JPH02156418A - 磁気ディスク潤滑膜の成膜法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、磁気ディスク潤滑膜の成膜法に係り、特に数
十人の薄膜をディスク面内で均一に塗布、成膜する技術
に関するものである。

（背景技術） コンピューターの外部記憶装置である磁気ディスクドラ
イブ装置は、年々、小型、高密度化が進み、このため、
かかるドライブ装置に組み込まれる磁気ディスクや磁気
ヘッドに対する要求も厳しくなってきている０例えば、
この高密度化のために、磁気ヘッドには、その浮上量を
小さくすることが要請されているが、またーこの磁気ヘ
ッドの低浮上化は、磁気ディスクと磁気ヘッド間の潤滑
特性に対する要求を従来より厳しくしている。

一方、高密度化に対して、磁気ディスクには連続薄膜媒
体が用いられるが、その膜構成は、例えばアルミ基板上
に、アルマイトやＮ１−Ｐメツキ層、媒体下地層、記録
媒体層、保護層を順次形成し、更にその上に潤滑膜から
なる潤滑層を設けてなる構成となっている。そして、か
かる潤滑層を与える潤滑膜としては、一般に、フッ素系
の液体潤滑剤を用いて形成されているが、上記した高密
度化に伴なう潤滑特性に対する要求を満たすためには、
その膜厚は数十人程度が良好であると考えられている。

ところで、従来の潤滑膜の成膜手法としては、磁気ディ
スクを液体潤滑剤の浴中に浸漬して、その表面に液体潤
滑剤を付着せしめた状態において乾燥させる浸漬法が採
用されているが、この手法では、ディスク面に形成され
る潤滑膜の膜厚の制御が困難であり、付着潤滑剤のタレ
によって膜厚の不均一、ムラが発生する等の問題を内在
している。また、このような浸漬コーティング法に代わ
る手法として、磁気ディスクを回転させつつ、その表面
に液体潤滑剤をスプレーするスピン／スプレー・コーテ
ィング法も検討されているが、磁気ディスクを低速回転
させると、液体潤滑剤のムラが多くなり、一方高速回転
させると、液体潤滑剤が波打ち状態で付着し、均一な膜
厚の薄い潤滑膜を得ることは困難であった。

（解決課題） ここにおいて、本発明は、かかる事情を背景にして為さ
れたものであって、その解決課題とするところは、均一
な膜厚を有する潤滑膜を磁気ディスクの表面上に成膜す
る手法を提供することにある。

（解決手段） そして、本発明は、かかる課題解決のだ八に、磁気ディ
スクの表面に、所定の液体潤滑剤を用いて、潤滑膜を成
膜するに際して、該磁気ディスクを、そのディスク面が
垂直方向となるように保持した状態で低速にて回転せし
め、そしてかかる低速回転下に、所定の液体潤滑剤の浴
中に、該磁気ディスクを浸漬することにより、該磁気デ
ィスクのディスク面に該液体潤滑剤を付着、塗布せしめ
、その後該液体潤滑剤浴より引き上げて、かかる磁気デ
ィスクを高速回転させることにより、遠心力を利用して
、余剰の付着液体潤滑剤を飛散せしめることを特徴とす
る磁気ディスク潤滑膜の成膜法を、その要旨とするもの
である。

（具体的構成） ところで、このような本発明手法においては、先ず、第
１図（ａ）に示されているように、成膜されるべき磁気
ディスク２が、そのディスク面が垂直方向となるように
保持された状態において、その内周部に回転軸４が挿入
されて、公知のチャック機構にてチャックせしめられ、
ディスク面内において、該回転軸４回りに低速で回転さ
せられる。特に、このような磁気ディスク２の垂直保持
によって、多数枚の磁気ディスク２を回転軸４にチャッ
クすることが可能となるのである。なお、この磁気ディ
スク２の垂直保持は、潤滑剤がディスクの両面に塗布さ
れることとなるため、水平保持では重力の影響が出て、
ディスクの上面、下面で膜厚に差が生じるからである。

