JPS5953846A - カラ−写真記録材料 - Google Patents
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
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-
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- C07D211/56—Nitrogen atoms
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、少なくとも1種の感光性ハpゲン化銀乳剤層
及び/又は少なくとも1種の常用の補助層中に特定のポ
リアルキルピペリジン−光安定剤を少なくとも1種含む
カラー写真記録材料に閏する。
及び/又は少なくとも1種の常用の補助層中に特定のポ
リアルキルピペリジン−光安定剤を少なくとも1種含む
カラー写真記録材料に閏する。
ポリアルキルピペリジンは立体障害アミンとして、一般
に、有機材料、特にポリマー用の光安定剤として知られ
ている。ドイツ連邦共和国特許出願公開第212695
4号公報で1既に、このようなポリアルキルピペリジン
をカラー写真の退色防止剤として使用することが提案さ
れた。更に、ヨーロッパ特許出願公開第11051号公
報にはカラー写真用光安定剤として、少なくとも1個の
7エノール基を含む特定のポリアルキルピペリジン誘導
体を使用することが提案されている。この誘導体はヒト
胃キシベンジルマpン酸のポリアルキルピペリジンエス
テルである。
に、有機材料、特にポリマー用の光安定剤として知られ
ている。ドイツ連邦共和国特許出願公開第212695
4号公報で1既に、このようなポリアルキルピペリジン
をカラー写真の退色防止剤として使用することが提案さ
れた。更に、ヨーロッパ特許出願公開第11051号公
報にはカラー写真用光安定剤として、少なくとも1個の
7エノール基を含む特定のポリアルキルピペリジン誘導
体を使用することが提案されている。この誘導体はヒト
胃キシベンジルマpン酸のポリアルキルピペリジンエス
テルである。
これらの研究を更に続けて、ジフェノールアルカンmの
ポリアルキルピペリジン誘導体が同様にカラー写真用の
優れた光安定作用を有し、更に熱又は湿気の作用による
変色に対して色素を安定化することが判明した。
ポリアルキルピペリジン誘導体が同様にカラー写真用の
優れた光安定作用を有し、更に熱又は湿気の作用による
変色に対して色素を安定化することが判明した。
従って、本発明は、少なくとも1層の感光性ハ四ゲン化
銀乳剤層、中間層及び/又は保護層中に光安定剤として
少なくとも1種のポリアルキルピペリジン化合物を含む
カラー写真記録材料に関し、光安定剤が式(I): 〔式中R・lは水素又はメチル基を表し;几2はヒドロ
キシル基、炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭求原
子数3〜6個のアルケニル基、炭素原子数3〜4個のア
ルキニル基、炭素原子数7〜12 fl、’lのアラル
キル基、グリシジル基又はハロゲン、シアノ基、−CO
OR9若しくは−CON(ILIG) (l七、11)
で置換された炭素原子数1〜4個のアルキル基、基−C
O−R12、基−CO−OR9、基−CO−N (It
、10) (几!す、基−CI−1,−CH(R13)
−0R14、−8o−R16、−8o2−R” 、−O
R”、−00C−R凰2又は式: の基を表し;R3及びRsは水素又はヒドロキシル基を
表し、R3が水素であり、R5がヒドロキシル基である
か、又はR3がヒドロキシル基であり、几Sが水素であ
り;几4は炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭素原
子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数6〜10
個のアリール基又は炭素原子数7〜9個のフェニルアル
キル基を表し;116及び几1はそれぞれ独立に水素、
炭素原子数1〜12個のアルキル基・炭素原子数5〜8
個のシクロアルキル基、炭素2原子数6〜10個のアリ
ール基又は炭素原子数7〜9個のフェニルアルキル基を
表し;R−は水素、炭素原子数1〜12個のアルキル基
、炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基、ベンジル基
又はフェニル基を表し;几・は炭素原子数1〜12個の
アルキル基、ア11ル基、シクロヘキシル基又はベンジ
ル基を表し; R,10は炭素原子数1〜12個のアル
キル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フ
ェニル基又は炭素原子数7〜12個のアルキルフェニル
基を表し;R,11は水素、炭素原子数1〜12個のア
ルキル基、アリル基、シクロヘキシル基又はベンジル基
を表すか;又はR,10及びR11は、これらが結合し
ているN−原子と一緒に5又は6員のへテロ環を形成し
;RHは水素、炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭
素原子数2〜6個のアルケニル基、クロロメチル基、炭
素原子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数7〜
12個のアラルキル基1、フェニル基、炭素原子数7〜
12個のアルキルフェニル基又は炭素原子数1〜4個の
アルキル基1若しくは2個及びヒドロキシル基で置換さ
レタフェニル基、フェニルメチル基又はフェニルエチル
基を表し;几13は水素、炭素原子数1〜4個のアルキ
ル基、炭素原子数2〜13個のアルコキシメチル基、フ
ェニル基又はフエノキジメチル基を表し;几14は水素
、炭素原子数1〜12個の7 ルキ/l/基、基−CO
−It、12、−CO−−N(11,10)(甲り又は
式(■):の基を表し;i(、Isは炭素原子数1〜1
2個のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数7〜12
個のアルキルフェニル基を表し;Aは直接結合又は代素
原子数1〜12個のアルキレン基を表し、この基は−8
−若しくは一〇〇〇−で遮断されているか、或いは基−
80,−RIIS 、基−CN。
銀乳剤層、中間層及び/又は保護層中に光安定剤として
少なくとも1種のポリアルキルピペリジン化合物を含む
カラー写真記録材料に関し、光安定剤が式(I): 〔式中R・lは水素又はメチル基を表し;几2はヒドロ
キシル基、炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭求原
子数3〜6個のアルケニル基、炭素原子数3〜4個のア
ルキニル基、炭素原子数7〜12 fl、’lのアラル
キル基、グリシジル基又はハロゲン、シアノ基、−CO
OR9若しくは−CON(ILIG) (l七、11)
で置換された炭素原子数1〜4個のアルキル基、基−C
O−R12、基−CO−OR9、基−CO−N (It
、10) (几!す、基−CI−1,−CH(R13)
−0R14、−8o−R16、−8o2−R” 、−O
R”、−00C−R凰2又は式: の基を表し;R3及びRsは水素又はヒドロキシル基を
表し、R3が水素であり、R5がヒドロキシル基である
か、又はR3がヒドロキシル基であり、几Sが水素であ
り;几4は炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭素原
子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数6〜10
個のアリール基又は炭素原子数7〜9個のフェニルアル
キル基を表し;116及び几1はそれぞれ独立に水素、
炭素原子数1〜12個のアルキル基・炭素原子数5〜8
個のシクロアルキル基、炭素2原子数6〜10個のアリ
ール基又は炭素原子数7〜9個のフェニルアルキル基を
表し;R−は水素、炭素原子数1〜12個のアルキル基
、炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基、ベンジル基
又はフェニル基を表し;几・は炭素原子数1〜12個の
アルキル基、ア11ル基、シクロヘキシル基又はベンジ
ル基を表し; R,10は炭素原子数1〜12個のアル
キル基、アリル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フ
ェニル基又は炭素原子数7〜12個のアルキルフェニル
基を表し;R,11は水素、炭素原子数1〜12個のア
ルキル基、アリル基、シクロヘキシル基又はベンジル基
を表すか;又はR,10及びR11は、これらが結合し
ているN−原子と一緒に5又は6員のへテロ環を形成し
;RHは水素、炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭
素原子数2〜6個のアルケニル基、クロロメチル基、炭
素原子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数7〜
12個のアラルキル基1、フェニル基、炭素原子数7〜
12個のアルキルフェニル基又は炭素原子数1〜4個の
アルキル基1若しくは2個及びヒドロキシル基で置換さ
レタフェニル基、フェニルメチル基又はフェニルエチル
基を表し;几13は水素、炭素原子数1〜4個のアルキ
ル基、炭素原子数2〜13個のアルコキシメチル基、フ
ェニル基又はフエノキジメチル基を表し;几14は水素
、炭素原子数1〜12個の7 ルキ/l/基、基−CO
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式(■):の基を表し;i(、Isは炭素原子数1〜1
2個のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数7〜12
個のアルキルフェニル基を表し;Aは直接結合又は代素
原子数1〜12個のアルキレン基を表し、この基は−8
−若しくは一〇〇〇−で遮断されているか、或いは基−
80,−RIIS 、基−CN。
基−P (0) (OR”)* 若り、 < ハ基:で
置換されていてもよく;Bは炭素原子数2〜12個のア
ルキレン基、炭素原子数4〜8個のアルケニレン基、炭
素原子数4〜6個のアルキニレン基又は炭素原子数8〜
14個のアラルキレン基を表し;Xは一〇−又は−N(
R”)−(式中1(,1Mは水素、炭素原子数1〜18
個のアルキル基、炭素原子数5〜12個のシクロアルキ
ル基又は式(■): の基を表す)の基を表す〕の化合物であることを特徴と
する。
置換されていてもよく;Bは炭素原子数2〜12個のア
ルキレン基、炭素原子数4〜8個のアルケニレン基、炭
素原子数4〜6個のアルキニレン基又は炭素原子数8〜
14個のアラルキレン基を表し;Xは一〇−又は−N(
R”)−(式中1(,1Mは水素、炭素原子数1〜18
個のアルキル基、炭素原子数5〜12個のシクロアルキ
ル基又は式(■): の基を表す)の基を表す〕の化合物であることを特徴と
する。
前記の式において、置換基R” 、1114 、几6、
WlRl % R” 、n+10 % n、11 、R
” % R14及ヒR1”5 ハ炭素原子数1〜12個
のアルキル基であってもよく、分枝鎖又は直鎮アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、−fソブロピル基、t
ert−ブチル基、イソアミル基、!1−ヘキシル基、
n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1.1.3.
