JPS5954951A - 赤外線ガス分析計 - Google Patents
赤外線ガス分析計Info
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- JPS5954951A JPS5954951A JP57165595A JP16559582A JPS5954951A JP S5954951 A JPS5954951 A JP S5954951A JP 57165595 A JP57165595 A JP 57165595A JP 16559582 A JP16559582 A JP 16559582A JP S5954951 A JPS5954951 A JP S5954951A
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- gas
- cell
- concentration
- infrared
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、各種の工業、特に化学工業において工業計器
として使用される赤外線ガス分析計に関するものである
。 ′ □各種の工業に□おい′て、
高度の生産性を確保していくためには、反応生成分の濃
度を知り、自動制御や工程管理を行□うことが重要で、
このため各種のガス分析計によって濃度を側御している
。このガス分析i十としては、測定対極が比較的広□く
、シかも選択性すなわち、被検ガス吊に数−の成分が含
まれている場谷、他の成分にigされることなしに測定
成分のみを検出できる佐iがすぐれている赤外線ガス分
析計が床上使用されている。
として使用される赤外線ガス分析計に関するものである
。 ′ □各種の工業に□おい′て、
高度の生産性を確保していくためには、反応生成分の濃
度を知り、自動制御や工程管理を行□うことが重要で、
このため各種のガス分析計によって濃度を側御している
。このガス分析i十としては、測定対極が比較的広□く
、シかも選択性すなわち、被検ガス吊に数−の成分が含
まれている場谷、他の成分にigされることなしに測定
成分のみを検出できる佐iがすぐれている赤外線ガス分
析計が床上使用されている。
従来の一外線ガス分析計は第1図に示すように、光源1
に主って熊射さ□れる赤外線の光軸上集光器2との間=
、モニタ3′で回転駆動される回転ホイー:ル4によシ
□交互にセットされる透過ガスセル5′。
に主って熊射さ□れる赤外線の光軸上集光器2との間=
、モニタ3′で回転駆動される回転ホイー:ル4によシ
□交互にセットされる透過ガスセル5′。
基準ガスセル6を介して被検ガスが送給□され名サンプ
ルセルフが設iられ、これらセルを透過した光量をJ′
例見m lHgcaTeなどめセンサ8で受光するよう
゛に構成さ□れている。 □前記基準ガスセル6
にi、測定しようとする成分ガ償倒えばC’H4がほぼ
飽和状態で封入されてaる。この基準プスセル6が回転
票イール4により光軸上に卆ットさ□れているときは、
センサ8の出力Aとして第′2図(a)に示すよう逐波
長Bの3.3μ域に矢きな′パルス変動を肴する波形を
得□る。すなわち、CH4ガスは、3.3μの赤外線領
域を良く吸収 、、。
ルセルフが設iられ、これらセルを透過した光量をJ′
例見m lHgcaTeなどめセンサ8で受光するよう
゛に構成さ□れている。 □前記基準ガスセル6
にi、測定しようとする成分ガ償倒えばC’H4がほぼ
飽和状態で封入されてaる。この基準プスセル6が回転
票イール4により光軸上に卆ットさ□れているときは、
センサ8の出力Aとして第′2図(a)に示すよう逐波
長Bの3.3μ域に矢きな′パルス変動を肴する波形を
得□る。すなわち、CH4ガスは、3.3μの赤外線領
域を良く吸収 、、。
する性質があシ、逆にこの性質を利用してCH,ガス濃
度を知□ること殖で、きる。 □ 1−′□
°□:”1:: ・ 1・ 自力前記透過ガスセル5に畔、光を遮らない(少なくと
も被検ガスの赤外線吸収領域を遮らない)−ガス例えば
N2ガスが封父され、基準ガスセル6が存在しない光軸
上の空間にi囲砥ガスが流入してこのガスが光をさえぎ
らないようにしている。
度を知□ること殖で、きる。 □ 1−′□
°□:”1:: ・ 1・ 自力前記透過ガスセル5に畔、光を遮らない(少なくと
も被検ガスの赤外線吸収領域を遮らない)−ガス例えば
N2ガスが封父され、基準ガスセル6が存在しない光軸
上の空間にi囲砥ガスが流入してこのガスが光をさえぎ
らないようにしている。
このときはサンプルセルフに送給される被検ガス中の各
