JPS6214769B2 - - Google Patents
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- JPS6214769B2 JPS6214769B2 JP51055474A JP5547476A JPS6214769B2 JP S6214769 B2 JPS6214769 B2 JP S6214769B2 JP 51055474 A JP51055474 A JP 51055474A JP 5547476 A JP5547476 A JP 5547476A JP S6214769 B2 JPS6214769 B2 JP S6214769B2
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- JP
- Japan
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- measurement
- optical path
- radiant beam
- gas
- reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
- G01N21/53—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid within a flowing fluid, e.g. smoke
- G01N21/534—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid within a flowing fluid, e.g. smoke by measuring transmission alone, i.e. determining opacity
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/85—Investigating moving fluids or granular solids
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は種々のガスの混合物、あるいは煙中の
ガスと煙の成分の濃度の非分散式光学測定装置に
関し、特に、測定する混合物中のガス成分または
煙成分の数に少なくとも等しい数の異なる波長の
輻射光束を上記混合物中に照射し、混合物中を通
過させた後に反射させ、再度、混合物中を通過さ
せてから周期的に受光器によりこれを検出し、そ
うした場合に当該受光器の出力として得られる当
該輻射光束伝送路の伝送特性値ないし伝送係数を
表す出力信号に基づき、ベール(Beer)の法則
によつて上記成分濃度を求める装置に関する。
ガスと煙の成分の濃度の非分散式光学測定装置に
関し、特に、測定する混合物中のガス成分または
煙成分の数に少なくとも等しい数の異なる波長の
輻射光束を上記混合物中に照射し、混合物中を通
過させた後に反射させ、再度、混合物中を通過さ
せてから周期的に受光器によりこれを検出し、そ
うした場合に当該受光器の出力として得られる当
該輻射光束伝送路の伝送特性値ないし伝送係数を
表す出力信号に基づき、ベール(Beer)の法則
によつて上記成分濃度を求める装置に関する。
輻射吸収の原理に基づく各種濃度測定の基礎は
ベールの法則であり、これによると照射された試
料の伝送特性値は次式による測定長Lと試料濃度
Cの積に指数的に依存する。
ベールの法則であり、これによると照射された試
料の伝送特性値は次式による測定長Lと試料濃度
Cの積に指数的に依存する。
T=I(λ)/Io(λ)=exp.[−K(λ)
×L×C] (1)
ここにおいて、Io(λ)とI(λ)は、それぞ
れ上記測定長の始端と終端における所与の波長の
輻射光束強度である。
れ上記測定長の始端と終端における所与の波長の
輻射光束強度である。
K(λ)は測定ガス成分の波長依存性吸収係数
であり、いくつかのガス成分がスペクトルの同一
点において差異をもつて吸収することが良くあ
り、これは測定においていわゆる交差感度として
現れる。
であり、いくつかのガス成分がスペクトルの同一
点において差異をもつて吸収することが良くあ
り、これは測定においていわゆる交差感度として
現れる。
輻射光束強度の測定は、一般に一つの輻射光束
検出器によつて行なわれるので、こうした測定に
よる結果には、輻射源の輻射光束強度の変動やオ
プテイカル・パス(測定光路)中における輻射損
失の変動によるばかりではなく、輻射光束検出器
自体の感度の変動によつても誤差を生ずる。測定
光路中における吸収損失とは独立に、測定した輻
射光束強度における連続的な変動は、装置の偏差
となる。
検出器によつて行なわれるので、こうした測定に
よる結果には、輻射源の輻射光束強度の変動やオ
プテイカル・パス(測定光路)中における輻射損
失の変動によるばかりではなく、輻射光束検出器
自体の感度の変動によつても誤差を生ずる。測定
光路中における吸収損失とは独立に、測定した輻
射光束強度における連続的な変動は、装置の偏差
となる。
公知の非分散式ガス分析装置は、使用するスペ
クトルの範囲に関係なく、大略すれば二つのグル
ープに分けることができる。
クトルの範囲に関係なく、大略すれば二つのグル
ープに分けることができる。
一つは波長選択用の複数の光学フイルタ装置ま
たは複数の選択的輻射源を用いるもので、他の一
つはガス充填容器によりスペクトル分離を行なう
ものである。
たは複数の選択的輻射源を用いるもので、他の一
つはガス充填容器によりスペクトル分離を行なう
ものである。
所謂交差感度(これはスペクトル上のある点に
おいて異なるガスが同様になす吸収の影響と理解
できる)を排除するため、上記後者の装置では二
本の光束を用い、一つまたは二つの輻射源から出
た二本の輻射光束の一つは測定するガス試料を充
填した測定用容器中を通過するようにされ、他の
一つは中性ガスを充填した対照用容器中を通過す
るようにされる。
おいて異なるガスが同様になす吸収の影響と理解
できる)を排除するため、上記後者の装置では二
本の光束を用い、一つまたは二つの輻射源から出
た二本の輻射光束の一つは測定するガス試料を充
填した測定用容器中を通過するようにされ、他の
一つは中性ガスを充填した対照用容器中を通過す
るようにされる。
そうした、これら二つの容器における異なる輻
射吸収が特定のスペクトル範囲に対応するように
構成された輻射光束検出器によつて検出され、電
気信号として出力される。
射吸収が特定のスペクトル範囲に対応するように
構成された輻射光束検出器によつて検出され、電
気信号として出力される。
これに対し、単一の輻射光束を用いる装置もあ
るが、この装置では、試料ガスと対照ガス(ない
し基準ガス)を交互に単一の容器中に充填しなけ
ればならず、極めて煩雑である。
るが、この装置では、試料ガスと対照ガス(ない
し基準ガス)を交互に単一の容器中に充填しなけ
ればならず、極めて煩雑である。
こうした形式のガス分析装置の詳細は、定期刊
行物である『“塵挨のない空気の維持”28
(1968)Pt.3PP.128―134』掲載のエツチ・ダブリ
ユ・セーネスおよびダブリユ・グルースの論文
「ガス放出物の連続監視用の監視および測定装置
における最近の発達状況」に見ることができる。
行物である『“塵挨のない空気の維持”28
(1968)Pt.3PP.128―134』掲載のエツチ・ダブリ
ユ・セーネスおよびダブリユ・グルースの論文
「ガス放出物の連続監視用の監視および測定装置
における最近の発達状況」に見ることができる。
しかし、この装置では、試料ガスを採取して準
備するための装置を要するという基本的な欠点を
持つている。この方法の煩雑さを別にしても、試
料ガスの採取に際しては誤差を生じ易く、測定用
に得られた部分的な流れは廃ガス全体を代表する
ものではなくなることがある。また、固体の微
粉、水蒸気、及び煙霧質等、分布している異物は
測定ガス中から除去しなければならず、そのた
め、試料ガス取出しのための接続管を有する抜き
取り用浄化装置は、詰まつたり腐食したりしない
ようにしなければならない外、試料ガスの準備に
使用する濾過器、冷却器、受け器等の清浄性にも
十分、配慮しなければならない。
備するための装置を要するという基本的な欠点を
持つている。この方法の煩雑さを別にしても、試
料ガスの採取に際しては誤差を生じ易く、測定用
に得られた部分的な流れは廃ガス全体を代表する
ものではなくなることがある。また、固体の微
粉、水蒸気、及び煙霧質等、分布している異物は
測定ガス中から除去しなければならず、そのた
め、試料ガス取出しのための接続管を有する抜き
取り用浄化装置は、詰まつたり腐食したりしない
ようにしなければならない外、試料ガスの準備に
使用する濾過器、冷却器、受け器等の清浄性にも
十分、配慮しなければならない。
これに対し、廃ガスを移送するダクト、例えば
煙突における直接測定を図ることにより、上記の
欠点を克服しようとした装置もある(独国公開特
許第2324049号)。この装置では、煙突の外側にあ
るハウジング内に、輻射源、光学フイルタ装置、
検出器、電子的評価装置がまとめられており、ハ
ウジングの側部から煙突内にはガスの透過可能な
探査具が突出している。探査具の端部には鏡が設
けられ、輻射光束はここで偏向された後、測定ヘ
ツドに戻つてくるようにされている。測定はそれ
ぞれのガス成分SO2、NO2に各一つあての対応す
る二つの波長を用いてスペクトルの紫外領域にお
いて行なわれ、これら二つの伝送特性値に関して
それぞれのガス成分濃度を求めるために電子的な
評価が行なわれる。この装置では、平衡を取るた
めと定期的に中立、校正点を得るために、探査具
を測定対象の成分を含まない中性ガスにより清浄
する必要がある、 他の公知の装置としては、輻射源を収めたハウ
ジングと、検出器及び評価ユニツトを収めたハウ
ジングとを煙突を挟んで相互に対向するように装
架し、ガス透過性の管によつて相互に連結するよ
うにしたものがある。この装置における輻射源
は、紫外線SO2吸収体に同調された異なる波長の
輻射光束を発する二つの中空カソードを有してお
り、輻射光束は煙突内を通過後、検出ユニツトに
よつてその強度が測定、評価される。また、第二
の検出器が伝送部分中に設けられていて、二つの
中空カソード・ランプの輻射能力に差異が出た場
合、これを検出するようになつている。
煙突における直接測定を図ることにより、上記の
欠点を克服しようとした装置もある(独国公開特
許第2324049号)。この装置では、煙突の外側にあ
るハウジング内に、輻射源、光学フイルタ装置、
検出器、電子的評価装置がまとめられており、ハ
ウジングの側部から煙突内にはガスの透過可能な
探査具が突出している。探査具の端部には鏡が設
けられ、輻射光束はここで偏向された後、測定ヘ
ツドに戻つてくるようにされている。測定はそれ
ぞれのガス成分SO2、NO2に各一つあての対応す
る二つの波長を用いてスペクトルの紫外領域にお
いて行なわれ、これら二つの伝送特性値に関して
それぞれのガス成分濃度を求めるために電子的な
評価が行なわれる。この装置では、平衡を取るた
めと定期的に中立、校正点を得るために、探査具
を測定対象の成分を含まない中性ガスにより清浄
する必要がある、 他の公知の装置としては、輻射源を収めたハウ
ジングと、検出器及び評価ユニツトを収めたハウ
ジングとを煙突を挟んで相互に対向するように装
架し、ガス透過性の管によつて相互に連結するよ
うにしたものがある。この装置における輻射源
は、紫外線SO2吸収体に同調された異なる波長の
輻射光束を発する二つの中空カソードを有してお
り、輻射光束は煙突内を通過後、検出ユニツトに
よつてその強度が測定、評価される。また、第二
の検出器が伝送部分中に設けられていて、二つの
中空カソード・ランプの輻射能力に差異が出た場
合、これを検出するようになつている。
廃ガス煙突内における直接測定を図つた更に他
の公知の非分散式および分散式輻射解析装置とし
ては、定期刊行物『“パワー”(1975年4月、頁92
―94)』におけるテイー・シー・エリオツトによ
る論文「ボイラの煙突ガスの監視」に報告された
ものである。
の公知の非分散式および分散式輻射解析装置とし
ては、定期刊行物『“パワー”(1975年4月、頁92
―94)』におけるテイー・シー・エリオツトによ