3−テトラメチルブチル基、イソノニル基、n−デシル
基又は11−ドデシ/L’基であってもよい。炭素原子
数1〜18個のアルキル基としての1(,16は、更に
例えばテトラデシル基、ヘキサデシル基又はオクタデシ
ル基であってもよい。
WlRl % R” 、n+10 % n、11 、R
” % R14及ヒR1”5 ハ炭素原子数1〜12個
のアルキル基であってもよく、分枝鎖又は直鎮アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、−fソブロピル基、t
ert−ブチル基、イソアミル基、!1−ヘキシル基、
n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1.1.3.
3−テトラメチルブチル基、イソノニル基、n−デシル
基又は11−ドデシ/L’基であってもよい。炭素原子
数1〜18個のアルキル基としての1(,16は、更に
例えばテトラデシル基、ヘキサデシル基又はオクタデシ
ル基であってもよい。
アルケニル基としてのT?+”は、例えばアリル基、メ
タリル基、ジメチルアリルノ、(又は2−へキセニル基
であってもよい。アルケニル基としてのTLtXは更に
ビニル基であってよい。アルキニル基としてのR2は、
例えば2−プロピニル基又は2−ブチニル基であっても
よい。
タリル基、ジメチルアリルノ、(又は2−へキセニル基
であってもよい。アルケニル基としてのTLtXは更に
ビニル基であってよい。アルキニル基としてのR2は、
例えば2−プロピニル基又は2−ブチニル基であっても
よい。
シクロアルキル基としてのTL、4.116 、l(、
? 、l(,11及びBtzは、例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシ/I/基、メチルシクロヘキシル基、
ジメチルシクロヘキシル基、シクqヘプチル基又ハシク
ロオクチル基であってもよい。炭素原子数5〜12個の
シクロアルキル基としてのR18は、更に例えばジエチ
ルシクロヘキシル基又はシクロドデシル基であってもよ
い。
? 、l(,11及びBtzは、例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシ/I/基、メチルシクロヘキシル基、
ジメチルシクロヘキシル基、シクqヘプチル基又ハシク
ロオクチル基であってもよい。炭素原子数5〜12個の
シクロアルキル基としてのR18は、更に例えばジエチ
ルシクロヘキシル基又はシクロドデシル基であってもよ
い。
フェニルアルキル基としての几4 、I(,11及びR
7は、例えばベンジル基、フェニルエチル基又はフェニ
ルプルピル基であってもよい。アラルキル基とし′〔の
几2及びl(、Hは更にフェニルブチル基又はリーフチ
ルメチル基であってもよい。
7は、例えばベンジル基、フェニルエチル基又はフェニ
ルプルピル基であってもよい。アラルキル基とし′〔の
几2及びl(、Hは更にフェニルブチル基又はリーフチ
ルメチル基であってもよい。
アリール基としての几4 、l(%11及び几7は、例
えばフェニル基又はナフチル基であってもよく、アルキ
ルフェニル基としてのTI、to 、 R12及び1%
1sは例えばトリル基、キシリル基、イソプロピルフェ
ニル基、tert−ブチルフェニル基又はジエチルフェ
ニル基であってもよい。
えばフェニル基又はナフチル基であってもよく、アルキ
ルフェニル基としてのTI、to 、 R12及び1%
1sは例えばトリル基、キシリル基、イソプロピルフェ
ニル基、tert−ブチルフェニル基又はジエチルフェ
ニル基であってもよい。
炭素原子数1〜12個のアルキレン基としてのAは、直
鎖又は分枝鎖アルキレン基、例えばメチレン基、1,2
−エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピ
レン基<1+2−ブチレン基、1,4−ブチレン基、ヘ
キサメチレン基、オクタメチレン基又はドデカメチレン
基であってもよい。アルキレン基としてのAは炭素原子
数1〜6個のアルキレン基、特に炭素原子数1〜4個の
アルキレン基であるのが好ましい。
鎖又は分枝鎖アルキレン基、例えばメチレン基、1,2
−エチレン基、1,2−プロピレン基、1,3−プロピ
レン基<1+2−ブチレン基、1,4−ブチレン基、ヘ
キサメチレン基、オクタメチレン基又はドデカメチレン
基であってもよい。アルキレン基としてのAは炭素原子
数1〜6個のアルキレン基、特に炭素原子数1〜4個の
アルキレン基であるのが好ましい。
Bは炊米原子数2〜12個のアルキレン基であってもよ
く、好ましくは直ffアルギレン基、例、tuff、2
−エチレン基、1,3−プロピレン基、テトラ−、ヘキ
ター、オクタ−又はドデカメチレン基である。Bは更に
アルケニレン基、例えば2−ブテニレン−1,4基又は
3−ヘキセニレン−1,6基であってもよい。Bはアル
キニレン基、例えば2−ブテニレン−1,4基又は3−
ヘキセニレン−1,6基であってもよい。Bは更にアラ
ルキレン基、例えばキシリレン基又はビトリレン基であ
ってもよい。
く、好ましくは直ffアルギレン基、例、tuff、2
−エチレン基、1,3−プロピレン基、テトラ−、ヘキ
ター、オクタ−又はドデカメチレン基である。Bは更に
アルケニレン基、例えば2−ブテニレン−1,4基又は
3−ヘキセニレン−1,6基であってもよい。Bはアル
キニレン基、例えば2−ブテニレン−1,4基又は3−
ヘキセニレン−1,6基であってもよい。Bは更にアラ
ルキレン基、例えばキシリレン基又はビトリレン基であ
ってもよい。
Jl、1G及び1111は、これらが結合しているN−
原子と一緒に5又は6員のへテロ環を形成することがで
きる。ヘテロ環は、例えばピロリジン環、ピペリジン環
、モルホリン環又は4−アルキルピペラジン環であつC
もよい。
原子と一緒に5又は6員のへテロ環を形成することがで
きる。ヘテロ環は、例えばピロリジン環、ピペリジン環
、モルホリン環又は4−アルキルピペラジン環であつC
もよい。
R1が水素を表し、几2がヒドロキシル基、炭素原子数
1〜4個のアルコキシ基、アセトキシ基、炭素原子数1
〜4個のアルキル基、炭素原子数3〜4個リアリアルケ
ニル基ロパルギル基、グリシジル基、ベンジル基、−C
OO几9で置換されたメチル基若しくはエチル基、基−
co−n・12、−co−on、o又は−CO−N(R
IG)(R11) 、基−C)(2−−CI(113)
−0Tも14、−80−Iも15、−8Q2−11.I
s、−0R9又は−00C−It、12を表し、R3が
水素で、R5がヒドロキシル基であるか、又はR3がヒ
ドロキシル基で、几5が水素であり、R4が炭素原子数
1〜8個のアルキル基を表し、R96及びYL7がそれ
ぞれ独立に水素又は炭素原子数1〜8個のアルキル基を
表し、11.8が水素又は炭素原子数1〜12個の゛r
アルキル基表し、It9が炭素原子数1〜8個のアルキ
ル基、アリル基又はシクロヘキシル基を表し、T’LI
Oが炭素原子数1〜12個のアルキル基、シクロヘキシ
ル基又はフェニル基を表し、R1!1が水素又は炭素原
子数1〜12個のアルキル基を表し、”RlO及びR,
11がこれらが結合しているN−原子と一緒に6月へテ
ロ環を形成し、lLlgが炭素原子数1〜12個のアル
キル基、炭素原子数2〜4個のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、フェニル基又は2.−(3,5
−ジーtert−ブヂルー4−ヒドロキシル)−エチル
基を表し、R113カ水素、メチル基又はフェニル基を
表し、R14が水素、炭素原子数1〜4個のアルキル基
、基−C〇−几12、基−CO−N(R,10) (R
11)又は式(n)の基を表し、R,15が炭素原子数
1〜4個のアルキル基、フェニル基又はトリル基を表し
、Aが直接結合又は炭素原子数1〜6個のアルキレンシ
ルを表し、この基が−CN又は式(IV) の基で置換されていてよく、Xが一〇−又は−NH−を
表す式(I)の化合物が、光安定剤として好ましい。
1〜4個のアルコキシ基、アセトキシ基、炭素原子数1
〜4個のアルキル基、炭素原子数3〜4個リアリアルケ
ニル基ロパルギル基、グリシジル基、ベンジル基、−C