成分ガスが遮光する波瘉と□して第2図(b)を得るこ
とができる。。したがって被検ガス中のCH4練度は、
竺2図(a)の3.3μ艷おけるパルスの大きさく10
0%m度)とf42図(1))の同じ領域のパルスの大
きさの比から求めることができる。
成分ガスが遮光する波瘉と□して第2図(b)を得るこ
とができる。。したがって被検ガス中のCH4練度は、
竺2図(a)の3.3μ艷おけるパルスの大きさく10
0%m度)とf42図(1))の同じ領域のパルスの大
きさの比から求めることができる。
ところで、赤外線ガス分析計においては、被検ガスの濃
度が低すぎるときは、単に基準ガスによる出力を比較し
ただけでは、その差が読みとりにくい。またその領域の
出力変化値はリニャリテイが悪くなυ測定精度が低くな
るという欠点があった。これを解決するためにサンプル
セルフを長くして、透過ガスセル5が光軸上にセットさ
れてい: ′1 ′ るときの出力値がリニヤとなる領域内で変化する□ワi
iぶどとが行われている。
度が低すぎるときは、単に基準ガスによる出力を比較し
ただけでは、その差が読みとりにくい。またその領域の
出力変化値はリニャリテイが悪くなυ測定精度が低くな
るという欠点があった。これを解決するためにサンプル
セルフを長くして、透過ガスセル5が光軸上にセットさ
れてい: ′1 ′ るときの出力値がリニヤとなる領域内で変化する□ワi
iぶどとが行われている。
1 、 しかるに従、米やこの種赤外縁ガス分析計にお
い□・では、サンプルセルフを長さの異なる種々用意し
なければならないうえに、集光器2やセンサ8をサンプ
ルセルフの長さに応じて配設位置を換えなければならな
いという不具合があった。また外形々状が定まらないこ
とに起因する保護部内格納化の困難や操作の煩雑さなど
もi問題iなら′でいた。
い□・では、サンプルセルフを長さの異なる種々用意し
なければならないうえに、集光器2やセンサ8をサンプ
ルセルフの長さに応じて配設位置を換えなければならな
いという不具合があった。また外形々状が定まらないこ
とに起因する保護部内格納化の困難や操作の煩雑さなど
もi問題iなら′でいた。
本発明はこ?よ、うな事、情に鑑みり、されたも忙、サ
ンプルセルを通る光軸上、に1.測寓出ηを高める、、
濃度?被呻ガス成分、傘封界した調整ガスセルを着脱自
在に介装するというきわめて簡単な構成によシ、低濃度
の被検ガスであってもサンプルセルの長さなどの変更を
要せずに精度良く測定することができる赤外線ガス分析
計を提供するものである。
ンプルセルを通る光軸上、に1.測寓出ηを高める、、
濃度?被呻ガス成分、傘封界した調整ガスセルを着脱自
在に介装するというきわめて簡単な構成によシ、低濃度
の被検ガスであってもサンプルセルの長さなどの変更を
要せずに精度良く測定することができる赤外線ガス分析
計を提供するものである。
以下、その構成等を図に示す実施例によって詳細に説明
する。
する。
第3図は本発明に係る赤外線W子分析計を示す断面図で
、同図において符号11fiすものは赤外線を照!す元
厚を仝し、この光源1.1.、fi 9享軸上にはこれ
に対向して後梼する輝整個の方ルを透過した透過光を一
巻する辞半器12が設けられている。この集光シ12と
前記、光曹11との間にはモータ13が前記光軸と平行
に固定され、このモータリの出力軸には円形の回転ホイ
ニル14が軸装されていや。、この回転ホイール14に
は、透過ガスセル15.と基準ガでセル16.とが交互
に軸線方向に装着され、これらのセル15−6はモータ
13の回転ホイール1.4.椰勲により、、交互に光源
11の光ル申上に臨冥、よう一位讐疼めされる。
、同図において符号11fiすものは赤外線を照!す元
厚を仝し、この光源1.1.、fi 9享軸上にはこれ
に対向して後梼する輝整個の方ルを透過した透過光を一
巻する辞半器12が設けられている。この集光シ12と
前記、光曹11との間にはモータ13が前記光軸と平行
に固定され、このモータリの出力軸には円形の回転ホイ
ニル14が軸装されていや。、この回転ホイール14に
は、透過ガスセル15.と基準ガでセル16.とが交互
に軸線方向に装着され、これらのセル15−6はモータ
13の回転ホイール1.4.椰勲により、、交互に光源
11の光ル申上に臨冥、よう一位讐疼めされる。
前記透過および基準ガスセル1.5 、16は少なくと
も光源11に対向する部分力、;透光性財力々ら形成さ
れ、透過ガスセル15中には、、光を遮艶ない(。
も光源11に対向する部分力、;透光性財力々ら形成さ