る論文「ボイラの煙突ガスの監視」に報告された
ものである。
しかるに、煙突にそれぞれ独立して設けた伝送
ユニツトと受光ユニツトは、鏡によつて探査具内
で輻射光束を偏向させる場合と同様、調節するに
は相当に敏感で難しく、測定距離を通過する輻射
光束の強度は煙突に設けた装置の幾何学的な向き
と安定性にも依存してしまう。もちろん、常に同
一の混合物が存在する空間中を同一の光路を通つ
て行く限り、二つの波長の輻射光束を用いる上記
手法によつてもガス含有量を測定することは可能
ではある。
ユニツトと受光ユニツトは、鏡によつて探査具内
で輻射光束を偏向させる場合と同様、調節するに
は相当に敏感で難しく、測定距離を通過する輻射
光束の強度は煙突に設けた装置の幾何学的な向き
と安定性にも依存してしまう。もちろん、常に同
一の混合物が存在する空間中を同一の光路を通つ
て行く限り、二つの波長の輻射光束を用いる上記
手法によつてもガス含有量を測定することは可能
ではある。
しかし実際上、この種の装置を用いて廃ガス中
の煙成分を測定することは殆ど不可能に近い。と
いうのも、ガス成分以外の固体成分が両方の波長
の輻射光束に共に作用し、その伝送性を共に低減
させてしまうためである。したがつてこの欠点を
補うには、減衰されることのない対照用ないし基
準用の輻射光束を別途に必要とする。
の煙成分を測定することは殆ど不可能に近い。と
いうのも、ガス成分以外の固体成分が両方の波長
の輻射光束に共に作用し、その伝送性を共に低減
させてしまうためである。したがつてこの欠点を
補うには、減衰されることのない対照用ないし基
準用の輻射光束を別途に必要とする。
さらにこの種の装置では、調節に基づく輻射光
束強度の全ての変動は固体含有量の決定に関し測
定誤差として現れてくるであろうし、他のガス成
分に対する交差感度は二波長法を用いても排除す
ることはできず、水蒸気の吸収体を含んで赤外ス
ペクトルの広い範囲に亘り存在する広いNO2帯の
ために紫外領域においてもこれを考慮せねばなら
ない。
束強度の全ての変動は固体含有量の決定に関し測
定誤差として現れてくるであろうし、他のガス成
分に対する交差感度は二波長法を用いても排除す
ることはできず、水蒸気の吸収体を含んで赤外ス
ペクトルの広い範囲に亘り存在する広いNO2帯の
ために紫外領域においてもこれを考慮せねばなら
ない。
結局、これまでに開発された煙突における直接
測定用の装置は、既述の交差感度に対し、補償す
るための特別な装置ないし手法を全く許容しな
い。またこの種の装置による場合、輻射光束の長
期間に亘る安定性を連続的に監視することも必要
であるが、複数の光伝送器や受光器を用いる場
合、これは極めて困難である。さらに、二波長を
用いる場合には算術的に商を得ることになるが、
これは用いる光学及び光電要素が波長に依存しな
い場合にのみ、補償を要しないものであつて、波
長依存性があれば偏差を生ずる。
測定用の装置は、既述の交差感度に対し、補償す
るための特別な装置ないし手法を全く許容しな
い。またこの種の装置による場合、輻射光束の長
期間に亘る安定性を連続的に監視することも必要
であるが、複数の光伝送器や受光器を用いる場
合、これは極めて困難である。さらに、二波長を
用いる場合には算術的に商を得ることになるが、
これは用いる光学及び光電要素が波長に依存しな
い場合にのみ、補償を要しないものであつて、波
長依存性があれば偏差を生ずる。
本発明はこのような実情に鑑みて成されたもの
で、その目的は、上述の従来例の欠点を克服し、
輻射光束の吸収に基づく濃度測定において遥かに
正確な測定を可能にすると共に、特にスペクトル
的に異なる偏差は生じないようなガス成分濃度検
出装置の提供にある。
で、その目的は、上述の従来例の欠点を克服し、
輻射光束の吸収に基づく濃度測定において遥かに
正確な測定を可能にすると共に、特にスペクトル
的に異なる偏差は生じないようなガス成分濃度検
出装置の提供にある。
この目的を達成するため、本発明においては次
のような構成を提供する。
のような構成を提供する。
煙粒子を含み得る廃ガス混合物中のガス成分濃
度検出装置であつて、 (a) 廃ガス混合物中を通過する測定光路の一端側
に備えられ、該測定光路に沿つて輻射光束を指
向する光学的輻射源と、 (b) 上記測定光路の他端側に配され、上記輻射光
束を上記測定光路一端側に向けて反射する第一
の反転反射器と、 (c) 上記反射された輻射光束光路中に配され、測
定すべきガス成分の数に対応した数の個々のフ
イルタを有すると共に、該個々のフイルタが、
上記各ガス成分の吸収範囲に対応したスペクト
ル伝送範囲を持つフイルタ手段と、 (d) 上記光学的輻射源からの輻射光束を上記廃ガ
ス中を通過させることなく直接に上記フイルタ
手段へ照射させる光学要素と、 (e) 上記フイルタ手段の個々のフイルタを通過し
てきた輻射光束成分から、上記測定光路を通過
してきた輻射光束に対しての測定信号群と、上
記フイルタ手段を直接に照射した輻射光束に対
しての対照信号群を生ずる光電変換装置と、 (f) 同一のスペクトル範囲にある対応する各対照
信号に関して各測定信号を正規化し、かつ、ベ
ールの法則に基づいて該正規化した測定信号か
ら各ガス成分濃度を算出する処理回路と、 から成り、 (g) 上記光学要素は、測定光路49の手前におい
て予め定められた時間に亘り周期的に輻射光束
中に挿入され、該輻射光束を上記光電変換装置
17へ反射する第二の反転反射器22を有し、 (h) 上記フイルタ手段は、上記第一の反転反射器
13または第二の反転反射器22から反射され
てきた輻射光束中に個々のフイルタ23,2
4,25及び該輻射光束を透過させない部分2
6を選択的に挿入する装置18,80を有する
と共に、 (i) 上記処理回路は、上記反射されてきた輻射光
束中に上記輻射光束を透過させない部分26が
存在するときに生ずる暗電流に伴う測定信号及
び対照信号中の暗電流成分を補償する回路部分
32,47,57を有すると共に、補償された
測定信号群及び対照信号群を記憶する回路装置
部分(51から56)を有すること、 を特徴とする廃ガス中のガス成分濃度検出装置。
度検出装置であつて、 (a) 廃ガス混合物中を通過する測定光路の一端側
に備えられ、該測定光路に沿つて輻射光束を指
向する光学的輻射源と、 (b) 上記測定光路の他端側に配され、上記輻射光
束を上記測定光路一端側に向けて反射する第一
の反転反射器と、 (c) 上記反射された輻射光束光路中に配され、測
定すべきガス成分の数に対応した数の個々のフ
イルタを有すると共に、該個々のフイルタが、
上記各ガス成分の吸収範囲に対応したスペクト
ル伝送範囲を持つフイルタ手段と、 (d) 上記光学的輻射源からの輻射光束を上記廃ガ
ス中を通過させることなく直接に上記フイルタ
手段へ照射させる光学要素と、 (e) 上記フイルタ手段の個々のフイルタを通過し
てきた輻射光束成分から、上記測定光路を通過
してきた輻射光束に対しての測定信号群と、上
記フイルタ手段を直接に照射した輻射光束に対
しての対照信号群を生ずる光電変換装置と、 (f) 同一のスペクトル範囲にある対応する各対照
信号に関して各測定信号を正規化し、かつ、ベ
ールの法則に基づいて該正規化した測定信号か
ら各ガス成分濃度を算出する処理回路と、 から成り、 (g) 上記光学要素は、測定光路49の手前におい
て予め定められた時間に亘り周期的に輻射光束
中に挿入され、該輻射光束を上記光電変換装置
17へ反射する第二の反転反射器22を有し、 (h) 上記フイルタ手段は、上記第一の反転反射器
13または第二の反転反射器22から反射され
てきた輻射光束中に個々のフイルタ23,2
4,25及び該輻射光束を透過させない部分2
6を選択的に挿入する装置18,80を有する
と共に、 (i) 上記処理回路は、上記反射されてきた輻射光
束中に上記輻射光束を透過させない部分26が
存在するときに生ずる暗電流に伴う測定信号及
び対照信号中の暗電流成分を補償する回路部分
32,47,57を有すると共に、補償された
測定信号群及び対照信号群を記憶する回路装置
部分(51から56)を有すること、 を特徴とする廃ガス中のガス成分濃度検出装置。
上記のような本発明の構成によれば、受光器の
スペクトル感度の波長依存性による影響や輻射源
のスペクトル放射性による影響を始め、他の光学
要素の影響をも補償することができる。すなわ
ち、本発明装置によれば偏差の影響は完全に除去
でき、しかもこの偏差が波長に依存するものであ
つても除去できる。
スペクトル感度の波長依存性による影響や輻射源
のスペクトル放射性による影響を始め、他の光学
要素の影響をも補償することができる。すなわ
ち、本発明装置によれば偏差の影響は完全に除去
でき、しかもこの偏差が波長に依存するものであ
つても除去できる。
また、本発明装置において周期的に作られる対
照信号は、例えば一般には10分毎に作られれば足
りる。それ以下の短い時間中においては、偏差の
影響は実際上、認められないことが多いからであ
る。原理的には更にもつと長い時間間隔でも適当
なこともあろう。
照信号は、例えば一般には10分毎に作られれば足
りる。それ以下の短い時間中においては、偏差の
影響は実際上、認められないことが多いからであ
る。原理的には更にもつと長い時間間隔でも適当
なこともあろう。
測定信号と対照信号とは、ある基準条件下で同
一のレベルに安定化できれば特に有利である。こ
れは各信号を異なる増幅器によつて増幅すること
により果たすことができ、このようにすると数値
計算が極めて簡単になる。
一のレベルに安定化できれば特に有利である。こ
れは各信号を異なる増幅器によつて増幅すること
により果たすことができ、このようにすると数値
計算が極めて簡単になる。
混合物が煙、SO2、NO2から成る場合には、測
定に供する波長は313、435、546nmが有利であ
り、したがつて輻射源としては、これらの波長を
その放射帯中に含む低圧水銀蒸気ランプを用いる
ことが合理的である。また、反射器としてはトリ
プルミラーを用いることが望ましい。
定に供する波長は313、435、546nmが有利であ
り、したがつて輻射源としては、これらの波長を
その放射帯中に含む低圧水銀蒸気ランプを用いる
ことが合理的である。また、反射器としてはトリ
プルミラーを用いることが望ましい。
以下、本発明の望ましい実施例に即し、更に説
明する。
明する。
第1図に示すように、本発明の装置は、煙突7
2の半径方向一側面に固定された光伝送/受光部
11と、煙突72の半径方向反対側面に固定さ
れ、ハウジング14とその端面に固定された反転
反射器13とから成る反射ヘツド12とを備えて
いる。また、煙突72は、光伝送/受光部11と
反射ヘツド12との間に輻射光束を通過させる窓
ないし開口74,75を有している。
2の半径方向一側面に固定された光伝送/受光部
11と、煙突72の半径方向反対側面に固定さ
れ、ハウジング14とその端面に固定された反転
反射器13とから成る反射ヘツド12とを備えて
いる。また、煙突72は、光伝送/受光部11と
反射ヘツド12との間に輻射光束を通過させる窓
ないし開口74,75を有している。
反射ヘツド12のハウジング14と、光伝送/
受光部11のハウジング15を煙突72に接続す
る連結枝管76とは、矢印fの方向に清掃用の空
気が吹き込まれる給気管71を備えており、これ
により、煙突72から連結枝管76または前面対
物レンズ20に不純物が堆積してそこに付着する
のを防止する。
受光部11のハウジング15を煙突72に接続す
る連結枝管76とは、矢印fの方向に清掃用の空
気が吹き込まれる給気管71を備えており、これ
により、煙突72から連結枝管76または前面対
物レンズ20に不純物が堆積してそこに付着する
のを防止する。
光伝送/受光部11のハウジング15内に収め
られているのは輻射源16であり、これは好まし
くは先に述べた波長を含む輻射光束を放射可能な
低圧水銀蒸気ランプであつて、該ランプは集束レ
ンズ19とビームスプリツタ77を介してハウジ
ング15の端壁に設けられた前面対物レンズ20
を良好に照射している。
られているのは輻射源16であり、これは好まし
くは先に述べた波長を含む輻射光束を放射可能な
低圧水銀蒸気ランプであつて、該ランプは集束レ
ンズ19とビームスプリツタ77を介してハウジ
ング15の端壁に設けられた前面対物レンズ20
を良好に照射している。
前面対物レンズ20からはほとんど平行で、好