OO几9で置換されたメチル基若しくはエチル基、基−
co−n・12、−co−on、o又は−CO−N(R
IG)(R11) 、基−C)(2−−CI(113)
−0Tも14、−80−Iも15、−8Q2−11.I
s、−0R9又は−00C−It、12を表し、R3が
水素で、R5がヒドロキシル基であるか、又はR3がヒ
ドロキシル基で、几5が水素であり、R4が炭素原子数
1〜8個のアルキル基を表し、R96及びYL7がそれ
ぞれ独立に水素又は炭素原子数1〜8個のアルキル基を
表し、11.8が水素又は炭素原子数1〜12個の゛r
アルキル基表し、It9が炭素原子数1〜8個のアルキ
ル基、アリル基又はシクロヘキシル基を表し、T’LI
Oが炭素原子数1〜12個のアルキル基、シクロヘキシ
ル基又はフェニル基を表し、R1!1が水素又は炭素原
子数1〜12個のアルキル基を表し、”RlO及びR,
11がこれらが結合しているN−原子と一緒に6月へテ
ロ環を形成し、lLlgが炭素原子数1〜12個のアル
キル基、炭素原子数2〜4個のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、フェニル基又は2.−(3,5
−ジーtert−ブヂルー4−ヒドロキシル)−エチル
基を表し、R113カ水素、メチル基又はフェニル基を
表し、R14が水素、炭素原子数1〜4個のアルキル基
、基−C〇−几12、基−CO−N(R,10) (R
11)又は式(n)の基を表し、R,15が炭素原子数
1〜4個のアルキル基、フェニル基又はトリル基を表し
、Aが直接結合又は炭素原子数1〜6個のアルキレンシ
ルを表し、この基が−CN又は式(IV) の基で置換されていてよく、Xが一〇−又は−NH−を
表す式(I)の化合物が、光安定剤として好ましい。
几lが水素を表し、几2がメトキシ基、メチル基、アリ
ル基、ベンジ゛0ル基、アセチル基、アクリ四イル基、
基−CO−N (RIO) (R11)、−80−R1
5又は−SO,−1115を表し、几3が水素を表し、
R4が炭素原子数1〜6個のアルキル基を表し、R5が
ヒドロキシル基を表し、B、6及びJl、7がそれぞれ
独立に水素又は炭素原子数1〜4個の′rアルキル基表
し、几8が水素又は炭素原子数1〜6個のアル・Aル↓
(を表し、RIGが炭素原子数1〜8個のアットキル基
、シクロヘキシル基又はフェニル基を表し、1シl!が
水素又は炭素原子数1〜8個のア/l・キル基を表し
Bxsがメチル基、フェニル基又に゛よp −)リル基
を表し、Aが直接結合又は炭素原子数1〜4個のアルキ
レン基を表し、この基が式(IV)の基で置換されてい
てもよく、Xが一〇−又は−N)T−を表す式(1)の
化合物は特に光安定剤として好ましい。
ル基、ベンジ゛0ル基、アセチル基、アクリ四イル基、
基−CO−N (RIO) (R11)、−80−R1
5又は−SO,−1115を表し、几3が水素を表し、
R4が炭素原子数1〜6個のアルキル基を表し、R5が
ヒドロキシル基を表し、B、6及びJl、7がそれぞれ
独立に水素又は炭素原子数1〜4個の′rアルキル基表
し、几8が水素又は炭素原子数1〜6個のアル・Aル↓
(を表し、RIGが炭素原子数1〜8個のアットキル基
、シクロヘキシル基又はフェニル基を表し、1シl!が
水素又は炭素原子数1〜8個のア/l・キル基を表し
Bxsがメチル基、フェニル基又に゛よp −)リル基
を表し、Aが直接結合又は炭素原子数1〜4個のアルキ
レン基を表し、この基が式(IV)の基で置換されてい
てもよく、Xが一〇−又は−N)T−を表す式(1)の
化合物は特に光安定剤として好ましい。
R1が水素を表し、R12がメトキシ基、メチル基、ア
リル基、ベンジル基、アセデル基、アクリ ロ イ ル
基 、 スt;−CO・−N (R,10)
(Hull ) 、 −S〇−几15又は−so
、−几15を表し、R3が酸素を表し、R4が炭素原子
数1〜4個のアルキル基を表し、R5がヒドロキシル基
を表し、Reが水素又は炭素原子数1〜4個のアルギル
基、R57及びR8が水素又はメチル基を表し、R10
が炭素原子数1〜4個のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル;膝を表し、l(,11が水素又は炭素原
子数1〜4個のアルキル基を表し、R15がフェニル基
又はp 、−) IJル基を表し、八が直接結合又は炭
素原子数1〜4個のアルキレン基を表し、Xが一〇−を
表す式(T)の化合物、特に、R,1が水素を表し、I
t2がメチル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基又
はアクリロイル基を表し、R3が水素を表し、11+’
が炭素原子数1〜4個のアルキル基を表し、几5がヒド
ロキシル基を表し、l(,6、]%?及びR8が水素又
はメチル基を表し、Aが炭素原子数1〜4個のアルキレ
ン基を表し、Xが一〇−を表す式(T)の化合物は、光
安定剤として特に好ましい。
リル基、ベンジル基、アセデル基、アクリ ロ イ ル
基 、 スt;−CO・−N (R,10)
(Hull ) 、 −S〇−几15又は−so
、−几15を表し、R3が酸素を表し、R4が炭素原子
数1〜4個のアルキル基を表し、R5がヒドロキシル基
を表し、Reが水素又は炭素原子数1〜4個のアルギル
基、R57及びR8が水素又はメチル基を表し、R10
が炭素原子数1〜4個のアルキル基、シクロヘキシル基
又はフェニル;膝を表し、l(,11が水素又は炭素原
子数1〜4個のアルキル基を表し、R15がフェニル基
又はp 、−) IJル基を表し、八が直接結合又は炭
素原子数1〜4個のアルキレン基を表し、Xが一〇−を
表す式(T)の化合物、特に、R,1が水素を表し、I
t2がメチル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基又
はアクリロイル基を表し、R3が水素を表し、11+’
が炭素原子数1〜4個のアルキル基を表し、几5がヒド
ロキシル基を表し、l(,6、]%?及びR8が水素又
はメチル基を表し、Aが炭素原子数1〜4個のアルキレ
ン基を表し、Xが一〇−を表す式(T)の化合物は、光
安定剤として特に好ましい。
本明細書に記載する式(I)の化合物の一部はドイツ連
邦共和国特許出願公開第2717087号公報から公知
であり、該公報にはこれらの化合物がプラスチック用の
光安定剤として記載されている。該公報には、これらの
化合物の種々の製造方法が記載されている。その方法と
しては、第1に、ジフェニルアルカン酸又はそのエステ
ル又はハロゲン化物と4−ヒドロキシ−又は4−アミノ
ポリアルキルピペリジンとを反応させる方法、第二にド
イツ連邦共和国特許出願公開第1953333号の方法
により4−ヒドロキシ−又は4−アミノポリアルキルピ
ペリジンの脂肪族ケトカルボンmエステル又は−アミド
とフェノール類とを反応させる方法が拳げられる。
邦共和国特許出願公開第2717087号公報から公知
であり、該公報にはこれらの化合物がプラスチック用の
光安定剤として記載されている。該公報には、これらの
化合物の種々の製造方法が記載されている。その方法と
しては、第1に、ジフェニルアルカン酸又はそのエステ
ル又はハロゲン化物と4−ヒドロキシ−又は4−アミノ
ポリアルキルピペリジンとを反応させる方法、第二にド
イツ連邦共和国特許出願公開第1953333号の方法
により4−ヒドロキシ−又は4−アミノポリアルキルピ
ペリジンの脂肪族ケトカルボンmエステル又は−アミド
とフェノール類とを反応させる方法が拳げられる。
置換基R2の導入は、種々の製造段階で、第二アミンの
N−置換法として一般に知られている方法により対応す
るN I−T−化合物を置換することによって行オ〕れ
る。
N−置換法として一般に知られている方法により対応す
るN I−T−化合物を置換することによって行オ〕れ
る。
本明細書に記載する式(1)の化合物がドイツ連邦共和
国特許出願公開第2717087号公報に記載されてい
る化合物に属しない場合には、それらは同様にし゛〔製
造することができる。その詳細については、以下の製造
例に述べる。
国特許出願公開第2717087号公報に記載されてい
る化合物に属しない場合には、それらは同様にし゛〔製
