JPS5958053A - シリコ−ン樹脂溶液およびその製造方法 - Google Patents
シリコ−ン樹脂溶液およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS5958053A JPS5958053A JP57168271A JP16827182A JPS5958053A JP S5958053 A JPS5958053 A JP S5958053A JP 57168271 A JP57168271 A JP 57168271A JP 16827182 A JP16827182 A JP 16827182A JP S5958053 A JPS5958053 A JP S5958053A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- silicone resin
- solution
- pdas
- resin solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（］） 発明の技術分野
本発明はコーティング用シリコーン樹脂溶液およびその
製造方法に関し、更に詳しくは、特に半導体、バブルメ
モリなどの保護もしくは配線層間絶縁材料として用いる
ことのできる、スピンコード可能なシリコーン樹脂およ
びその製造方法に関する。
製造方法に関し、更に詳しくは、特に半導体、バブルメ
モリなどの保護もしくは配線層間絶縁材料として用いる
ことのできる、スピンコード可能なシリコーン樹脂およ
びその製造方法に関する。
（２）技術の背景並びに従来技術と問題点画アルコキシ
シランの加水分解縮合重合物（以下、単にＰＤＡＳとい
う）溶液は、塗布、加熱処理によりＳ１０．膜と力るた
め、例えば半導体ガどの表面あるいは配線層間々どの絶
縁材料の一つとして使われている。
シランの加水分解縮合重合物（以下、単にＰＤＡＳとい
う）溶液は、塗布、加熱処理によりＳ１０．膜と力るた
め、例えば半導体ガどの表面あるいは配線層間々どの絶
縁材料の一つとして使われている。
半導体あるいはバプルメそり々どのように電食不良の起
とシうる装置は高度の長期信頼性が要求され、その中で
使用される絶縁材料に微量の不紳物が存在していても電
食不良の原因となりうる。
とシうる装置は高度の長期信頼性が要求され、その中で
使用される絶縁材料に微量の不紳物が存在していても電
食不良の原因となりうる。
また、Ｔｅ、 パーマロイＦｅ２Ｏ３など酸に腐食さ
れ易い薄膜の保護に用いるときには、微Ｉの酸を含有す
ることが致命的なことともなυうる。従っ″て、絶縁材
料には微量の酸の存在も許されない。
れ易い薄膜の保護に用いるときには、微Ｉの酸を含有す
ることが致命的なことともなυうる。従っ″て、絶縁材
料には微量の酸の存在も許されない。
微量の酸は以下に述べる反応工程で存在する。
すなわち、本発明における四アルコキシシラン５ｌ（Ｏ
Ｒ）４〔式中、Ｒはアルキル基であるＤの加水分解縮合
重合物溶液は一般に次の（１） 、 （２）式の反応に
従って得られる： Ｓｉ（ＯＲ）４＋２Ｈ２０→ Ｓ ｉ （ＯＲ）ｚ （ＯＨ）！＋２ＲＯＭ
（］）ｎｓ ｉ （ＯＲ）１ （ＯＢ） ２→０Ｈ
−（＝Ｓｔ（ＯＲ）、Ｏ＋Ｈ十（ｎ−１）Ｈ，Ｏ（２）
尚、（２）式の反応の他に膜アルコール縮合反応もおこ
秒得る。
Ｒ）４〔式中、Ｒはアルキル基であるＤの加水分解縮合
重合物溶液は一般に次の（１） 、 （２）式の反応に
従って得られる： Ｓｉ（ＯＲ）４＋２Ｈ２０→ Ｓ ｉ （ＯＲ）ｚ （ＯＨ）！＋２ＲＯＭ
（］）ｎｓ ｉ （ＯＲ）１ （ＯＢ） ２→０Ｈ
−（＝Ｓｔ（ＯＲ）、Ｏ＋Ｈ十（ｎ−１）Ｈ，Ｏ（２）
尚、（２）式の反応の他に膜アルコール縮合反応もおこ
秒得る。
とわらの反応によって得られる重合物は、５ｔ−ＯＲ基
の他ｒ（多数の５ｉ−ＯＨ基を含むためその１＼でも三
次元架橋反応を起こしやすいのでアルコール溶剤中で該
反応は行なわれることが多い。更に（１）式又は（２）
式の反応の促進剤としてシランモノマーに対し０．０５
〜０５％の酸が添加される。酸としては、塗膜を加熱処
