JPS5956972A - 半田付け部品の半田ぬれ性改良方法 - Google Patents
半田付け部品の半田ぬれ性改良方法Info
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- JPS5956972A JPS5956972A JP16925982A JP16925982A JPS5956972A JP S5956972 A JPS5956972 A JP S5956972A JP 16925982 A JP16925982 A JP 16925982A JP 16925982 A JP16925982 A JP 16925982A JP S5956972 A JPS5956972 A JP S5956972A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/20—Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明はパワートランジスタ用ステム等の十LIJ(
Jけ部品の半田ぬれ性の改良方法に関する。
Jけ部品の半田ぬれ性の改良方法に関する。
背景技術
カンケース型のパワートランジスタ等におけるステムに
は各種の構造2寸法のものがある。例えば第1図および
第2図はその代表的なものを示し、第1図は平面図であ
り、第2図は第1図のn−u線に沿う断面図である。図
において1は略菱形状を呈する鉄製のステム基板で、長
手方向の両端部にンヤーシ等への取付孔2,2を治し、
中心から若干偏心した位置にリード線封着用の小径の透
孔3.3を有するとともに、ヒートシンク固着用の大径
の透孔4を治する。5,5は前記透孔3,3に充填され
たソーダライムガラス、ソーダバリウムガラス等のガラ
スで、このガラス5.5を介して、鉄・ニッケル合金等
よりなるリード閣6,6が、ステム基板1と電気的に絶
縁してかつ気密に封着されている。7は前記透孔4に嵌
合しかしめられたうえで気密にロウイqけされた銅製の
ヒートンンクである○ 上記のステムは一般に無電解ニッケルメッキが施された
上で、全体を加熱しておいて前記ヒートンンク7」二に
半田を供給し、溶融した半田を介してトランジスタペレ
ット等の素子を固着したのち、素子のエミッタ電極やベ
ース電極等の上面電極とリード線6,6との間をアルミ
ニウムや金等よりなる接続細心メで4文続し、最後に上
から鉄製のキャッゾを被膜で溶抗溶接等により固着制止
している。
は各種の構造2寸法のものがある。例えば第1図および
第2図はその代表的なものを示し、第1図は平面図であ
り、第2図は第1図のn−u線に沿う断面図である。図
において1は略菱形状を呈する鉄製のステム基板で、長
手方向の両端部にンヤーシ等への取付孔2,2を治し、
中心から若干偏心した位置にリード線封着用の小径の透
孔3.3を有するとともに、ヒートシンク固着用の大径
の透孔4を治する。5,5は前記透孔3,3に充填され
たソーダライムガラス、ソーダバリウムガラス等のガラ
スで、このガラス5.5を介して、鉄・ニッケル合金等
よりなるリード閣6,6が、ステム基板1と電気的に絶
縁してかつ気密に封着されている。7は前記透孔4に嵌
合しかしめられたうえで気密にロウイqけされた銅製の
ヒートンンクである○ 上記のステムは一般に無電解ニッケルメッキが施された
上で、全体を加熱しておいて前記ヒートンンク7」二に
半田を供給し、溶融した半田を介してトランジスタペレ
ット等の素子を固着したのち、素子のエミッタ電極やベ
ース電極等の上面電極とリード線6,6との間をアルミ
ニウムや金等よりなる接続細心メで4文続し、最後に上
から鉄製のキャッゾを被膜で溶抗溶接等により固着制止
している。
ところで、無電解ニッケルメッキ層は経時変化によって
表面層に酸化被膜等が形成されやすいため、−I−記の
半日−J溶一時に半田のぬれ性が悪くなり、素子の固着
が不1月能ないし不完全になりやすいという間頌点があ
った。
表面層に酸化被膜等が形成されやすいため、−I−記の
半日−J溶一時に半田のぬれ性が悪くなり、素子の固着
が不1月能ないし不完全になりやすいという間頌点があ
った。
発明の開示
そこで、この発明は上記パワートランジスタ用ステム等
の半田イ」け部品の半田ぬれ性を改善できる方法を提供
することを目的とする。
の半田イ」け部品の半田ぬれ性を改善できる方法を提供
することを目的とする。
この発明は無電解ニッケルメッキを施し、た半田イ・」
け7’g((品を、80〜100°Cに加熱した次亜リ
ン酸ソーダの5〜25坏溶液中に3〜10分間浸漬した
のち、水洗し乾燥することを特徴とするものである。
け7’g((品を、80〜100°Cに加熱した次亜リ
ン酸ソーダの5〜25坏溶液中に3〜10分間浸漬した
のち、水洗し乾燥することを特徴とするものである。
すなわち、この発明によれば、半田付は部品にJIJL
をれた無電解ニッケルメッキの表面に酸化被膜が形成さ
れていても、次亜リン酸ソーダの還元作用によって、酸
化被膜が還元除去されて、活性な問が露出するので、半
田ぬれ性が改善できるのである。
をれた無電解ニッケルメッキの表面に酸化被膜が形成さ
れていても、次亜リン酸ソーダの還元作用によって、酸
化被膜が還元除去されて、活性な問が露出するので、半
田ぬれ性が改善できるのである。
発明を実施するだめの最良の形態
90 ”CVr:加熱した次亜リン酸ソーダの15%溶
液中に、第1図および第2図に示すパワートランジスタ
用ステムを5分11tj浸漬したのち、水洗し乾燥した
。このステムのヒートシンク7」二の半H」のぬれ広が
りはヒートシンク7の」二面積の90%になった。
液中に、第1図および第2図に示すパワートランジスタ
用ステムを5分11tj浸漬したのち、水洗し乾燥した
。このステムのヒートシンク7」二の半H」のぬれ広が
りはヒートシンク7の」二面積の90%になった。
これに対して、上記と同一ステムの未処理品のヒートシ
ンク7上の半田のぬれ広がりはヒートシンク7の土面積
の10%程度であった。
ンク7上の半田のぬれ広がりはヒートシンク7の土面積
の10%程度であった。
以下にA次亜リン酸ソーダ溶液の濃度、温度および浸漬
時間と半田ぬれ性との関係を示す。
時間と半田ぬれ性との関係を示す。
[]」 濃度々半1」」ぬれ性との関係濃度 、!