造することができる。その詳細については、以下の製造
例に述べる。
本発明によりカラー写真記録材料用の光安定剤として使
用することができる式(I)の個々の化合物は例えば、
下記の化合物である:煮I It” =−CIT3 、亮2 几2 =−Co−CH3 A3 X=−0− A4’ X= −0−,1’L” = −01% C
H工CII。
用することができる式(I)の個々の化合物は例えば、
下記の化合物である:煮I It” =−CIT3 、亮2 几2 =−Co−CH3 A3 X=−0− A4’ X= −0−,1’L” = −01% C
H工CII。
A5 X=−Nll−、n、” =−CO−CH=C
II。
II。
j≦8 X=−0−、It2 =−C1131;;l
la X=−N(C,r−1,)−、TIF −−C
1131丘9 )L!=−CIT。
la X=−N(C,r−1,)−、TIF −−C
1131丘9 )L!=−CIT。
1610117 ==Fi(%−C113Al I
X=−0−、11? =−CO−CH=CII。
X=−0−、11? =−CO−CH=CII。
16x2X=−0−、R,2=−Co−N(CII、)
。
。
A13 X=−0−、R” =−Cl−12CI 1
20 R76,14TI、 =−CO−CI−T=CI
T。
20 R76,14TI、 =−CO−CI−T=CI
T。
AX 5 R12=−CH3
1≦16 X=−0−、R,2=CH3,R6=t−
C41]。
C41]。
届17 X=−0−、I(,2=ベンジル 、
R6=t−C41−1゜1a18 X=−0−、几”
=−CO−CII8. R6= t−C4I−1゜、
筬19 X=−0−、几2 =−CO−CII3.
R? =C1−13A20 X=−0−、n2=−
CO−C1員CJJ2.R,6= t −C4H。
R6=t−C41−1゜1a18 X=−0−、几”
=−CO−CII8. R6= t−C4I−1゜、
筬19 X=−0−、几2 =−CO−CII3.
R? =C1−13A20 X=−0−、n2=−
CO−C1員CJJ2.R,6= t −C4H。
Ib、21 X=−0−、IIF=−OCH3’、
R’=t−041−11A22 X=−(−1−、1
1,” = −Co−N (CxI−1s )* 、R
’ = CHs弐中式中合物は水にほとんど溶けないの
で、写真層に分散液又はエマルジミンとして添加するの
が好ましい。一般に、安定剤を写真材料中圧着色カプラ
ーと一緒に混入する。
R’=t−041−11A22 X=−(−1−、1
1,” = −Co−N (CxI−1s )* 、R
’ = CHs弐中式中合物は水にほとんど溶けないの
で、写真層に分散液又はエマルジミンとして添加するの
が好ましい。一般に、安定剤を写真材料中圧着色カプラ
ーと一緒に混入する。
このため、式中の化合物を着色カプラー及び場合により
別の光安定剤と一緒に、低沸点有機溶剤、例えば酢酸メ
チル、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホルム、メタノ
ール、エタノール、n−ブタノール、ジオキサン、ア七
トン又はベンゼン;高沸点有機溶剤、例えばトリクレジ
ルホスフェート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
スルホキシド、ジ−n−ブチルフタレート、又ハエチル
−N−ジフェニルカルバメート、又は前記低沸点溶剤と
高沸点溶剤との溶剤混合物中に溶解させ、得られた溶液
を保護コロイド溶液、例えば特にゼラチン水溶液に加え
、コロイドミル、ホモジナイザー又は超音波を用いて分
散させる。
別の光安定剤と一緒に、低沸点有機溶剤、例えば酢酸メ
チル、酢酸エチル、四塩化炭素、クロロホルム、メタノ
ール、エタノール、n−ブタノール、ジオキサン、ア七
トン又はベンゼン;高沸点有機溶剤、例えばトリクレジ
ルホスフェート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
スルホキシド、ジ−n−ブチルフタレート、又ハエチル
−N−ジフェニルカルバメート、又は前記低沸点溶剤と
高沸点溶剤との溶剤混合物中に溶解させ、得られた溶液
を保護コロイド溶液、例えば特にゼラチン水溶液に加え
、コロイドミル、ホモジナイザー又は超音波を用いて分
散させる。
こうして得た分散液をカラー写算記録材料の層の製造に
使用する。層は例えば中間層又は保護層、特に感光性(
青感性、緑感性及び赤感性)ハロゲン化銀乳剤層であっ
てもよく、これらの層中で露光された記録材料を現fΦ
する際に、対応する着色カプラーから青緑色(シアン)
、紫色(マゼンタ)及び黄色色素が形成される。
使用する。層は例えば中間層又は保護層、特に感光性(
青感性、緑感性及び赤感性)ハロゲン化銀乳剤層であっ
てもよく、これらの層中で露光された記録材料を現fΦ
する際に、対応する着色カプラーから青緑色(シアン)
、紫色(マゼンタ)及び黄色色素が形成される。
光安定剤を場合により、発色現像後に使用される処理浴
、例えば定着浴及び/又は洗浄洛中に加えることができ
るが、その外式(I)の化合物はアルコール(メタノー
ル/エタノール)、アルカリ水溶液又は水にある程度溶
解することが必要である。拡散転写法を適用する場合、
光安定剤を添加すべき層中に混入することができる。
、例えば定着浴及び/又は洗浄洛中に加えることができ
るが、その外式(I)の化合物はアルコール(メタノー
ル/エタノール)、アルカリ水溶液又は水にある程度溶
解することが必要である。拡散転写法を適用する場合、
光安定剤を添加すべき層中に混入することができる。
ハロゲン化銀層は、前記の色素、従ってカラー画像の形
成のため使用する任意の着色カプラー、特にシアン色、
マゼンタ色及び黄色カプラーを含むことができる。
成のため使用する任意の着色カプラー、特にシアン色、
マゼンタ色及び黄色カプラーを含むことができる。
本発明による写真記録材において、式(1)の光安定剤
を、着色カプラーの他に、更に紫外#i!吸収剤又は他
の光安定剤と共に同じ層中に混入させてもよい。
を、着色カプラーの他に、更に紫外#i!吸収剤又は他
の光安定剤と共に同じ層中に混入させてもよい。
ハロゲン化tM乳剤層は結合剤として好ましくはゼラチ
ンを、場合により他の高分子の天然又は合成化合物との
混合物として含む。
ンを、場合により他の高分子の天然又は合成化合物との
混合物として含む。
ハロゲン化銀乳剤は例えば、臭化鉛乳剤、塩化銀乳剤又
は沃化銀乳剤又はハロゲン化銀の混合物を含む乳剤、例
えば沃臭化銀乳剤又は塩臭化i!′(+乳剤であっても
よい。
は沃化銀乳剤又はハロゲン化銀の混合物を含む乳剤、例
えば沃臭化銀乳剤又は塩臭化i!′(+乳剤であっても
よい。
乳剤を化学的に増感させることができ、更に常用の有機
安定剤及びかぶり防止剤及び常用の可塑剤、例えばグリ
セリンを含んでいてもよい。
安定剤及びかぶり防止剤及び常用の可塑剤、例えばグリ
セリンを含んでいてもよい。
乳剤を更に、ゼラチンに常用される硬化剤で硬化させる
ことができる。更に、乳剤は常用の塗布助剤を含んでい
てよい。乳剤を写真記t%材料用として常用される層支
持体上に施すことができる。
ことができる。更に、乳剤は常用の塗布助剤を含んでい
てよい。乳剤を写真記t%材料用として常用される層支
持体上に施すことができる。
カラー写真記録材料を現像するため、常用の現像浴を使
用することができ乙。これは、一般Kp−フェニレンジ
アミン型の現像剤物質、臭化カリウム等の現像遅延剤、
亜硫酸ナトリウム又はヒドロキシルアミン等の酸化防止
剤、及qアルカリ金属水酸化物又はアルカリ金尻炭耐塩
等の塩基を含む。更に、現像浴は常用のかぶり防止剤及
び錯体形成剤を含んでいてもよい。
用することができ乙。これは、一般Kp−フェニレンジ
アミン型の現像剤物質、臭化カリウム等の現像遅延剤、
亜硫酸ナトリウム又はヒドロキシルアミン等の酸化防止
剤、及qアルカリ金属水酸化物又はアルカリ金尻炭耐塩
等の塩基を含む。更に、現像浴は常用のかぶり防止剤及
び錯体形成剤を含んでいてもよい。
本発明で使用される光安定剤は、ある場合には、色素が
直接乳剤中に添加され、画像が選択的漂白によって作ら
れるカラー写真層の保護のためにも適当である。