ましくは少し発散した輻射光束50が出射され、
該光束50は連結枝管76、煙道ガス49が充満
した煙突72を経た後、反射ヘツド12のハウジ
ング14内を通つて好ましくはトリプルミラーで
ある反転反射器13に至る。
ましくは少し発散した輻射光束50が出射され、
該光束50は連結枝管76、煙道ガス49が充満
した煙突72を経た後、反射ヘツド12のハウジ
ング14内を通つて好ましくはトリプルミラーで
ある反転反射器13に至る。
この際、反転反射器13に当たる輻射光束50
の直径は、当該反転反射器13の径よりも大きい
ことが望ましい。このようにすると、反射器13
から反射された光束の流れは、反射ヘツド12と
光伝送/受光部11との間にあつて光軸に関し相
対的な偏位や傾きが生じても、何の影響も受けな
いようにできるからである。
の直径は、当該反転反射器13の径よりも大きい
ことが望ましい。このようにすると、反射器13
から反射された光束の流れは、反射ヘツド12と
光伝送/受光部11との間にあつて光軸に関し相
対的な偏位や傾きが生じても、何の影響も受けな
いようにできるからである。
このようにした場合、当然のことではあるが、
反転反射器13による反射光束78は光伝送/受
光部11から出射された輻射光束50よりも小さ
な径を有するものとなるが、相対的に略ゞ平行の
関係は保たれている。
反転反射器13による反射光束78は光伝送/受
光部11から出射された輻射光束50よりも小さ
な径を有するものとなるが、相対的に略ゞ平行の
関係は保たれている。
反射光束78は、対物レンズ20により、ビー
ムスプリツタ77を介しての反射後、受光器17
に入射するが、受光器17の前にはモータ80に
よつて回転軸79の周りに回転されるフイルタ円
板18が挿入されている。
ムスプリツタ77を介しての反射後、受光器17
に入射するが、受光器17の前にはモータ80に
よつて回転軸79の周りに回転されるフイルタ円
板18が挿入されている。
また、制御フイルタ73を第1図に示すように
フイルタ円板18の前に押し込むこともできる
が、この制御フイルタ73は廃ガス49の成分の
特定の分布に関して本装置の機能を点検するのに
使うものである。
フイルタ円板18の前に押し込むこともできる
が、この制御フイルタ73は廃ガス49の成分の
特定の分布に関して本装置の機能を点検するのに
使うものである。
第2図に示すように、フイルタ円板18は主要
要素として三つのフイルタ23,24,25を有
し、これらフイルタは円周方向に細長くなつてい
て、それぞれ90゜よりも少し小さい角度範囲に亘
つている。
要素として三つのフイルタ23,24,25を有
し、これらフイルタは円周方向に細長くなつてい
て、それぞれ90゜よりも少し小さい角度範囲に亘
つている。
輻射源16として既述のように低圧水銀蒸気ラ
ンプを用いるときには、これらフイルタは単なる
色付きガラスから構成することができ、例えばフ
イルタ23は波長313nmの光束を、フイルタ24
は波長435nmの光束を、そしてフイルタ25は波
長546nmの光束をのみ、通すようにする。
ンプを用いるときには、これらフイルタは単なる
色付きガラスから構成することができ、例えばフ
イルタ23は波長313nmの光束を、フイルタ24
は波長435nmの光束を、そしてフイルタ25は波
長546nmの光束をのみ、通すようにする。
こうした場合、実際の製品例を挙げれば、フイ
ルタ23としては色付きガラスUG11/1mmと
GG10/1mmの組合せが、フイルタ24としては
色付きガラスBG3/1mmとNG3/1mmの組合せ
が、そしてフイルタ25としては色付きガラス
OG515/1mmとNG3/1mmの組合せを使用するこ
とができる。それぞれの品番はシヨツト
(Schott)社のものである。
ルタ23としては色付きガラスUG11/1mmと
GG10/1mmの組合せが、フイルタ24としては
色付きガラスBG3/1mmとNG3/1mmの組合せ
が、そしてフイルタ25としては色付きガラス
OG515/1mmとNG3/1mmの組合せを使用するこ
とができる。それぞれの品番はシヨツト
(Schott)社のものである。
このように、輻射源16を適当に選択すれば、
高帯域輻射源を用いたときのように高価で紫外線
にのみ、低透明度を示す干渉フイルタ等は使用し
ないで済む。
高帯域輻射源を用いたときのように高価で紫外線
にのみ、低透明度を示す干渉フイルタ等は使用し
ないで済む。
第2図に示すフイルタ円板18にあつて第四象
限に相当する部分は、受光器17の暗電流を規定
する暗黒帯となつていて、これにより、フイルタ
23,24,25を透過した光量の測定基準が作
られる。
限に相当する部分は、受光器17の暗電流を規定
する暗黒帯となつていて、これにより、フイルタ
23,24,25を透過した光量の測定基準が作
られる。
第1図に示すように、フイルタ円板18の回転
によつてその一回転当たり、フイルタ23,2
4,25及び暗黒帯26が順に光路中に挿入され
る。
によつてその一回転当たり、フイルタ23,2
4,25及び暗黒帯26が順に光路中に挿入され
る。
フイルタ円板18にあつて各フイルタが設けら
れている円周と同心円で、それより内周に位置す
る円周には図示の場合、四つのスロツト34,…
…が配され、各スロツト34はそれぞれ円周方向
に90゜よりも小さい角度範囲に亘つて細長く伸
び、各フイルタ及び暗黒帯の一つあてに関連して
いる。
れている円周と同心円で、それより内周に位置す
る円周には図示の場合、四つのスロツト34,…
…が配され、各スロツト34はそれぞれ円周方向
に90゜よりも小さい角度範囲に亘つて細長く伸
び、各フイルタ及び暗黒帯の一つあてに関連して
いる。
ただし、この配置は図示の通りでなければなら
ない必然性はなく、円周に沿つて当該スロツトと
協働する光バリア装置(フオトインタラプタとか
光スイツチ等とも呼称される)35の配置の如何
による。このスロツト34の働きは、後述するよ
うに、電子装置を適切に作動させるためのマスタ
クロツクを作ることにある。
ない必然性はなく、円周に沿つて当該スロツトと
協働する光バリア装置(フオトインタラプタとか
光スイツチ等とも呼称される)35の配置の如何
による。このスロツト34の働きは、後述するよ
うに、電子装置を適切に作動させるためのマスタ
クロツクを作ることにある。
フイルタのある第一の円周とスロツトのある第
二の円周との間の第三の円周には、第1図に概略
的に示された別な光バリア装置37と協働する小
さい制御用円孔36が設けられていて、これはマ
スタクロツクの再セツト信号を作るために用いら
れ、したがつて各周期の始まりのマークと考えて
良い。
二の円周との間の第三の円周には、第1図に概略
的に示された別な光バリア装置37と協働する小
さい制御用円孔36が設けられていて、これはマ
スタクロツクの再セツト信号を作るために用いら
れ、したがつて各周期の始まりのマークと考えて
良い。
スロツト34と円孔36の代わりに、反射型の
光バリア装置を用いたときには、それに応じた反
射型のマークを使うこともできる。
光バリア装置を用いたときには、それに応じた反
射型のマークを使うこともできる。
更に、測定するガスの成分数を増加または低減
するために、フイルタ円板18に設けるフイルタ
の数をそれに応じて増加または低減しても良い。
するために、フイルタ円板18に設けるフイルタ
の数をそれに応じて増加または低減しても良い。
上記形式のフイルタ23,24を用いたこの実
施例においては、煙突72内の廃ガス49中にあ
つて、煙成分とガス成分SO2、NO2の測定が可能
になる。
施例においては、煙突72内の廃ガス49中にあ
つて、煙成分とガス成分SO2、NO2の測定が可能
になる。
第2図中の矢印F方向にフイルタ円板18が回
転すると、反射光束78は三つの波長546、435、
313nmに順番に連続的に分離されてくる。
転すると、反射光束78は三つの波長546、435、
313nmに順番に連続的に分離されてくる。
下記に詳記のように、評価を単純にするため
に、ガス成分SO2は波長313nmにおいてのみ、吸
収を起こすことは重要な特性である。
に、ガス成分SO2は波長313nmにおいてのみ、吸
収を起こすことは重要な特性である。
また、当該SO2の測定のために、NO2の著しい
広帯域吸収特性による交差感度を排除し、この成
分自体の濃度を表示し得るようにすべく、波長
435nmの光束が利用される。これらの波長におい
て、測定に対して煙道ガスの固体含有量が及ぼす
影響は、下記に述べるように、波長546nmにおけ
る対照信号の形成によつて排除することができ
る。
広帯域吸収特性による交差感度を排除し、この成
分自体の濃度を表示し得るようにすべく、波長
435nmの光束が利用される。これらの波長におい
て、測定に対して煙道ガスの固体含有量が及ぼす
影響は、下記に述べるように、波長546nmにおけ
る対照信号の形成によつて排除することができ
る。
受光器17は好ましくはフオトマルチプライヤ
である。
である。
完全な偏差補償用に、光伝送/受光部11と煙
突72の入口開口部74との間には本発明による
対照反射器22が設けられており、この反射器2
2は先に述べた第一の反転反射器13と同様、ト
リプルミラーとして構成されているのが良い。
突72の入口開口部74との間には本発明による
対照反射器22が設けられており、この反射器2
2は先に述べた第一の反転反射器13と同様、ト
リプルミラーとして構成されているのが良い。
第1図に示されるように、反射器22は常時は
測定光路の外側に位置している。しかし、第1図
中、仮想線で示した二方向矢印f′で表されるよう
に、当該反射器22は測定光路中の位置をも取る
ことができ、その位置にあるときには輻射光束5
0を反射し返すこともできる。
測定光路の外側に位置している。しかし、第1図
中、仮想線で示した二方向矢印f′で表されるよう
に、当該反射器22は測定光路中の位置をも取る
ことができ、その位置にあるときには輻射光束5
0を反射し返すこともできる。
最も有利な配置関係は第1図に示されるような
ものであり、対照反射器22が測定光路中に挿入
されたとき、当該反射器22が対物レンズ20の
直前に位置するのが良い。給気管71から導入さ
れる清浄用空気によつてこの反射器の清掃が容易
だからである。
ものであり、対照反射器22が測定光路中に挿入
されたとき、当該反射器22が対物レンズ20の
直前に位置するのが良い。給気管71から導入さ
れる清浄用空気によつてこの反射器の清掃が容易
だからである。
ただし、例えば前面対物レンズ20自体に波長
に依存する偏差のおそれがない場合には、反射器
22をハウジング15の内部、すなわち対物レン
ズ20の後方に配置しても良い。
に依存する偏差のおそれがない場合には、反射器
22をハウジング15の内部、すなわち対物レン
ズ20の後方に配置しても良い。
第3図には反射器22を測定光路中に選択的に
挿入する装置として好適な揺動型の装置が示され
ている。反射器22はレバー腕58に固定され、
レバー腕58は光軸に平行な回転軸心59を有
し、前面対物レンズの直ぐ横で関節接合されてい
る。回転軸心59から少し離れてレバー腕58に
作用する略図的に仮想線で示した作動桿60によ
り、図示していないモータによつて駆動されるク
ランク61を用いてレバー腕58にトルクを発生
させ、反射器22を対物レンズ20の前方に侵入
させることが可能となる。
挿入する装置として好適な揺動型の装置が示され
ている。反射器22はレバー腕58に固定され、
レバー腕58は光軸に平行な回転軸心59を有
し、前面対物レンズの直ぐ横で関節接合されてい
る。回転軸心59から少し離れてレバー腕58に
作用する略図的に仮想線で示した作動桿60によ
り、図示していないモータによつて駆動されるク
ランク61を用いてレバー腕58にトルクを発生
させ、反射器22を対物レンズ20の前方に侵入
させることが可能となる。
しかし、第5図にダツシユを付して示すよう
に、測定光路の側方にあつて当該光路と平行に反
射器22′を固定し、鏡40が輻射光束50をこ
の反射器22′に向けて反射するようにしても良
い。
に、測定光路の側方にあつて当該光路と平行に反
射器22′を固定し、鏡40が輻射光束50をこ
の反射器22′に向けて反射するようにしても良
い。
こうした場合、輻射光束50を反射器22′に
