ITMI960751A1 - Rivestimenti e materiali di registrazione stabilizzati con sostanze che assorbono i raggi ultravioletti a base di benzotraizoli - Google Patents
Rivestimenti e materiali di registrazione stabilizzati con sostanze che assorbono i raggi ultravioletti a base di benzotraizoli Download PDFInfo
- Publication number
- ITMI960751A1 ITMI960751A1 IT96MI000751A ITMI960751A ITMI960751A1 IT MI960751 A1 ITMI960751 A1 IT MI960751A1 IT 96MI000751 A IT96MI000751 A IT 96MI000751A IT MI960751 A ITMI960751 A IT MI960751A IT MI960751 A1 ITMI960751 A1 IT MI960751A1
- Authority
- IT
- Italy
- Prior art keywords
- composition according
- tert
- butyl
- benzotriazole
- coating
- Prior art date
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 80
- -1 tert-octyl Chemical group 0.000 claims description 57
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 53
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 43
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 36
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 31
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 16
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 13
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 11
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 10
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 9
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims description 4
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 4
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 claims description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 3
- 238000009500 colour coating Methods 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 82
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 34
- 239000000047 product Substances 0.000 description 29
- 239000002585 base Substances 0.000 description 28
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 23
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 20
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 20
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 18
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 10
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N methanol Natural products OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 6
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 6
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 6
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N compound E Chemical compound N([C@@H](C)C(=O)N[C@@H]1C(N(C)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=N1)=O)C(=O)CC1=CC(F)=CC(F)=C1 JNGZXGGOCLZBFB-IVCQMTBJSA-N 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 5
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 5
- YZXTWMQYSSMUFH-UHFFFAOYSA-N 4-[6-(1-amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexyl]-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-amine Chemical compound C1C(C)(C)N(N)C(C)(C)CC1CCCCCCC1CC(C)(C)N(N)C(C)(C)C1 YZXTWMQYSSMUFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(OCCCCCCCC)C(C)(C)C1 OSIVCXJNIBEGCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 4
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 4
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229940116351 sebacate Drugs 0.000 description 3
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L sebacate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCCCCCC([O-])=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAXXZBQODQDCOW-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropyl acetate Chemical compound CCC(OC)OC(C)=O ZAXXZBQODQDCOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 2-octanone Chemical compound CCCCCCC(C)=O ZPVFWPFBNIEHGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTWGHNZAQVTLSQ-UHFFFAOYSA-N 4-butyl-2,6-ditert-butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 WTWGHNZAQVTLSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-hexanone Chemical compound CC(C)CCC(C)=O FFWSICBKRCICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FWVQLLIEMGHYHJ-UHFFFAOYSA-N C(COCCOCCO)O.C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)O.C(COCCO)O.CO Chemical compound C(COCCOCCO)O.C(CCCCCCCCCCCCCCCCC)O.C(COCCO)O.CO FWVQLLIEMGHYHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 2
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 231100001244 hazardous air pollutant Toxicity 0.000 description 2
- AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N hexyl acetate Chemical compound CCCCCCOC(C)=O AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940117969 neopentyl glycol Drugs 0.000 description 2
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000176 photostabilization Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 2
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N (2,6-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HQEPZWYPQQKFLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSZOTMKIKJOOPG-UHFFFAOYSA-N (2-nitrophenyl)-phenyldiazene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DSZOTMKIKJOOPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N (2-octylphenyl) 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O ATLWFAZCZPSXII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N (5-benzoyl-2,4-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(O)=C(C(=O)C=2C=CC=CC=2)C=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 GOZHNJTXLALKRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- JDLQSLMTBGPZLW-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC(O)N1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C JDLQSLMTBGPZLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQQKTNDBASEZSD-UHFFFAOYSA-N 1-(octadecyldisulfanyl)octadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCSSCCCCCCCCCCCCCCCCCC MQQKTNDBASEZSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJKSQVGRFHBZJV-UHFFFAOYSA-N 1-o-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methyl] 3-o-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) 2-butylpropanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)C(CCCC)C(=O)OCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 IJKSQVGRFHBZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 1-phenoxypropan-2-ol Chemical compound CC(O)COC1=CC=CC=C1 IBLKWZIFZMJLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 1-tert-Butoxy-2-propanol Chemical compound CC(O)COC(C)(C)C GQCZPFJGIXHZMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMKOHTDGXBBEAH-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-1-octoxypiperidin-4-ol Chemical compound CCCCCCCCON1C(C)(C)CC(O)CC1(C)C MMKOHTDGXBBEAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-octadecoxypiperidine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 BWJKLDGAAPQXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEHFQKNEJQRBFJ-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO.OCC(CO)(CO)CO HEHFQKNEJQRBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUAIOYWXCDLHKT-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tricyclohexylphenol Chemical compound OC1=C(C2CCCCC2)C=C(C2CCCCC2)C=C1C1CCCCC1 UUAIOYWXCDLHKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPRYUXCVCCNUFE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C)=C1 BPRYUXCVCCNUFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXSKJYLPNPYQHH-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-6-(1-methylcyclohexyl)phenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C2(C)CCCCC2)=C1 MXSKJYLPNPYQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-6-tert-butylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXCHWXWXYPEZKM-UHFFFAOYSA-N 2,4-ditert-butyl-6-[1-(3,5-ditert-butyl-2-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=1C(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C1O DXCHWXWXYPEZKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(2-methylbutan-2-yl)benzene-1,4-diol Chemical compound CCC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)CC)C=C1O CZNRFEXEPBITDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKALLEFLBKHPTQ-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound OC=1C(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=CC(C)=CC=1CC1=CC(C)=CC(C(C)(C)C)=C1O LKALLEFLBKHPTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLUKQUGVTITNSY-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butyl-4-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SLUKQUGVTITNSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUJVBAJRNBKTBR-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-(1,3,5-triazin-2-ylamino)phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(NC=2N=CN=CN=2)=C1 AUJVBAJRNBKTBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCXYLTWTWUGEAA-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-(methoxymethyl)phenol Chemical compound COCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SCXYLTWTWUGEAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDFARPRXWMDFQU-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-[(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)methylsulfanylmethyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CSCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 UDFARPRXWMDFQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQCWLRHNAHIIGW-UHFFFAOYSA-N 2,8-dimethylnonan-5-one Chemical compound CC(C)CCC(=O)CCC(C)C JQCWLRHNAHIIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBOGPIWNHXHYHN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-5-octylphenyl)sulfanyl-4-octylphenol Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(O)C(SC=2C(=CC=C(CCCCCCCC)C=2)O)=C1 LBOGPIWNHXHYHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQMHSKWEJGIXGA-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methylphenol Chemical group CCCCCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1O VQMHSKWEJGIXGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEXBEKLLSUWSIM-UHFFFAOYSA-N 2-Butyl-4-methylphenol Chemical compound CCCCC1=CC(C)=CC=C1O FEXBEKLLSUWSIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQESJWNDTICJHW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methyl-3-nonylphenyl)methyl]-4-methyl-6-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(CCCCCCCCC)C=C(C)C=2)O)=C1O XQESJWNDTICJHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBXUJQFRMLQPCG-UHFFFAOYSA-N 2-[12-hydroxyimino-23-(2-hydroxy-4-methylphenyl)tricosyl]-5-methylphenol Chemical compound OC1=CC(C)=CC=C1CCCCCCCCCCCC(=NO)CCCCCCCCCCCC1=CC=C(C)C=C1O XBXUJQFRMLQPCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHPDFYDITNAMAM-UHFFFAOYSA-N 2-[cyclohexyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1CCCCC1 HHPDFYDITNAMAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKNMPWVTPUHKCG-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-6-[(3-cyclohexyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound OC=1C(C2CCCCC2)=CC(C)=CC=1CC(C=1O)=CC(C)=CC=1C1CCCCC1 AKNMPWVTPUHKCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORSDGBOJHYJLV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-n'-(2-hydroxybenzoyl)benzohydrazide Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)NNC(=O)C1=CC=CC=C1O UORSDGBOJHYJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carbonyl chloride Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(Cl)=O)C(O)=CC=C21 WBJWXIQDBDZMAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STWTVTCBSVFAMN-UHFFFAOYSA-N 2-octylsulfanyl-1,3,5-triazine Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC=NC=N1 STWTVTCBSVFAMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[1-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(CCC)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PFANXOISJYKQRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHLYPUYAVHSKBN-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[1-[3-tert-butyl-2-hydroxy-5-(2-methylpropyl)phenyl]ethyl]-4-(2-methylpropyl)phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC(C)C)=CC(C(C)C=2C(=C(C=C(CC(C)C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O UHLYPUYAVHSKBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCMKIKYKIHUTM-UHFFFAOYSA-N 3,3,5,5-tetramethyl-1-[2-(3,3,5,5-tetramethyl-2-oxopiperazin-1-yl)ethyl]piperazin-2-one Chemical compound O=C1C(C)(C)NC(C)(C)CN1CCN1C(=O)C(C)(C)NC(C)(C)C1 GUCMKIKYKIHUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEXOWHQZWLCHHD-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O YEXOWHQZWLCHHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 3,9-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP1OCC2(COP(OC=3C(=CC(=CC=3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2)CO1 AIBRSVLEQRWAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 3,9-dioctadecoxy-2,4,8,10-tetraoxa-3,9-diphosphaspiro[5.5]undecane Chemical compound C1OP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCC21COP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OC2 PZRWFKGUFWPFID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCILJBJJZALOAL-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)-n'-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyl]propanehydrazide Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)NNC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 HCILJBJJZALOAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 3h-1-benzofuran-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)CC2=C1 ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 4-(4,6-dichloro-1,3,5-triazin-2-yl)morpholine Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(N2CCOCC2)=N1 UQAMDAUJTXFNAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxy-1-(2-hydroxyethyl)-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1CCO STEYNUVPFMIUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZAIWKMQABZIDI-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2,6-dioctadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC(C)=CC(CCCCCCCCCCCCCCCCCC)=C1O LZAIWKMQABZIDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJHKARPEMHIIQC-UHFFFAOYSA-N 4-octadecoxy-2,6-diphenylphenol Chemical compound C=1C(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C(O)C=1C1=CC=CC=C1 JJHKARPEMHIIQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 4-t-Butylbenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Butylphenyl Salicylate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC=CC=C1O DBOSBRHMHBENLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHOKCCUPZYSAJG-UHFFFAOYSA-N 6-oxohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCC=O LHOKCCUPZYSAJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1h-1,3,5-triazin-2-one Chemical class OC1=NC=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 NJCDRURWJZAMBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VARGBNQSQQAYGN-UHFFFAOYSA-N 8-(2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-carbonyl)oxyoctyl 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-4-carboxylate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)OCCCCCCCCOC(=O)C1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 VARGBNQSQQAYGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYCLIHYYHGOPPW-UHFFFAOYSA-N 8-oxooctyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCCCCCCC=O KYCLIHYYHGOPPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQBZXBWRWFTNJQ-UHFFFAOYSA-N CC(C)CC1=CC=CC2=C1C=CC=C2CC(C)C Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC2=C1C=CC=C2CC(C)C DQBZXBWRWFTNJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTJYYRKHFBFRJV-UHFFFAOYSA-N CC1(NC(CC(C1)C(C(=O)O)N(C(C(=O)O)C1CC(NC(C1)(C)C)(C)C)C(C(=O)O)C1CC(NC(C1)(C)C)(C)C)(C)C)C Chemical compound CC1(NC(CC(C1)C(C(=O)O)N(C(C(=O)O)C1CC(NC(C1)(C)C)(C)C)C(C(=O)O)C1CC(NC(C1)(C)C)(C)C)(C)C)C XTJYYRKHFBFRJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003508 Dilauryl thiodipropionate Substances 0.000 description 1
- 239000002656 Distearyl thiodipropionate Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKOBUGCCXMIKDM-UHFFFAOYSA-N Irganox 1098 Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)NCCCCCCNC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 OKOBUGCCXMIKDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWGBGUINMSOOKP-UHFFFAOYSA-N OC1=C(C(=O)CCCCCCCCCCC)C=NN1C1=CC=CC=C1 Chemical compound OC1=C(C(=O)CCCCCCCCCCC)C=NN1C1=CC=CC=C1 IWGBGUINMSOOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003265 Resimene® Polymers 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000003490 Thiodipropionic acid Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 1
- NKMARJCLZALCAR-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2,2,3,3-tetrakis(dodecan-2-ylsulfanyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCC(C)SC(SC(C)CCCCCCCCCC)C(SC(C)CCCCCCCCCC)(SC(C)CCCCCCCCCC)C(=O)OCC(CO)(CO)CO NKMARJCLZALCAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N [4-[4-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphanylphenyl]phenyl]-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)P(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFMFWAFQGUGOB-UHFFFAOYSA-N [5-(4-tert-butylbenzoyl)-2,4-dihydroxyphenyl]-(4-tert-butylphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC(C(=O)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=C(O)C=C1O HHFMFWAFQGUGOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N alpha-phenylbenzeneacetic acid Natural products C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)C1=CC=CC=C1 PYHXGXCGESYPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- SMISHRXKWQZCCQ-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-3-yl) decanedioate Chemical compound CC1(C)N(C)C(C)(C)CCC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1 SMISHRXKWQZCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 RSOILICUEWXSLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWDBZVIHZORXHG-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl) decanedioate Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)ON1C(C)(C)CCCC1(C)C YWDBZVIHZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- GGAUUQHSCNMCAU-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)C(C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000007 calcium salts Chemical class 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000004181 carboxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 230000000254 damaging effect Effects 0.000 description 1
- WTVNFKVGGUWHQC-UHFFFAOYSA-N decane-2,4-dione Chemical compound CCCCCCC(=O)CC(C)=O WTVNFKVGGUWHQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N diethylhydroxylamine Chemical compound CCN(O)CC FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019304 dilauryl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 1
- XTDYIOOONNVFMA-UHFFFAOYSA-N dimethyl pentanedioate Chemical compound COC(=O)CCCC(=O)OC XTDYIOOONNVFMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019305 distearyl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000008570 general process Effects 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N hexadecyl 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NZYMWGXNIUZYRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid isobutyl ester Natural products CC(C)COC(=O)C(C)C RXGUIWHIADMCFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N n'-(2-ethoxyphenyl)-n-(2-ethylphenyl)oxamide Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1CC YIMHRDBSVCPJOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTIBACHAUHDNPH-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(benzylideneamino)oxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=NNC(=O)C(=O)NN=CC1=CC=CC=C1 GTIBACHAUHDNPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQAJFRSBFZAUPB-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCN(O)CCCCCCCC WQAJFRSBFZAUPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBINNYMQZVKNFF-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-1-phenylmethanimine oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=[N+]([O-])CC1=CC=CC=C1 UBINNYMQZVKNFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRUUZFQPCUFYPV-UHFFFAOYSA-N n-dodecyldodecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCC LRUUZFQPCUFYPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBMIPYGHTZRCRH-UHFFFAOYSA-N n-ethylethanimine oxide Chemical compound CC[N+]([O-])=CC GBMIPYGHTZRCRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRPOKHXBOZQSOX-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl-n-octadecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCCCCC ZRPOKHXBOZQSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCWENWKZARTGU-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyloctadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=[N+]([O-])CCCCCCCCCCCCCCCCC DBCWENWKZARTGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCBLWIBXXQTAW-UHFFFAOYSA-N n-hexadecyl-n-octadecylhydroxylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCN(O)CCCCCCCCCCCCCCCC WGCBLWIBXXQTAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCDJFNYVSDFWDB-UHFFFAOYSA-N n-hexadecylhexadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCC GCDJFNYVSDFWDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHAFFFSIDLDWQA-UHFFFAOYSA-N n-hexadecyloctadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=[N+]([O-])CCCCCCCCCCCCCCCC FHAFFFSIDLDWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXGDIORKSOYRMQ-UHFFFAOYSA-N n-octadecylheptadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCCC ZXGDIORKSOYRMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMMSXFAWOGWQE-UHFFFAOYSA-N n-octadecylhexadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCC MCMMSXFAWOGWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HORBOHJHQGXXOR-UHFFFAOYSA-N n-octadecyloctadecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCCCCCC HORBOHJHQGXXOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJGVICBAANVMZ-UHFFFAOYSA-N n-octyloctan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCC QXJGVICBAANVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLYJXPKHTZCZOG-UHFFFAOYSA-N n-tetradecyltetradecan-1-imine oxide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[N+]([O-])=CCCCCCCCCCCCCC SLYJXPKHTZCZOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- TWSRVQVEYJNFKQ-UHFFFAOYSA-N pentyl propanoate Chemical compound CCCCCOC(=O)CC TWSRVQVEYJNFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)methanone Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZPNJBTBYIHBSIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MQOCIYICOGDBSG-UHFFFAOYSA-M potassium;hexadecanoate Chemical compound [K+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O MQOCIYICOGDBSG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical group COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011814 protection agent Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000009528 severe injury Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- IJRHDFLHUATAOS-DPMBMXLASA-M sodium ricinoleate Chemical compound [Na+].CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC([O-])=O IJRHDFLHUATAOS-DPMBMXLASA-M 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPCFMITFBVJMS-UHFFFAOYSA-N tetrakis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidin-4-yl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)N(C)C(C)(C)CC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)C(C(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)N(C)C(C)(C)C1 WUPCFMITFBVJMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZNAAUDJKMURFU-UHFFFAOYSA-N tetrakis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butane-1,2,3,4-tetracarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CC(C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)C(C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1)CC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 NZNAAUDJKMURFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N tridodecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCC IVIIAEVMQHEPAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N trioctadecyl phosphite Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(OCCCCCCCCCCCCCCCCCC)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC CNUJLMSKURPSHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N tris(2-nonylphenyl) phosphite Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OP(OC=1C(=CC=CC=1)CCCCCCCCC)OC1=CC=CC=C1CCCCCCCCC WGKLOLBTFWFKOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 239000012801 ultraviolet ray absorbent Substances 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
- B41M5/46—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography characterised by the light-to-heat converting means; characterised by the heat or radiation filtering or absorbing means or layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/5227—Macromolecular coatings characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. UV-absorbers, plasticisers, surfactants
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
- C07D249/20—Benzotriazoles with aryl radicals directly attached in position 2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
- C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
- G03C1/8155—Organic compounds therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Ink Jet (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
D E S C R I Z I O N E
La presente invenzione riguarda composizioni di rivestimento o composizioni di registrazione di pellicole polimere protette contro un danno grave per effetto della presenza di assorbenti UV a base di benzotriazoli, scelti.