直接乳剤中に添加され、画像が選択的漂白によって作ら
れるカラー写真層の保護のためにも適当である。
光安定剤の量は広い範囲で変動し、光安定剤を混入する
Wjl−当り1〜2000■、好ましくは100〜80
0グ1.特に200〜500 myの範囲である。
Wjl−当り1〜2000■、好ましくは100〜80
0グ1.特に200〜500 myの範囲である。
写真材料が紫外線吸収剤を含む場合、この紫外線吸収剤
は光安定剤と一緒に一層に存在するか、又は隣接する層
に存在してもよい。紫外線吸収剤と式中の光安定剤との
重量比は約(2〜10)= 1であり、モル比は約(5
〜20):1である。紫外線吸収剤の具体例としては、
ベンゾフェノン型、アクリロニトリル型、チアゾリドン
型、ベンゾトリアゾール型、オキサゾール型、チアゾー
ル型及びイミダゾール型の化合物が挙げられる。
は光安定剤と一緒に一層に存在するか、又は隣接する層
に存在してもよい。紫外線吸収剤と式中の光安定剤との
重量比は約(2〜10)= 1であり、モル比は約(5
〜20):1である。紫外線吸収剤の具体例としては、
ベンゾフェノン型、アクリロニトリル型、チアゾリドン
型、ベンゾトリアゾール型、オキサゾール型、チアゾー
ル型及びイミダゾール型の化合物が挙げられる。
本発明による記録側斜を露光及び現像して得られるカラ
ー画fψは、可視光線及び紫外線に対して極めて良好な
安定性を示す。式(I)の化合物はほとんど無色であっ
て、画像を変色しない。
ー画fψは、可視光線及び紫外線に対して極めて良好な
安定性を示す。式(I)の化合物はほとんど無色であっ
て、画像を変色しない。
更に、該化合物は個々の府中に存在する常用の写真添加
剤と良好に共存できる。これらの化合物の良好な効果に
基づいて、その使用量を減少することができ、これを有
機溶液として、写真層の製造に使用する水性結合剤の乳
剤中に混入すると、沈殿又は結晶析出が回避される。写
真記録材料の露光後に必要な、カラー画像を製造するた
めの個々の処理工程は、光安定剤によって不利益を受け
ない。更に、青感性乳剤の場合にしばしば起る、いわゆ
る押圧かふり′fA象(Druclcschleier
bildung )を著しく抑制することができる。圧
力かぶり現象は、例えば、写真材1’+ (天然又は合
成物質から成る支持体上に存在するハロゲン化銀乳剤層
)に機械的応力、例えばねじり、曲げ又は摩擦を製造の
間又は現仰前の処理の間に及ぼす場合に起る〔ジェーム
ス(T、 H,James ) 、ザ・セオリイ・オプ
・フォトグラフィック・プルセス(The ’]”Jx
eoryof Photographic Proce
ss )、第4版、マクミラン(Macmillan
) 、二:y−−ヨーク、N。
剤と良好に共存できる。これらの化合物の良好な効果に
基づいて、その使用量を減少することができ、これを有
機溶液として、写真層の製造に使用する水性結合剤の乳
剤中に混入すると、沈殿又は結晶析出が回避される。写
真記録材料の露光後に必要な、カラー画像を製造するた
めの個々の処理工程は、光安定剤によって不利益を受け
ない。更に、青感性乳剤の場合にしばしば起る、いわゆ
る押圧かふり′fA象(Druclcschleier
bildung )を著しく抑制することができる。圧
力かぶり現象は、例えば、写真材1’+ (天然又は合
成物質から成る支持体上に存在するハロゲン化銀乳剤層
)に機械的応力、例えばねじり、曲げ又は摩擦を製造の
間又は現仰前の処理の間に及ぼす場合に起る〔ジェーム
ス(T、 H,James ) 、ザ・セオリイ・オプ
・フォトグラフィック・プルセス(The ’]”Jx
eoryof Photographic Proce
ss )、第4版、マクミラン(Macmillan
) 、二:y−−ヨーク、N。
Y、 、 1977年、23頁以下、166頁以下)。
次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、本発明は
これに限定されるものではない。温度は℃で示す。
これに限定されるものではない。温度は℃で示す。
光安定剤の製造例
実施例 1
4.4−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−吉草酸エチルエステル8.5f (0,
02モル)を4−ヒドロキシ−2,2,6゜6−チトラ
メチルビペリジン3.19 (0,02モル)と−緒に
ギシレン200 mlに溶かす。ジプチル胃オギシド0
1グを添加した後、窒素ガス下に約6時間加熱沸騰させ
、形成するエタノールを連続的に留出させる。もはやエ
タノールが留出しなくなったら、反応溶液を室温に冷力
1し、水200πeを加え、良く混合する。有機相を分
離し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させる。生じ
る油をカラムクロマトグラフィーにより精製する。こう
して、4.4−ビス(3−tcrt−ブチル−4−ヒド
ロキシ−フェニル>−吉草m−(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−エステルが融点10
0℃の無色固体として得られる。
シフェニル)−吉草酸エチルエステル8.5f (0,
02モル)を4−ヒドロキシ−2,2,6゜6−チトラ
メチルビペリジン3.19 (0,02モル)と−緒に
ギシレン200 mlに溶かす。ジプチル胃オギシド0
1グを添加した後、窒素ガス下に約6時間加熱沸騰させ
、形成するエタノールを連続的に留出させる。もはやエ
タノールが留出しなくなったら、反応溶液を室温に冷力
1し、水200πeを加え、良く混合する。有機相を分
離し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発させる。生じ
る油をカラムクロマトグラフィーにより精製する。こう
して、4.4−ビス(3−tcrt−ブチル−4−ヒド
ロキシ−フェニル>−吉草m−(2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−4−イル)−エステルが融点10
0℃の無色固体として得られる。
4−ヒドロキシ−2,2,6,6−チトラメチルピペリ
ジンの代わりに、相・応する量の1−アリル−4−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−チトラメチルビペリジンを使
用し、その他は前記と同様に操作すると、融点75℃の
4.4−ビス−(3−tert −フチh −4−ヒド
ロキシフェニル)−吉草酸−(1−アリル−2,2,ら
6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−エステル(
光安定剤j64)が得られる。
ジンの代わりに、相・応する量の1−アリル−4−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−チトラメチルビペリジンを使
用し、その他は前記と同様に操作すると、融点75℃の
4.4−ビス−(3−tert −フチh −4−ヒド
ロキシフェニル)−吉草酸−(1−アリル−2,2,ら
6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−エステル(
光安定剤j64)が得られる。
同様にして、融点197℃の4,4−ビス−(3−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−吉草酸−(
1−メチル−2,2,G、 6−テトラメチルピペリジ
ン−4−イル)−エステル(光安定剤j68)及び下記
の式の光安定剤が製造される: 同様にしてビス−(3,5−ジーtert−ブヂルー4
−ヒドロギシフェニル)−酢酸−メチルエステル及び相
応する4−ヒドロキシベンジルから、融点149℃のビ
ス−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒト四キシ
フェニル)−酢酸−(1,2,2,6,6−ベンタメチ
ルビベリジンー4−イル)−エステル(光安定剤/IF
、、16)、融点138℃のビス−(3,5−ジーte
rt−ブチルー4−ヒドロギシフェニル)−Q)41?