また、磁気ディスク２の保持は、後述する潤滑剤塗布後
の高速回転による膜厚均一化の工程で、飛散した液によ
るムラ発生を防止するため、その内周部でチャックする
ことによって、行なわれるようになっている。

一方、磁気ディスク２のディスク面に潤滑膜を形成する
液体潤滑剤６は、よく知られているオーバーフロー構造
を有する浸漬槽８内に収容され、そのオーバーフロー構
造によって、磁気ディスク２の塗布液（液体潤滑剤の浴
）に対する浸漬深さが常に一定となるように、液面（浴
面）が一定となるように保たれている。ディスク２を回
転させた状態で液体潤滑剤６の浴に浸漬した時、ディス
クチャック部に潤滑剤６が付着しないようにされ、これ
によって、内周部でチャックされたディスク２に潤滑剤
６が均一に塗布されるようになるのである。例えば、デ
ィスク２が５′７４’の場合において、内周の２０〜２
３ｍ程度はクランプ部となり、潤滑剤の塗布が不要とな
る。なお、この塗布される液体潤滑剤６には、従来から
公知のものが何れも用いられ、例えばパーフルオロポリ
エーテル等のフッ素系の液体潤滑剤やステアリン酸塩系
の潤滑剤溶液等がある。

そして、この液体潤滑剤６を収容した浸漬槽８の液体潤
滑剤浴に対して、磁気ディスク２を回転させた状態で、
第１図（ｂ）に示されるように浸漬する。ところで、磁
気ディスク２を垂直保持した状態で回転させると、液タ
レが発生するところから、ここでは、潤滑剤が飛散しな
い回転数でディスク２を回転せしめ、その全面に潤滑剤
６が塗布されるようにする。また、この時、ディスク２
の内周クランプ部（チャック部）に塗布液である潤滑剤
が付着しないように回転せしめられる。ディスク２の浸
漬深さや回転数は、塗布する液（液体潤滑剤）の粘度や
液面高さ等により適宜に調整される。なお、一般に市販
されているフッ素系潤滑剤の場合においては、３０〜１
５０ｒｐｍの回転数で、チャックされたディスク内周部
を潤滑剤で濡らすことなく、塗布することが可能である
。

次いで、このようにして液体潤滑剤６がディスク面に塗
布された後、ディスク２は、第１図（ｃ）に示されるよ
うに、回転させられながら液体潤滑剤６の浴から引き上
げられ、そして同時的に、換言すればディスク表面が乾
燥する前に、回転軸４の回転数を上げて、磁気ディスク
２は高速で回転せしめられる。そして、この高速回転に
より惹起される遠心力を利用して、ディスク面に余分に
付着した液体潤滑剤を飛散せしめるようにすることによ
って、前記潤滑剤浴への浸漬にて生じた塗布ムラを解消
し、更に潤滑剤の溶剤を蒸発せしめて、潤滑剤を乾燥せ
しめることにより、磁気ディスク２のディスク面に均一
な膜厚を持つ潤滑膜が有利に形成され得るのである。特
に、このような成膜手法によって、１０〜１００人の膜
厚の薄い均一な潤滑膜が有利に形成され得るのである。

なお、このような高速回転による均一な膜の成膜に際し
て、その回転数としては、液体潤滑剤浴への浸漬塗布時
の低速回転のときの５．〜ｌＯ倍程度が良く、１ｌ５０
−１５０Ｏｒｐ程度の回転数とされるが、特に５００ｒ
ｐｍ程度の回転数が一般に採用されることとなる。

このように、磁気ディスク２のディスク面に、低速回転
により潤滑剤浴から所定量の潤滑剤を塗布せしめた後、
高速回転によって、その遠心力を利用して余剰の付着液
体潤滑剤を飛散せしめて、乾燥させることにより、かか
るディスク面に形成される潤滑膜の膜厚が効果的に薄く
且つ均一化せしめられ得るのである。

（実施例） 以下に、本発明の作用乃至は効果を更に具体的に明らか
にするために、本発明の代表的な実施例を示すが、本発
明が、そのような実施例や、或いは前記した本発明の構
成に係る具体的な説明によって、同等限定的に解釈され
るものでは決してないことは、言うまでもないところで
ある。