Il brevetto U.S. N° 4,278,589 descrive la preparazione di
fenil)-2H-benzotriazolo e di
-2H-benzotriazolo. Il brevetto U.S. N° 4,278,589 descrive anch1esso la preparazione di
triazolo. Quest'ultimo composto è una sostanza che assorbe UV molto efficace, ma, purtroppo, è relativamente insolubile, essendo solubile soltanto in misura di circa 14% (in peso) in xilene. Poiché tali solventi aromatici vengono minacciati di essere messi al bando a causa dei problemi ambientali, è necessario effettuare una diligente ricerca per ottenere un benzotriazolo efficace che abbia l'efficacia di foto-stabilizzazione generale del 2-(2
-benzotriazolo e che
sia solubile nei solventi approvati dal punto di vista ambientale.
Il brevetto giapponese Kokai 75/158588 descrive la preparazione del 2-(2-idrossi-3-c(-cumil-5-metil-fenil)-2H-benzotriazolo e del 2-(2-idrossi-3-metil-5-c(-cumilfenil)-2H-benzotriazolo come efficaci prodotti che assorbono i raggi ultravioletti.·
Il brevetto U.S. N° 4,283,327 descrive la preparazione del
benzotriazolo e del
ter.-ottilfenil)-2H-benzotriazolo. I brevetti U.S. N° 4,587,346; 4,675,352; 4,973,701; 5,095,062 e 5,240.975 descrivono la preparazione di miscele di benzotriazoli liquidi mediante post-alchilazione di benzotriazoli preformati usando alchenl superiori ed un catalizzatore acido. Tali prodotti sono miscele liquide complesse-di diversi benzotriazoli correlati e sono solubili nei solventi accettabili dal punto di vista ambientale.
Tuttavia, mentre questi prodotti che assorbono i raggi ultravioletti sono abbastanza solubili in solventi accettabili dal punto di vista ambientale, essi non hanno la stabilità termica dei composti del benzotriazolo che sono sostituiti nella posizione-3 da una porzione c(-cumile.
I composti di benzotriazoli della presente invenzione sono sostituiti nella posizione-3 con un gruppo fl(-cumile e nella posizione-5 con un gruppo alchile oppure con un gruppo alchile sostituito con un gruppo carbossialchile. Questi prodotti sono più solubili in comuni solventi di rivestimento rispetto alle tris-aril-s-triazine che sono funzionalizzate con semplici gruppi alchilici. Tra i solventi di rivestimento comuni sono compresi xilene, metilamilchetone, butilcellosolve, butilcarbitolo e metilisobutilchetone. Questa funzionalità, in combinazione con l'elevato peso molecolare dei composti, mette a disposizione i composti della presente invenzione con una scarsa tendenza alla migrazione quando vengono incorporati nel rivestimento di base di un sistema rivestimento chiaro/rivestimento di base.
Lo scopo di questa invenzione è mettere a disposizione un metodo per proteggere un sistema di rivestimento costituito da elettro-rivestimento/rivestimento di base/rivestimento chiaro contro una separazione degli strati da un substrato incorporando in essi un benzotriazolo solubile scelto, sostituito nella posizione-3 dell'anello fenilico con una porzione C(-cumile.
Tali solventi accettabili per l'ambiente sono, per esempio, etil acetato, isopropil acetato, butil acetato, isobutil acetato, amil acetato, propil acetato, ossoesil acetato, osso-ottil acetato, propilenglicol monometiletere, dipropilenglicol raonometiletere, propilenglicol monometiletere acetato, dipropilenglicol monometiletere acetato, propilenglicolfeniletere , propilenglicol n-propiletere, propilenglicol t-butiletere, n-amilproplonato, diisobutilchetone, cicloesanone, metilisoamilchetone, metilamilchetone, diisoamilchetone, metilesilchetone, etanolo, 2-etilesanolo, diacetonalcol, alcol etilamilico, propanolo, isobutanolo, alcol isotridecilico, butossietossipropanolo, isobutilisobutirrato, estere dimetilico dell'acido pentandioico, 3-metossi-n-butilacetato, n-amilpropionato.
Le composizioni della presente invenzione inoltre riguardano una composizione che contiene inoltre una quantità stabilizzante efficace di una tris-aril-s-triazina, di una ammina dotata di impedimenti sterici oppure di uno stabilizzante nei confronti della luce costituito da benzofuran-2-one, oppure una loro miscela.
Preferibilmente, tali composizioni contengono inoltre una quantità stabilizzante efficace di 2,4Ancora un altro scopo di questa invenzione è mettere a disposizione materiali di registrazione stabilizzati contro gli effetti dannosi della luce attinica usando i benzotriazoli solubili scelti, sostituiti nella posizione-3 dell'anello fenilico con una porzione o(-cumile.
Si deve notare che i requisiti relativi a vernici e a rivestimenti per autoveicoli hanno subito un notevole cambiamento in anni recenti. Questo cambiamento, associato con un aumento dei problemi ambientali per ciò che riguarda l'impiego di alcuni solventi costituiti da idrocarburi aromatici ha esercitato una notevole pressione sull'industria per venire a capo di nuove soluzioni verso problemi molto difficili da superare.
I prodotti che assorbono i raggi ultravioletti a base di benzotriazoli hanno costituito un sostegno in questo settore, e il 2-(j2-idrossi-3,5-di(c(-cumil)fenil3-2H-benzotriazolo costituisce la risorsa e il compendio di quello che i prodotti assorbenti UV a base di benzotriazoli possono dare.
Purtroppo, questo composto ha una solubilità soltanto limitata (circa 14% in peso) in toluene oppure in xilene ed è scarsamente solubile in solventi più adatti dal punto di vista ambientale. Ciò sta diventando una notevole limitazione, poiché i solventi aromatici sono sul punto di venire eliminati a causa dei problemi ambientali. Inoltre, la solubilità relativamente scarsa di detto composto anche in solventi aromatici limita la concentrazione totale del prodotto che assorbe raggi ultravioletti a base di benzotriazolo che può venire aggiunto al sistema di rivestimento. Poiché i requisiti di durata per una finitura per autoveicoli sono in fase di raddoppio, la scarsa solubilità di detto benzotriazolo costituisce un reale ostacolo.
Fortunatamente, esistono sostanze che assorbono i raggi ultravioletti a base di benzotriazoli solubili e termicamente stabili, principalmente
- - la nuova modificazione cristallina del 2-(2-idros-
che ha la medesima bassa volatilità e una superiore efficacia di foto-stabilizzazione del 2-C2-idrossi-3,5-
ma sono solu¬
bili in solventi accettabili dal punto di vista ambientale e che possono venire aggiunte alle finiture per autoveicoli ad una concentrazione sufficientemente elevata per soddisfare i nuovi ampi requisiti di durata per tali finiture. Ciò viene dimostrato negli esempi di realizzazione.
bis(2 ,4-dimetilfenil)-6-(2-idrossi-4-ottilossifenil)-striazina; 2,4-bis-(2,4-dimetilfenil)-6-(2-idrossi-4-Q3-(pentadecilossi)-2-idrossipropossiJ-s-triazina; bis-(l-ottilossi-2 ,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)sebacato; bis-(1,2,2,6,6-pentametilpiperidin-4-il)sebacato; N-l,2,2,6,6-pentametilpiperidin-4-il-n-dodecilsuccinimmide; oppure N-l-acetil-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il-n-dodecilsuccinimmide .
Il prodotto organico stabilizzato in tali sistemi di rivestimento è una pellicola polimerica che è, per esempio, una resina acrilica/melamminica, una resina poliestere/melammina, una resina acrilica/uretanica, una resina poliestere/uretano, una resina epossi/acido oppure una resina acrilica modificata con un silossano.
La presente invenzione riguarda una composizione di una pellicola di un polimero che è costituita da (a) un fondo di elettro-rivestimento aderente ad un substrato di un metallo; (b) un rivestimento di base oppure un rivestimento colorato che aderisce all'elettro-rivestimento e che è costituito da un legante che forma pellicola e da un pigmento organico oppure da un pigmento inorganico oppure da una loro miscela; (c) un rivestimento chiaro che aderisce al rivestimento di base e che comprende un legante che forma pellicola; e (d) tra 1% e 20% in peso del legante che forma pellicola del rivestimento contenente il benzotriazolo , costituito da almeno una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti costituita da un benzotriazolo di formula I
(l)
in cui
R^^è idrogeno oppure cloro,
R2 è alchile avente da 4 a 28 atomi di carbonio oppure è in cui m è 1 fino a 4 e R. è idrogeno oppure alchile avente da 1 a 18 atomi di carbonio , e
cumile,
contenuta nel rivestimento base oppure nel rivestimento chiaro, oppure sia nel rivestimento base che nel rivestimento chiaro, preferibilmente nel rivestimento chiaro.
Preferibilmente, è idrogeno, è alchile avente da 8 a 12 atomi di carbonio oppure è
in cui m è è alchile avente 1 fino a 12 atomi di carbonio e è C(-cumile.
Nel modo più preferibile, è idrogeno, è tert.-ottile, nonile oppure dodecile e
e nel modo più particolare
è tert.-ottile e
Alchili aventi da 1 a 18 atomi di carbonio sono, per esempio, metile, etile, propile, butile, pentile, esile, eptile, ottile, nonile, decile, undecile, dodecile, tetradecile, esadecile ed ottadecile e i corrispondenti isomeri ramificati.
La composizione di pellicola di polimero descritta sopra può anche contenere un ulteriore strato tra il fondo di elettro-rivestimento e il rivestimento di base oppure rivestimento colorato, detto ulteriore strato essendo costituito da (i) un legante che forma pellicola e un pigmento organico oppure un pigmento inorganico oppure una loro miscela; e da (ii) almeno una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti di formula I a base di un benzotriazolo solubile e termicamente stabile. Inoltre, questo ulteriore strato può anche contenere una quantità stabilizzante efficace di un foto-stabilizzante costituito da un'ammina dotata di impedimenti sterici.
I rivestimenti che possono venire stabilizzati contro l'azione della luce e dell'umidità secondo la presente invenzione sono, per esempio, le lacche afuoco costituite da resine alchidiche tradizionali che vengono usate, in particolare, per il rivestimento di autoveicoli (lacche per la finitura di autoveicoli), per esempio lacche a base di resine alchilidiche/melamminiche e di resine alchidiche/acriliche/melamminiche (vedi H. Wagner e H.F. Sarx, "Lackkunstharze" (1977), pag.99-123).
Tra gli altri agenti reticolanti sono comprese resine glicuriliche, isocianati bloccati oppure resine epossidiche.
Le lacche stabilizzate secondo l'invenzione sono adatte per rivestimenti di finiture metalliche e per finiture di ombreggiatura solide, in particolare nel caso di finiture di ritocco e anche diverse applicazioni di rivestimenti astrale "(ooil)".
Le lacche stabilizzate secondo l'invenzione, preferibilmente, vengono applicate nel modo tradizionale adottando due metodi, o mediante il metodo del rivestimento singolo, oppure mediante il metodo del doppio rivestimento. In quest'ultimo metodo, il rivestimento di base contenente il pigmento viene applicato dapprima e, successivamente, su di esso si applica un rivestimento di copertura di laccha chiara.
Inoltre, si deve notare che i rivestimenti della presente invenzione possono essere resine termoindurenti non catalizzate da acidi, per esempio, resine epossidiche, resine epossi-poliestere, resine viniliche, alchidiche, acriliche e resine poliestere, eventualmente modificate con silicone, isocianati oppure isocianurati. Le resine epossidiche e le resine epossi-poliestere vengono reticolate usando agenti di reticolazione tradizionali per esempio acidi, anidridi di acidi, ammine e simili.