れ、透過ガスセル15中には、、光を遮艶ない(。
少なくとも被検クス、の赤外線吸収領域を遮らない)透
過ガスが封入され、光軸上に雰囲気ガス〃−を人して光
を遮る0烹防止5c、z、4.、、、基準ガフゞ′16
内には、測定しようとする成分ガスが飽和状態(濃度1
oos)の、、基準ガスが封入されている。
過ガスが封入され、光軸上に雰囲気ガス〃−を人して光
を遮る0烹防止5c、z、4.、、、基準ガフゞ′16
内には、測定しようとする成分ガスが飽和状態(濃度1
oos)の、、基準ガスが封入されている。
17は光軸上前記集光器12の前方に設けられ、被検ガ
スが連続的にその内部に堺給されるサンプルセルで、透
過および基準ガそ古ル1541,6と同様に少なくとも
光源に対向するすなわち、光軸上?部分体透西惟材から
警戒されている。午のサン、ブルセノと17は被検ガス
が低一度でちっても、従来のよ、う、に長さが変!され
るようなことがなく、一定長を有してい、る。これらサ
ンプルセル17およ、び透過ガスセル15塾るいは基準
ガそセル16を透米し、た、、透過光は前記隼光轡12
に集光される。
スが連続的にその内部に堺給されるサンプルセルで、透
過および基準ガそ古ル1541,6と同様に少なくとも
光源に対向するすなわち、光軸上?部分体透西惟材から
警戒されている。午のサン、ブルセノと17は被検ガス
が低一度でちっても、従来のよ、う、に長さが変!され
るようなことがなく、一定長を有してい、る。これらサ
ンプルセル17およ、び透過ガスセル15塾るいは基準
ガそセル16を透米し、た、、透過光は前記隼光轡12
に集光される。
、こ、、れを±、イサ、1Bが受■し測定中力を得るこ
とができる。
とができる。
19は前記回転ホイール14とす、ンプルセル17と、
の間サンプルセルフ1Tを通る外軸上に着脱自在−介装
、された調整ガスセルで5.この調整、ガスセル19は
少なくとも光軸上の部分は透光性材から形感さ杆テ、い
る。、その内部には被検ガスの濃度が低吟、とキ咳、カ
イ、す、1Bの測定出力を基準ガスセル16内の基準ガ
スとの信号比較が容易なレベ/l<に高める濃度を有す
る被検ガス成分の調整勿スが封入されている。換言すれ
ば、′11整ガス19′め被検ガス成分は第2図(b)
に示す七ン゛す出力にお□い罰読みとシやすいパルスが
樽6庇る□よう外1度□に調整されている。20′は羊
の内部に挿入された前□記鯛整ガスセル19を光軸上に
保持する保持織材□で、調整ガス毎ル19が装着されな
いときには’J””M記透過ガスセル:15と同様去セ
ルが装着1さ6雰囲気の内部流入を防止してい為。
の間サンプルセルフ1Tを通る外軸上に着脱自在−介装
、された調整ガスセルで5.この調整、ガスセル19は
少なくとも光軸上の部分は透光性材から形感さ杆テ、い
る。、その内部には被検ガスの濃度が低吟、とキ咳、カ
イ、す、1Bの測定出力を基準ガスセル16内の基準ガ
スとの信号比較が容易なレベ/l<に高める濃度を有す
る被検ガス成分の調整勿スが封入されている。換言すれ
ば、′11整ガス19′め被検ガス成分は第2図(b)
に示す七ン゛す出力にお□い罰読みとシやすいパルスが
樽6庇る□よう外1度□に調整されている。20′は羊
の内部に挿入された前□記鯛整ガスセル19を光軸上に
保持する保持織材□で、調整ガス毎ル19が装着されな
いときには’J””M記透過ガスセル:15と同様去セ
ルが装着1さ6雰囲気の内部流入を防止してい為。
このように構成された赤外線ガス分析計にお゛い□ては
、モータ13によす向転糸イール′14を駆動して光軸
上に、透過ガスセル15と基′準切メセル16とを交互
に選択的に臨ませ名ことができる:。
、モータ13によす向転糸イール′14を駆動して光軸
上に、透過ガスセル15と基′準切メセル16とを交互
に選択的に臨ませ名ことができる:。
したがって光源1′1から照射される赤外線の光軸上に
は、透過ガスセル19あるいは基兼ガスセル16のいず
れか一方、調整ガスセル19、サンプルセル17、集光
器12、センサリが郷設されるととになる。そしてサン
プルセル17内の被検ガスの濃度は従来の赤外線ガス分
析計□と同様に、基準ガスセル16を透過した赤外線と
透過ガスセル1′□′5を透過した赤外線あ□の比較に
よづそ求めるととがセき暮□′計前記基準′、//″゛
支セル16を透蓬し苑縁外−は、□前□記第2” cm
’<;>に系4グラフ′ト:はとtど喪ら′□萎い信号
とじソ樽られる7これは晃軸上に配鰻去孔だ基準ガスセ
ル1′66漏準ガ1′ス濃館は、それ以外のセル内ガス
の信号が力りわ□つた程度では□はとん□ど信号□とし
