JPS595726A - 酸化亜鉛薄膜の電極構造 - Google Patents

酸化亜鉛薄膜の電極構造

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JPS595726A
JPS595726A JP11445182A JP11445182A JPS595726A JP S595726 A JPS595726 A JP S595726A JP 11445182 A JP11445182 A JP 11445182A JP 11445182 A JP11445182 A JP 11445182A JP S595726 A JPS595726 A JP S595726A
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Japan
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zinc oxide
oxide film
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thin film
electrode
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JP11445182A
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JPH0115211B2 (ja
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Koji Nishiyama
浩司 西山
Takeshi Nakamura
武 中村
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/125Driving means, e.g. electrodes, coils
    • H03H9/13Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials
    • H03H9/131Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials consisting of a multilayered structure

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は安定な特性を示す酸化亜鉛薄膜の電極構造に
関する。
酸化亜鉛薄膜は弾性表面波装置、音叉振動子、音片振動
子などの圧電体として使用されている。
この酸化亜鉛薄膜の使用例を音叉振動子にもとづいて説
明する。
第1図は音叉振動子の一例を示す側面図である。
図において、1は音叉振動子の本体、2.3はこの本体
1の脚部を示し、脚部2.3の側壁2a、3aには酸化
亜鉛簿膜4.5が形成されている。
この酸化亜鉛WIII14.5は真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法などにより形成され
る。6.7は酸化亜鉛1膜4.5の上に形成されたへβ
電極を示す。
このへ!電極6.7は安価で承ンディングができること
から選ばれたもので、電子ビーム蒸着法などにより30
00〜100OOAの膜厚の範囲で形成される。
しかしながら、上記したような酸化亜鉛薄膜の電極構造
では次のような欠点が見られる。つまり、へ!電極その
ものが高い親和性を示すため、酸化亜鉛薄膜中にANが
拡散し、電気的特性が劣化するという欠点がある。すな
わち、2価の半導体である酸化亜鉛に3価である/lが
拡散することによって酸化亜鉛i1膜の電気的特性、た
とえば振動周波数を大きく変化させるという現象が認め
られた。また高温負荷寿命試験を行うと、さらに上記し
た現象が促進され、電気的特性の劣化が一層大きなもの
となった。
したがって、酸化亜鉛薄膜を形成するに当っては、電極
を含めた構成全体について考慮する必要があり、従来の
電極構成にさらに改良を施さなければならなかった。
この発明はかかる背景からなされたものであり、安定な
特性を示す酸化亜鉛薄膜の電極構造を提供することを目
的とする。
以下この発明を実施例にもとづいて詳細に説明する。
第2図はこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を音
叉撮動子に適用した例を示す側面図である。
11はエリンバなどからなる金属音叉、12は酸化亜鉛
薄膜、13はTi層、14はへβ電極である。このうち
11層13は電子ビーム法、スパッタリング法、イオン
ビーム法、抵抗加熱蒸着法などによって形成される。
第3図は屈曲振動モードの音片振動子にこの発明にかか
る酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した例を示した斜視図
である。
図において、21は振動子本体を示し、振動子22とこ
れを支持部24で支持している枠体23から構成されて
いる。25は酸化亜鉛薄膜で振動子22の表面に形成さ
れている。26は酸化亜鉛薄lI!25の上に形成され
たTi層、27はT i層26の上に形成されたへ!電
極である。
第4図は同じくこの発明を他の屈曲振動モードの振動子
に適用した例の側面図である。
図において、31はセラミクス、プラスチック、ゴムな
どの基板、この基板31表面には、へβ電極32、Ti
層33、酸化亜鉛薄膜34、Ti層35、およびAρ電
極36が順次形成されている。
第5図は同じくこの発明を拡がり振動モードの振動子に
適用した例を示す側面図である8図において、41は酸
化亜鉛薄膜、42は酸化亜鉛w1 m 41(7) 両
面ニ形成すtL タT i II、43ハT i II
 42の上に形成されたへ!電極である。
第6図は同じくこの発明を厚み振動モードの振動子に適
用した例を示す側面図である。
図において、51はSi、SiO2などからなる基板、
基板51の上にはAJ2電極52.11層53が順次形
成されている。さらに11層53の上には酸化亜鉛薄w
A54が形成されている。この酸化亜鉛iJ膜54が形
成されている位置に相当する基板51には空部51aが