Corrispondentemente, si può impiegare l’epossido
come agente di reticolazione per diversi sistemi di resine acriliche oppure di resine poliestere che
sono state modificate dalla presenza di gruppi reattivi sulla struttura dello scheletro.
I composti della presente invenzione, quando vengono usati in finiture a due rivestimenti, possono venire incorporati nel rivestimento chiaro oppure sia nel rivestimento chiaro che nel rivestimento
di base colorato.
Per ottenere una foto-stabilizzazione massima, può essere vantaggioso il contemporaneo impiego di altri foto-stabilizzanti tradizionali. Esempi di
tali stabilizzanti sono sostanze che assorbono i raggi ultravioletti del tipo benzofenone, benzotriazolo, cianacrilato oppure del tipo ossanilide, oppure agenti fotostabilizzanti contenenti metalli, per esempio, composti organici del nichel, oppure agenti fotostabilizzanti costituiti da ammine dotate di impedimenti sterici. In sistemi a due rivestimenti, questi ulteriori agenti fotostabilizzanti possono venire aggiunti al rivestimento chiaro oppure sia al rivestimento chiaro che al rivestimento base colorato.
In generale, i composti della presente invenzione vengono impiegati in quantità comprese tra circa 1% e circa 20% in peso riferito al legante che forma pellicola. Un intervallo vantaggioso è compreso tra 1% e 5%; preferibilmente tra 1,5% e 5%.
Le composizioni stabilizzate della presente invenzione così ottenute, eventualmente, possono anche contenere da circa 0,01% fino a circa 5%, preferibilmente da circa 0,025% fino a circa 2% e in particolare da circa 0,1% fino a circa 1% in peso, di diversi' additivi tradizionali, per esempio le sostanze elencate qui di seguito, oppure loro miscele.
Tra le altre composizioni particolarmente interessanti sono comprese quelle che contengono inoltre - una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti scelta dal gruppo costituito dai benzofenoni, benzotriazoli, derivati dell'acido cianacrilico, idrossiaril-s-triazine, composti organici del nichel e ossanilidi.
Sostanze che assorbono i raggi ultravioletti preferite sono scelte dal gruppo costituito da
i-
il-
-
Tra le ulteriori composizioni interessanti sono comprese quelle che contengono inoltre una quantità stabilizzante efficace di un antiossidante fenolico, quelle'che contengono inoltre un derivato di un’ammina dotata di impedimenti sterici; oppure che contengono inoltre uno stabilizzante costituito da un fosfito oppure da un fosfonito.
Tra le composizioni particolarmente interessanti sono comprese inoltre quelle nelle quali il prodotto organico è uno smalto avente un'elevato contenuto di sostanze solide usato per una finitura industriale; esso viene usato come rivestimento a '' spirale viene usato come finitura per legno penetrante oppure viene usato come finitura per legno che forma pellicola.
Quando i composti della presente invenzione contengono un gruppo funzionale reattivo, detti composti possono venire chimicamente legati mediante condensazione oppure mediante una reazione di addizione di radicali liberi al substrato di polimero. Ciò realizza un agente stabilizzante che assorbe i
raggi ultravioletti non sublimabile, che non migra.
Tra tali gruppi funzionali reattivi sono compresi gruppi ossidrilici, carbossilici e gruppi etilenicamente insaturi.
Le composizioni polimere stabilizzate dell'invenzione così ottenute possono contenere eventualmente anche da circa 0,01% fino a circa 5%, preferibilmente da circa 0,025% a circa 2% e in particolare da circa 0,1% a circa 1% in peso di diversi additivi tradizionali, per esempio i prodotti elencati qui di seguito, oppure loro miscele.
1. Antiossidanti
1.1. Monofenoli alchilati, per esempio 2,6-di-terz.-butil-4-metilfenolo , 2-terz.butil-4,6-dimetilfenolo, 2.6-di-terz.butil-4-etilfenolo , 2,6-di-terz.butil-4-n-butilfenolo, 2,6-di-terz.butil-4-i-butilfenolo, 2.6-di-ciclopentil-4-metilfenolo , 2-(c(-metil-cicloesil)-4,6-dimetilfenolo , 2,6-di-ottadecil-4-metilfenolo, 2,4,6-tri-cicloesilfenolo, 2,6-di-terz.butil-4-metossimetilfenolo .
1.2. Idrochinoni alchilati, per esempio 2,6-diterz.butil-4-metossifenolo , 2,5-di-terz.butil-idrochinone, 2,5-di-terz.amil-idrochinone, 2,6-difenil-4-ottadecilossifenolo.
1.3. Tiodifenileterl idrossilati, per esempio 2,2'-tio-bis-(6-terz.butil-4-metilfenolo ), 2,2'-tio-bis-(4-ottilfenolo), 4,4'-tio-bis-(6-terz.butil-3-metilfenolo), 4,4'-tio-bis-(6-terz.butil-2-metilfenolo).
1.4. Alchiliden-bisfenoli, per esempio 2,2'-metilenbis-(6-terz.butil-4-metilfenolo ), 2,2'-metilen-bis-(6-terz.butil-4-etilfenolo ), 2,2'-metilen-bis-f4-metil-6-(o(-metilcicloesil)-fenolo], 2,2'-metilen-bis-(4-metil-6-cicloesilfenolo) , 2,2'-metilen-bis-(6-nonil-4-metilfenolo) , 2,2'-metilen-bis-[6-(Cf-metilbenzil)-4-nonilfenoloJ , 2,2'-metilen-bis|6-{<3⁄4,c(-dimetilbenzil)-4-nonilfenolo! , 2,2'-metilen-bis-(4,6-di-terz.butilfenolo) , 2,2'-etiliden-bis{4,6-di-terz.-butilfenolo), 2,2'-etiliden-bis-(6-terz-butil-4-isobutilfenolo), 4,4-metilen-bis-(2,6-di-terz.butilfenolo), 4,4'-metilen-bis-(6-terz.buti1-2-metilfenolo), 1,l-bis-(5-terz.butil-4-idrossi-2-metil fenil)-butano, 2,6-bis-(3-terz.butil-5-metil-2-idrossibenzil)-4-meti1fenolo, 1,1,3-tris-(5-terz.butil-4-idrossi-2-metilfenil)-, 1 ,l-bis-(5-terz.butil-4-idrossi-2-rnetilfenil)-3-n-dodecilmercaptobutano, etilenglicol-bis-(_3,3-bis-(3'-terz.buti1-4'-idrossifenil)-butirrato} , bis-(3-terz.butil-4-idrossi-5-metil-fenil)-diciclopentadiene , di-f2-(3'-terz.butil-2'-idrossi-5'-metil-benzil )-6-terz.butil-4-metil-fenili-tereftalato.
1.5. Benzilcomposti, per esempio 1,3,5-tris-(3,5-diterz.butil-4-idrossibenzil )-2,4,6-trimetilbenzene, di-(3,5-di-terz.butil-4-idrossibenzil )solfuro, estere isoottilico dell'acido 3,5-di-terz.butil-4-idrossìbenzilmercaptoacetico , bis-{4-terz.butil-3-idrossi-2,6-dimetilbenzil )ditioltereftalato, 1,3,5-tris(3,5-di-terz.butil-4-idrossibenzil )isocianurato,
1.3.5-tris-(4-terz.butil-3-idrossi-2 ,6-dimetilbenzil)isocianurato, estere diottadecilico dell'acido
3.5-di-terz.butil-4-idrossibenzil-fosfonico , sale di calcio del monoetilestere dell'acido 3,5-di-terz.butil-4-id.rossibenzil-fosfonico.
1.6. Acilamminofenoli, per esempio 4-idrossi-anilide dell'acido laurico, 4-idrossi-anilide dell'acido stearico, 2,4-bis-(ottilmercapto)-6-(3,5-di-terz.butil-4-idrossianilino-s-triazina, ottil N-(3,5-di-terz. butil-4-idrossifenil)-carbammato .
1.7. Esteri dell'acido B-(3,5-di-terz.butil-4-idrossifenil)-propionico
con alcoli monoossidrilici o poliossidrilici come
per esempio con
metanolo dietilenglicol ottadecanolo trietilenglicol
1,6-esandiolo pentaeritrite
neopentilglicol tris-idrossietil- isocianurato
tiodietilenglicol diidrossietildiammide dell'acido ossalico 1.8. Esteri dell'acido B-{5-terz.butil-4-idrossi-3-metilfenil)-propionico
con alcoli monoossidrilici o poliossidrici come per esempio con
metanolo dietilenglicol ottadecanolo trietilenglicol
1,6-esandiolo pentaeritrite neopentilglicol tris-idrossietil-isocianurato
tiodietilenglicol diidrossietildiammide dell'acido ossalico.
1.9» Ammidi dell'acido fì-(3,5-di-terz.butil-4-idrossi-fenil)-propionicot come per esempio N,N'-bis-(3,5-di-terz-butil-4-idrossifenilpropionil)-esametilendiammina, Ν,Ν'-bis-(3,5-di-terz-butil-4-idrossifenilpropionil)-trimetilendiammina, Ν,Ν'-bis-(3,5-diterz-butil-4-idrossifenilpropionil)-idrazina.
2. Agenti che assorbono la luce UV e agenti fotostabilizzanti
2.1. 2-(21-idrossifenil)-benzotriazoti, come per
z.
5'-
-
2.2. 2-idrossibenzofenoni, come per esempio il 4idrossi-, 4-metossi-, 4-ottossi-, 4-decilossi-, 4-dodecilossi-, 4-benzilossi-, 4,2',4'-triidrossi-, e 2'-idrossi-4,4 '-dimetossi-derivato.
2.3. Esteri di acidi benzoici eventualmente sostituiti, per esempio fenilsalicilato, 4-terz.butil-fenilsalicilato, ottilfenil-salicilato, dibenzoilresorcinolo, bis-(4-terz.butilbenzoil )-resorcinolo, benzoilresorcinolo, estere 2,4-di-terz.butilfenilico dell'acido 3,5-di-terz.butil-4-idrossibenzoico, estere esadecilico dell'acido 3,5-di-terz.butil-4-idrossibenzoico.
2.4. Acrilati, come per esempio estere etilico oppure estere isoottilico dell’acido
acrilico, estere metilico dell'acido
cinnamico, estere metilico oppure estere butilico dell'acido
estere metilico dell'acido
cinnamico,
indolina.
2.5. Composti del nichel, come per esempio complessi del nichel del
butil)-fenolo3 i come il complesso 1:1 oppure il complesso 1:2, eventualmente con ulteriori ligandi, come n-butilammina, trietanolammina oppure N-cicloesildietanolammina, dibutilditiocarbammato di nichel, sali del nichel di esteri monoalchilici dell'acido
4-idrossi-3,5-di-terz .butilbenzilfosfonico, come dell'estere metilico, etilico, oppure butilico complessi con il nichel di chetossime, come della 2-idrossi-4-metilfenil-undecilchetossima, complessi
con il nichel dell'l-fenil-4-lauroil-5-idrossipirazolo eventualmente con ulteriori ligandi.
2.6. Ammine dotate di impedimento sterico, per
esempio bis-(2,2,6,6-tetrametil-piperidil)-sebacato^
bis-(1,2,2,'6,6-pentametilpiperidil)-sebacato,
bis(1,2,2,6,6-pentametilpiperidil )-estere dell'acido
n-butil-3,5-di-terz-butil-4-idrossibenzil maionico, prodotto di condensazione ottenuto da l-idrossietil-2,2,6,6-tetrametil-4-idrossipiperidina e dall’acido succinico, prodotto di condensazione ottenuto da Ν,Ν'-bis-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil )-esametilendiammina e dalla 4-terz-ottilammino-2,6-dicloro-l,3,5-striazina, tris-(2,2,6,6-tetrametil-4-piperidil)-nitrilotriacetato, tetrakis-(2,2,6,6-tetrameti1-4-piperidil)-1,2,3, 1,1'-(1,2-etandiil)-bis-{3,3,5,5-tetrametilpiperazinone ).
2.7. Diammidi dell'acido ossalico, come per esempio
4,4’-di-ottilossi-ossanilide , 2,2'-di-ottilossi-5,5’-di-terz-butil-ossanilide , 2,2'-di-dodecilossi-5,5'-di-terz-butil-ossanilide , 2-etossi-2'-etil-ossanilide, Ν,Ν'-bis-(3-dimetilamminopropil)-ossalammide , 2-etossi-5-terz-butil-2'-etilossanilide e una sua miscela con 2-etossi-2'-etil-5,4'-di-terz-butil-ossanilide, miscele di ossanilidi orto- e para-metossi e anche o- e p-etossi-di-sostituite.
2.8. Idrossifenil-s-triazine, per esempio, 2,6-bis-
j
3. Disattivatori di metalli, come per esempio Ν,Ν'-difenil-diammide dell'acido ossalico, N-salicilal-N'-saliciloil-idrazina, Ν,Ν'-bis-(saliciloil)-idrazina , N,N'-bis-{3,5-di-terz-butil-4-idrossifenilpropionil )-idrazina, 3-saliciloilammino-l,2,4-tria
zolo , diidrazide dell'acido bis-(benziliden)-ossalico .
4. Fosfiti e fosfoniti, come per esempio trifenilfosfito, difenilalchilfosfiti, fenildialchilfosfiti, tris-(nonìlfenil)-fosfito, trilaurilfosfito, triottadecilfosfito , distearil-pentaeritrite difosfito, tris-(2,4-di-terz-butilfenil )-fosfito, diisodeci1-pentaeritrite-difosfito, bis-(2,4-di-terz-butilfenil)-pentaeritritolo difosfito, tristearil-sorbitolotrifosfito, tetrakis-(2,4-di-terz-butilfenil)-4,4'-bifenilen-difosfonito .
5. Composti che distruggono i perossidi, come per esempio esteri dell'acido β-tio-dipropionico, per esempio l'estere laurilico, stearilico, miristilico oppure tridecilico, mercaptobenzimmidazolo, il sale di zinco del 2-mercaptobenzimmidazolo, dibutilditiocarbammato di zinco, diottadecil-disolfuro, pentaeritritolo-tetrakis-(β-dodecilmercapto )-propionato.
6. Idrossilammine, per esempio Ν,Ν-dibenzilidrossilammina, Ν,Ν-dietilidrossilammina, N,N-diottilidrossilammina, Ν,Ν-dilaurilidrossilammina, N,N-ditetradecilidrossilammina, N,N-diesadecilidrossilammina, M,N-diottadecilidrossilammina, N-esadecil-N-ottadecil-idrossilammina, N-eptadecil-N-ottadecilidrossilammina, Ν,Ν-dialchilidrossilammina ottenuta da ammina grassa del sego idrogenata.