なお、本発明が、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおい
て、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正、改良
等を加えた形態において実施されるものであって、また
そのような実施形態の何れもが、本発明の範晴に属する
ものであることが、理解されるべきである。

実施例　１ 通常の５＋Ａ＃デイスクに用いられるドーナツ状のアル
ミニウム合金製円板からなるディスク基板を用い、その
表面上に、通常の無電解メツキ手法に従って、Ｎ１−Ｐ
からなる下地メツキ層を形成し、更にその上にスパッタ
法にて記録媒体層、カーボン保護膜を成膜して、潤滑膜
の成膜される磁気ディスクを調製した。

そして、この得られた磁気ディスクに対して、その両デ
ィスク面に、第１図（ａ）〜（Ｃ）に示される如き手順
に従って、市販のフッ素系の潤滑剤：パーフルオロアル
キルポリエーテルを塗布せしめた。なお、潤滑剤浴への
磁気ディスクの浸漬、回転による塗布工程においては、
磁気ディスクの回転は、回転数が７Ｏｒｐｍの低速回転
において実施し、また潤滑剤浴から引き上げた後の余剰
の潤滑剤の飛散、乾燥時の磁気ディスクの回転は、５０
０ｒｐｍの回転数の高速回転において３０秒間実施した
。その結果、磁気ディスクの両ディスク面には約２０程
度度の潤滑膜が成膜され、その膜厚分布は、半径方向で
±４％、円周方向で±３％と良好であった。

実施例　２ Ｎｉ−Ｐメツキを施したアルミ基板上に、メツキ法によ
り記録媒体を成膜し、更にその上に湿式法によるＳｉＯ
□保護膜を成膜した後、実施例１と同様にしてフッ素系
潤滑剤を塗布して、潤滑膜を成膜した。なお、潤滑剤の
塗布時の回転数及び飛散・乾燥時の回転数は、何れも実
施例１の場合と同一とした。

その結果、磁気ディスクには、約２０人の膜厚の潤滑膜
が成膜され、またその膜厚分布は、半径方向で±３％、
円周方向で±３％と良好であった。

（発明の効果） 以上の説明から明らかなように、本発明に従う成膜手法
は、液体潤滑剤の塗布された磁気ディスクを、その表面
が乾燥する前に、高速で回転せしめて、余剰の付着潤滑
剤を遠心力にて飛散せしめるようにして、かかる磁気デ
ィスクのディスク面に形成される潤滑膜の膜厚の均一化
を図るようにしたものであって、これにより、数十人の
薄膜を均一な厚さで成膜し得ることとなったのであり、
そしてその結果、安定した耐久性を有する潤滑膜と為し
得たのである。

また、本発明手法にあっては、磁気ディスクが垂直保持
された状態で、液体潤滑剤の浴中に浸漬せしめられるも
のであるところから、かかる磁気ディスクを多数枚回転
軸に取り付けて、同時に塗布、成膜させることが出来、
以て成膜の生産性を著しく向上せしめ得るものであり、
更には塗布された潤滑剤が高速回転によって乾燥され、
成膜されることとなるところから、乾燥時間も短縮され
る等、生産性の向上に太き（寄与し１１る利点もあるの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、それぞれ、本発明
手法の実施の一工程を−示す説明図である。 ２：磁気ディスク　　　４：回転軸 ６：液体潤滑剤　　　　８：浸漬槽 出願人　　住友軽金属工業株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ディスクの表面に、所定の液体潤滑剤を用いて、潤
   滑膜を成膜するに際して、該磁気ディスクを、そのディ
   スク面が垂直方向となるように保持した状態で低速にて
   回転せしめ、そしてかかる低速回転下に、所定の液体潤
   滑剤の浴中に、該磁気ディスクを浸漬することにより、
   該磁気ディスクのディスク面に該液体潤滑剤を付着、塗
   布せしめ、その後該液体潤滑剤浴より引き上げて、かか
   る磁気ディスクを高速回転させることにより、遠心力を
   利用して、余剰の付着液体潤滑剤を飛散せしめることを
   特徴とする磁気ディスク潤滑膜の成膜法。