理する際、揮発除去し得る塩酸を用いることが多い。こ
の塩酸は事実上殆んど揮発除去されているようであシ、
アルミニウム配線上に直接塗布してもアルミニウムの腐
食は観察されない。しかるに、長期にわたるバイアス試
験を行なうと、電食不良を起こすことが見出された。
の他ｒ（多数の５ｉ−ＯＨ基を含むためその１＼でも三
次元架橋反応を起こしやすいのでアルコール溶剤中で該
反応は行なわれることが多い。更に（１）式又は（２）
式の反応の促進剤としてシランモノマーに対し０．０５
〜０５％の酸が添加される。酸としては、塗膜を加熱処
理する際、揮発除去し得る塩酸を用いることが多い。こ
の塩酸は事実上殆んど揮発除去されているようであシ、
アルミニウム配線上に直接塗布してもアルミニウムの腐
食は観察されない。しかるに、長期にわたるバイアス試
験を行なうと、電食不良を起こすことが見出された。
これは除去し得なかった微量の塩酸に基づくものと思わ
れた。何故なら、樹脂液中の塩酸を可能な限し除去する
と電食不良が軽減されたからである。
れた。何故なら、樹脂液中の塩酸を可能な限し除去する
と電食不良が軽減されたからである。
一般に、樹脂液中の水溶性不純物の除去は、水洗によっ
て行々われる。しかしＰＤＡＳ溶液の場合はそわが困難
である。何故ガら、ＰＤＡＳ中の５ｉ−ＯＲ基が５ｉ−
ＯＨ基に変化し易く、５ｉＯＨが多くなるとゲル化して
しまったわ、保存安定性を失いゲル化してしまう。又、
塩酸除去のための水洗時に水に溶は込む有機溶剤のため
か、洗浄水層にＰＤＡＳが分配されてしまうからである
。有枦溶剤としてエタノールの如き水混和性溶剤を用い
るときは、水洗そのものが不可能であシ、直ちにゲル化
する。ベンゼンの如き水と混じ＃）雛い溶剤にはＰＤＡ
Ｓけ溶解しないので使用できないっまた、揮発性不純物
の除去には、例えば溶剤の高齢［７度化のため、加温し
て蒸留分離する方法が採用されるが、この方法もＰＩ）
ＡＳ溶液には適用できない。何故なら、分子量の増加に
よシゲル化し易くなるからである。
て行々われる。しかしＰＤＡＳ溶液の場合はそわが困難
である。何故ガら、ＰＤＡＳ中の５ｉ−ＯＲ基が５ｉ−
ＯＨ基に変化し易く、５ｉＯＨが多くなるとゲル化して
しまったわ、保存安定性を失いゲル化してしまう。又、
塩酸除去のための水洗時に水に溶は込む有機溶剤のため
か、洗浄水層にＰＤＡＳが分配されてしまうからである
。有枦溶剤としてエタノールの如き水混和性溶剤を用い
るときは、水洗そのものが不可能であシ、直ちにゲル化
する。ベンゼンの如き水と混じ＃）雛い溶剤にはＰＤＡ
Ｓけ溶解しないので使用できないっまた、揮発性不純物
の除去には、例えば溶剤の高齢［７度化のため、加温し
て蒸留分離する方法が採用されるが、この方法もＰＩ）
ＡＳ溶液には適用できない。何故なら、分子量の増加に
よシゲル化し易くなるからである。
ＰＤＡＳはこのように単独では不安定であり短時間でゲ
ル化してし捷うので、常に有視５溶剤に溶解している状
態になければならない。又、その溶剤は塩酸が除去され
てもなお多量に残っているよう々蒸気圧を有するもので
なければならない。
ル化してし捷うので、常に有視５溶剤に溶解している状
態になければならない。又、その溶剤は塩酸が除去され
てもなお多量に残っているよう々蒸気圧を有するもので
なければならない。
（３）発明の目的および構成
本発明け、このよう々従来の間断点を解消し、微量の塩
酸を除去した、しかも保存安定状態にあるシリコーン樹
脂溶液並びにその製造方法を提供することをその目的と
する。
酸を除去した、しかも保存安定状態にあるシリコーン樹
脂溶液並びにその製造方法を提供することをその目的と
する。
すガわち、本発明のシリコーン樹脂溶液は、肺点１１０
℃以上を有する有機溶剤に、四アルコキシシランの加水
分解縮合物を溶解してカリ、ハロゲン化水素の含有が１
０ｐｐｍ以下であると七を特ダとするものであり、又別
の発明におけるシリコーン樹脂溶液の製造方法は四アル
コジシランの加水分解縮合重合物清液と１１０℃以上の
沸点を有する有機溶剤を混合し、５ｍｍＨｇ 以下の圧