指向させるか、または煙道ガス49を挟んで対向
する位置に設けられている反射器13に指向させ
るかを決めるのに、偏向用の鏡40を二方向矢印
f″で示されるように移動可能に構成するか、また
は鏡40を固定したままのビームスプリツタとし
て構成すると良い。
指向させるか、または煙道ガス49を挟んで対向
する位置に設けられている反射器13に指向させ
るかを決めるのに、偏向用の鏡40を二方向矢印
f″で示されるように移動可能に構成するか、また
は鏡40を固定したままのビームスプリツタとし
て構成すると良い。
鏡40をビームスプリツタとした場合には、そ
のときどきに応じ、二つの反転反射器13,2
2′の中、必要な一方のみが輻射光束50を受け
られるようにするため、例えば旋回用のダイアフ
ラム39を設けて、第5図中、実線で示した位置
にあるときには反転反射器13への輻射光束50
が遮断され、仮想線で示した位置にあるときには
第二の反転反射器22′の方への輻射光束50が
遮断されるようにすると良い。符号48は模式的
にダイアフラムの旋回路を示したものである。特
にこうした構造とする場合には、当該鏡40ない
しビームスプリツタ40を、既述の光伝送/受光
部11内のビームスプリツタ77で流用すること
もできる。そのようにしたときには、第1図にお
ける集束レンズ19は対物レンズにより構成する
と良いが、有利なことに、ダイアフラム39また
は39′の移動質量は小さく抑えることができ
る。なお、トリプルミラーを使用しているため、
調整による問題は生じない。
のときどきに応じ、二つの反転反射器13,2
2′の中、必要な一方のみが輻射光束50を受け
られるようにするため、例えば旋回用のダイアフ
ラム39を設けて、第5図中、実線で示した位置
にあるときには反転反射器13への輻射光束50
が遮断され、仮想線で示した位置にあるときには
第二の反転反射器22′の方への輻射光束50が
遮断されるようにすると良い。符号48は模式的
にダイアフラムの旋回路を示したものである。特
にこうした構造とする場合には、当該鏡40ない
しビームスプリツタ40を、既述の光伝送/受光
部11内のビームスプリツタ77で流用すること
もできる。そのようにしたときには、第1図にお
ける集束レンズ19は対物レンズにより構成する
と良いが、有利なことに、ダイアフラム39また
は39′の移動質量は小さく抑えることができ
る。なお、トリプルミラーを使用しているため、
調整による問題は生じない。
測定モードから対照モードに変換する際の可動
部分の任意の個所、例えば第1図中にあつては対
照反射器22′の端部に、接触片ないしカム片2
9が設けられており、これに対して、反射器2
2′が測定光路中に押し込まれたとき、これを知
らせる信号がマスタクロツク28に送られるよう
に、当該カム片29に接触する接点30が固定的
に設けられている。
部分の任意の個所、例えば第1図中にあつては対
照反射器22′の端部に、接触片ないしカム片2
9が設けられており、これに対して、反射器2
2′が測定光路中に押し込まれたとき、これを知
らせる信号がマスタクロツク28に送られるよう
に、当該カム片29に接触する接点30が固定的
に設けられている。
以下、本実施例に用いられている電子装置部分
について説明を続けると、受光器17には測定を
行なうためにバラスト抵抗38が付され、それと
のタツプからは前置増幅器21に供給される電圧
が取出される。
について説明を続けると、受光器17には測定を
行なうためにバラスト抵抗38が付され、それと
のタツプからは前置増幅器21に供給される電圧
が取出される。
前置増幅器21の出力は、本発明を実施する場
合、設けてあると極めて有用なチヤネル平衡段へ
の入力として適当に増幅された電圧UVとなる。
合、設けてあると極めて有用なチヤネル平衡段へ
の入力として適当に増幅された電圧UVとなる。
前置増幅器21の出力信号は、七つの増幅器4
1〜47に片衡を保つて並列に入力される。
1〜47に片衡を保つて並列に入力される。
増幅器41,42,43は、測定光路中に対照
反射器22,22′を挿入した場合の三波長313、
435、546nmの各々に関連し、増幅器44,4
5,46は、対照反射器22を測定光路中から外
し、測定用の反射器13を有効とした場合の上記
三波長の各々に関連する。
反射器22,22′を挿入した場合の三波長313、
435、546nmの各々に関連し、増幅器44,4
5,46は、対照反射器22を測定光路中から外
し、測定用の反射器13を有効とした場合の上記
三波長の各々に関連する。
七番目の増幅器47はフイルタ円板18の暗黒
体26に関連しており、測定用及び対照用の各反
射器による個々の波長の輻射光束強度測定のため
のベースを作る働きをしている。
体26に関連しており、測定用及び対照用の各反
射器による個々の波長の輻射光束強度測定のため
のベースを作る働きをしている。
平衡を取られた増幅器41〜47の出力はマス
タクロツク28によつて制御される電子スイツチ
27に入力される。マスタクロツク28は、フイ
ルタ円板18に関して備えられた光バリア装置3
7からの制御信号URと、光バリア装置35から
の信号UTとを受信すると共に、接点30を介
し、対照反射器22,22′が有効となつている
か否か(すなわち測定光路中に挿入されているか
否か)の情報を得ている。
タクロツク28によつて制御される電子スイツチ
27に入力される。マスタクロツク28は、フイ
ルタ円板18に関して備えられた光バリア装置3
7からの制御信号URと、光バリア装置35から
の信号UTとを受信すると共に、接点30を介
し、対照反射器22,22′が有効となつている
か否か(すなわち測定光路中に挿入されているか
否か)の情報を得ている。
保持回路51〜56は、それぞれ対照反射器2
2,22′が有効である場合と無効な場合とでの
各波長に関連している。七番目の保持回路57
は、暗黒体26に関連して得られる暗電流を表示
する信号を記憶し、インピーダンス変換器32に
よつてこの信号をチヤネル平衡段31の入力に帰
還することにより、上記した基準ないしベースを
確立する。
2,22′が有効である場合と無効な場合とでの
各波長に関連している。七番目の保持回路57
は、暗黒体26に関連して得られる暗電流を表示
する信号を記憶し、インピーダンス変換器32に
よつてこの信号をチヤネル平衡段31の入力に帰
還することにより、上記した基準ないしベースを
確立する。
マスタクロツク28に伴う走査は第4図に示さ
れるように行なわれる。
れるように行なわれる。
各走査周期の終りには、制御孔36が光バリア
装置37によつて読取られたことに対応して、第
4図最下段右手に模式的に示されるようなパルス
信号36が現れる。この信号が、次の新たな周期
を開始しなければならないというマスタクロツク
28への信号URとなる。
装置37によつて読取られたことに対応して、第
4図最下段右手に模式的に示されるようなパルス
信号36が現れる。この信号が、次の新たな周期
を開始しなければならないというマスタクロツク
28への信号URとなる。
次に、暗黒体26が測定光路中に入ると、スイ
ツチ27の保持回路57が平衡増幅器47に接続
され、したがつてインピーダンス変換器32によ
り、第4図の最上段の最も左手に符号Dで示され
るように、測定のためのベースないし基準電位2
6が形成される。
ツチ27の保持回路57が平衡増幅器47に接続
され、したがつてインピーダンス変換器32によ
り、第4図の最上段の最も左手に符号Dで示され
るように、測定のためのベースないし基準電位2
6が形成される。
フイルタ25が測定光路中に投入されると、こ
れに関連した制御スロツト34は光バリア装置3
5に光信号を送り、これによつて当該光バリア装
置35からは第4図中央の段にあつて二番目のパ
ルス信号34として示された既述のパルス信号U
Tが出力され、これに基づき、平衡増幅器46が
保持回路56に接続されるようになる。なおこの
ときまでに、第一のパルス34の立ち下がりによ
り、平衡増幅器47は保持回路57から切り離さ
れている。
れに関連した制御スロツト34は光バリア装置3
5に光信号を送り、これによつて当該光バリア装
置35からは第4図中央の段にあつて二番目のパ
ルス信号34として示された既述のパルス信号U
Tが出力され、これに基づき、平衡増幅器46が
保持回路56に接続されるようになる。なおこの
ときまでに、第一のパルス34の立ち下がりによ
り、平衡増幅器47は保持回路57から切り離さ
れている。
この平衡増幅器46によつて保持回路56に保
持された情報は、測定用反射器13における測定
用信号として、第4図最上段に示される二番目の
パルス信号U(546nm)と記したように、波長
546nmの輻射光束に関して得られたものとなる。
同様にして、その後に順番にフイルタ24,23
が測定光路中に挿入されるに伴い、それぞれ保持
回路55,54には波長435nm、313nmに関連す
る測定用の信号が記憶される。
持された情報は、測定用反射器13における測定
用信号として、第4図最上段に示される二番目の
パルス信号U(546nm)と記したように、波長
546nmの輻射光束に関して得られたものとなる。
同様にして、その後に順番にフイルタ24,23
が測定光路中に挿入されるに伴い、それぞれ保持
回路55,54には波長435nm、313nmに関連す
る測定用の信号が記憶される。
こうしたサイクルは測定中、連続的に繰返さ
れ、マスタクロツク28の出力7,3,2,1
は、それぞれ周期的に保持回路57,56,5
5,54を平衡増幅器47,46,45,44に
接続するものとなる。
れ、マスタクロツク28の出力7,3,2,1
は、それぞれ周期的に保持回路57,56,5
5,54を平衡増幅器47,46,45,44に
接続するものとなる。
これに対し、例えば約10分の間隔で、対照反射
器22が測定光路中に挿入される。これにより、
接点29,30間が導通し、そのことを現す信
号、すなわち“測定モード”から“対照モード”
に変換されたことを示す信号がマスタクロツク2
8に与えられる。
器22が測定光路中に挿入される。これにより、
接点29,30間が導通し、そのことを現す信
号、すなわち“測定モード”から“対照モード”
に変換されたことを示す信号がマスタクロツク2
8に与えられる。
すると、マスタクロツク28の動作モードが変
化し、出力7,6,5,4が保持回路57,5
3,52,51を順番に平衡増幅器47,43,
42,41に接続するように変わる。
化し、出力7,6,5,4が保持回路57,5
3,52,51を順番に平衡増幅器47,43,
42,41に接続するように変わる。
こうしたときには、得られるパルス信号列の波
形は、第4図最上段に示されたものと相似になる
が、ただ、それぞれのパルス波形は実際上、より
高いものとなる。
形は、第4図最上段に示されたものと相似になる
が、ただ、それぞれのパルス波形は実際上、より
高いものとなる。
以上の結果、電子スイツチ27の出力には七つ
の信号群が得られ、信号U1′,U2′,U3′は対照反
射器22を挿入したときの各波長313、435、
546nm用の受信信号に対応し、一方、信号U1,
U2,U3は、測定用反射器13が有効ないし作用
しているときの各波長313、435、546nm用の受信
信号に対応する。
の信号群が得られ、信号U1′,U2′,U3′は対照反
射器22を挿入したときの各波長313、435、
546nm用の受信信号に対応し、一方、信号U1,
U2,U3は、測定用反射器13が有効ないし作用
しているときの各波長313、435、546nm用の受信
信号に対応する。
しかるに、増幅器41〜47を調整すると、全
ての保持回路51〜57の出力レベルを同一のレ
ベルにすることができる。これは個々の波長に関
連した信号間でのみ、適用できるだけではなく、
測定用反射器が挿入されている場合と対照用反射
器が挿入されている場合との相違についても適用
することができる。したがつて、このように最も
簡単で直接的な手法によつて測定用反射器と対照
用反射器の相互の反射特性の相違を補償すること
ができるが、場合によつてはさらに、測定用反射
器と対照用反射器の粗平衡を取るため、第6図に
示されるように精密に調整可能な絞り81を反射
器の前に設けても良い。
ての保持回路51〜57の出力レベルを同一のレ
ベルにすることができる。これは個々の波長に関