形成されている。酸化亜鉛薄膜54の上には11層55
、およびAρ電極56が順次積層して形成されている。
次に具体的な実施例として、第2図に示した音叉振動子
についてこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を適
用した例を説明する。
第2図を参照して説明すれば、振動子11の上にスパッ
タリング法により酸化亜鉛薄膜12を形成し、その上に
Tiを層13を電子ビーム法により300Aの厚みに形
成し、さらにその上に厚みが1μからなるへρ電極14
を電子ビーム法により形成した。
このようにして振動周波数32Kl−1zの振動子を作
成した。
この振動子に直流電圧20Vを印加し、120℃の温度
に10000時間放置した。このときの振動周波数の経
時変化特性を試料数20個について測定したところ第1
図に示すような結果が得られた。図中実線はこの実施例
によるものである。また破線は従来例のAU電極のみか
らなるものについて、同様にして測定した結果を示した
ものである。この振動周波数の経時変化特性(ΔF/F
o )は次式また、直列共振抵抗(Ro )についても
同様に測定し、その結果を第8図にそれぞれ示した。
第7図〜第8図から明らかなように、この発明にかかる
ものは、従来例にくらべて、振動周波数の経時変化が小
さく、またRoの経時変化が小さくかつその値も小さい
などの効果が得られている。
ここで、Roを測定したのは次のような理由による。
まず、酸化亜鉛薄膜についてその等両回路を示せば第9
図のようになる。図中、Cdは並列容量を示し、酸化亜
鉛薄膜をコンデンサとして考えた場合の静電容量に近い
値である。Roは直列共振抵抗、Coは等価容量、Lo
は等価インダクタンスである。
Roは第10図に示したインピーダンスと周波数の関係
から、直列共振周波数(fo)に対応し、このRoが大
きくなれば発振に大きな増幅度が必要となり、発振条件
の低下をもたらすことになることが伺える。
第8図から明らかなように:この発明の実施例によれば
、従来例のへβ電極のものにくらべROの経時変化が小
さく、このことからこの発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電
極構造は安定な電気的特性を有づるとともに、高温負荷
寿命試験に対しても安定した特性を示すものであると理
解することができ、安定した発振を期待することができ
るか否かの目安となる。
以上この発明によれば、酸化亜鉛薄膜とへρ電極との間
にAρの拡散防止層としてTi層を介在させたものであ
り、従来のものにくらべて実用上十分な特性を示す酸化
亜鉛薄膜を提供することができる。特にこの発明によれ
ば、高温負荷寿命試験に対してRoの変化が小さく、周
波数変化が少ないなど信頼性の高い酸化亜鉛薄膜が得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は音叉振動子の一例を示す側面図、第2図は音叉
振動子にこの発明にががる酸化亜鉛11111の電極構
造を適用した例を示す側面図、第3図は音片振動子にこ
の発明にかかる酸化亜鉛薄膜の電極構造を適用した例の
斜視図、第4図〜第6図は同じくこの発明にかかる酸化
亜鉛薄膜の電極構造を各振動子に適用した例の側面図、
第7図はこの発明の具体的実施例にもとづく振動周波数
の経時変化特性図、第8図は同じ<Roの経時変化特性
図、第9図は酸化亜鉛薄膜の等何回略図、第10図はイ
ンピーダンスと周波数の関係特性図である。 11・・・・・・基板、12・・・・・・酸化亜鉛薄膜
、13・・・・・・Ti層、14・・・・・・Aρ両電
極 特  許  出  願  人 株式会社村田製作所 第 5図 ”rlNE (HOt/F) 第3 図 T1M& (/1θvB、)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 酸化亜鉛薄躾表面とAQ電極との間に11@を介在させ
    たことを特徴とする酸化亜鉛薄膜の電極構造。
JP11445182A 1982-06-30 1982-06-30 酸化亜鉛薄膜の電極構造 Granted JPS595726A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11445182A JPS595726A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 酸化亜鉛薄膜の電極構造
US06/509,028 US4445066A (en) 1982-06-30 1983-06-29 Electrode structure for a zinc oxide thin film transducer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11445182A JPS595726A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 酸化亜鉛薄膜の電極構造

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS595726A true JPS595726A (ja) 1984-01-12
JPH0115211B2 JPH0115211B2 (ja) 1989-03-16

Family

ID=14638054

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11445182A Granted JPS595726A (ja) 1982-06-30 1982-06-30 酸化亜鉛薄膜の電極構造

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JP (1) JPS595726A (ja)

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JPH0115211B2 (ja) 1989-03-16

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