−’(1−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)−エステル(光安定剤A17)並
びに融点27I7℃の下記の式のジエステル(光安定剤
黒23): が得られる。
rt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−吉草酸−(
1−メチル−2,2,G、 6−テトラメチルピペリジ
ン−4−イル)−エステル(光安定剤j68)及び下記
の式の光安定剤が製造される: 同様にしてビス−(3,5−ジーtert−ブヂルー4
−ヒドロギシフェニル)−酢酸−メチルエステル及び相
応する4−ヒドロキシベンジルから、融点149℃のビ
ス−(3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒト四キシ
フェニル)−酢酸−(1,2,2,6,6−ベンタメチ
ルビベリジンー4−イル)−エステル(光安定剤/IF
、、16)、融点138℃のビス−(3,5−ジーte
rt−ブチルー4−ヒドロギシフェニル)−Q)41?
−’(1−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)−エステル(光安定剤A17)並
びに融点27I7℃の下記の式のジエステル(光安定剤
黒23): が得られる。
同様にして、3,3−ビス(3−tert−ブチル−4
−ヒドロキシベンジル)−酪酸メチルエステルから融点
110℃の対応−Jる (1,2,2゜6、6− ペン
タメチルピペリジン−4−イル)−エステル(光安定剤
A9)が得られる。
−ヒドロキシベンジル)−酪酸メチルエステルから融点
110℃の対応−Jる (1,2,2゜6、6− ペン
タメチルピペリジン−4−イル)−エステル(光安定剤
A9)が得られる。
実施例 2
4.4−ビス−(3−tert −ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−吉草酸−エチルエステルを4−アミ
ノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと同様に
反応させることによって、融点133℃の4−(:4.
4−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル) + 吉草Neアミド) −2,2,6,6−
テトラメチルピペリジンが得られる。
ロキシフェニル)−吉草酸−エチルエステルを4−アミ
ノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンと同様に
反応させることによって、融点133℃の4−(:4.
4−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル) + 吉草Neアミド) −2,2,6,6−
テトラメチルピペリジンが得られる。
この化合物2.7 f (0005モル)を酢酸エチル
80 m/に溶かず。トリエチルアミンf1.6 !i
+(0,006モル)を添加した後、溶液を一5℃に冷
却し、酢酸エチルIon/i中のアクリル酸クロリド0
.55 f (0,006モル)の溶液を滴加する。
80 m/に溶かず。トリエチルアミンf1.6 !i
+(0,006モル)を添加した後、溶液を一5℃に冷
却し、酢酸エチルIon/i中のアクリル酸クロリド0
.55 f (0,006モル)の溶液を滴加する。
混合物を一5℃で更に3時間攪拌し、室温に加温する。
メタノール5mlを添加した後、溶液な水で洗浄し、硫
酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発する。生成する油をカ
ラムクロマトグラフィーにより精製する。こうして、f
i!+i1点110℃の4−(:4.4−ビス−(3−
tcrt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−吉草酸
アミド)−1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン(光安定剤A 5 )が得られる。
酸マグネシウム上で乾燥し、蒸発する。生成する油をカ
ラムクロマトグラフィーにより精製する。こうして、f
i!+i1点110℃の4−(:4.4−ビス−(3−
tcrt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−吉草酸
アミド)−1−アクロイル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン(光安定剤A 5 )が得られる。
4−C4,4−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−吉草酸アミド〕−2、2,6,6
−テトラメチルピペリジンの代わりに、相応量の4,4
−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)44酸−(2゜2、6.6−テトラメチルビペリ
ジン−4−イル)−エステルを使用し、その他は前記の
ように操作すると、融点95℃の4,4−ビス−(3−
1crt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−吉草酸
−(1−アクロイル−2,2,6,6−チトラメチルピ
ベリジンー4−イル)−エステル(光安定剤煮6)が得
られる。
ドロキシフェニル)−吉草酸アミド〕−2、2,6,6
−テトラメチルピペリジンの代わりに、相応量の4,4
−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)44酸−(2゜2、6.6−テトラメチルビペリ
ジン−4−イル)−エステルを使用し、その他は前記の
ように操作すると、融点95℃の4,4−ビス−(3−
1crt−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−吉草酸
−(1−アクロイル−2,2,6,6−チトラメチルピ
ベリジンー4−イル)−エステル(光安定剤煮6)が得
られる。
4−(4,4−ビス−(3−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−吉草酸アミド) −2゜2.6.
6−テトラメチルピペリジンの代わりに、相応量の3.
3−ビス−(3−tert−ブチル−6−メチル−4−
ヒドロキシフェニル)−ブチルマロン「俊−ビス−(2
,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−
エステルヲ使JTJ シ、その他は前記と同様に操作す
ると、(3,3−ビス−(3−tert−ブチル−6−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−ブチルコーマロン
酸−ビスー(1−アクロイル−2,2,6,6−チトラ
メチルービベラジンー4−イル)−エステルカ淡黄色前
(光安定剤扁14)として得られる。
ドロキシフェニル)−吉草酸アミド) −2゜2.6.
6−テトラメチルピペリジンの代わりに、相応量の3.