7. Nitroni, per esempio N-benzil-alfa-fenil-nitrone, N-etil-alfa-metil-nitrone , N-ottil-alfa-eptil-nitrone, N-lauril-alfa-undecil-nitrone, N-tetradecilalfa-tridecil-nitrone , N-esadecil-alfa-pentadecil-nitrone, N-ottadecil-alfa-eptadecil-nitrone, N-esadecil-alfa-eptadecil-nitrone . N-ottadecil-alfa-pentadecil-nitrone, N-eptadecil-alfa-eptadecil-nitrone, N-ottadecil-alfa-esadecil-nitrone, nitrone derivato da N,N-dialchilidrossilammine preparate da ammina grassa del sego idrogenata.
8. Agenti stabilizzanti di poliammidi, per esempio sali di rame in combinazione con ioduri e/o con composti del fosforo e sali del manganese bivalente. 9. Agenti co-stabilizzanti basici, per esempio melammina, polivinilpirrolidone, diciandiammide, triallilcianurato, derivati dell'urea, derivati della idrazina, aminine, poliammidi, poliuretani, sali di metalli alcalini e di metalli alcalino-terrosi di acidi grassi superiori, per esempio stearato di calcio, stearato di zinco, stearato di magnesio, ricinoleato di sodio, palmitato di potassio, pirocatechinato di antimonio oppure pirocatechinato di stagno.
10. Agenti di nucleazione, per esempio acido 4-tertbutilbenzoico , acido adipico, acido difenilacetico.
11. Cariche e agenti di rinforzo, come per esempio carbonato di calcio, silicati, fibre di vetro, amianto, talco, caolino, mica, solfato di bario, ossidi e idrossidi di metalli, nero-fumo, grafite.
12. Altri additivi, come per esempio plastificanti, lubrificanti, emulsionanti, pigmenti, agenti sbiancanti ottici, agenti di protezione nei confronti della fiamma, antistatici, agenti di rigonfiamento, e composti tiosinergici come dilauriltiodipropionato oppure disteariltiodipropionato.
L'antiossidante fenolico di particolare interesse è scelto dal gruppo costituito da n-ottadecil 3 ,5-di-ter-butil-4-idrossiidrocinnamato, neopentantetrai1 tetrakis(3,5-di-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamato), di-n-ottadecil 3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzilfos fonato, l,3,5-tris(3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzil )isocianurato, tiodietilene bis(3,5-diter .-butil-4-idrossiidrocinnamato), 1,3,5-trimetil-2,4, 6-tris(3,5-di-ter.-buti1-4-idrossibenzil)benzene , 3,6-diossaottametilene bis(3-metil-5-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamato ), 2,6-di-ter.-butil-p-cresolo, 2,2'-etilidene-bis(4,6-di-ter.-butilfenolo), 1,3,5-tris( 2,6-dimetil-4-ter.-butil-3-idrossibenzil)isocianurato, 1,1,3-tris(2-metil-4-idrossi-5-ter.-butilfenil)butano, 1,3,5—trisf2—(3,5-di-ter.-butil-4idrossiidrocinnamoilossi )etiljisocianurato, 3,5-di-(3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzil )mesitolo, esametilene bis(3,5-di-ter.-buti1-4-idrossiidrocinnamato), 1—(3,5-di-ter.-butil-4-idrossianilino)-3,5-di(ottiltio)-s-triazina, Ν,Ν'-esametilene-bis(3,5-di-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamammide ), calcio bis(etil 3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzilfosfonato ), etilene bis[3,3-di(3-ter .-butil-4-idrossifenil)butirratol, ottil 3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzilmercaptoacetato, bis(3,5-di-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamoil) idrazide, e N,N’-bis[2-(3,5-di-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamoilossi )-etilJ-ossammide.
Un antiossidante fenolico più preferito è neopentantetrail tetrachis(3,5-di-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamato) , n-ottadecil 3,5-di-ter.-butil-4-idrossiidrocinnamato , l,3,5-trimetil-2,4,6-tris(3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzil )benzene, l,3,5-tris(3,5-di-ter.-butil-4-idrossibenzil )-isocianurato, 2,6-diter.-butil-p-cresolo oppure 2,2'-etilidene-bis(4,6-diter.-butilfenolo).
Il composto amraina con impedimento eterico particolarmente interessante è scelto dal gruppo costituito da bis(2,2,6,6-tetrametilpiper.idin-4-il) sebacato, bis(l,2,2,6,6-pentametilpìperidin-4-il) sebacato, di(1,2,2,6,6-pentametilpiperidin-4-il) (3,5-di-ter.-butil-4-.idrossibenzilJbutilmalonato,
4-benzoil-2,2,6,6-tetrametilpiperidina , 4-stearilossi-2,2,6,6-tetrametilpiperidina, 3-n-ottil-7,7,9,9-tetrametil-1,3,8-triaza-spiro [4.5jdecan-2,4-dione,
tris(2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il )nitrilotriacetato, 1,2-bis(2,2,6,6-tetrametil-3-ossopiperazin-4-il)etano, 2,2,4,4-tetrametil-7-ossa-3,20-diaza-2lossodispiro[5.1.11.2} eneicosano, prodotto di policondensazione di 2,4-dicloro-6-ter-ottilammino-striazina e 4,4'-esametilenbis(ammino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina), prodotto di policondensazione di
1—(2-idrossietil)-2,2,6,6-tetrametil-4-idrossipiperidina e acido succinico, prodotto di policondensazione di 4,4'-esametilenbis-(ammino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina) e 1,2-dibromoetano, tetrakis(2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il ) 1,2,3,4-butantetracarbossilato, tetrakis(1,2,2,6,6-pentametilpiperidin-4-il )1,2,3,4-butantetracarbossilato , prodotto di policondensazione di 2,4-dicloro-6-morfolino-s-triazina e 4,4'-esametilenbis(ammino-2 ,2,6,6-tetrametilpiperidina), N,N',N",N"'-tetrakisf(4,6-bis(butil-2,2, 6,6-tetrametil-piperidin-4-il)-ammino-s-triazin-2-ilJ-1 ,iodiammino-4,7-di-azadecano , ["2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-11/β,β ,p,',β' -tetrametil-3,9-(2,4,8,10-tetraossaspiro[5. -undecano Jdietil^1,2,3,4-butantetracarbossilato misto, [l , 2 , 2 , 6, 6-pentametil-piperidin-4-il/ -tetrametil-3 , 9- ( 2 , 4 , 8 , 10- te traossaspiro [j> .5j undecano ) dietill 1 , 2 , 3, 4-butantetracarbossilato misto, ottametilene bis( 2 , 2 , 6 , 6-tetrametilpiperidin-4-carbossilato) , 4,4'-etilenbis(2,2,6, 6-tetrametilpiperazin-3-one ) , N-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidin-4-il-n-
peridin-4-il-n-dodecilsuccinimmide , l-acetil-3-dodecil-7,7,9, 9- te trame ti 1-1 , 3, 8-triazaspiro f4. 5] decan-2 ,4-dione , di-( l-ottilossi-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidin-4- il }sebacato , di-(l-cicloesilossi-2,2,6, 6-te trame ti 1-piperidin-4-il ) succinato , l-ottilossi-2 , 2, 6, 6-tetrametil-4-idrossi-piperidina, poli-^ [6-ter-ottilammino-s-triazin-2 , 4-diill £2-( l-cicloesilossi-2 ,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il ) immino-esarnetilene-1 4-( l-cicloesilossi-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidin-4-il ) imminol , 2,4, 6-tris[N-( l-cicloesilossi-2 , 2 , 6, 6-tetrametilpiperidin-4-il) -n-butilammino"ì -s-triazina , 2 , 4-bis £N-( l-cicloesilossi-2 ,2,6, 6-tetrametilpiperidin-4-il ) -nbutilamminoj -6-£di-(2-idrossietil) amminoj - s-triazina, e 2 , 4-bisfN-( l-ottilossi-2, 2, 6, 6-tetrametilpiperidin-4-il )-n-butilammino3 -6- Qii-( 2-idrossie ti 1 ) animino] -striazina.
Un composto costituito da un'ammina con impedimenti sterici più preferito è bis( 2 , 2 , 6, 6-tetrametilpiperidin-4-il)sebacato , bis(l,2,2,6,6-pentametilpiperidin-4-il)sebacato , - —
di{1 ,2,2,6,6-pentametilpiperidin-4-il)(3 ,5-di-ter-butil-4-idrossibenzil)butilmalonato, il prodotto di policondensazione
di l-(2-idrossietil)-2,2,G,6-tetrametil-4-idrossipiperidina e acido succinico il prodotto di policondensazione di 2,4-dicloro-6-ter-ottilammino-s-triazinà
e di 4,4'-esametilenbis(ammino-2,2,6,6-tetrametilpiperidina), N,Ν',ΓΓ',NM1-tetrakisf(4,6-bis(butil-(2,2,G,6-tetrametil-piperidin-4-il)ammino )-s-triazina-2-ilJ-1,10-diammino-4,7-diazadecano , di-(l-ottilossi-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)sebacato , di-(1-cicloesilossi-2.2,G,6-tetrametilpiperidin-4-il )succinato, 1-ottitossi-2,2,6,G-tetrametil-4-idrossi-piperidina, poli-|[6-ter-ottilammino-s-triazin-2 ,4-diilJ [2-(1-cicloesilossi-2.2,G,6-tetrametilpiperidin-4-il )immino-esametilen-[4—(l-cicloesilossi-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il) imminq], oppure 2,4,6-trisfN-(l-cicloesilossi-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)-n-butilammino^-s-triazina.
I benzotriazoli usati nella presente invenzione possono venire preparati secondo metodi tradizionali e noti. Esempi di tali metodi sono riportati negli Esempi di Preparazione 1-9. La modificazione cristallina particolarmente preferita del
2-(2-idros3i-3-oj-cumil-5-ter.-ottilfenil)-2H-benzotriazolo che fonde nell'intervallo di 109-111°C e che ha un diagramma di diffrazione di raggi-X ottenuto usando una radiazione Cu-Kd(.che presenta angoli di diffrazione 20) come riportato qui di seguito:
può venire ottenuta sciogliendo detto composto in un solvente aromatico e facendo precipitare il composto mediante l'aggiunta di un alcanolo inferiore: oppure cristallizzando o ricristallizzando il composto da un alcanolo inferiore da solo oppure insieme con una minore quantità di un solvente aromatico.
Preferibilmente, il procedimento consiste nel cristallizzare o ricristalllzzare detto composto da un alcanolo avente da 1 a 4 atomi di carbonio, da solo oppure insieme con una minore quantità di un solvente aromatico.
Solventi aromatici che possono venire usati nel procedimento di cui sopra sono, per esemplo, toluene oppure xilene. Quando si usa una quantità minore, tale quantità minore può essere per esempio fino a 1596 oppure preferibilmente può essere compresa tra 5 e 1596 in volume rispetto al volume totale del solvente usato.
Alcuni alcanoli utili nel procedimento della presente invenzione sono, per esemplo, metanolo, etanolo, n-propanolo, isopropanolo, 1-butanolo, alcol sec.-butilico oppure alcol isobutilico. Preferibilmente, l'alcanolo è un alcanolo avente 2, 3 oppure 4 atomi di carbonio; nel modo più preferibile, l'alcanolo è isopropanolo oppure 1-butanolo.
Ancora un altro aspetto della presente invenzione è l'impiego dei composti della presente invenzione di formula I in materiali per registrazione. I materiali per registrazione secondo l'invenzione sono adatti per sistemi di copiatura sensibili alla pressione, sistemi di fotocopiatura nei quali si impiegano microcapsule, sistemi di copiatura termosensibili, materiali fotografici e stampa a getto di inchiostro.
I prodotti di registrazione secondo l'invenzione sono caratterizzati da un inaspettato miglioramento di qualità, in particolare per ciò che riguarda la resistenza alla luce.
I materiali di registrazione secondo l'invenzione hanno la struttura nota per il particolare impiego. Essi sono costituiti da un supporto usuale, per esempio carta oppure una pellicola di materia plastica, che è stata rivestita con uno o più strati. A seconda del tipo del materiale, questi strati contengono gli opportuni componenti necessari, nel caso di materiali fotografici, per esempio, emulsioni di alogenuro d'argento, copulanti per coloranti, coloranti e simili. Un materiale particolarmente adatto per la stampa a getto di inchiostro ha uno strato particolarmente assorbente per l'inchiostro su un supporto usuale. Per una stampa a getto di inchiostro si può impiegare anche carta non rivestita. In questo caso, la carta agisce contemporaneamente come materiale di supporto e come strato assorbente dell'inchiostro. Un materiale adatto per la stampa a getto di inchiostro è descritto, per esempio, nel brevetto U.S. N° 5,073,448 (qui riportato come riferimento).
II materiale di registrazione può anche essere trasparente, per esempio, nel caso di pellicole di proiezione.
Si possono introdurre i composti di formula I nel materiale di supporto appena inizia la produzione di quest'ultimo, nella produzione della carta, per esempio, mediante aggiunta alla pasta per la produzione della carta. Un secondo metodo di applicacazione consiste nel spruzzare il materiale di supporto con una soluzione acquosa di composti di formula I oppure aggiungere i composti di formula I alla composizione di rivestimento.
Composizioni di rivestimento destinate a materiali di registrazione trasparenti, adatte per la proiezione, non possono contenere particelle che diffondano la luce, per esempio pigmenti e cariche.
La composizione di rivestimento che fissa il colorante può contenere numerosi altri additivi, per esempio antiossidanti, fotostabilizzanti (ivi compresi prodotti che assorbono i raggi ultravioletti che non appartengono alle sostanze che assorbono i raggi ultravioletti secondo l’invenzione), sostanze che fanno migliorare la viscosità, brillantanti fluorescenti, biocidi e/o agenti antistatici.
La composizione di rivestimento, usualmente, viene preparata nel modo seguente: i componenti idrosolubili, per esemplo, l'agente legante, vengono sciolti In acqua sotto agitazione. I componenti solidi, per esempio, cariche ed altri additivi già descritti, vengono posti in dispersione in questo mezzo acquoso. Vantaggiosamente, si effettua la dispersione usando dispositivi come per esempio apparecchi ad ultrasuoni, agitatori a turbina, omogeneizzatori, mulini colloidali, mulini a perle, mulini a sabbia, agitatori ad elevata velocità e simili. Un particolare vantaggio dei composti di formula I è costituito dal fatto che essi possono venire introdotti facilmente nella composizione di rivestimento.
Il materiale di registrazione secondo questa
2 invenzione, preferibilmente, contiene da 1 a 5.000 mg/m ,
2
in particolare da 50 a 1200 mg/m , di un composto
di formula I.
Come già indicato, i materiali di registrazione secondo l'invenzione sono situati in un ampio settore. I composti di formula I, per esempio, possono venire impiegati in sistemi di copiatura sensibili alla pressione. Essi possono venire introdotti nella carta allo scopo di proteggere dalla
luce i precursori dioolfiraTti microincapsulati, oppure possono venire introdotti nell'agente legante dello strato sviluppatore allo scopo di proteggere i coloranti Ivi formati.