力下で減圧処理することを特りとする。
℃以上を有する有機溶剤に、四アルコキシシランの加水
分解縮合物を溶解してカリ、ハロゲン化水素の含有が１
０ｐｐｍ以下であると七を特ダとするものであり、又別
の発明におけるシリコーン樹脂溶液の製造方法は四アル
コジシランの加水分解縮合重合物清液と１１０℃以上の
沸点を有する有機溶剤を混合し、５ｍｍＨｇ 以下の圧
力下で減圧処理することを特りとする。
本発明で使用する有機溶剤はアルコール系、セロソルブ
アセテート系、ケトン系、エーテル糸、セロソルブ系な
どＰＤＡＳを溶解し沸点１１０℃以上を有する溶剤であ
ればいかなる溶剤も使用できる。
アセテート系、ケトン系、エーテル糸、セロソルブ系な
どＰＤＡＳを溶解し沸点１１０℃以上を有する溶剤であ
ればいかなる溶剤も使用できる。
例えば、ｎ−ブタノール（１１７，７℃） 、ｎ −Ｉ
Ｚルアルコール（１３８，３℃）、ｎ−へキサノーノｌ
。
Ｚルアルコール（１３８，３℃）、ｎ−へキサノーノｌ
。
（１５７，９℃）、ｎ−ブチルエーテル（１４０，９℃
）、エビクロロヒドリン（１１７℃）、メチル−〇−ブ
チルケトン（１２７，２℃）、メチルセロソルブアセテ
ート（１４４，５〜３４５．１℃）等がその例としてあ
げられる。尚、沸点の高い溶剤はど室温での蒸発速度が
小さいと言ってそわ程間違いではない。本発明において
使用する溶剤も沸点の高い溶剤を用いる方が有利である
。たとえばメチルセロソルブアセテート、エチルエセロ
ソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートを比較
すると、それぞれ沸点は１４４５〜１４５．１℃、１５
６゜３℃、１９１５℃（浅原ら編「溶剤ハンドブック」
講談社、昭和５１重量板による）であり、０，１％のＨ
ｃｅを含むＰＤＡＳのエチルアルコール溶液中の均酊′
を、硝酸銀を用いても検出でき々い程度にまで減圧処理
したとき、加えたセロソルブアセテートに対し１残った
セロソルブアセテートの塁はそれぞわ４８％、７６％、
９８％であった。もとより泳新分は添加するととで補う
ことが可能である。あまりにも沸点の高すぎる溶剤、た
とえば２−フェノキシエチルアセテート（沸点２５９７
℃）などは減圧処理１時には有利であろうけわども、塗
布硬化時に膜中に残された溶剤が微細カビンホールを形
成するかも知ねガい。
）、エビクロロヒドリン（１１７℃）、メチル−〇−ブ
チルケトン（１２７，２℃）、メチルセロソルブアセテ
ート（１４４，５〜３４５．１℃）等がその例としてあ
げられる。尚、沸点の高い溶剤はど室温での蒸発速度が
小さいと言ってそわ程間違いではない。本発明において
使用する溶剤も沸点の高い溶剤を用いる方が有利である
。たとえばメチルセロソルブアセテート、エチルエセロ
ソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートを比較
すると、それぞれ沸点は１４４５〜１４５．１℃、１５
６゜３℃、１９１５℃（浅原ら編「溶剤ハンドブック」
講談社、昭和５１重量板による）であり、０，１％のＨ
ｃｅを含むＰＤＡＳのエチルアルコール溶液中の均酊′
を、硝酸銀を用いても検出でき々い程度にまで減圧処理
したとき、加えたセロソルブアセテートに対し１残った
セロソルブアセテートの塁はそれぞわ４８％、７６％、
９８％であった。もとより泳新分は添加するととで補う
ことが可能である。あまりにも沸点の高すぎる溶剤、た
とえば２−フェノキシエチルアセテート（沸点２５９７
℃）などは減圧処理１時には有利であろうけわども、塗
布硬化時に膜中に残された溶剤が微細カビンホールを形
成するかも知ねガい。
尚、本発明においては混１合溶剤の使用も可能であり、
例λはトルエン、キシレン々ど単独ではＰＤＡＳを溶解
しシい溶剤もｎ−ブチルアルコールなどの如きアルコー
ル老溶剤と混合して用いることもできる。
例λはトルエン、キシレン々ど単独ではＰＤＡＳを溶解
しシい溶剤もｎ−ブチルアルコールなどの如きアルコー
ル老溶剤と混合して用いることもできる。
たとえばｎ−ブチルアルコール／キシレン系混合溶剤の