連した信号間でのみ、適用できるだけではなく、
測定用反射器が挿入されている場合と対照用反射
器が挿入されている場合との相違についても適用
することができる。したがつて、このように最も
簡単で直接的な手法によつて測定用反射器と対照
用反射器の相互の反射特性の相違を補償すること
ができるが、場合によつてはさらに、測定用反射
器と対照用反射器の粗平衡を取るため、第6図に
示されるように精密に調整可能な絞り81を反射
器の前に設けても良い。
次に、上記のようにして得られた信号群に対し
て施されるこの実施例における演算回路33中の
処理につき説明する。
て施されるこの実施例における演算回路33中の
処理につき説明する。
第7図に演算回路33の内部構成を示すよう
に、各信号U1′,U2′,U3′,U1,U2,U3は、内部
クロツク82を有する呼掛け応答器62により、
第7図中に略図的に示したように、それぞれ同じ
サフイツクスの数字1,2,3が付されたものと
同志が対の信号Ui′,Uiとなつて次の対数化計算
段63に送られる。
に、各信号U1′,U2′,U3′,U1,U2,U3は、内部
クロツク82を有する呼掛け応答器62により、
第7図中に略図的に示したように、それぞれ同じ
サフイツクスの数字1,2,3が付されたものと
同志が対の信号Ui′,Uiとなつて次の対数化計算
段63に送られる。
この出力信号には後述のように、E1,E2,
E3の三つがあるが、代表的にEiとして示して
ある。
E3の三つがあるが、代表的にEiとして示して
ある。
これらの信号Eiは、仮想線の信号線路83で
示したように、クロツク82により制御される信
号分岐段64にて個々の波長に関連する吸収信号
E1,E2,E3に分かたれ、それぞれ選択的に
専用の保持回路65,66,67に送られる。こ
の保持回路としては、限定的ではないが公知技術
を援用して組まれる等した、演算増幅器を利用し
てキヤパシタに電荷の大小を貯蔵する型のものが
好ましい。
示したように、クロツク82により制御される信
号分岐段64にて個々の波長に関連する吸収信号
E1,E2,E3に分かたれ、それぞれ選択的に
専用の保持回路65,66,67に送られる。こ
の保持回路としては、限定的ではないが公知技術
を援用して組まれる等した、演算増幅器を利用し
てキヤパシタに電荷の大小を貯蔵する型のものが
好ましい。
演算回路33における他の適当な構造として
は、クロツク82と呼掛け応答器62を省略し、
それぞれ専用の三つの対数化計算段を用意して並
列に三つの組同志につき演算をしていくようなも
のも可能であり、このようにすると、信号E1,
E2,E3に関し、中間的な記憶回路を要するこ
となく、後述の演算段68にての演算処理が可能
となつてくる。
は、クロツク82と呼掛け応答器62を省略し、
それぞれ専用の三つの対数化計算段を用意して並
列に三つの組同志につき演算をしていくようなも
のも可能であり、このようにすると、信号E1,
E2,E3に関し、中間的な記憶回路を要するこ
となく、後述の演算段68にての演算処理が可能
となつてくる。
本発明により構成された装置においては、受光
器によつて受信した信号を処理した結果、得られ
た信号E1,E2,E3は、完全に偏差からは独
立したものとなり得る。これは、受光器17のス
ペクトル感度や輻射源16のスペクトル放射特性
等の全ての変動要素が対照信号U1′,U2′,U3′に
含まれているからである。特にランプやフオトマ
ルチプライヤにおける経年変化等は測定に全く影
響しない。そして比較が一つの同一波長について
行なわれ、他の波長における異なる偏差に基づく
擾乱が排除されていることも特筆できるものであ
る。
器によつて受信した信号を処理した結果、得られ
た信号E1,E2,E3は、完全に偏差からは独
立したものとなり得る。これは、受光器17のス
ペクトル感度や輻射源16のスペクトル放射特性
等の全ての変動要素が対照信号U1′,U2′,U3′に
含まれているからである。特にランプやフオトマ
ルチプライヤにおける経年変化等は測定に全く影
響しない。そして比較が一つの同一波長について
行なわれ、他の波長における異なる偏差に基づく
擾乱が排除されていることも特筆できるものであ
る。
さらに、回路段31におけるチヤネル間の平衡
は、装置特性を電子的に平坦化することに相当す
る。したがつて特に、測定用及び対照用反射器の
13,22の反射に関しての差異の外に、個々の
波長に関し、別々にスペクトル特性の相違を補償
できるので、こうしたことから逆に、用いる反射
器の製造や調整は単純なもので済むようになる。
は、装置特性を電子的に平坦化することに相当す
る。したがつて特に、測定用及び対照用反射器の
13,22の反射に関しての差異の外に、個々の
波長に関し、別々にスペクトル特性の相違を補償
できるので、こうしたことから逆に、用いる反射
器の製造や調整は単純なもので済むようになる。
保持回路65,66,67に接続して演算段6
8があり、ここにおいて煙、SO2、及びNO2の濃
度が偏差のない修正された吸光値E1,E2,E
3から計算される。
8があり、ここにおいて煙、SO2、及びNO2の濃
度が偏差のない修正された吸光値E1,E2,E
3から計算される。
この実施例においては先に述べてきたように、
波長313、435、546nmを用いてきたが、ここで便
宜のため、一般化して上記波長に番号を付け、波
長1,2,3の三波長を用いたものとする(した
がつて波長1は313nmに、波長2は435nmに、そ
して波長3は546nmに相当する)と、各波長番号
をサフイツクスに持つ吸光値Ei(i=1、2、
3)は、それぞれ下記の関係式で表される。
波長313、435、546nmを用いてきたが、ここで便
宜のため、一般化して上記波長に番号を付け、波
長1,2,3の三波長を用いたものとする(した
がつて波長1は313nmに、波長2は435nmに、そ
して波長3は546nmに相当する)と、各波長番号
をサフイツクスに持つ吸光値Ei(i=1、2、
3)は、それぞれ下記の関係式で表される。
E1=ER+K1SO2×CSO2×L
+K1NO2×CNO2×L …(2)
E2=ER+K2NO2×CNO2×L …(3)
E3=ER+K3NO2×CNO2×L …(4)
ER:煙の吸光値
C:指標で識別し得るようにしたガス濃度
Ki(i=1、2、3):上述の波長番号
i=1、2、3で示される波長に対す
る各ガスのスペクトル吸収係数 L:測定煙道長 ただし、Ki及びCに付されたサフイツクス
SO2、NO2は、それぞれ、そのガスに対応するも
のであることを示す。
i=1、2、3で示される波長に対す
る各ガスのスペクトル吸収係数 L:測定煙道長 ただし、Ki及びCに付されたサフイツクス
SO2、NO2は、それぞれ、そのガスに対応するも
のであることを示す。
しかるに、煙の吸光値ERは、次のように塵挨
の含有量に関係する。
の含有量に関係する。
ER=KR×CR×L
LとKが定数であるとすると、NO2の濃度に関
し、次式が得られる。
し、次式が得られる。
f(CNO2)=E2−E3
=L×CNO2(K2NO2−K3NO2) …(5)
また、煙の濃度に関する基準は次式から得られ
る。
る。
f(CR)=E3−β×(E2−E3)=ER …(6)
β=K3/(K2−K3) …(7)
最後に、SO2の濃度は次式から求められる。
f(CSO2)=E1−γ×E2+δ×E3
=L×CSO2×KSO2 …(8)
γ=(K1−K3)/(K2−K3) …(9)
δ=(K1−K2)/(K2−K3) …(10)
上述の計算を行なうため、保持回路67の出力
はインバータと抵抗84と抵抗85を介し、差動
増幅器86の一入力に与えられ、保持回路66の
出力は、抵抗87を経て演算増幅器88の入力に
与えられており、また演算増幅器88は可変抵抗
89を介してインバータ84の出力にも接続して
いる一方、その出力は、可変抵抗90を介して差
動増幅器86の他入力に接続している。
はインバータと抵抗84と抵抗85を介し、差動
増幅器86の一入力に与えられ、保持回路66の
出力は、抵抗87を経て演算増幅器88の入力に
与えられており、また演算増幅器88は可変抵抗
89を介してインバータ84の出力にも接続して
いる一方、その出力は、可変抵抗90を介して差
動増幅器86の他入力に接続している。
保持回路65の出力は抵抗94を介して演算増
幅器91の入力に与えられ、当該演算増幅器91
の入力はまた、それぞれ抵抗92、可変抵抗93
を介して演算増幅器88の出力とインバータ84
の出力に接続が取られている。
幅器91の入力に与えられ、当該演算増幅器91
の入力はまた、それぞれ抵抗92、可変抵抗93
を介して演算増幅器88の出力とインバータ84
の出力に接続が取られている。
したがつて、演算増幅器91の出力にはSO2の
濃度を表す信号が、演算増幅器88の出力には
NO2の濃度を表す信号が、そして差動増幅器86
の出力には煙成分を表す信号が現れる。
濃度を表す信号が、演算増幅器88の出力には
NO2の濃度を表す信号が、そして差動増幅器86
の出力には煙成分を表す信号が現れる。
既述の係数β、γの各値は、抵抗92,94と
抵抗85,90の比によつて上述の(7)式及び(9)式
に従うよう、調整、決定することができる。
抵抗85,90の比によつて上述の(7)式及び(9)式
に従うよう、調整、決定することができる。
また、一回だけ行なえば良い平衡調整は、試料
ガスと煙のない条件下で制御フイルタ73を光路
中に挿入することでなすことができる。
ガスと煙のない条件下で制御フイルタ73を光路
中に挿入することでなすことができる。
なお、第1図に併合されているように、演算回
路33の出力する三つの出力信号を例えば電圧―
電流変換し、それぞれに一つあての三つの電流計
を有する表示装置69で表示すれば、濃度の変動
を視覚的に連続して監視することができる。本出
願人の作成例においては、電流計はそれぞれ0〜
20mAを表示し得るものを用いている。
路33の出力する三つの出力信号を例えば電圧―
電流変換し、それぞれに一つあての三つの電流計
を有する表示装置69で表示すれば、濃度の変動
を視覚的に連続して監視することができる。本出
願人の作成例においては、電流計はそれぞれ0〜
20mAを表示し得るものを用いている。
もちろん、第1図中においての輻射源16、フ
イルタ円板及び対照反射器用駆動装置、光バリア
装置のランプ、その他の電子系統は、共通の電源
から電力を供給すれば良い。
イルタ円板及び対照反射器用駆動装置、光バリア
装置のランプ、その他の電子系統は、共通の電源
から電力を供給すれば良い。
第3図の装置を用いて第1図のように構成した
場合、これは望ましい配置となる。輻射光束の出
射口は堆積物の変化によつて光伝送特性に変化を
及ぼすが、このような配置となつていると、本発
明装置の既述の補償機能により、この偏差も補償
できるからである。
場合、これは望ましい配置となる。輻射光束の出
射口は堆積物の変化によつて光伝送特性に変化を
及ぼすが、このような配置となつていると、本発
明装置の既述の補償機能により、この偏差も補償
できるからである。
マスタクロツクへの対照反射器の位置の情報
は、対照反射器22が光路中に挿入されると直ち
にリレーにスイツチを入れる同期回転カム板等に
よつても得ることができる。
は、対照反射器22が光路中に挿入されると直ち
にリレーにスイツチを入れる同期回転カム板等に
よつても得ることができる。
第6図に示されるように、この実施例において
用いられたトリプルミラー13または22は、や
や特殊な構造をしている。通常の反転反射器は、
研磨またはプレス加工したガラスまたは合成樹脂
によるトリプルミラーで構成され、平らな表面面
から入射した光は内部三面で全反射後、横方向に
ある距離進んだ後、再度向きを変えて入射した面
から出射するようになつている。
用いられたトリプルミラー13または22は、や
や特殊な構造をしている。通常の反転反射器は、
研磨またはプレス加工したガラスまたは合成樹脂
によるトリプルミラーで構成され、平らな表面面
から入射した光は内部三面で全反射後、横方向に
ある距離進んだ後、再度向きを変えて入射した面
から出射するようになつている。
しかし、本発明のような用途には、こうした通
常のトリプルミラー構成による反転反射器は余り
望ましくない。というのも、必要な紫外線の伝送
がこうした反射器ではほとんど得られず、得よう