3−ビス−(3−tert−ブチル−6−メチル−4−
ヒドロキシフェニル)−ブチルマロン「俊−ビス−(2
,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−
エステルヲ使JTJ シ、その他は前記と同様に操作す
ると、(3,3−ビス−(3−tert−ブチル−6−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−ブチルコーマロン
酸−ビスー(1−アクロイル−2,2,6,6−チトラ
メチルービベラジンー4−イル)−エステルカ淡黄色前
(光安定剤扁14)として得られる。
実施例 3
2、2.6.6−チトラメチルー4−(3,3−ビス−
(3−tert−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシ〕−ヒ。
(3−tert−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオニルオキシ〕−ヒ。
ベリジン10fを無水酢m 25 ml中で110℃で
6時間攪拌する。生成する酢へ9及び過剰の無水物を引
続き真空下に出来るだけ完全に留去する。残渣を室温に
冷却した接水100rITeと混合し、良く混合し、沈
殿物を濾過し、水で洗浄し、乾燥する。アセトニトリル
から結晶化した後、融点270℃の1−アセチル−2,
2,6,6−チトラメチルー4−(3,3−ビス−(3
−tert−7’チル−6−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオニルオキシ〕−ピペリジン(光安定剤
A2)が得られる。
6時間攪拌する。生成する酢へ9及び過剰の無水物を引
続き真空下に出来るだけ完全に留去する。残渣を室温に
冷却した接水100rITeと混合し、良く混合し、沈
殿物を濾過し、水で洗浄し、乾燥する。アセトニトリル
から結晶化した後、融点270℃の1−アセチル−2,
2,6,6−チトラメチルー4−(3,3−ビス−(3
−tert−7’チル−6−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオニルオキシ〕−ピペリジン(光安定剤
A2)が得られる。
同様の方法で、融点198℃のビス−(3,5−シーt
ert−ブチル−4−ヒドロキシフエニAI)−酢酸−
(1−アセチル−2,2,6,6−ピペリジン−4−イ
ル)−エステルが得られる。
ert−ブチル−4−ヒドロキシフエニAI)−酢酸−
(1−アセチル−2,2,6,6−ピペリジン−4−イ
ル)−エステルが得られる。
応用例 A
式:
%式%
の黄色カプラー0.087 F及び下記の表に示す光安
定剤0.026rを燐酸トリクレジルと酢中エヂルとの
混合物(100ml中1.5 f ) 2. OTLe
中に溶かす。この溶液に6%ゼラヂン溶液7.0ゴ、イ
ソプロパツール/水(3: 、1 ) 中の式:の湿潤
剤の8%溶液0.5 mli及び水0.5 mliを加
え、100Wの電力で超音波を用いて5分間乳化する。
定剤0.026rを燐酸トリクレジルと酢中エヂルとの
混合物(100ml中1.5 f ) 2. OTLe
中に溶かす。この溶液に6%ゼラヂン溶液7.0ゴ、イ
ソプロパツール/水(3: 、1 ) 中の式:の湿潤
剤の8%溶液0.5 mli及び水0.5 mliを加
え、100Wの電力で超音波を用いて5分間乳化する。
こうして得た乳剤2.5 mlに銀含有量6.09/l
の臭化銀乳剤2. Oml s式: の硬化剤の1%水溶液0.7 rr、e及び水3.8
meを加え、混合物を65のpH値にflll’J f
mし、ガラス板上に貼り、1;引き(下塗り)シ、プラ
スチックで被覆した白色紙」二に注ぐ。
の臭化銀乳剤2. Oml s式: の硬化剤の1%水溶液0.7 rr、e及び水3.8
meを加え、混合物を65のpH値にflll’J f
mし、ガラス板上に貼り、1;引き(下塗り)シ、プラ
スチックで被覆した白色紙」二に注ぐ。
固化した後、乾燥棚中で室温で通風して乾燥する。 7
Fl後、35X180闘に切断した試料を階段光学く
さび下に3000ルツクスで露光し、引続きコダック社
のエクタプリント2■−プロセス(Elctaprin
t 2”−Process )で処理する。
Fl後、35X180闘に切断した試料を階段光学く
さび下に3000ルツクスで露光し、引続きコダック社
のエクタプリント2■−プロセス(Elctaprin
t 2”−Process )で処理する。
こうして得た黄色くさびをアトラスウエザオメータで2
500W−キセノンランプを用いて合泪’ 42 KJ
o u l e/crlで照射する(対照試料は光安
定剤を含まない)。
500W−キセノンランプを用いて合泪’ 42 KJ
o u l e/crlで照射する(対照試料は光安
定剤を含まない)。
第1表に、初期濃度10からの色濃度減少率を示す。
第1表
応用例 B
応用例1と同様に試料を製造するが、その都度、光安定
剤0.042 mmotをカプラーと一緒に注ぐ。
剤0.042 mmotをカプラーと一緒に注ぐ。
引続き、試料をUV−フィルター(コダック、2C型)
下アトラス・ウエザオメータ中で合計63 KJou
l e/crjlで照射する。その除虫じた反射率の最
大濃度減少率を第2表に示す。
下アトラス・ウエザオメータ中で合計63 KJou
l e/crjlで照射する。その除虫じた反射率の最
大濃度減少率を第2表に示す。
第2表
応用例A及びBから、本発明の光安定剤が色原体黄色色
素の耐光性を著しく改良することが判る。
素の耐光性を著しく改良することが判る。
応用例 C
式:
のシアンカプラー0..025 f及び下記の表の光安
定剤0.04■Otを燐酸トリクレジルと酢階エチルと
の混合物(100m6中1.59 ) 1 ml!に溶
かす。この溶液に6%ゼラチン溶液7.0fld、イソ
プロパツール/水(3:4)中の式:の湿潤剤の8%溶
液0.5 me及び水0.5 mgを加え、100Wの
電力で超音波で5分間乳化する。
定剤0.04■Otを燐酸トリクレジルと酢階エチルと
の混合物(100m6中1.59 ) 1 ml!に溶
かす。この溶液に6%ゼラチン溶液7.0fld、イソ
プロパツール/水(3:4)中の式:の湿潤剤の8%溶
液0.5 me及び水0.5 mgを加え、100Wの
電力で超音波で5分間乳化する。
こうして得た乳剤2.5罰に銀含有率6.115’/l
の臭化銀乳剤2. Ortte s式:の硬化剤の1%
水溶液0.7 rug及び水3.8 mlを加え、混合
物を6.5のpH値に調節肱ガラス板上に貼り、下引き
し、プラスチックで被覆した白色紙上に注ぐ。
の臭化銀乳剤2. Ortte s式:の硬化剤の1%
水溶液0.7 rug及び水3.8 mlを加え、混合
物を6.5のpH値に調節肱ガラス板上に貼り、下引き
し、プラスチックで被覆した白色紙上に注ぐ。
注いだ物質を固化した後、乾燥棚中で室温で通風して乾
燥する。応用例A及びBに記載した方法と同様に層を製
造し、露光し、更に処理する金玉工程を行った。
燥する。応用例A及びBに記載した方法と同様に層を製
造し、露光し、更に処理する金玉工程を行った。
得られたくさびを60℃、相対湿度70%の気候室中に
貯蔵する。下記の表には、赤の初期色濃度を10どして
〔マクベス社(Macbeth )のデンシトメータ■
TR924ステータスA(Densilo+neter
■TR9245tatus A )で測定〕、シアン濃
度の減少率を示す。
貯蔵する。下記の表には、赤の初期色濃度を10どして
〔マクベス社(Macbeth )のデンシトメータ■
TR924ステータスA(Densilo+neter
■TR9245tatus A )で測定〕、シアン濃
度の減少率を示す。
第3表
本発明の安定剤が色原体シアン色素の耐候性を著しく改
良することが判る。
良することが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)少なくとも1層の感光性ハロ・ゲン化#Ji!乳
剤層、中間層及び/又は保設層中に光安定剤として少な
くとも1種のポリアルキルピペリジン化合物を含むカラ
ー写真記録材料において、光安定剤として式(1): 〔式中1(,1は水素又はメチル基を表し;R2はヒド
ロキシル基、炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭素
原子数3〜6個のアルケニル基、炭素原子数3〜4個の
アルキニル基、炭素原子数7〜12個のアラルキル基、
グリシジル基、又はハロゲン、シアノi%、−COOR
9若しくは −CON(n、1G) (1もlっで置換された炭素原
子数1〜4個のアルキル基、基−C〇−几12、基−C
O−CI H,9、)、1 − C0−N(]’もto
) (l(,11) 、基C1l、 、、CIT
(It、1り −0R14、−8O−rLIS−8O
,−−1115、・−OR+9、・−00C−几12又
は式:の基を表し:R3及びBsは水素又はヒドロキシ
ル基を表し、113が水素であり、■も5がヒドロキシ
ル基であるか、又は几3がヒドロキシル基であり、几S
が水素であり;几4は炭素原子数1〜12個のアルキル
基、炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子
数6〜10個のアリール基又は炭素原子数7〜9個のフ
ェニルアルキル基を表し;1モロ及び几7はそれぞれ独
立に水素、炭素原子数1〜12個のアルギル基、炭素原
子数5〜8個のシクロアルキル基、炭素原子数6〜10
個のアリール基又は炭素原子数7〜9個のフェニルアル