場合型１比で１０１０〜８／２の＃囲で用いることがで
き、ｎ−ブチルアルコール／トルエン系混合溶剤の場合
１０１０〜６／４の範囲で用いることができる。ただし
とわらの範囲はＰＤＡＳ原液の和１でよって多少変化す
る。キシレンよシもトルエンの方が広い範囲をとしうる
のけ減圧処理時に揮発邪が多いためと考えらねる。
場合型１比で１０１０〜８／２の＃囲で用いることがで
き、ｎ−ブチルアルコール／トルエン系混合溶剤の場合
１０１０〜６／４の範囲で用いることができる。ただし
とわらの範囲はＰＤＡＳ原液の和１でよって多少変化す
る。キシレンよシもトルエンの方が広い範囲をとしうる
のけ減圧処理時に揮発邪が多いためと考えらねる。
本発明における混合樹脂溶液の減圧処理時の圧力は、小
さ；叶れげ小さい程短時間に処理するととができるので
有利であるが、５ｗｎＨｇｌ、Ｊ下であれば良く、３ｗ
ＩＨｇ以下が好ましい。しかし、０５ｍｕｇ以上でも実
際使用可能である。減圧処理時の温度は、高ければ短時
間に処理できるがＰＤＡＳの変質を避けるため４０℃以
下で行なう必要がある。２８℃以下で５℃以上が望まし
い。
さ；叶れげ小さい程短時間に処理するととができるので
有利であるが、５ｗｎＨｇｌ、Ｊ下であれば良く、３ｗ
ＩＨｇ以下が好ましい。しかし、０５ｍｕｇ以上でも実
際使用可能である。減圧処理時の温度は、高ければ短時
間に処理できるがＰＤＡＳの変質を避けるため４０℃以
下で行なう必要がある。２８℃以下で５℃以上が望まし
い。
必要な減圧処理時間は、処理するＰＤＡＳ溶液の量、Ｐ
ＤＡ８溶液中に含まれる塩酸濃度によって異なるので一
般的に規定でき力いが通常１ｏｏｃｃ処理するのに１〜
４時間である。減圧処理はたとえば四−タリーエバポレ
ータを用いて行なうことができる。その場合、ロータリ
ーエバポレータの角度、回転数、フラスコの形状、大き
さなどによって必要な処理時間は異なる。
ＤＡ８溶液中に含まれる塩酸濃度によって異なるので一
般的に規定でき力いが通常１ｏｏｃｃ処理するのに１〜
４時間である。減圧処理はたとえば四−タリーエバポレ
ータを用いて行なうことができる。その場合、ロータリ
ーエバポレータの角度、回転数、フラスコの形状、大き
さなどによって必要な処理時間は異なる。
このようにして減圧処理を行なうことによって、ＰＤＡ
Ｓ溶液中の塩酸濃度を硝酸銀を用いても検出できない程
度にまで下げることが可能であり、ｌｐｐｍ以下と推定
される。すなわち、少なくとも測宇限界がｌｏｐｐｍ
である分析法によっては検出されなかった。
Ｓ溶液中の塩酸濃度を硝酸銀を用いても検出できない程
度にまで下げることが可能であり、ｌｐｐｍ以下と推定
される。すなわち、少なくとも測宇限界がｌｏｐｐｍ
である分析法によっては検出されなかった。
（４）発明の実施例
以下、本発明を実施例により更に説明する。
重量平均分子量（扁Ｗ；ゲルパーミュージョンクロマト
グラフィによる標準ポリスチレンへの換算値）５４００
、官能基がエトキシとシラノールでそのモル比が約１対
１であるＰＤＡＳを１５，５重要パーセントを含み、溶
剤がエチルアルコールとイソプロピルアルコールでその
混合比が重量で約３：ラスコに採取し、ブチルセロソル
ブアセテート８４５ｇを加えた、このナス型フラスコを
ロータリーエバレターに接続し、傾斜４５℃に設置し、
回転数５Ｑｒｐｍで回転させた。次に浴温２５℃の水槽
にフラスコを入れ、真空ポンプで２．０＋＋ａｎＨｇＫ
鍼圧し、４時間波圧処理した。ドライアイスで冷却した
エタノールを冷媒とするトラップにけ８６，１ｇの溶剤
がトラップされ、ナス型フラスコ中の溶液の重量は９８
４ｇであった。これにブチルセロソルブアセテート１．
’６ ｇを加え、ＰＤＡＳ溶液■を得た。
グラフィによる標準ポリスチレンへの換算値）５４００
、官能基がエトキシとシラノールでそのモル比が約１対
１であるＰＤＡＳを１５，５重要パーセントを含み、溶
剤がエチルアルコールとイソプロピルアルコールでその
混合比が重量で約３：ラスコに採取し、ブチルセロソル
ブアセテート８４５ｇを加えた、このナス型フラスコを
ロータリーエバレターに接続し、傾斜４５℃に設置し、
