２〜０．３ｍ
ｍが一般的であり好ましいとされている。

ところで、回転塗布にあつては１回転での塗料付着量は
回転速度に比例して多くなる。又回転によつては塗料の
飛散現象が起る恐れがある。すなわち、本発明における
回転速度は塗料の飛散を起さない範囲内で、かつ要求塗
料層厚が得られる回転速度を設定するものである。なお
、一方空気中での回転速度、回転も又これを規定するも
のではなく円盤基体面の塗料層が実質的に乾燥するまで
回転するものである。

又、浸漬回数が多ければ当然に塗料の最終付着量は多く
なるため、すでに述べたごとく一般には変位角度が９０
度で浸漬回数４回であることが最も好ましいが、塗料粘
度、回転速度あるいは最終の要求塗料付着量の如何によ
つては、６０度、１２０度が好ましい場合もありさらに
４０度でも可能な場合もある。以上説明したごとく本発
明によれば泡の混入がなく２きわめて平滑でかつ最適曜
さの塗料層を持つた優れた録音性能の録音盤を得ること
ができるものである。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の録音盤の製造法における浸漬塗布の一実
施態様を示す模式的断面図であり、イ〜二はそれぞれ第
１浸漬〜第４浸漬を示すものである。 １・・・円盤基体、２・・・塗料槽、３・・・円盤基体
の下半径、４・・・塗料、ａ・・・第１浸漬位置、ｂ・
・・第２浸漬位置、ｃ・・・第３浸漬位置、ｄ・・・第
４浸漬位置、ｈ・・・浸漬深度。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 回転軸に保持された１枚ないし２枚以上の円盤基体
   をその下半分の適当な位置まで塗料槽内に浸漬し（第１
   浸漬）、この状態で円盤基体を１回転してから塗料槽よ
   り引上げ空気中で回転を続行し塗料層を実質的に乾燥せ
   しめ、次いで第１浸漬での円盤基体上の侵入位置から角
   度（変位角度）θの変位をもつて第２浸漬を行い、第１
   浸漬と同様の乾燥処理の後、引き続き第２浸漬において
   変位させたと同方向に第２浸漬の円盤基体上の侵入位置
   から角度（変位角度）θの変位をもたせた第３浸漬と以
   下同様に第４浸漬……第ｎ浸漬を順次行い、第３浸漬…
   …第ｎ浸漬それぞれに第１浸漬と同様の乾燥処理を行う
   ことによつて円盤基体の両面に均一な塗料層を設けるこ
   とを特徴とする録音盤の製造法。 ２ 変位角度θが４０度、６０度、９０度、１２０度の
   いづれかである特許請求の範囲第１項記載の録音盤の製
   造法。 ３ 変位角度θが９０度である特許請求の範囲第１項記
   載の録音盤の製造法。 ４ 浸漬回数ｎ＝４である特許請求の範囲第３項記載の
   録音盤の製造法。