て押圭iると□とのない106漬濃度に□近い値祉そ□
れだけで−M′足でしiからである。
は、透過ガスセル19あるいは基兼ガスセル16のいず
れか一方、調整ガスセル19、サンプルセル17、集光
器12、センサリが郷設されるととになる。そしてサン
プルセル17内の被検ガスの濃度は従来の赤外線ガス分
析計□と同様に、基準ガスセル16を透過した赤外線と
透過ガスセル1′□′5を透過した赤外線あ□の比較に
よづそ求めるととがセき暮□′計前記基準′、//″゛
支セル16を透蓬し苑縁外−は、□前□記第2” cm
’<;>に系4グラフ′ト:はとtど喪ら′□萎い信号
とじソ樽られる7これは晃軸上に配鰻去孔だ基準ガスセ
ル1′66漏準ガ1′ス濃館は、それ以外のセル内ガス
の信号が力りわ□つた程度では□はとん□ど信号□とし
て押圭iると□とのない106漬濃度に□近い値祉そ□
れだけで−M′足でしiからである。
一方i過ガスセル1虻を透過した赤外線は、サジ7′症
セル1′7′内にm1mM送綺さ社名被検勅夏のiml
によって□、逐表出力さ砒名どとになる°。
セル1′7′内にm1mM送綺さ社名被検勅夏のiml
によって□、逐表出力さ砒名どとになる°。
左ころで尿発萌に示いて゛i調iガスセル19示着i癲
に介装されているめで、補記被検ガ□スの□i度がき□
わめて低い左きであづても、測定□出力”M調iガスセ
ル′19内あ廟−ガスによって、基準ガスとの信号比較
が容易なレベルに高められて仏る。
に介装されているめで、補記被検ガ□スの□i度がき□
わめて低い左きであづても、測定□出力”M調iガスセ
ル′19内あ廟−ガスによって、基準ガスとの信号比較
が容易なレベルに高められて仏る。
こめたあ、基□準ガス−よる信号ど比祿され易いレベル
の値を得ることができる。□濃度め表示は高めた値を差
引くことによシ正確長行える。 □また第4図に示す
ように濃面CによってO休ら□基準ガス濃度のD位置ま
で変化するセンサ出力Aのり=ヤリティが問題視され本
ことがあるが、本発明のように信号のいわゆる底上げが
自在にできれば、直−性の良いE部分に測命基亨点F(
ゼロ点)を移すことができ本から−その、41の信号変
化が読み易く、その表示にも、・i正を要部る・ことが
ない。 ″:′第5図は第2
の実施例をぷす斜視図□、第6図り、、′、′
・ 第3の実施例を示す要部断面図で、と五ら、め図におい
て第3図に示すものと同一あるいは同等な部材には同一
符号を付す。第5図に示す実施例においては、多成分の
被検ガスを測定するために、回転ホイール14には測定
しようとする成分の数(16,16が装着されている。
の値を得ることができる。□濃度め表示は高めた値を差
引くことによシ正確長行える。 □また第4図に示す
ように濃面CによってO休ら□基準ガス濃度のD位置ま
で変化するセンサ出力Aのり=ヤリティが問題視され本
ことがあるが、本発明のように信号のいわゆる底上げが
自在にできれば、直−性の良いE部分に測命基亨点F(
ゼロ点)を移すことができ本から−その、41の信号変
化が読み易く、その表示にも、・i正を要部る・ことが
ない。 ″:′第5図は第2
の実施例をぷす斜視図□、第6図り、、′、′
・ 第3の実施例を示す要部断面図で、と五ら、め図におい
て第3図に示すものと同一あるいは同等な部材には同一
符号を付す。第5図に示す実施例においては、多成分の
被検ガスを測定するために、回転ホイール14には測定
しようとする成分の数(16,16が装着されている。
また調整ガスエル19内には、各成分ガスごとのセンサ
出力を基準ガスのものと容易に比較できるレベルに高め
る濃度の調整ガ〜が混合状態で封入されている。4たこ
の場合、調整ガスセル1Sは第6図に示す実施例のよう
に分離取出し、取換え可能に軸方向に分−9−〇□1 割し、個々の調整ガスセル19a+19b、19c内に
各成分ガスごとの、・調整ガスをそれぞれ封入してもよ
い。
出力を基準ガスのものと容易に比較できるレベルに高め
る濃度の調整ガ〜が混合状態で封入されている。4たこ
の場合、調整ガスセル1Sは第6図に示す実施例のよう
に分離取出し、取換え可能に軸方向に分−9−〇□1 割し、個々の調整ガスセル19a+19b、19c内に
各成分ガスごとの、・調整ガスをそれぞれ封入してもよ
い。
これらの実施例においても、サンプルセル17内の被検
ガスの濃度は、基準ガスセル16を透過した赤外線と透
過ガスセル15を透過した赤外線□との比較によって求
めることができる。また赤外線の吸収波長域が成分ガス
ごとに異なるので、被検ガスが濃度差の天命1.な混、
會多1惑分ガスであっても、各成分を同一レンジで伺時