]′田ぬれ性良品 ] % 3/]o 液 温; 80
’C3% 7/3o 浸漬時間、5分間
5 % 1.0/1゜ 8 ダろ コ−○/1.010 呪
10/10 コ−5% 10/1゜ 20 呪 10/、。
]′田ぬれ性良品 ] % 3/]o 液 温; 80
’C3% 7/3o 浸漬時間、5分間
5 % 1.0/1゜ 8 ダろ コ−○/1.010 呪
10/10 コ−5% 10/1゜ 20 呪 10/、。
25 % ]−〇/□。
30 % 1OZ1o (半田浸漬前 次亜リン
酸処理後 表面変色) すなわち、次a+i、IJン酸ソーダ溶液の濃度は、5
%未満では還元作用が低すきるし、25%を越えると還
元作用が激しくて、被処理部品の変色を生しるので、5
〜25気の範囲内に限定される。
酸処理後 表面変色) すなわち、次a+i、IJン酸ソーダ溶液の濃度は、5
%未満では還元作用が低すきるし、25%を越えると還
元作用が激しくて、被処理部品の変色を生しるので、5
〜25気の範囲内に限定される。
[2] 液乙情と半田ぬれ性との関係温 度 半田
ぬれ性良品 50°C2/10 濃 度;10%60”
C5/1゜ 浸漬時間;5分間70℃ 9
/l。
ぬれ性良品 50°C2/10 濃 度;10%60”
C5/1゜ 浸漬時間;5分間70℃ 9
/l。
80°C1°/ 10
90℃ 10/l。
100℃ 10/ 10
すなわち、溶液の加熱温度は、80°C未満では還元作
用が低下り、、 100″Cを越える温度にはできな
いので、80〜100°Cの範囲内に限定される。
用が低下り、、 100″Cを越える温度にはできな
いので、80〜100°Cの範囲内に限定される。
〔3コ 浸漬時間と半田ぬれ性との関係時 間 半
田ぬれ性良品 ]−分間 l/10 液 温; so
°C2分間 5/□。 濃 度;lO%
3分間 10/l。
田ぬれ性良品 ]−分間 l/10 液 温; so
°C2分間 5/□。 濃 度;lO%
3分間 10/l。
5分間 10/、。
8分間 10/1゜
10分間 10/ l。
]−5分間 10/lO(半田浸漬前 次亜リン酸
処理後 表面変色) すなわち、浸漬時間は、2分間未満では効果が4j+1
実でなく、逆に」0分間を超えると被処理部品の茨色を
生じるσ)て゛、3〜lO分間に限定される。
処理後 表面変色) すなわち、浸漬時間は、2分間未満では効果が4j+1
実でなく、逆に」0分間を超えると被処理部品の茨色を
生じるσ)て゛、3〜lO分間に限定される。
なお、この発明は上記実施例に示したパワートランジス
タ川ステムのみならず、他の構造のステム[も実施でき
るし、ステムのみならず他の半田イ・」け部品にも実施
できるものである。
タ川ステムのみならず、他の構造のステム[も実施でき
るし、ステムのみならず他の半田イ・」け部品にも実施
できるものである。
第3図および第2図はこの発明の背景となるパワー1、
ランジスク用ステムの一例を示し、第1図は・+i而面
ズ、第2図は第1図のl−11線に沿う断面図である。 1 ステム基板、 5・・・・・ ガラス、6・・
・・・ リード線、7 、、、、、、 ヒートシンク
。
ランジスク用ステムの一例を示し、第1図は・+i而面
ズ、第2図は第1図のl−11線に沿う断面図である。 1 ステム基板、 5・・・・・ ガラス、6・・
・・・ リード線、7 、、、、、、 ヒートシンク
。
Claims (1)
- 表面に無電)「ニッケルメッキを施した半田付は部品を
、80〜90°Cに加熱した次亜リン酸ソーダの5〜2
5気の溶液中に3〜1o分間浸漬したのち、水洗し、乾
燥することを特徴とする半田イ1け部品の半田ぬれ性改
良方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16925982A JPS5956972A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 半田付け部品の半田ぬれ性改良方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16925982A JPS5956972A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 半田付け部品の半田ぬれ性改良方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5956972A true JPS5956972A (ja) | 1984-04-02 |
Family
ID=15883185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16925982A Pending JPS5956972A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 半田付け部品の半田ぬれ性改良方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5956972A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150216056A1 (en) * | 2013-08-15 | 2015-07-30 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic circuit substrate and its production method |
-
1982
- 1982-09-28 JP JP16925982A patent/JPS5956972A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150216056A1 (en) * | 2013-08-15 | 2015-07-30 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic circuit substrate and its production method |
| US10057992B2 (en) * | 2013-08-15 | 2018-08-21 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic circuit substrate and its production method |
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