Sistemi di fotocopiatura nei quali si usano microcapsule fotosensibili che vengono sviluppate per mezzo di pressione sono descritti nei brevetti U.S. N°4,416,966; 4,483,912; 4,352,200; 4,535,050;
4,5365,463; 4,551,407; 4,562,137 e 4,608,330, anche in EP-A 139,479; EP-A 162,664; EP-A-164,931; EP-A-237,024; EP-A-237,025 oppure in EP-A 260,129. In tutti questi sistemi, i composti di formula I possono venire introdotti nello strato che riceve il colorante. I composti di formula I, tuttavia, possono anche venire introdotti nello strato donatore allo scopo di proteggere gli agenti di formazione del colore dalla luce.
Materiali fotografici che possono venire stabilizzati sono coloranti fotografici e strati contenenti tali coloranti oppure loro precursori, per esempio, carta fotografica e pellicole. Adatti materiali sono, per esempio, descritti nel brevetto U.S. N“ 5,364,749 (qui riportato come riferimento). I composti di formula I agiscono in questo caso come filtro UV contro "flash" elettrostatici.in materiali fotografici colorati, i copulanti e i coloranti vengono protetti anche contro una decomposizione fotochimica.
I composti aventi la formula I possono venire usati per tutti i tipi di materiali fotografici a colori. Per esempio· essi possono venire impiegati per carta colorata, carta ad inversione di colore, materiale colorato positivo-diretto, pellicola negativa colorata, pellicola positiva colorata, pel- ' licola inversa colorata, ecc. Preferibilmente, essi vengono impiegati, tra l'altro, per un materiale colorato fotografico che contiene un substrato inverso oppure che forma positive.
I materiali di registrazione fotografica a colori, usualmente, contengono, su un supporto,
uno strato di emulsione di alogenuro d'argento sensibile al blu e/o sensibile al verde e/o sensibile al rosso e, se si desidera, uno strato di protezione, 1 composti di formula I, preferibilmente, essendo situati nello strato sensìbile al verde oppure nello strato sensibile al rosso oppure in uno strato situato tra lo strato sensibile al verde e lo strato sensibile al rosso oppure in uno strato situato sulla parte superiore degli strati di emulsione di alogenuro d'argento.
I composti di fòrmula I possono anche venire impiegati in materiali di registrazione sulla base dei principi di fotopolimerizzazione, fotoplastificazione oppure rottura di microcapsule, oppure in casi nei quali si usano sali di diazonio termo-sensibili e foto-sensibili, leuco-coloranti aventi un agente ossidante oppure lattoni di coloranti contenenti acidi di Lewis.
Inoltre, essi possono venire impiegati in materiali di registrazione per la stampa di trasferimento a diffusione di colorante, per la stampa di trasferimento di cera termica e per la stampa di matrice "dot" e per l'impiego con stampanti elettrostatiche, elettrografiche, elettroforetiche, magnetografiche e stampanti laser-elettrofotografiche e registratori di grafici a penna. Tra i materiali di registrazione di cui sopra, si preferiscono materiali di registrazione per stampa di trasferimento di diffusione di colorante, come descritto per esempio in EP-A-507,734.
I composti di formula I possono anche venire impiegati in inchiostri, preferibilmente per la stampa a getto di inchiostro, per esempio, come descritto ulteriormente nel brevetto U.S. N°5,098,477 (qui riportato come riferimento). Un ulteriore oggetto della presente invenzione è, pertanto, un inchiostro contenente almeno un composto avente la formula I, come stabilizzante. L'inchiostro, in particolare per la stampa a getto di inchiostro, preferibilmente, contiene acqua. Inoltre, si preferiscono inchiostri contenenti lo stabilizzante di formula I in una concentrazione di 0,01-20% in peso, in particolare di 0,5-10% in peso.
I diagrammi di diffrazione dei raggi-X vengono registrati su un apparecchio diffrattometro dei raggi-X Philips Norelco usando radiazione Cu-Kofcon un filtro di nichel. Tutti i campioni hanno particelle aventi un diametro uniforme compreso tra 40 micron e 75 micron. Questa è la medesima distribuzione di diametri delle particelle ottenuta con il composto delle tecniche precedenti dell'Esempio 2.
Gli esempi che seguono vengono presentati a scopo unicamente illustrativo e non devono venire intesi nel senso di limitare la natura oppure l'ambito della presente invenzione in qualsiasi modo. Esempi di Preparazione 1-9
Esempio 1: 2-(2-idrossi-3-o(-cumil-5-ter.-ottilfenil)-2H-benzotriazolo.
In un pallone a 3 colli da 5 litri dotato di agitatore, termometro, condensatore a riflusso e tubo di ingresso di azoto si introducono 380 g (0,8 moli) di 2-nitro-2'-idrossi-3' -c(,c(-dimetilbenzil-5'-ter.-ottilazobenzene e 1200 mi di toluene. Alla soluzione ottenuta sì aggiungono 240 mi di isopropanolo e 240 mi di acqua. Si applica un'atmosfera di azoto e si aggiungono 160 mi di soluzione acquosa di idrossido di sodio al 50,1%. Un matraccio contenente 158,2 g (2,42 grammoatomi) di zinco viene collegato al pallone di reazione e la polvere di zinco viene aggiunta a porzioni alla miscela di reazione in un periodo di 90 minuti. Si mantiene la temperatura interna tra 40°C e 45°C durante l'aggiunta e ancora per 1 ora e quindi si riscalda la miscela per 3 ore a 70°C. Si raffredda la miscela a temperatura ambiente e la si acidifica con 600 mi di acido cloridrico concentrato. Si separa la sospensione di zinco mediante filtrazione. Il prodotto è contenuto nello stato organico che viene lavato con 4 porzioni da 340 mi di acido cloridrico diluito e quindi viene anidrificato su solfato di sodio anidro. Il solvente organico viene allontanato sotto vuoto ottenendo cosi un prodotto grezzo sotto forma di uno sciroppo viscoso.
Si scioglie un campione da 300 g del prodotto grezzo in 300 mi di xilene. A questa soluzione si aggiungono quindi sotto agitazione 600 mi di etanolo ottenendo così 254 g della nuova modificazione cristallina solubile del composto di formula I avente un punto di fusione di 109-111°C; e che presenta soltanto una macchia nella cromatografia su strato sottile.
Analisi:
Questo prodotto ha un diagramma di diffrazione ai raggi-X ottenuto usando la radiazione Cu-Kc( che presenta angoli di diffrazione (20) come riportati qui di seguito:
Esempio 2: Forma amorfa di 2-(2-idrossi-3-fl(-cumil-5-ter .—ottilfenil)—2H—benzotriazolo.
Si riscalda un composto preparato nell'Esempio 1 fino a fusione e quindi si lascia risolidificare. Il prodotto amorfo ottenuto ha un punto di fusione di 59-74°C. La cromatografia in strato sottile presenta una macchia identica a quella ottenuta dal prodotto dell'Esempio 1.
La diffrazione dei raggi-X mostra un diagramma atipico che conferma la natura amorfa del composto ottenuto in questo esempio.
Esempio 3: 2-(2-idrossi-3-of-cumil-5-nonilfenil)-2H-benzotriazolo .
Si prepara il composto del titolo secondo il procedimento generale dell'Esempio 1, sotto forma di una resina di colore ambra, però nella quale si effettua la riduzione del corrispondente intermedio o-nitroazobenzene effettuando un'idrogenazione catalitica.
Analisi :
Si prepara il composto del titolo mediante idrogenazione catalitica del composto o-nitroazobenzene usato nell'Esempio 1 sotto forma di un solido di colore biancastro. Si ricristallizza un campione da 100 g di detto solido da 100 mi di isopropanolo, nuovamente da 100 mi di isopropanolo:toluene 19:1 e, alla fine, da 100 mi di isopropanolo:toluene 9:1 ottenendo così 78 g del composto del titolo che fonde a 109-111°C e che ha la medesima modificazione cristallina e il medesimo diagramma di diffrazione dei raggi-X del composto preparato nell’Esempio 1.
Esemplo 5: 2-(2-idrossi-3-c(-cumil-5-nonilfenil)-2H-benzotriazolo.
Si prepara il composto del titolo secondo il procedimento generale dell'Esempio 1, sotto forma di una resina di colore ambra.
Esempio 6: 2-(2-idrossi-3-c(-cumil-5-dodecilfenil)-2H-benzotriazolo.
Si prepara il composto del titolo secondo il procedimento generale dell'Esempio 1 sotto forma di una resina di colore ambra.
H-NMR dati in
singoletti; 1,9 singoletti; 7,14-7,30 complesso;
7,44 complesso; 7,48-7,64 doppietti meta; 7,86 complesso; 8,20-8,34 doppietti meta; 11,38-11,46 singoletto; i dati concordano con il composto del titolo.
Esempio 7: 2-(2-idrossi-3-e{-cumil-5-dodecilfenil)-2H-benzotriazolo.
Si prepara il composto del titolo secondo il procedimento generale dell'Esempio 1 sotto forma di una resina di colore ambra, però nella quale si effettua la riduzione del corrispondente composto o-nitroazobenzene effettuando un'idrogenazione catalitica.
Esempi 8 e 9;
Seguendo il procedimento generale degli Esempi 1 e 4, si preparano i seguenti composti di formula
•Esempio ^_R
Esempio 10: Solubilità in solventi organici
Allo scopo di introdurre un agente stabilizzante che assorbe i raggi ultravioletti nei sistemi di resina acrilica termoinduriti aventi un elevato contenuto di sostanze solide, la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti deve essere solubile in un opportuno solvente organico. Solventi attualmente impiegati per esempio gli idrocarburi aromatici, toluene oppure xilene, hanno realizzato un'ampia solubilità per tali sostanze che assorbono i raggi ultravioletti, persino il 2-(2-idrossi-3,5-di-o(-cumilfenil)-2H-benzotriazolò scarsamente solubile.
Tuttavia, la possibile eliminazione di tali solventi costituiti da idrocarburi aromatici per ragioni ambientali, la tendenza verso rivestimenti aventi un elevato contenuto di sostanze solide e i crescenti requisiti dell'industria automobilistica per realizzare rivestimenti per autoveicoli che durino fino a 10 anni, significa che verrà richiesto un prodotto assorbente dei raggi ultravioletti più solubile, non volatile, però altrettanto efficace.
Inoltre, il prodotto che assorbe i raggi ultravioletti deve essere solubile in un solvente compatibile con l'ambiente.
Si misura la solubilità relativa di cinque differenti sostanze che assorbono raggi ultravioletti costituite da benzotriazoli in sette tipici solventi organici sciogliendo la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti benzotriazolo in 50-100 mi di sette differenti solventi fino a che le soluzioni diventano sovrasature. Si mette in evidenza ciò quando il benzotriazolo incomincia a sedimentare sul fondo del matraccio usato per la prova.
Si lasciano a sè le soluzioni sovrasature durante la notte. Quindi, si decanta lo strato superiore e lo si filtra. Si esamina il filtrato ottenuto che contiene il benzotriazolo sciolto nel solvente in un'analisi effettuata in triplo per determinare la percentuale di sostanze solide adottando il metodo
di prova ASTM D 2369-81. Una percentuale di prodotti solidi più elevata trovata indica un benzotriazolo
più solubile. I risultati sono riportati nella Tabella che segue.
Solubilità in grammi/100 di solvente*
Solvente A B C
xilene 14 76 > 50 > 50
butil acetato 33 > 50 > 50
metil amil chetone 33 > 50 > 50
acetone n.d n.d. > 50 > 50 EXXATE 22 > 50 > 50
PM acetato 14 > 50 > 50
PM solvente n.d n.d. n.d
* A è il 2-(2-idrossi-3,5-di-c(-cumilfenil)-2H-benzotriazolo (per confronto) B è il composto dell'Esempio 4.
C è il composto dell'Esempio 3.
D è il composto dell’Esempio 7.
EXXATE ^ 600 è esil-acetato acquistato dallaExxon.
PM acetato è l-metossi-2-propil acetato
PM solvente è l-metossi-2-propanolo.
Lo xilene è attualmente un solvente soggetto a regolazioni e è elencato come solvente del gruppo dei solventi HAP (Hazardous Air Pollutant).
Come tale, lo xilene sta uscendo rapidamente dall'uso come solvente per tutti i tipi di rivestimenti e un opportuno prodotto sostitutivo del solvente sta diventando prescritto.
Gli altri solventi elencati nella tabella di cui sopra non costituiscono usualmente un obiettivo per la regolazione o la rimozione e stanno diventando più comuni nell'industria dei rivestimenti.
La recente tendenza nell'industria dei rivestimenti è verso rivestimenti aventi un elevato contenuto di sostanze solide, e ciò significa anche una minore quantità di solvente per sciogliere la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti. La necessità di una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti non volatile:, più solubile, è evidente al massimo grado.
Un esame dei dati nella tabella mostra che la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti A è chiaramente meno solubile, in ciascuno dei solventi, rispetto alle sostanze che assorbono i raggi ultravioletti B-D. In effetti, la solubilità della sostanzache assorbe i raggi ultravioletti A in qualsiasi solvente diverso da xilene essenzialmente lo rende un prodotto da non considerare come stabilizzante per l’uso pratico nei nuovi rivestimenti per autoveicoli di lunga durata, tenuto conto delle limitazioni indicate sopra.
Le sostanze che assorbono i raggi ultravioletti B-D hanno anch'esse l'eccellente proprietà di non essere volatili presentata dalla sostanza che assorte " i raggi ultravioletti A. Questa combinazione di caratteristiche rende le sostanze che assorbono i raggi ultravioletti B-D primi prodotti candidati per un impiego in rivestimenti aventi un elevato contenuto in sostanze solide, per autoveicoli, a lungo termine.
Esemplo 11
La modificazione amorfa del 2-{2-idrossi-3-e{-cumil-5-ter .-ottilfenil)-2H-benzotriazolo preparata nell'Esempio 2 presenta essenzialmente i medesimi parametri di solubilità nei diversi solventi indicati nell'Esempio 10 per la nuova modificazione cristallina del 2-(2-idrossi-3-o(-cumil-5-ter.-ottilfenil)-2H-benzotriazolo preparato nell’Esempio 1 oppure nell'Esempio 4, tranne che la forma amorfa del 2-(2-idrossi-3-o(-cumil-5-ter.-ottilfenil)-2H-benzotriazolo si scioglie molto più facilmente e rapidamente nei solventi non-HAPS. Ciò costituisce
un netto vantaggio per l'impiego del composto amorfo dell'Esempio 2 in applicazioni pratiche.
Esempio 12
Conservazione di lucentezza di rivestimenti
chiari acrilici termoindurenti aventi un elevato contenuto in sostanze solide che contengono sostanze
che assorbono i raggi ultravioletti applicati direttamente su un rivestimento di base metallizzato e su un fondo di elettro-rivestimento.