回転数５Ｑｒｐｍで回転させた。次に浴温２５℃の水槽
にフラスコを入れ、真空ポンプで２．０＋＋ａｎＨｇＫ
鍼圧し、４時間波圧処理した。ドライアイスで冷却した
エタノールを冷媒とするトラップにけ８６，１ｇの溶剤
がトラップされ、ナス型フラスコ中の溶液の重量は９８
４ｇであった。これにブチルセロソルブアセテート１．
’６ ｇを加え、ＰＤＡＳ溶液■を得た。
とのＰＤＡＳ溶液■のＩｇを試験管に採り、０．１％硝
硝酸水水溶液２を漂加し捏盪したところ、やがて有機層
部の管壁に白いゲル状物質が付着したが、水層部は還元
された鐸の茶褐色の色を呈したが白色の沈殿は生じなか
った。
硝酸水水溶液２を漂加し捏盪したところ、やがて有機層
部の管壁に白いゲル状物質が付着したが、水層部は還元
された鐸の茶褐色の色を呈したが白色の沈殿は生じなか
った。
ＰＤＡＳ溶液■を水で抽出洗浄し、塩素の定量分析を行
なった。その結果、塩素の濃度はｌｏｐｐｍ以下であっ
た１、一方、ＰＤＡＳ溶液Ｔ溶液全１ｇ管に採υ、０１
％硝酸銀溶液１滴を加え振とうした結果、白濁を生じた
。
なった。その結果、塩素の濃度はｌｏｐｐｍ以下であっ
た１、一方、ＰＤＡＳ溶液Ｔ溶液全１ｇ管に採υ、０１
％硝酸銀溶液１滴を加え振とうした結果、白濁を生じた
。
特許出願人
富士通株式会社
特許出枦代理人
弁理士 青 木 朗
弁理士西舘和之
弁理士内田幸男
弁理士 山 口 昭 之
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、沸点１１０℃以上を有する有機溶剤に、四アルコキ
シシランの加水分解縮合重合物を溶解して寿る、ハロゲ
ン化水素含有１０ｐｐｍ以下のシリコーン樹脂溶液。 ２ 四アルコキシシランの加水分解縮合重合物溶液と１
１０℃以上の沸点を有する有機溶剤を混合し、５ＩＩＩ
ｆｆＩＨｇ以下の圧力下で減圧処理することを特許とす
るシリコーン樹脂溶液の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57168271A JPS5958053A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | シリコ−ン樹脂溶液およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57168271A JPS5958053A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | シリコ−ン樹脂溶液およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5958053A true JPS5958053A (ja) | 1984-04-03 |
| JPS6110495B2 JPS6110495B2 (ja) | 1986-03-29 |
Family
ID=15864920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57168271A Granted JPS5958053A (ja) | 1982-09-29 | 1982-09-29 | シリコ−ン樹脂溶液およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5958053A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100742196B1 (ko) | 2006-11-16 | 2007-07-24 | 주식회사 베스트화성 | 짧은 테이퍼 길이를 가지는 침상모의 제조방법 및 이방법에 의하여 제조된 칫솔 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5774370A (en) * | 1981-06-15 | 1982-05-10 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | High-purity silica-forming coating solution |