キル基を表し; Tt+8は水素、炭素原子数1〜12
個のアルキル基、炭素原子@5〜8個のシクロアルキル
基、ヘンシル基又はフェニル基を表し; R9は炭素原
子数1〜12個のアルキル基、アリル基、シクロヘキシ
ル基又はベンジル基を表し; 11,10は炭素原子数
1〜12個のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基
、ベンジル基、フェニル基又は炭素原子数7〜12個の
アルキルフェニル基ヲ表し;R11は水素、炭素原子数
1〜12個のアルキル基、アリル基、シクロヘキシル基
又はベンジル基を表すか、又はRIO及びR111は、
これらが結合しているN−原子と一緒に5又は6員のへ
テロ環を形成し; R,12は水素、炭素原子数1〜1
2個のアルキル基、炭素原子数2〜6個のアルケニル基
、クロロメチル基、炭素原子数5〜8個のシクロアルギ
ル基、炭素原子数7〜12個のアラルギル7、t!、フ
ェニル基、炭素原子数7〜12個のアルキルフェニル基
又は炭素原子数1〜4個のアルキル基1若しくは2個及
びヒドロキシ基で置換されたフェニル基、フェニルメチ
ル基又tiフェニルエチル基を表し; R13は水素、
炭素原子数1〜4個のアルキル基、炭素原子数2〜13
個のアルコキシメヂル基、フェニル基又はフエノキシメ
チル基を表し; 11,14は水素、炭素原子数1・〜
12個のアルキル基、基−CO−TL12、−CO−N
(TI、10) [11)又は式(■):の基を表し;
几!5は炭素原子数1〜12個のアルキル〃1、フェニ
ル基又は炭素原子数7〜12個のアルギルフェニル基を
表し;Aは直接結合又しよ炭素原子数1〜12個のアル
キレン基を表し、この基は−S−若しくは一〇〇〇−で
遮1す[されているか、或いは基−8o、 −、R15
゜基−CN、基−P (0) (0R15)2若しくは
基ClTa Cl−12R1 01個で置換されていてよく;Bは炭素原子数2〜12
個のアルキレン基、炭素原子数4〜8個のアルケニレン
基、炭素原子数4〜6個のアルキニレン基又は炭素原子
数8〜14個のアラルキレン基を表し;Xは一〇−又は
−N (R16) −(式中型6は水素、炭素原子数1
〜18個のアルキル基、炭素原子数5〜12個のシクロ
アルキル基又は式(■): の基を表す)の基を表す〕の化合物を含むことを特徴と
するカラー写真記録材料。 (2)光安定剤が、几1が水素を表し; R2がヒドロ
キシル基、炭素原子1jk 1 ” 4個のアルコキシ
基、アセトキシ基、炭素原子数1〜4個のアルキル基、
炭素原子数3〜4個のアルケニル基、プロパルギル基、
グリシジル基、ベンジル基、−COOR9で置換ぎれた
メチル基若しくはエチル基、基−CO−1も” 、−C
O−OR’又は−CO−N (I(,10) (R11
) 、基−CI−I2−CH(几13) 、−QR14
、−S O−Rlg、−802−1も15、−〇R9又
は−00〇−R’2を表し;R3が水素で、几5がヒド
ロキシル基であるか、又はR3がヒドロキシル基で、I
t、5が水素であり;几4が炭素原子数1〜8個のアル
キル基を表し;R6及び11.7がそれぞれ独立に水素
又は炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し;R8が水
素又は炭素原子数1〜12個のアルキル基を表し; R
9が炭素原子1〜8個のアルキル基、アリル基又はシク
ロヘキシル基を表し; RIGが炭素原子数1〜12個
のアルキル基、シクロヘキシル基又はフェニル基を表し
;R11が水素又は炭素原子数1〜12個のアルキル基
を表し; J(、lo及び11.11が、これらが結合
しているN−原子と一緒に6員のへテロ環を形成し1R
12が炭素原子数1〜12個のアルキル基、炭素原子数
2〜4個のアルケニル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、フェニル基又は2−(3,5−ジーtert−ブチ
ルー4−ヒドロキシル)−エチル基を表し; l(,1
3が水素、メチル基又はフェニル基を表し;R14が水
素、炭素原子数1〜4個のアルキル糸、基−CO−−甲
2、基−CO−N (T?、10 )(R,11)又は
式(■)の基を表し; RISが炭素原子数1〜4個の
アルキル基、フェニル基又はトリル基を表し:Aが直接
結合又は炭素原子数1〜6個のアルキレン基を表し、こ
の基は−CN又は式(■)の基で置換されていてもよく
;Xが一〇−又は−NH−を表す式(I)の化合物であ
る特許請求の範囲第1項記載のカラー写真記録材料。 キシ基、メチル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基
、アクリロイル基、基−CO−N(RIG ) (14
11)、−S O−IL15又は一5O2−几15を表
し;I(・3が水素を表し; Il+4が炭素原子数1
〜(5個の゛γアルキル基表し;R5がヒドロキシルJ
、Uを表し; Re及びR7がそれぞれ独立に水素又は
炭′Jf、原子数1〜4個のアルキル基を表し;1.s
が水素又は炭素原子数1〜6個のアルキル基を表し;
](,10が炭素原子数1〜8個のアルキル基、シクロ
ヘキシル基又はフェニル基を表し; 11.11が水素
又は炭素原子数1〜8個のアルキル基を表し; R”が
メチル基、フェニル基又はp−)リル基を表し;Aが直
接結合又は炭素原子数1〜4個のアルキレン基を表し、
この基は式(IV)の基で置換されていてもよく;Xが
一〇−又は−N )I−を表す式 ・(1)の化
合物である特許請求の範囲第1項記載のカラー写真記録
材料。 (4)光安定剤が、R,1が水素を表し; 1(,2が
メトキシ基、メチル基、アリル基、ベンジル基、アセチ
ル基、アクリ四イル%、%1’−CO−N(R,10)
(R,11)、−80415又バー80. J15を
表し;R3が水素を表し;R4が炭素原子数1〜4個の
アルキル基を表し;B、5がヒドロキシル基を表し;几
6が水素又は炭素原子数1〜4個のアルキル基;几7及
び几8が水素又はメチル基を表し; RIGが炭素原子
数1〜4個のアルギル基、シクロヘキシル基又はフェニ
ル基を表し; R111が水素又は炭素原子数1〜4個
のアルキル基を表し;几!5がフェニル基又はp−)リ
ル基を表し;Aが直接結合又は炭素原子数1〜4個のア
ルキレン基を表し;Xが一〇−を表す式(1)の化合物
である特許請求の範囲第1項記載のカラー写真記録材料
。 (5)光安定剤が、几1が水素を表し;R2がメチル基
、アリル基、ベンジル基、アセチルik又はアクリロイ
ル基を表し;几3が水素を表し:R4が炭素原子数1〜
4個のアルキル基を表し;R5がヒドロキシル基を表し
;几6、R7及びR8が水素又はメチル基を表し;Aが
炭素原子数1〜4個のアルキレン基を表し、Xが一〇−
を表す式(1)の化合物である特許請求の範囲第1項記
載のカラー写真記録材料。 (6)式(I)の光安定剤の他に更に1種以上の他の光
安定剤を含む特許請求の範囲第1項記載のカラー写真記
録材料。 (7)式(I)の光安定剤の他に更に紫外線吸収剤を含
む特許請求の範囲第6項記載のカラー写真記録材料。 (8)光安定剤を1種以上の着色カプラーと一緒に含む
特許請求の範囲第1項記載のカラー写真記録材料。 (9)1m’当たり1〜2000mj7、好ましくは1
00〜8001n’jの光安定剤を含む特許請求の範囲
第1項記載のカラー写真記録林料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH493882 | 1982-08-18 | ||
| CH4938/821 | 1982-08-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5953846A true JPS5953846A (ja) | 1984-03-28 |
Family
ID=4285128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58149698A Pending JPS5953846A (ja) | 1982-08-18 | 1983-08-18 | カラ−写真記録材料 |
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| EP (1) | EP0103540A1 (ja) |
| JP (1) | JPS5953846A (ja) |
| CA (1) | CA1197127A (ja) |
Cited By (4)
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| JP2006267996A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-10-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 |
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- 1983-08-18 JP JP58149698A patent/JPS5953846A/ja active Pending
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| EP0103540A1 (de) | 1984-03-21 |
| CA1197127A (en) | 1985-11-26 |
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