Si preparano panelli . rivestiti mediante applicazione a spruzzo di una pellicola avente uno spessore di 1,8-2,0 mil (0,072-0,102 mm) di un rivestimento chiaro diinaresinarrelaimina acrilica termoirrtiHta .. avente un elevato contenuto in sostanze solide, che corrisponde al modello HAPS, contenente
2% in peso di uno stabilizzante sperimentale al di
sopra di un rivestimento di base metallico argentato reperibile in commercio, umido-su-umido, direttamente su parsili - di UNIPRIME da 10,16 cm x 30,48 cm
(4" x 12") ottenuti dalla Advanced Coating Technology, Ine. contenenti un fondo di elettro-rivestimento. I pennelli rivestiti vengono quindi sottoposti a cottura
a 121°C (250°F) per 30 minuti. Ipanelli rivestiti vengono quindi esposti in un apparecchio Ci-65 Weather-0meter (Atlas Electric Devices) secondo ASTM G 26-90. Si misura la lucentezza deipanelli esposti ad intervalli di 300 ore. Una lucentezza più elevata indica una maggiore protezione realizzata al rivestimento per effetto della sostanza che assorbe i raggi ultravioletti benzotriazolo solubile.
I composti di formula 1 solubili della presente invenzione mettono a disposizione i rivestimenti dotati di una buona conservazione della lucentezza.
In effetti, poiché nel rivestimento si può incorporare opportunamente una concentrazione molto più elevata di benzotriazolo solubile, i benzotriazoli solubili mettono a disposizione una ritenzione della lucentezza, per il sistema di rivestimento acrilico termoindurente ad elevato contenuto in sostanze solide, molto superiore a quella ottenuta nel caso in cui sia possibile soltanto una quantità limitata di benzotriazolo, a causa delle limitazioni di solubilità.
Esemplo 13
Ritenzione di lucentezza di rivestimenti chiari acrilici termoindurenti aventi un elevato contenuto di sostanze solide che contengono sostanze che assorbono raggi ultravioletti applicati direttamente al di sopra di un rivestimento di base metallico argentato e di un fondo di elettrorivestimento.
Pannelli rivestiti preparati come è descritto nell'Esempio 12 vengono esposti anch'essi in un apparecchio di esposizione QUV (Q Panel Co.) secondo ASTM G 53. Anche in questo caso, la lucentezza 20° è una misura effettuata ad intervalli di 300 ore, i valori di lucentezza più elevati indicando una maggiore protezione del rivestimento.
I composti solubili della presente invenzione di formula I mettono a disposizione rivestimenti aventi una buona ritenzione della lucentezza.
In effetti, poiché si può opportunamente incorporare nel rivestimento una quantità molto più elevata di un benzotriazolo solubile, i benzotriazoli solubili mettono a disposizione una ritenzione di lucentezza per il sistema di rivestimento acrilico termoindurente avente un elevato contenuto in sostanze solide molto superiore a quella ottenuta nel caso in cui è possibile una limitata quantità di benzotriazolo a causa delle limitazioni di solubilità.
In effetti, panelli stabilizzati con una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti costituita da un benzotriazolo solubile di formula I presentano una ritenzione di lucentezza almeno a 50% dopo
3000 ore nel dispositivo di esposizione QUV.
Esempio 14
Ritenzione di lucentezza di rivestimenti chiari uretan-acrilici contenenti sostanze che assorbono
i raggi ultravioletti applicati direttamente su un rivestimento base metallico d’argento e su un fondo
di elettro-rivestimento.
Si preparano panelli .rivestiti applicando a
spruzzo una pellicola avente uno spessore di 0,036-0,051 mm (1,8-2,0 mil) di un rivestimento chiaro uretan-acrilico avente un elevato contenuto di sostanze solide
che corrisponde a HAPS, contenente uno stabilizzante di prova su un rivestimento base metallico d'argento reperibile in commercio, umido-su-umido, direttamente su paTelli di UNIPRIME(v'R-')aa 10,16 cm x 30,48 cm (4M x 12") ottenuti dalla Advanced Coating Technology, Ine., contenenti un fondo di elettrorivestimento.
I panelli rivestiti vengono quindi sottoposti a
cottura a 121°C (250°F) per 30 minuti. I ^panelli
rivestiti vengono quindi esposti in un Ci-65 Weather-0-meter (Atlas Electric Devices) secondo ASTM G 26-90.
La lucentezza dei panelli esposti viene misurata ad intervalli di 300 ore. Una lucentezza più elevata
indica una maggiore protezione per il rivestimento provocata dalla sostanza che assorbe i raggi ultravioletti benzotriazolo solubile.
I composti di formula I solubili della presente invenzione mettono a disposizione i rivestimenti con una buona ritenzione di lucentezza.
In effetti, poiché una quantità molto più elevata di benzotriazolo solubile può venire opportunamente incorporata nel rivestimento, i benzotriazoli solubili realizzano una ritenzione di lucentezza per il sistema di rivestimento acrilico termoindurente ad elevato contenuto di sostanze solide ben superiore a quella ottenuta nel caso in cui sia possibile soltanto una limitata quantità di benzotriazolo a causa delle limitazioni di solubilità.
Esempio 15
Ritenzione di lucentezza di rivestimenti chiari uretan-acrilici che contengono sostanze che assorbono i raggi ultravioletti applicate direttamente al di sopra di un rivestimento di base metallica d'argento e di un fondo di elettrorivestimento.
Pannelli rivestiti preparati come nell'Esempio 14 vengono esposti anch’essi in un dispositivo di esposizione QUV (0 Panel Co.) secondo ASTM G 53.
Anche in questo caso, la lucentezza 20° è una misura che si effettua ad intervalli di tempo di 300 ore, e i valori di lucentezza più elevati indicano una maggiore protezione del rivestimento.
I composti solubili della presente invenzione di formula I mettono a disposizione rivestimenti aventi una buona ritenzione della lucentezza.
In effetti, poiché una quantità molto maggiore di benzotriazolo solubile può venire opportunamente introdotta nel rivestimento, i benzotriazoli solubili danno una ritenzione di lucentezza per il sistema di rivestimento acrilico termoindurente ad elevato contenuto di sostanze solide ben superiore a quella ottenuta nel caso in cui sia possibile soltanto una limitata quantità di benzotriazolo a causa delle limitazioni di solubilità.
Esempio 15
Ritenzione UVA in rivestimenti chiari acrilici termoinduriti ad elevato contenuto di sostanze solide applicati direttamente su un vetrino da microscopio di quarzo.
Si preparano vetrini da microscopio di quarzo rivestiti mediante applicazione a spruzzo di una pellicola avente uno spessore di 0,018-0,026 mm
(0,9-1,0 mil) di un rivestimento chiaro di melammina acrilica termoindurito ad elevato contenuto di sostanze solide che corrisponde al modello HAPS contenente una sostanza che assorbe 1 raggi ultravioletti di prova. I vetrini da microscopio di quarzo rivestiti vengono quindi sottoposti a colture a 121°C (250°F) per 30 minuti. Quindi, si misura la densità ottica delle pellicole a 345 nm.
I vetrini per microscopio di quarzo rivestiti vengono quindi esposti in un dispositivo di esposizione QUV (Q Panel Co.) secondo ASTM G 53.
Quindi, si misura la densità ottica anche in questo caso in corrispondenza di intervalli di 1000 ore, i valori di densità ottica più elevati indicando una maggiore protezione del rivestimento.
I composti solubili della presente invenzione di formula I mettono a disposizione rivestimenti aventi valori di densità ottica più elevati in corrispondenza di tutti gli intervalli di tempo.
In effetti, poiché si può introdurre nel rivestimento una quantità molto più elevata di benzotriazolo solubile, i benzotriazoli solubili realizzano una ritenzione UVA per il sistema di rivestimento acrilico termoindurente ad elevato contenuto di sostanze solide ben superiore a quella che si ottiene nel caso in cui sia possibile soltanto una limitata quantità di benzotriazolo a causa delle limitazioni di solubilità.
Esempio 17
Ritenzione UVA in rivestimenti chiari acrilici termoindurenti ad elevato contenuto di sostanze solide applicati·direttamente su un vetrino per microscopio di quarzo.
Si preparano vetrini per microscopio di quarzo rivestiti secondo le indicazioni dell'Esempio 16. Anche questi vetrini rivestiti vengono esposti in un Ci-65 Weather-Ometer (Atlas Electric Devices) secondo ASTM G-26-90. Si misura la densità ottica in corrispondenza di intervalli di 1000 ore, i valori di densità ottica più elevati indicando una maggiore protezione del rivestimento.
I composti solubili della presente invenzione di formula I danno rivestimenti aventi valori di densità ottica più elevati in corrispondenza di tutti gli intervalli di tempo.
In effetti, poiché una quantità molto più elevata di benzotriazolo solubile può venire introdotta opportunamente nel rivestimento, i benzotriazoli solubili realizzano una ritenzione UVA per il sistema di rivestimento acrilico termoindurente ad elevato contenuto in sostanze solide ben superiore a quella che si ottiene nel caso in cui sia possibile soltanto una limitata quantità di benzotriazolo a causa delle limitazioni di solubilità.
Esempio 18
La quantità di sostanza che assorbe i raggi ultravioletti indicata nella Tabella che segue viene sciolta in 2 mi dì etìlacetato. Si mescola 1 mi dì questa soluzione con 9 mi di una soluzione acquosa di gelatina [che contiene 27,6 g/litro di gelatina e 6,8 g/litro di una soluzione acquosa all'8% di acido 4,8-diisobutilnaftalen-2-solfonico (sale sodico) come tensioattivo]. Questa miscela viene emulsionata per 3 minuti usando ultrasuoni. Si mescolano 7,5 mi di questa emulsione di sostanza che assorbe i raggi ultravioletti con 4,5 mi di una soluzione acquosa di un agente di indurimento (che contiene 0,24% di 2-idrossi-4,6-dicloro-s-triazina, sale di potassio), si versano 8 mi di questa emulsione su una base di poliestere (13 x 18 cm). Si fa indurire la miscelaversata per 7 giorni a temperatura ambiente. Quindi, si usa uno spettrometro UV per determinare i valori per la densità massima nell'intervallo compreso tra 330 e 380 nm. Quindi, si introduce il campione in un apparecchio di esposizione Atlas con un totale di 30, 60, 90 e 120 kJ/cm , si misura nuovamente la densità massima e si calcola la differenza (-AD in %) tra i corrispondenti valori. Quanto più piccolo è il valore ΔΏ , tanto più stabile è la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti.
*A è il 2-(2-idrossi-3-sec.-butil-5-ter.-butilfenil)-2H-benzotriazolo (prodotto di confronto)
B è 2-(2-idrossi-3-dodecil-5-metilfenil)-2H-benzotriazolo (composto di confronto)
C è 2-(2-idrossi-3,5-di-ter.-amilfenil)-2H-benzotriazolo (prodotto di confronto).
D è 2-(2-idrossi-3-o(-cumil-5-ter.-ottilfenil)-2H-benzotriazolo (secondo l'Esempio 1).
E è 2-(2-idrossi-3-o(-cumil—5-dodecilfenil)-2H-benzotriazolo (secondo l'Esempio 7).
E‘ chiaro che le sostanze che assorbono i raggi ultravioletti A, B e C non sono ood.fbtestcfaili come le sostanze che assorbono i raggi ultravioletti D ed E.
Esempi 19-21
Composti usati:
A. 2-(2-idrossi-3-c(-cumil-5-ter.-ottilfenil )-2H-benzotriazolo, composto dell'Esempio 4;
B. 2-(2-idrossi-3-c(-cumil-5-nonilfenil)-2H-benzotrìazolo, composto dell’Esempio 3;
C. 2-(2-idrossi-3-cj-cumil-5-dodecilfenil)-2H-benzotriazolo, composto dell'Esempio 7;
D. 2-(2-idrossi-3,5-di-a-cumilfenil)-2H-benzotriazolo, reperibile in commercio come Tinuvin 900 dalla Ciba-Geigy Corporation (per confronto); e
E. bis-(l-ottilossi-2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il) sebacato, reperibile in commercio come Tinuvin 123 dalla Cìba-Geigy Corporation.
Metodo di Prova 1 - Si prepara il rivestimento chiaro mescolando 60 parti di poliolo acrilico con 40 parti di Resimene^ 747 (esametossimetilmelammina, Monsanto) insieme con un catalizzatore acidae con sostanzeausiliarie dello scorrimento. Il rivestimento base è una melammlna acrilica. Il rivestimento base nero viene applicato a spruzzo fino ad uno spessore di circa 0,6 mil. Il rivestimento chiaro viene applicato a spruzzo sul rivestimento base nero mentre il rivestimento base è ancora umido ottenendo così un rivestimento chiaro avente uno spessore di 2 mil.
Il rivestimento base non contiene una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti o un'ammina dotata di impedimenti eterici. La solubilità del Composto D e del Composto A viene resa massima aggiungendo il Composto di prova che assorbe i raggi ultravioletti al rivestimento chiaro contenente solvente butilacetato in quantità sufficiente, tale che il rivestimento chiaro abbia una viscosità che consente di applicarlo a spruzzo.
A scopo di confronto, si esaminano anche una formulazione non stabilizzata e una formulazione contenente il Composto A in corrispondenza della normale concentrazione 3% oppure 43⁄4, con oppure senza ammina dotata di impedimenti sterici.
Metodo di Prova 2 - In questa prova, si usa un rivestimento di base di melammina acrilica metallico argento che non contiene agenti fotostabilizzanti. Si aggiungono i composti di prova A-D ad una resina melammlnica acrilica termoindurente ad elevato contenuto di solidi di modello oppure ad una resina uretan-acrilica usata come rivestimento chiaro, usando butilacetato (un solvente non-HAPS).
19. Usando il metodo di prova 1 in un rivestimento chiaro/rivestimento base nero termoindurente ad elevato contenuto di solididLnodello, si ottengono i seguenti valori per una ritenzione di lucentezza 20» dopo esposizione dei campioni in un apparecchio QUV (bulbi FS40) per le ore indicate nella tabella che segue.
*1 è un "bianco" non stabilizzato
II contiene il 4% in peso di Composto A;
III contiene 33⁄4 in peso di Composto A più 1% in peso di Composto E;
IV contiene il 4% in peso del Composto A più 1% in peso del Composto E;
V contiene 2,27 % in peso del Composto D; e
VI contiene 2 , 27% in peso del Composto D più 196 in peso di Composto E.
** Il rivestimento, a questo punto, si è rotto.
1^·valore per il Campione II era ancora 65 dopo 3770 ore-La quantità massima di Composto A che può venire sciolta nella resina è 4% in peso e la quantità massima di Composto D che può venire sciolta nella resina è 2,27% in peso.
Da questi dati risulta chiaro che il Composto A è più solubile nel sistema di resina e che è nettamente superiore rispetto al Composto D delle tecniche precedenti, che ha una solubilità limitata nel sistema di resina, nel mantenere un grado di lucentezza a 20° del sistema di resina quando viene usato da solo oppure in particolare quando viene usato insieme con un agente stabilizzante costituito da un'ammina con impedimenti eterici-In effetti, il Composto A può proteggere il rivestimento per almeno 3770 ore mentre il massimo che il Composto D può dare come protezione è 3162 ore. Ciò costituisce una ritenzione di lucentezza 20° superiore del 20% realizzata dal Composto A.