とするなら極めて高価な、十分に研磨した石英ガ
ラスによるトリプルミラーを使わなければならな
いからである。
常のトリプルミラー構成による反転反射器は余り
望ましくない。というのも、必要な紫外線の伝送
がこうした反射器ではほとんど得られず、得よう
とするなら極めて高価な、十分に研磨した石英ガ
ラスによるトリプルミラーを使わなければならな
いからである。
これに対し、第6図に示される反転反射器は、
廉価に構成できるにもかかわらず、十分有効に作
用する。
廉価に構成できるにもかかわらず、十分有効に作
用する。
従来の製造法によりプレス成形されたトリプル
ミラー用合成樹脂加工品95を基材とし、事前に
クリーニングを施した後、表面にアルミニウム蒸
着膜96を形成する。このようにすれば、当該表
面において他の波長成分と同様、紫外線も有効に
反射される。また、弗化マグネシウム等、紫外線
の透過可能な保護層を更に蒸着すれば、アルミニ
ウム蒸着膜96の経年変化による反射特性の変化
を防止することができる。
ミラー用合成樹脂加工品95を基材とし、事前に
クリーニングを施した後、表面にアルミニウム蒸
着膜96を形成する。このようにすれば、当該表
面において他の波長成分と同様、紫外線も有効に
反射される。また、弗化マグネシウム等、紫外線
の透過可能な保護層を更に蒸着すれば、アルミニ
ウム蒸着膜96の経年変化による反射特性の変化
を防止することができる。
このようにして作成されたトリプルミラー95
は、図示の場合、マウント97にて保持されてい
て、敏感なトリプルミラー面は自由な状態になつ
ている。また、トリプルミラー95の前面に設け
られた絞り81は、既に述べた理由のために反射
面の実効面積を変えるべく、大小に絞ることが可
能であり、適当な絞り状態に調整後、その状態に
固定される。こうした構成要素は、保護のため、
紫外線を透過する窓98によつて覆われていると
好ましい。
は、図示の場合、マウント97にて保持されてい
て、敏感なトリプルミラー面は自由な状態になつ
ている。また、トリプルミラー95の前面に設け
られた絞り81は、既に述べた理由のために反射
面の実効面積を変えるべく、大小に絞ることが可
能であり、適当な絞り状態に調整後、その状態に
固定される。こうした構成要素は、保護のため、
紫外線を透過する窓98によつて覆われていると
好ましい。
第8図は、輻射光束強度を時間的に走査したの
と等価な形態を得、輻射光束強度の零点を設ける
ように改変した本発明によるガス濃度検出装置を
示している。
と等価な形態を得、輻射光束強度の零点を設ける
ように改変した本発明によるガス濃度検出装置を
示している。
この装置では、チヨツパ99が追加され、モー
タ100によりシヤフト102の周りに回転する
ようにされている。チヨツパ99に備えられてい
る小開口101は、収束レンズ19の焦点に位置
するようにされ、したがつてこの点には中間映像
が生ずる。
タ100によりシヤフト102の周りに回転する
ようにされている。チヨツパ99に備えられてい
る小開口101は、収束レンズ19の焦点に位置
するようにされ、したがつてこの点には中間映像
が生ずる。
フイルタ円板18′は、チヨツパ回転用のシヤ
フト102によつて同期的に回転される。
フト102によつて同期的に回転される。
このようにすると、フイルタ円板に備えられた
各フイルタに関し、それぞれ複数の輻射光束パル
スが得られる。これと同様な効果は、輻射源16
ないし輻射光束をパルス化しても得られる。既述
したように輻射源に低圧水銀蒸気ランプを用いる
場合にも、何の問題もなく、これをパルス駆動で
きる。もつとも、このようにした場合には、電子
回路系の入力部の方に、電流の切替接続部やバン
ドパスフイルタ等を要する。
各フイルタに関し、それぞれ複数の輻射光束パル
スが得られる。これと同様な効果は、輻射源16
ないし輻射光束をパルス化しても得られる。既述
したように輻射源に低圧水銀蒸気ランプを用いる
場合にも、何の問題もなく、これをパルス駆動で
きる。もつとも、このようにした場合には、電子
回路系の入力部の方に、電流の切替接続部やバン
ドパスフイルタ等を要する。
この第8図は、本発明で用いるフイルタ円板が
第1図に示されたそれ18に限られるものでない
ことを示すもので、同様に、本発明の趣旨に即し
た他の改変は数多く考えられるものである。
第1図に示されたそれ18に限られるものでない
ことを示すもので、同様に、本発明の趣旨に即し
た他の改変は数多く考えられるものである。
もちろん、先にも少し述べたが、ガス混合物中
における測定すべきガスまたは煙成分の数が三つ
以上であれば、それに必要な波長のさらに数多く
の波長を用いても本発明装置はこれに完全に適応
することができる。
における測定すべきガスまたは煙成分の数が三つ
以上であれば、それに必要な波長のさらに数多く
の波長を用いても本発明装置はこれに完全に適応
することができる。
第1図は本発明のガス成分濃度検出装置の一実
施例の概略構成図、第2図は同上の装置に用いる
フイルタ円板の一例の正面図、第3図は第1図中
の光伝送/受光部の正面図、第4図は受光器に得
られるパルス波形例の説明図、第5図は対照反射
器の挿入機構に関する他の例の概略構成図、第6
図は測定用の反射器の一例の縦断面図、第7図は
演算回路の一例の概略構成図、第8図はさらに他
の実施例の概略構成図、である。 図中、11は光伝送/受光部、13は測定用の
反射器、16は輻射源、17は受光器、18,1
8′はフイルタ円板、20は全面対物レンズ、2
2,22′は対照用の反射器、23,24,25
はフイルタ、26は暗電流を規定するための暗黒
体、27は電子スイツチ、28はマスタクロツ
ク、33は演算回路、34は制御用スロツト、3
5,37は光バリア装置、36は制御孔、49は
煙道または当該煙道内のガス、80,100は回
転駆動源ないしモータ、95はトリプルミラー基
材、96はアルミニウム蒸着膜、99はチヨツ
パ、である。
施例の概略構成図、第2図は同上の装置に用いる
フイルタ円板の一例の正面図、第3図は第1図中
の光伝送/受光部の正面図、第4図は受光器に得
られるパルス波形例の説明図、第5図は対照反射
器の挿入機構に関する他の例の概略構成図、第6
図は測定用の反射器の一例の縦断面図、第7図は
演算回路の一例の概略構成図、第8図はさらに他
の実施例の概略構成図、である。 図中、11は光伝送/受光部、13は測定用の
反射器、16は輻射源、17は受光器、18,1
8′はフイルタ円板、20は全面対物レンズ、2
2,22′は対照用の反射器、23,24,25
はフイルタ、26は暗電流を規定するための暗黒
体、27は電子スイツチ、28はマスタクロツ
ク、33は演算回路、34は制御用スロツト、3
5,37は光バリア装置、36は制御孔、49は
煙道または当該煙道内のガス、80,100は回
転駆動源ないしモータ、95はトリプルミラー基
材、96はアルミニウム蒸着膜、99はチヨツ
パ、である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 煙粒子を含み得る廃ガス混合物中のガス成分
濃度検出装置であつて、 (a) 廃ガス混合物中を通過する測定光路の一端側
に備えられ、該測定光路に沿つて輻射光束を指
向する光学的輻射源と、 (b) 上記測定光路の他端側に配され、上記輻射光
束を上記測定光路一端側に向けて反射する第一
の反転反射器と、 (c) 上記反射された輻射光束光路中に配され、測
定すべきガス成分の数に対応した数の個々のフ
イルタを有すると共に、該個々のフイルタが、
上記各ガス成分の吸収範囲に対応したスペクト
ル伝送範囲を持つフイルタ手段と、 (d) 上記光学的輻射源からの輻射光束を上記廃ガ
ス中を通過させることなく直接に上記フイルタ
手段へ照射させる光学要素と、 (e) 上記フイルタ手段の個々のフイルタを通過し
てきた輻射光束成分から、上記測定光路を通過
してきた輻射光束に対しての測定信号群と、上
記フイルタ手段を直接に照射した輻射光束に対
しての対照信号群を生ずる光電変換装置と、 (f) 同一のスペクトル範囲にある対応する各対照
信号に関して各測定信号を正規化し、かつ、ベ
ールの法則に基づいて該正規化した測定信号か
ら各ガス成分濃度を算出する処理回路と、 からなり、 (g) 上記光学要素は、測定光路49の手前におい
て予め定められた時間に亘り周期的に輻射光束
中に挿入され、該輻射光束を上記光電変換装置
17へ反射する第二の反転反射器22を有し、 (h) 上記フイルタ手段は、上記第一の反転反射器
13または第二の反転反射器22から反射され
てきた輻射光束中に個々のフイルタ23,2
4,25及び該輻射光束を透過させない部分2
6を選択的に挿入する装置18,80を有する
と共に、 (i) 上記処理回路は、上記反射されてきた輻射光
束中に上記輻射光束を透過させない部分26が
存在するときに生ずる暗電流に伴う測定信号及
び対照信号中の暗電流成分を補償する回路部分
32,47,57を有すると共に、補償された
測定信号群及び対照信号群を記憶する回路装置
部分(51から56)を有すること、 を特徴とする廃ガス中のガス成分濃度検出装置。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2521934A DE2521934C3 (de) | 1975-05-16 | 1975-05-16 | Vorrichtung zur Bestimmung der Konzentrationen von Komponenten eines Abgasgemisches |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51141681A JPS51141681A (en) | 1976-12-06 |
| JPS6214769B2 true JPS6214769B2 (ja) | 1987-04-03 |
Family
ID=5946767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51055474A Granted JPS51141681A (en) | 1975-05-16 | 1976-05-17 | Method of and instrument for optically measuring concentration of gaseous component |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4126396A (ja) |
| JP (1) | JPS51141681A (ja) |
| DE (1) | DE2521934C3 (ja) |
| FR (1) | FR2311296A1 (ja) |
| GB (1) | GB1531844A (ja) |
| IT (1) | IT1062070B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007232402A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Denso Corp | 光学式ガス検知装置 |
Families Citing this family (71)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2601985C2 (de) * | 1976-01-16 | 1978-02-16 | Mannesmann AG, 4000 Düsseldorf | Fotometrisches Staubmeßgerät |
| US4078896A (en) * | 1977-01-21 | 1978-03-14 | International Telephone And Telegraph Corporation | Photometric analyzer |
| US4097743A (en) * | 1977-04-19 | 1978-06-27 | Moisture Systems Corp. | Moisture analyzing method and apparatus |
| NL85378C (ja) * | 1978-11-29 | |||