に測定することができる。
ガスの濃度は、基準ガスセル16を透過した赤外線と透
過ガスセル15を透過した赤外線□との比較によって求
めることができる。また赤外線の吸収波長域が成分ガス
ごとに異なるので、被検ガスが濃度差の天命1.な混、
會多1惑分ガスであっても、各成分を同一レンジで伺時
に測定することができる。
なお上記実施例においては調整ガスセル19をサンプル
セルと基準ガスセル116あるいは透過ガスセル15と
の間に介装している。が本発明はとれに限定される一〇
ではなく・光源11と集光器12との間サンプルセル1
Tを通る光軸上であれば、いかなる位置でもよいのはい
うまでもな諭。また回転ホイール14によって透過ガス
セル15および基準ガスセル16を選択的に光軸上に臨
ませているが、光軸を2つに亦舊ル1..それぞれの分
割光10− 軸上で被検ガス、と基準ガス勺を比較すそよ、うにした
いわゆる「2ビーム方ぺ」の赤外線μネ盆−計にも実施
できるのはヤ論で、条る。、あら、かじメ竺濃反の調整
ノスセル19を各種用意しておき交換す。
セルと基準ガスセル116あるいは透過ガスセル15と
の間に介装している。が本発明はとれに限定される一〇
ではなく・光源11と集光器12との間サンプルセル1
Tを通る光軸上であれば、いかなる位置でもよいのはい
うまでもな諭。また回転ホイール14によって透過ガス
セル15および基準ガスセル16を選択的に光軸上に臨
ませているが、光軸を2つに亦舊ル1..それぞれの分
割光10− 軸上で被検ガス、と基準ガス勺を比較すそよ、うにした
いわゆる「2ビーム方ぺ」の赤外線μネ盆−計にも実施
できるのはヤ論で、条る。、あら、かじメ竺濃反の調整
ノスセル19を各種用意しておき交換す。
れば、p4i1変化刈激、しい構検ガスであ?ても少速
。
。
に対応することもできる。。 。
以上叫−シたように不発−に、よればサン、プルセルを
通る光軸上に、基率、ガスとの信号比較が容易なレベル
に測定出力を高める。濃度の被検ガそ成分を封入した。
通る光軸上に、基率、ガスとの信号比較が容易なレベル
に測定出力を高める。濃度の被検ガそ成分を封入した。
調整ガスセル、を:着脱自在に、空袋したから、被検ガ
スの濃度が、きセめて、低いときは、調整ガそセルによ
って、透過ガスセル、を導通した赤外線の測定出力を基
準ガスセルを透過した佐外線との信号比較が、帯易なレ
ベルに高めることかで竺、ヤと共に、センサ出力の測舅
、基準点を直線性の良い部分に移すことができる。、
。
スの濃度が、きセめて、低いときは、調整ガそセルによ
って、透過ガスセル、を導通した赤外線の測定出力を基
準ガスセルを透過した佐外線との信号比較が、帯易なレ
ベルに高めることかで竺、ヤと共に、センサ出力の測舅
、基準点を直線性の良い部分に移すことができる。、
。
した、かって、被検ガスの濃度がきわめて低いときであ
、つても従来のよう、にサンプルセルを長くすることな
く、一定長のサンプルセルで高、一度に被検ガスの濃度
を測定できるとりう効果がある。この水め測定操作の簡
素化ならびに保護筒、内格納化がけか些るという幼果も
ある。
、つても従来のよう、にサンプルセルを長くすることな
く、一定長のサンプルセルで高、一度に被検ガスの濃度
を測定できるとりう効果がある。この水め測定操作の簡
素化ならびに保護筒、内格納化がけか些るという幼果も
ある。
佛1図は従来の率外線オス分析計を牟す断面図、第、、
2図はセンサの出力と、(a)基準4スセルを透過した
赤外M(b)透過ガスセル、、を送辞した赤外線の波長
と、の関%を示すグラフ、第3図は不発明に係る赤外線
ガス分析計の一実施例を示す断面図、第4図はセンサ出
力と濃度との関係を示すグラフ、第5図は本押明に係今
赤外線ガス分析社の第2の実施例、を示す斜視、図、第
6.図、は同、しく第3の実施例を示す要部断面図であ
る。 、、。 11・・・・光源、15・・・・透過ガスセル、16−
・−・基準ガスセル、17・・・・サンプル、セル、1
8・・Tセンサ、19II・・−調整ガスセル。
、。 特許出願人 山武ハネウェル株式会社代理人
山、用政樹(ほか1名) 第1図 第2図 □ (C1) (b)′ 第3図 、 第4図。
2図はセンサの出力と、(a)基準4スセルを透過した
赤外M(b)透過ガスセル、、を送辞した赤外線の波長
と、の関%を示すグラフ、第3図は不発明に係る赤外線
ガス分析計の一実施例を示す断面図、第4図はセンサ出
力と濃度との関係を示すグラフ、第5図は本押明に係今
赤外線ガス分析社の第2の実施例、を示す斜視、図、第
6.図、は同、しく第3の実施例を示す要部断面図であ