Il Composto A, quando viene usato insieme con il Composto E, anche in questo caso realizza una ritenzione di lucentezza a 20° superiore del 21% dopo una esposizione di 4602 ore rispetto al Composto D con il Composto E.
20. Adottando il Metodo di Prova 2 in un rivestimento chiaro/base nera acrilico termoindurente ad elevato contenuto di sostanze solide, di modello, si ottengono i seguenti valori per ritenzione di lucentezza a 60° e 20° e per nettezza di immagine dopo esposizione dei campioni ad un arco di Xenon (CAM 180) per le ore indicate nelle Tabelle che seguono.
*1 è il "bianco" non stabilizzato;
II contiene 0,24% in peso di Composto D; Ili contiene 1,2% in peso di Composto A;
IV contiene 3% in peso di Composto C; e
V contiene 3% in peso di Composto B.
**A questo punto il rivestimento si è rotto.
In questo metodo di prova, la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti viene sciolta in un solvente butilacetato non-HAPS e quindi viene aggiunta al sistema di resina come normalmente si effettua nell'industria. La limitata solubilità del Composto D in butilacetato consente che nel rivestimento sia presente soltanto 0,24% in peso di Composto D, riferito ai prodotti solidi costituiti da resina. La maggiore solubilità del Composto A in butilacetato consente che nel rivestimento sia presente 1,2% in peso di Composto A, riferito alle sostanze solide costituite da resine. La solubilità ancora maggiore dei Composti B e C nel butilacetato consente che nel rivestimento sia presente 3% in peso del Composto B oppure del Composto C, riferito alle sostanze solide costituite da resine.
In ciascun caso, il Composto A, B oppure C più solubile ha dato una ritenzione di lucentezza 60° oppure 20° superiore e una nettezza di immagine nettamente superiore rispetto al Composto D meno solubile.
21. Adottando il Metodo di Prova 2 in una finitura In questo metodo di prova, si scioglie la sostanza che assorbe i raggi ultravioletti in solvente butil-acetato non-HAPS e quindi si aggiunge al sistema di resina, come si effettua normalmente nell'industria. La limitata solubilità del Composto D in butilacetato consente che nel rivestimento sia presente soltanto 0,24 % in peso del Composto D, riferito ai prodotti solidi costituiti da resine. La maggiore solubilità del Composto A in butilacetato consente che nel rivestimento sia presente 1,2% in peso del Composto A, riferito ai prodotti solidi costituiti da resine. La solubilità ancora maggiore dei composti B e C in butilacetato consente che 3% in peso del Composto B oppure del Composto C sia presente nel rivestimento, riferito ai prodotti solidi costituiti da resine.
In ciascun caso, il Composto A, B oppure C più solubile realizza una ritenzione di lucentezza a 20° maggiore e una nettezza di immagine nettamente maggiore rispetto al Composto D meno solubile.
uretan-acrilica modello 2K, si ottengono i seguenti valori per la ritenzione di lucentezza 20° e la nettezza di immagine dopo esposizione dei campioni in un arco di Xenon (CAM 180) per le ore indicate nelle tabelle che seguono.
*1 è un "bianco" non stabilizzato;
II contiene 0,24% in peso di composto D;
III contiene 1,2% in peso di Composto A;
IV contiene 3% in peso di Conposto C; e
V contiene 3% in peso di Composto B.
**A questo punto il rivestimento si è rotto
Claims (15)
- RIVENDICAZIONI 1. Una composizione di una pellicola di polimero che è costituita da: (a) un fondo di un elettrorivestimento aderente ad un substrato di un metallo; (b) un rivestimento base o un rivestimento colorato che aderisce all'elettrorivestimento e che comprende un legante che forma pellicola e un pigmento organico oppure un pigmento inorganico oppure una loro miscela; (c) un rivestimento chiaro che aderisce al rivestimento base e che comprende un legante che forma pellicola; e (d) tra 1% e 20% sul peso del legante che forma pellicola del rivestimento contenente il benzotriazolo, di almeno un prodotto che assorbe i raggi ultravioletti costituito da un benzotriazolo di formula I (l) in cui è idrogeno oppure cloro, è alchile avente da 4 a 28 atomi di carbonio oppure -C H„ COOR„ in cui m è 1 fino a 4 e R, è idrogeno m 2m 4 oppure alchile avente da 1 a 18 atomi di carbonio, e è C(-cumile; contenuta nel rivestimento base oppure nel rivestimento chiaro oppure sia nel rivestimento base che nel rivestimento chiaro.
- 2. Una composizione secondo la rivendicazione 1 che contiene un ulteriore strato tra il fondo di elettrorivestimento e il rivestimento base oppure il rivestimento colorato, detto ulteriore strato essendo costituito da (i) un legante che forma pellicola ed un pigmento organico oppure un pigmento inorganico oppure una loro miscela; e (ii) almeno una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti costituita da un benzotriazolo solubile e termicamente stabile, di formula I, secondo la rivendicazione 1.
- 3. Una composizione secondo la rivendicazione 2 nella quale l'ulteriore strato contiene inoltre un agente fotostabilizzante costituito da un'ammina con impedimenti sterici.
- 4. Una composizione secondo la rivendicazione 1 in cui la quantità di componente (d) è compresa tra 1 % in peso e 596 in peso riferito al legante che forma pellicola.
- 5. Una composizione secondo la rivendicazione 1 in cui nel componente (d), è idrogeno, R„ è alchile avente da 8 a 12 atomi di carbonio 2 oppure è in cui m è 2, e R4, è alchile avente da 1 a 12 atomi di carbonio, e
- 6. Una composizione secondo la rivendicazione 1 in cui nel componente (d), è idrogeno, R è ter.-ottile, nonile oppure dodecile e RO è c(-cumile.
- 7. Una composizione secondo la rivendicazione 1 in cui il componente (d) è incorporato nel rivestimento chiaro.
- 8. Una composizione secondo la rivendicazione 1 in cui il legante che forma pellicola è una resina acrilica/melamminica oppure acrilica/uretanica termoindurente avente un elevato contenuto di sostanze solide .
- 9. Una composizione secondo la rivendicazione 1 che contiene inoltre, nel rivestimento base oppure nel rivestimento chiaro oppure in entrambi il rivestimento base e il rivestimento chiaro, un agente fotostabilizzante costituito da un'ammina con impedimenti sterici.
- 10- Una composizione stabilizzata che è costituita da (a) un materiale di registrazione, e (b) almeno una sostanza che assorbe i raggi ultravioletti costituita da un benzotriazolo di formula I (I) in cui R1 è idrogeno oppure cloro, R^ è alchile avente da 4 a 28 atomi di carbonio oppure in cui m è 1 fino a 4 e R4„ è idrogeno oppure alchile avente da 1 a 18 atomi di carbonio, e
- 11. Una composizione secondo la rivendicazione 10 nella quale nel componente (b), R^ è idrogeno, R^ è alchile avente 8 fino a 12 atomi di carbonio oppure è in cui m è 2 e R4„ è alchile avente da 1 a 12 atomi di carbonio, e
- 12. Una composizione secondo la rivendicazione 10 nella quale nel componente (b), R^ è idrogeno, è ter.-ottile, nonile oppure dodecile e
- 13. Una composizione secondo la rivendicazione 10 in cui il materiale di registrazione è adatto per stampa a getto di inchiostro.
- 14. Una composizione secondo la rivendicazione 10 in cui il materiale di registrazione è un materiale fotografico.
- 15. Una composizione secondo la rivendicazione 10 in cui il materiale di registrazione è adatto per una stampa di trasferimento con diffusione di colore.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/424,843 US5574166A (en) | 1995-04-19 | 1995-04-19 | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ITMI960751A0 ITMI960751A0 (it) | 1996-04-18 |
| ITMI960751A1 true ITMI960751A1 (it) | 1997-10-18 |
| IT1283615B1 IT1283615B1 (it) | 1998-04-22 |
Family
ID=23684097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| IT96MI000751A IT1283615B1 (it) | 1995-04-19 | 1996-04-18 | Rivestimenti e materiali di registrazione stabilizzati con sostanze che assorbono i raggi ultravioletti a base di benzotraizoli |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US5574166A (it) |
| EP (1) | EP0738718A1 (it) |
| JP (2) | JPH08291151A (it) |
| KR (2) | KR100426626B1 (it) |
| CN (2) | CN1066181C (it) |
| AT (1) | AT405936B (it) |
| AU (2) | AU707202B2 (it) |
| BE (1) | BE1010550A3 (it) |
| BR (2) | BR9601991A (it) |
| CA (2) | CA2174411C (it) |
| DE (1) | DE19615000A1 (it) |
| ES (1) | ES2130930B1 (it) |
| FR (1) | FR2733239B1 (it) |
| GB (1) | GB2299957B (it) |
| IT (1) | IT1283615B1 (it) |
| NL (1) | NL1002904C2 (it) |
| SE (1) | SE509606C2 (it) |
| TW (1) | TW419497B (it) |
Families Citing this family (91)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
| US6166218A (en) | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
| FR2755444B1 (fr) * | 1996-11-07 | 2004-10-08 | Ciba Sc Holding Ag | Composition de revetement comprenant un compose stabilisant ledit compose et son utilisation |
| US5977219A (en) * | 1997-10-30 | 1999-11-02 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
| AU7043298A (en) | 1997-04-15 | 1998-11-11 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Preparation of low-dust stabilisers |
| DE19723779A1 (de) * | 1997-06-06 | 1998-12-10 | Agfa Gevaert Ag | Inkjet-System |
| US6383716B1 (en) | 1997-08-22 | 2002-05-07 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Stable photosensitive resin composition |
| JP3448851B2 (ja) * | 1997-11-28 | 2003-09-22 | タキロン株式会社 | 添加剤含有樹脂成形品及びその製造方法 |
| US5948150A (en) * | 1998-05-05 | 1999-09-07 | Hewlett-Packard Company | Composition to improve colorfastness of a printed image |
| WO2000014126A1 (de) * | 1998-09-09 | 2000-03-16 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Photostabiles chromophor-system |
| AU738331B2 (en) * | 1999-02-19 | 2001-09-13 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Stable photosensitive resin composition |
| DE60003748T2 (de) * | 1999-04-23 | 2004-03-18 | Nippon Mitsubishi Oil Corp. | UV-absorbierende Harzzusammensetzung |
| US6268415B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-07-31 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, photostable benzotriazole UV absorbers and laminated articles derived therefrom |
| CA2372686A1 (en) * | 1999-05-03 | 2000-11-09 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, red-shifted, photostable benzotriazole uv absorbers and laminated articles derived therefrom |
| US6187845B1 (en) * | 1999-05-03 | 2001-02-13 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized adhesive compositions containing highly soluble, red-shifted, photostable benzotriazole UV absorbers and laminated articles derived therefrom |
| US6245915B1 (en) | 1999-05-03 | 2001-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Asymmetrical bisbenzotriazoles substituted by a perfluoroalkyl moiety |
| AU774383B2 (en) * | 1999-07-12 | 2004-06-24 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Use of mixtures of micropigments for preventing tanning and for lightening skin and hair |
| JP4681193B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2011-05-11 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 耐久性紫外線吸収剤による内容物の保護方法 |
| US6451887B1 (en) * | 2000-08-03 | 2002-09-17 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazoles containing α-cumyl groups substituted by heteroatoms and compositions stabilized therewith |
| US6392056B1 (en) * | 2000-08-03 | 2002-05-21 | Ciba Specialty Chemical Corporation | 2H-benzotriazole UV absorders substituted with 1,1-diphenylalkyl groups and compositions stabilized therewith |
| US6649770B1 (en) * | 2000-11-27 | 2003-11-18 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Substituted 5-aryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole UV absorbers, compositions stabilized therewith and process for preparation thereof |
| US6387992B1 (en) | 2000-11-27 | 2002-05-14 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Substituted 5-heteroaryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2h-benzotriazole UV absorbers, a process for preparation thereof and compositions stabilized therewith |
| DE60212337T2 (de) * | 2001-01-16 | 2007-06-14 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Tintenstrahldrucktinte und -aufzeichnungsmaterial |
| JP4993421B2 (ja) * | 2001-06-07 | 2012-08-08 | 株式会社Adeka | 合成樹脂組成物 |
| AU2003205754A1 (en) * | 2002-02-19 | 2003-09-09 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Containers or films comprising hydroxyphenlbenzotriazole uv absorbers for protecting contents against the effects of uv radiation |
| US20050209252A1 (en) * | 2002-03-29 | 2005-09-22 | Che-Ming Teng | Cancer treatment |
| JP4916661B2 (ja) | 2002-06-06 | 2012-04-18 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | エレクトロルミネセンス素子 |
| DE10228186A1 (de) * | 2002-06-24 | 2004-01-22 | Merck Patent Gmbh | UV-stabilisierte Partikel |
| KR100950626B1 (ko) * | 2002-06-24 | 2010-04-01 | 메르크 파텐트 게엠베하 | Uv-안정화 입자 |
| DE10243438A1 (de) * | 2002-09-18 | 2004-03-25 | Merck Patent Gmbh | Oberflächenmodifizierte Effektpigmente |
| AU2003299218A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-14 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Ink-jet ink and recording material |
| AU2003303818A1 (en) * | 2003-01-29 | 2004-08-23 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Ink-jet ink and recording material |
| JP4850694B2 (ja) | 2003-02-26 | 2012-01-11 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 水融和性立体阻害されたヒドロキシ置換アルコキシアミン類 |
| US6974850B2 (en) * | 2003-05-30 | 2005-12-13 | 3M Innovative Properties Company | Outdoor weatherable photopolymerizable coatings |
| US7153588B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-12-26 | 3M Innovative Properties Company | UV resistant naphthalate polyester articles |
| JP4018674B2 (ja) | 2003-08-04 | 2007-12-05 | キヤノン株式会社 | インク用被記録媒体の製造方法 |
| WO2005032833A1 (en) | 2003-10-03 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film B.V. | Recording medium |
| WO2005032835A1 (en) | 2003-10-03 | 2005-04-14 | Fuji Photo Film B.V. | Recording medium |
| DE10358092A1 (de) * | 2003-12-10 | 2005-07-14 | Merck Patent Gmbh | Oberflächenmodifizierte Partikel |
| US20060083940A1 (en) * | 2004-04-30 | 2006-04-20 | Solomon Bekele | Ultraviolet light absorbing composition |
| US7595011B2 (en) | 2004-07-12 | 2009-09-29 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Stabilized electrochromic media |