-
1982
- 1982-09-29 JP JP57168271A patent/JPS5958053A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5774370A (en) * | 1981-06-15 | 1982-05-10 | Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki | High-purity silica-forming coating solution |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6110495B2 (ja) | 1986-03-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970007176B1 (ko) | 알루미늄 배선기판의 표면처리제 | |
| JP2739902B2 (ja) | 酸化ケイ素系被膜形成用塗布液 | |
| JP3302120B2 (ja) | レジスト用剥離液 | |
| DE69023566T2 (de) | Metastabile Silanhydrolysat-Lösungen und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
| JP3073313B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH05259066A (ja) | ポジ型フォトレジスト用剥離液および半導体装置の製造方法 | |
| JPH06340812A (ja) | 安定化された水素シルセスキオキサン樹脂溶液 | |
| JPH0766188A (ja) | 半導体装置 | |
| Ng et al. | Hydrate formation and inhibition in gas condensate and hydrocarbon liquid systems | |
| KR101992224B1 (ko) | 실리콘 에칭액 및 에칭방법 그리고 미소전기기계소자 | |
| JP7067919B2 (ja) | ジヒドロキシナフタレンの精製方法 | |
| JPS6033117B2 (ja) | シラノ−ルオリゴマ−液の製造法 | |
| JPH0680119B2 (ja) | ノボラツク樹脂の精製方法 | |
| Willard et al. | The Separation and Determination of Sodium and Lithium by Precipitation from Alcoholic Perchlorate SOLUTION1 | |
| JP2001291427A (ja) | 電気絶縁性薄膜形成性樹脂組成物、および電気絶縁性薄膜の形成方法 | |
| CN1668542A (zh) | 用于制备具有高粘合性的玻璃状薄膜的溶胶－凝胶法和适用于实施这种方法的稳定的胶体溶液 | |
| JPS5958054A (ja) | シリコ−ン樹脂溶液およびその製造方法 | |
| US5270074A (en) | Silicone resin coating compositions | |
| JPS583984A (ja) | クロム・エッチング用の酸性の水性エッチャント組成物 | |
| JP3268506B2 (ja) | 付着水除去用溶剤組成物 | |
| JPS6228511B2 (ja) | ||
| Briggs | On the Absorption of Water Vapor and of Certain Salts in Aqueous Solution by Quartz | |
| CN101395537B (zh) | 感光性有机膜用显影液组合物 | |
| JPH05311156A (ja) | 撥水処理剤 | |
| JPH0129056B2 (ja) |