る。 、、。 11・・・・光源、15・・・・透過ガスセル、16−
・−・基準ガスセル、17・・・・サンプル、セル、1
8・・Tセンサ、19II・・−調整ガスセル。
、。 特許出願人 山武ハネウェル株式会社代理人
山、用政樹(ほか1名) 第1図 第2図 □ (C1) (b)′ 第3図 、 第4図。
Claims (2)
- (1)被検ガスが送給される一楚長さのサンプルセルを
通る光軸上に、基準ガスとの□信号比軟が容易なレベル
に測定出力を高める濃度の被検ガス成分を封入した調整
ガスセルを着脱自在に介装し九εとを特徴とする赤外線
ガス分析計。 - (2)上記調整ガスセルは検出しようとする複数成分の
ガスごとに分離取出し、取換え可能に軸方向に分割され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の赤
外線ガス分析計。 ′
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57165595A JPS5954951A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 赤外線ガス分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57165595A JPS5954951A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 赤外線ガス分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5954951A true JPS5954951A (ja) | 1984-03-29 |
| JPH023459B2 JPH023459B2 (ja) | 1990-01-23 |
Family
ID=15815331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57165595A Granted JPS5954951A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | 赤外線ガス分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5954951A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010019780A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Fuji Electric Systems Co Ltd | レーザ式ガス分析計 |
| JP2010032422A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Fuji Electric Systems Co Ltd | レーザ式ガス分析計、酸素ガス濃度測定方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0554472U (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-20 | 古河機械金属株式会社 | コイルチューブの巻付け装置 |
| JP2009014661A (ja) * | 2007-07-09 | 2009-01-22 | Fuji Electric Systems Co Ltd | ガス濃度計測装置 |
-
1982
- 1982-09-22 JP JP57165595A patent/JPS5954951A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010019780A (ja) * | 2008-07-14 | 2010-01-28 | Fuji Electric Systems Co Ltd | レーザ式ガス分析計 |
| JP2010032422A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Fuji Electric Systems Co Ltd | レーザ式ガス分析計、酸素ガス濃度測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH023459B2 (ja) | 1990-01-23 |
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