| DE2918084C3 (de) * | 1979-05-04 | 1982-04-08 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Gerät zur Bestimmung der Extinktionen von Komponente eines Abgasgemisches |
| GB2057680A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-01 | Econics Corp | Electro-optical flue gas analyzer |
| DE2945608A1 (de) * | 1979-11-12 | 1981-05-21 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Vorichtung zur bestimmung der konzentrationen von aus verschiedenen gasen und gegebenenfalls rauchteilchen bestehenden komponenten eines abgasgemisches |
| US4413911A (en) * | 1981-04-24 | 1983-11-08 | Measurex Corporation | Gas analyzer with fluid curtain |
| GB2110818B (en) * | 1981-11-14 | 1985-05-15 | Ferranti Ltd | Non-dispersive gas analyser |
| DE3206427A1 (de) * | 1982-02-23 | 1983-09-01 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Messeinrichtung fuer die optische gasanalyse |
| US4632563A (en) * | 1983-02-28 | 1986-12-30 | The Syconex Corporation | In-situ gas analyzer |
| US4640621A (en) * | 1983-06-17 | 1987-02-03 | Eastern Technical Associates, Inc. | Transmissometer and optical elements therefor |
| DE3479241D1 (en) * | 1983-11-04 | 1989-09-07 | Hartmann & Braun Ag | Photometer for continuous analysis of a medium (gas or liquid) |
| US4572663A (en) * | 1983-12-22 | 1986-02-25 | Elliott Turbomachinery Co., Inc. | Method and apparatus for selectively illuminating a particular blade in a turbomachine |
| US4746218A (en) * | 1984-06-12 | 1988-05-24 | Syconex Corporation | Gas detectors and gas analyzers utilizing spectral absorption |
| SE450913B (sv) * | 1984-08-10 | 1987-08-10 | Hans Georg Edner | Gaskorrelerad lidar |
| US4647777A (en) * | 1985-05-31 | 1987-03-03 | Ametrek, Inc. | Selective gas detector |
| JPH0711695B2 (ja) | 1985-09-25 | 1995-02-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 撮影用ハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法 |
| US4851327A (en) | 1986-07-17 | 1989-07-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic color photosensitive material with two layer reflective support |
| DE3624567A1 (de) * | 1986-07-21 | 1988-03-24 | Sick Optik Elektronik Erwin | Spektralanalytisches gasmessgeraet |
| JPH06105346B2 (ja) | 1986-11-07 | 1994-12-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
| US4809190A (en) * | 1987-04-08 | 1989-02-28 | General Signal Corporation | Calorimetry system |
| US4895081A (en) * | 1987-04-08 | 1990-01-23 | General Signal Corporation | Gravimetric feeder, especially adapted for use in a calorimetry system |
| US4846081A (en) * | 1987-04-08 | 1989-07-11 | General Signal Corporation | Calorimetry system |
| US4893315A (en) * | 1987-04-08 | 1990-01-09 | General Signal Corporation | Calorimetry system |
| US4795262A (en) * | 1987-07-29 | 1989-01-03 | The Regents Of The Univerity Of Michigan | Liquid chromatography absorbance detector |
| DE3928081C2 (de) * | 1989-08-25 | 1998-05-07 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zur Erfassung der Trübung von Gasen |
| US5060505A (en) * | 1989-09-12 | 1991-10-29 | Sensors, Inc. | Non-dispersive infrared gas analyzer system |
| US5220179A (en) * | 1990-02-06 | 1993-06-15 | Helmut Katschnig | Method of and apparatus for detecting the presence of vapor and/or smoke in the outgoing air of a device for heating materials |
| ATE158650T1 (de) * | 1990-04-09 | 1997-10-15 | Commw Scient Ind Res Org | Detektionssystem zum gebrauch im flugzeug |
| US5281256A (en) * | 1990-09-28 | 1994-01-25 | Regents Of The University Of Michigan | Gas chromatography system with column bifurcation and tunable selectivity |
| US5210702A (en) * | 1990-12-26 | 1993-05-11 | Colorado Seminary | Apparatus for remote analysis of vehicle emissions |
| US5401967A (en) * | 1990-12-26 | 1995-03-28 | Colorado Seminary Dba University Of Denver | Apparatus for remote analysis of vehicle emissions |
| GB9210674D0 (en) * | 1992-05-19 | 1992-07-01 | Gersan Ets | Method and apparatus for examining an object |
| US5288310A (en) * | 1992-09-30 | 1994-02-22 | The Regents Of The University Of Michigan | Adsorbent trap for gas chromatography |
| US5510269A (en) * | 1992-11-20 | 1996-04-23 | Sensors, Inc. | Infrared method and apparatus for measuring gas concentration including electronic calibration |
| US5371367A (en) * | 1993-04-13 | 1994-12-06 | Envirotest Systems Corp. | Remote sensor device for monitoring motor vehicle exhaust systems |
| US5352901A (en) * | 1993-04-26 | 1994-10-04 | Cummins Electronics Company, Inc. | Forward and back scattering loss compensated smoke detector |
| US5424842A (en) * | 1993-04-27 | 1995-06-13 | Cummins Electronics Company, Inc. | Self-cleaning system for monitoring the opacity of combustion engine exhaust using venturi effect |
| DE4400963C2 (de) * | 1994-01-14 | 1997-07-17 | Sick Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung des Zustandes von in einem fluiddurchströmten Kanal eingeschalteten Filteranordnungen |
| US5751216A (en) * | 1994-09-27 | 1998-05-12 | Hochiki Kabushiki Kaisha | Projected beam-type smoke detector and receiving unit |
| DE4443016A1 (de) * | 1994-12-02 | 1996-06-05 | Sick Optik Elektronik Erwin | Gasanalytisches Meßgerät |
| US5621213A (en) * | 1995-07-07 | 1997-04-15 | Novitron International Inc. | System and method for monitoring a stack gas |
| JP3383499B2 (ja) | 1995-11-30 | 2003-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH09152696A (ja) | 1995-11-30 | 1997-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| DE19611290C2 (de) * | 1996-03-22 | 1998-04-16 | Draegerwerk Ag | Gassensor |