| US7968151B2 (en) * | 2004-07-12 | 2011-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of multi-layer coatings |
| US20060008588A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-01-12 | Marc Chilla | Process for the production of multi-layer coatings |
| US20060068116A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Marc Chilla | Process for the production of multi-layer coatings in light metallic color shades |
| US8865262B2 (en) * | 2004-09-27 | 2014-10-21 | Axalta Coating Systems Ip Co., Llc | Process for producing multi-layer coatings in light metallic color shades |
| EP1794220A1 (en) * | 2004-09-30 | 2007-06-13 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method for replenishing or introducing light stabilizers |
| US20060122293A1 (en) * | 2004-12-03 | 2006-06-08 | Rick Wilk | Ultraviolet light absorber stabilizer combination |
| US20060134334A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Marc Chilla | Process for the production of primer surfacer-free multi-layer coatings |
| US20060177639A1 (en) * | 2005-02-04 | 2006-08-10 | Elzen Kerstin T | Process for the production of primer surfacer-free multi-layer coatings |
| US7910211B2 (en) * | 2005-06-20 | 2011-03-22 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the production of multi-layer coatings |
| US20070071901A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Giannoula Avgenaki | Process for the production of multi-layer coatings |
| JP4821597B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2011-11-24 | 住友化学株式会社 | 多層光拡散板 |
| TWI434073B (zh) * | 2006-01-06 | 2014-04-11 | Sumitomo Chemical Co | 多層光擴散板 |
| US20070238814A1 (en) * | 2006-04-10 | 2007-10-11 | Basf Corporation | Method of making coating compositions |
| US20070260012A1 (en) * | 2006-05-05 | 2007-11-08 | Algrim Danald J | HAPs free coating composition and film thereof |
| KR100836571B1 (ko) | 2006-12-29 | 2008-06-10 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자 밀봉용 에폭시 수지 조성물 및 이를 이용한반도체 소자 |
| TW200829637A (en) * | 2007-01-03 | 2008-07-16 | Double Bond Chemical Ind Co Ltd | Liquid containing 2-(-hydroxyl-3-α-cumylphenyl-5-tertiery-octylphenyl) -2-hydrogen-benzotriazole |
| EP2167570A1 (en) | 2007-06-29 | 2010-03-31 | Basell Poliolefine Italia S.R.L. | An irradiated polyolefin composition comprising a non - phenolic stabilizer |
| US20090047092A1 (en) * | 2007-08-15 | 2009-02-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated fasteners |
| US20100056680A1 (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Amorphous compound and stabilizer for polymers containing the amorphous compound |
| US7847103B2 (en) * | 2008-10-04 | 2010-12-07 | Chia-Hu Chang | Ultraviolet light absorbing ketones of 2-(2-hydroxyphenyl) benzotriazole |
| CA2745372C (en) | 2008-12-22 | 2015-05-05 | Basf Se | Method of improving scratch resistance and related products and uses |
| KR101782173B1 (ko) | 2009-07-07 | 2017-10-23 | 바스프 에스이 | 칼륨 세슘 텅스텐 브론즈 입자 |
| FR2955038B1 (fr) * | 2010-01-11 | 2012-05-11 | Commissariat Energie Atomique | Nanoparticules anti-uv |
| US20120329885A1 (en) * | 2011-06-23 | 2012-12-27 | Chia-Hu Chang | Ultraviolet light absorbing compounds based on benzyl substituted 2-(2- hydroxyphenyl) benzotriazoles |
| JP5879170B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2016-03-08 | 積水化学工業株式会社 | 熱硬化性フラン樹脂組成物及びこれを用いたフラン樹脂積層体 |
| EP2912017A4 (en) | 2012-10-23 | 2016-07-20 | Basf Se | ETHYLENICALLY UNSATURATED OLIGOMERS WITH POLYMER STABILIZATION GROUPS |
| EP4039851A1 (en) * | 2013-03-16 | 2022-08-10 | PRC-Desoto International, Inc. | Azole compounds as corrosion inhibitors |
| WO2015044785A2 (en) | 2013-09-27 | 2015-04-02 | Basf Se | Polyolefin compositions for building materials |
| WO2015077635A2 (en) | 2013-11-22 | 2015-05-28 | Polnox Corporation | Macromolecular antioxidants based on dual type moiety per molecule: structures methods of making and using the same |
| TWI685524B (zh) | 2013-12-17 | 2020-02-21 | 美商畢克美國股份有限公司 | 預先脫層之層狀材料 |
| KR102580043B1 (ko) | 2015-07-20 | 2023-09-20 | 바스프 에스이 | 난연성 폴리올레핀 물품 |
| CN105694099B (zh) * | 2016-03-09 | 2017-03-15 | 天津利安隆新材料股份有限公司 | 一种用于聚合物的添加剂 |
| US10884182B2 (en) | 2017-06-02 | 2021-01-05 | Dsm Ip Assets B.V. | Thermally resistant radiation curable coatings for optical fiber |
| JP7364239B2 (ja) | 2017-11-03 | 2023-10-18 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ブイ. | 液体放射線硬化性sap組成物でコーティングされたファイバーを含む水遮断システム |
| EP3802452A1 (en) | 2018-06-01 | 2021-04-14 | DSM IP Assets B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber via alternative oligomers and the coatings produced therefrom |
| CA3107042A1 (en) | 2018-08-22 | 2020-02-27 | Basf Se | Stabilized rotomolded polyolefin |
| WO2020046865A1 (en) | 2018-08-30 | 2020-03-05 | Dsm Ip Assets, B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber |
| CN113165971A (zh) | 2018-12-03 | 2021-07-23 | Ms控股有限公司 | 用于涂布光纤的填充式可辐射固化组合物以及由其产生的涂层 |
| WO2020190833A1 (en) | 2019-03-18 | 2020-09-24 | Basf Se | Uv curable compositions for dirt pick-up resistance |
| US11932571B2 (en) | 2019-05-24 | 2024-03-19 | Covestro (Netherland) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability |
| JP7618588B2 (ja) | 2019-05-24 | 2025-01-21 | コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. | 強化された高速加工性を備えた光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物 |
| EP3976877B1 (en) | 2019-05-31 | 2023-07-05 | The Procter & Gamble Company | Method of making a deflection member |
| US20220282064A1 (en) | 2019-07-30 | 2022-09-08 | Basf Se | Stabilizer composition |
| EP4003927A1 (en) | 2019-07-31 | 2022-06-01 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions with multi-functional long-armed oligomers for coating optical fibers |
| CN115515784A (zh) | 2020-04-03 | 2022-12-23 | 科思创(荷兰)有限公司 | 多层光学器件 |
| CN115427853B (zh) | 2020-04-03 | 2026-03-13 | 科思创(荷兰)有限公司 | 自我修复光纤和用于制造其的组合物 |
| EP4511336A1 (en) | 2022-04-21 | 2025-02-26 | Covestro (Netherlands) B.V. | Radiation curable compositions for coating optical fibers |
| KR20250004002A (ko) | 2022-04-29 | 2025-01-07 | 이네오스 스티롤루션 그룹 게엠베하 | 감소된 uv 흡수제 함량으로 우수한 uv 저항성을 갖는 아크릴로니트릴 스티렌 아크릴레이트(asa) 공중합체 조성물 |
| KR20250004823A (ko) | 2022-04-29 | 2025-01-08 | 이네오스 스티롤루션 그룹 게엠베하 | Uv 저항성이 개선된 아크릴로니트릴 스티렌 아크릴레이트 코폴리머 조성물 |
| CN120966325B (zh) * | 2025-09-25 | 2026-02-27 | 佛山市顺德区天地彩粉末涂料实业有限公司 | 一种耐候耐腐蚀复合粉末涂料及其制备方法 |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE630550A (it) | 1961-06-16 | |||
| CH494060A (de) * | 1961-06-16 | 1970-07-31 | Geigy Ag J R | Verwendung von 2-(2'-Hydrophenyl)-benztriazolverbindungen als Lichtschutzmittel |
| JPS4967378A (it) * | 1972-11-02 | 1974-06-29 | ||
| JPS565279B2 (it) * | 1974-08-15 | 1981-02-04 | ||
| US4355071A (en) * | 1978-05-03 | 1982-10-19 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Clear coat/color coat finish containing ultraviolet light stabilizer |
| EP0006564B1 (de) * | 1978-06-26 | 1981-12-30 | Ciba-Geigy Ag | 2-(2-Hydroxy-3.5-disubstituiertes-phenyl)-2H-benzotriazol und damit stabilisierte Mischungen |
| US4278589A (en) * | 1978-06-26 | 1981-07-14 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
| US4283327A (en) * | 1979-01-25 | 1981-08-11 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(2-Hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole stabilized compositions |
| US4315848A (en) * | 1979-05-10 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
| US4347180A (en) * | 1979-05-16 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
| EP0036117B1 (de) * | 1980-03-14 | 1986-02-05 | Spezial-Papiermaschinenfabrik August Alfred Krupp GmbH & Co | Druckempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
| US4559293A (en) * | 1983-04-08 | 1985-12-17 | Kimoto & Co., Ltd. | Photosensitive recording material developable with aqueous neutral salt solution |
| DE3328771A1 (de) * | 1983-08-10 | 1985-02-28 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur kontinuierlichen herstellung von sauerstoff enthaltenden verbindungen |
| US4675352A (en) * | 1985-01-22 | 1987-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
| US4587346A (en) * | 1985-01-22 | 1986-05-06 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
| US4760148A (en) * | 1985-09-03 | 1988-07-26 | Ciba-Geigy Corporation | 5-aralkyl substituted 2H-benzotriazoles and stabilized compositions |
| JPS62262777A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Kansai Paint Co Ltd | 防食塗膜形成法 |
| US5096977A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-17 | Atochem North America, Inc. | Process for preparing polymer bound UV stabilizers |
| US4973701A (en) * | 1988-04-11 | 1990-11-27 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid substituted 2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing the liquid mixtures |
| US5240975A (en) * | 1988-04-11 | 1993-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid substituted 2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions |
| US5095062A (en) * | 1988-04-11 | 1992-03-10 | Ciba-Geigy Corporation | Stabilized compositions containing liquid substituted 2H-benzotriazole mixtures |
| US5045396A (en) * | 1988-11-23 | 1991-09-03 | Ppg Industries, Inc. | UV resistant primer |
| US5199979A (en) * | 1988-11-25 | 1993-04-06 | Ppg Industries, Inc. | UV resistant, abrasion resistant coatings |
| EP0373573B1 (de) * | 1988-12-14 | 1994-06-22 | Ciba-Geigy Ag | Aufzeichnungsmaterial für Tintenstrahldruck |
| US5098477A (en) * | 1988-12-14 | 1992-03-24 | Ciba-Geigy Corporation | Inks, particularly for ink printing |
| DE59208921D1 (de) * | 1991-06-03 | 1997-10-30 | Ciba Geigy Ag | UV-Absorber enthaltendes photographisches Material |
| US5354794A (en) * | 1993-02-03 | 1994-10-11 | Ciba-Geigy Corporation | Electro coat/base coat/clear coat finishes stabilized with S-triazine UV absorbers |
| DE4404081A1 (de) * | 1994-02-09 | 1995-08-10 | Basf Ag | UV-stabilisierte Polyoxymethylenformmassen |
| EP0698637A3 (en) * | 1994-08-22 | 1996-07-10 | Ciba Geigy Ag | Polyurethanes stabilized with selected UV absorbers of 5-substituted benzotriazole |
| US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
-
1995
- 1995-04-19 US US08/424,843 patent/US5574166A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-06 US US08/466,850 patent/US5563242A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-06 US US08/466,851 patent/US5554760A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-04-05 US US08/628,433 patent/US5607987A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-10 SE SE9601345A patent/SE509606C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1996-04-10 EP EP96810220A patent/EP0738718A1/en not_active Withdrawn
- 1996-04-10 GB GB9607427A patent/GB2299957B/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 DE DE19615000A patent/DE19615000A1/de not_active Ceased
- 1996-04-17 KR KR1019960012131A patent/KR100426626B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-17 CA CA002174411A patent/CA2174411C/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-17 CA CA002174412A patent/CA2174412A1/en not_active Abandoned
- 1996-04-17 BE BE9600333A patent/BE1010550A3/fr not_active IP Right Cessation
- 1996-04-17 AU AU50731/96A patent/AU707202B2/en not_active Ceased
- 1996-04-18 FR FR9604847A patent/FR2733239B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 AU AU50784/96A patent/AU706957B2/en not_active Ceased
- 1996-04-18 IT IT96MI000751A patent/IT1283615B1/it active IP Right Grant
- 1996-04-18 AT AT0070596A patent/AT405936B/de not_active IP Right Cessation
- 1996-04-18 KR KR1019960012170A patent/KR100378233B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 CN CN96105137A patent/CN1066181C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-18 ES ES009600874A patent/ES2130930B1/es not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-18 CN CN96105141A patent/CN1059899C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-19 JP JP8122465A patent/JPH08291151A/ja active Pending
- 1996-04-19 BR BR9601991A patent/BR9601991A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-04-19 JP JP12246696A patent/JP3309153B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-19 BR BR9601992A patent/BR9601992A/pt not_active IP Right Cessation
- 1996-04-19 NL NL1002904A patent/NL1002904C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1996-05-14 TW TW085105661A patent/TW419497B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ITMI960751A1 (it) | Rivestimenti e materiali di registrazione stabilizzati con sostanze che assorbono i raggi ultravioletti a base di benzotraizoli | |
| US5096781A (en) | Water-soluble compounds as light stabilizers | |
| DE60028755T2 (de) | Stabilisierte klebzusammensetzung mit hochlöslichen, rotverschobenen, photostabilen benzotriazolen uv-absorbente und daraus gewonnene laminerte gegenstände | |
| DE19748658B4 (de) | Benzotriazol-UV-Absorptionsmittel mit erhöhter Haltbarkeit | |
| DE60120178T2 (de) | Photostabile, silylierte benzotriazol uv-absorber und zusammensetzungen, die mit diesen stabilisiert werden | |
| EP0373574B1 (de) | Tinten, insbesondere für den Tintenstrahldruck | |
| ITMI20000046A1 (it) | Sostanze che assorbono i raggi ultravioletti costituite da benzotriazoli aventi una aumentata duratura | |
| DE10296560T5 (de) | Benzotriazole und deren Verwendung als UV-Lichtstabilisatoren | |
| JP4568027B2 (ja) | フォトクロミック材料 | |
| DE19739781A1 (de) | Hydroxyphenyltriazine | |
| DE19750906A1 (de) | Hydroxyphenyltriazine | |
| JPS61190537A (ja) | 2―(2―ヒドロキシ―3―分枝アルキル―5―メチルフェニル)―2h―ベンゾトリアゾール混合物,該混合物の製造法,および該混合物からなる安定剤 | |
| US6699298B2 (en) | Long chain hindered amines and compositions stabilized therewith | |
| DE69602902T2 (de) | S-Triazin-Lichtstabilisatorhybride, substituiert mit Benzotriazol- oder Benzophenon-Einheiten und damit stabilisierte Zusammensetzungen | |
| ITMI992415A1 (it) | Derivati del piperazinone | |
| DE69027556T2 (de) | Piperidin-Triazin-Verbindungen zur Anwendung als Stabilisatoren in organischen Materialien | |
| DE69012616T2 (de) | Stabilisatoren mit N-hydroxy-substituierter, gehinderter Aminogruppe und ihre Herstellung durch Michael-Addition. | |
| CH692916A5 (de) | Triphenyltriazine enthaltend zwei freie und eine substituierte Hydroxyfunktion. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 0001 | Granted |