| US5770156A (en) * | 1996-06-04 | 1998-06-23 | In Usa, Inc. | Gas detection and measurement system |
| US6010665A (en) * | 1996-10-18 | 2000-01-04 | In Usa, Inc. | Multi-wavelength based ozone measurement method and apparatus |
| US5831267A (en) * | 1997-02-24 | 1998-11-03 | Envirotest Systems Corp. | Method and apparatus for remote measurement of exhaust gas |
| EP1230535A1 (en) * | 1999-11-04 | 2002-08-14 | L'air Liquide, S.A. à Directoire et Conseil de Surveillance pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Method for continuously monitoring chemical species and temperature in hot process gases |
| US6536649B1 (en) | 2000-07-28 | 2003-03-25 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method of preventing residue contamination of semiconductor devices during furnace processing |
| KR100359237B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2002-11-04 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 분진농도 측정장치 |
| US6822216B2 (en) * | 2002-01-08 | 2004-11-23 | Honeywell International, Inc. | Obscuration detector |
| US20050030628A1 (en) * | 2003-06-20 | 2005-02-10 | Aegis Semiconductor | Very low cost narrow band infrared sensor |
| JP2007503622A (ja) * | 2003-08-26 | 2007-02-22 | レッドシフト システムズ コーポレイション | 赤外線カメラシステム |
| US7221827B2 (en) * | 2003-09-08 | 2007-05-22 | Aegis Semiconductor, Inc. | Tunable dispersion compensator |
| KR20070003766A (ko) * | 2003-10-07 | 2007-01-05 | 이지스 세미컨덕터 인코포레이티드 | Cte 매치된 투명 기판상에 히터를 구비한 가변 광학필터 |
| US7262856B2 (en) * | 2004-05-25 | 2007-08-28 | Hobbs Douglas S | Microstructured optical device for remote chemical sensing |
| GB2422897A (en) * | 2005-02-02 | 2006-08-09 | Pcme Ltd | A monitor for monitoring particles flowing in a stack |
| GB0700677D0 (en) * | 2007-01-12 | 2007-02-21 | Servomex Group Ltd | Probe |
| DE502007006240D1 (de) | 2007-03-24 | 2011-02-24 | Sick Engineering Gmbh | Verschmutzungsmessung |
| CA2735892A1 (en) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | Johanson Holdings, Llc | Mixture segregation testing devices and methods |
| JP5349996B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2013-11-20 | 一般財団法人電力中央研究所 | ガス濃度測定装置 |
| WO2011017616A1 (en) | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Peter Theophilos Banos | Methods of and devices for monitoring the effects of cellular stress and damage resulting from radiation exposure |
| EP2711688B1 (en) * | 2011-05-20 | 2020-09-02 | HORIBA, Ltd. | Measuring unit and gas analyzing apparatus |
| DE102016223440A1 (de) * | 2016-11-25 | 2018-05-30 | Robert Bosch Gmbh | Partikelmessvorrichtung und Verfahren zur Bestimmung charakteristischer Größen eines Aerosols |
| CN110967310A (zh) * | 2019-11-18 | 2020-04-07 | 湖北中烟工业有限责任公司 | 一种烟草红外光谱数据与外观质量评分相关性的分析方法 |
| JP7289272B2 (ja) * | 2019-11-27 | 2023-06-09 | ポリマー キャラクタライゼーション,エセ.アー. | 試料中の成分吸光度を測定するための赤外線検出器および方法 |
| EP4317945A4 (en) * | 2022-04-05 | 2024-07-31 | Fuji Electric Co., Ltd. | GAS ANALYZER |
| WO2023195066A1 (ja) * | 2022-04-05 | 2023-10-12 | 富士電機株式会社 | ガス分析計 |
| JP2024112539A (ja) * | 2023-02-08 | 2024-08-21 | 株式会社東芝 | センシングシステム、及び反射光学素子 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1279371B (de) * | 1962-03-27 | 1968-10-03 | Sick Erwin | Vorrichtung zur Messung der Rauchdichte in Schornsteinen |
| US3472594A (en) * | 1966-06-06 | 1969-10-14 | Philips Corp | Multi-channel atomic absorption spectrometer |
| DE1623071B2 (de) * | 1967-02-03 | 1971-09-09 | Sick, Erwin, 8021 Icking | Photoelektronisches rauchdichtemessgeraet |
| DE2130331C3 (de) * | 1971-06-18 | 1978-06-29 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Konzentrationen der Komponenten eines aus zwei Gasen und Rauch bestehenden Gemisches |
| US3790797A (en) | 1971-09-07 | 1974-02-05 | S Sternberg | Method and system for the infrared analysis of gases |
| DE2218536A1 (de) * | 1972-04-17 | 1973-10-25 | Durag Apparatebau Gmbh | Truebungsmessgeraet fuer gase und fluessigkeiten |
| US3860818A (en) * | 1972-04-27 | 1975-01-14 | Texas Instruments Inc | Atmospheric pollution monitor |
| US3796887A (en) * | 1972-05-17 | 1974-03-12 | Itt | Photometric analyzer |
| DE2303040C3 (de) * | 1973-01-23 | 1978-03-30 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Optisches Meßgerät, insbesondere zur Rauchdichte- oder Sichtweitemessung |
| US3885162A (en) * | 1973-10-31 | 1975-05-20 | Contraves Goerz Corp | Optical measuring apparatus |
-
1975
- 1975-05-16 DE DE2521934A patent/DE2521934C3/de not_active Expired
-
1976
- 1976-05-11 US US05/685,425 patent/US4126396A/en not_active Expired - Lifetime
- 1976-05-14 FR FR7614704A patent/FR2311296A1/fr active Granted
- 1976-05-14 GB GB20004/76A patent/GB1531844A/en not_active Expired
- 1976-05-14 IT IT23321/76A patent/IT1062070B/it active
- 1976-05-17 JP JP51055474A patent/JPS51141681A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007232402A (ja) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Denso Corp | 光学式ガス検知装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4126396A (en) | 1978-11-21 |
| DE2521934A1 (de) | 1976-11-18 |
| IT1062070B (it) | 1983-06-25 |
| FR2311296B1 (ja) | 1981-09-25 |
| FR2311296A1 (fr) | 1976-12-10 |
| JPS51141681A (en) | 1976-12-06 |
| GB1531844A (en) | 1978-11-08 |
| DE2521934C3 (de) | 1978-11-02 |
| DE2521934B2 (de) | 1978-03-02 |
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