JPS5958724A - 真空バルブ用接点およびその製造方法 - Google Patents
真空バルブ用接点およびその製造方法Info
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- JPS5958724A JPS5958724A JP16888082A JP16888082A JPS5958724A JP S5958724 A JPS5958724 A JP S5958724A JP 16888082 A JP16888082 A JP 16888082A JP 16888082 A JP16888082 A JP 16888082A JP S5958724 A JPS5958724 A JP S5958724A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明ヲ、］１、しゃ断アークに対して平行な向きの磁
界を印加する縦磁界発生用コイルを備えた真空バルブに
イ丸１．リ ４ににこれに用いられる接点およびそのｌ
ｌ、１１造力法に関する。
界を印加する縦磁界発生用コイルを備えた真空バルブに
イ丸１．リ ４ににこれに用いられる接点およびそのｌ
ｌ、１１造力法に関する。
一般に、真空バルブは電流をしゃ断する時に、接点間に
発生するアークは、接点面上を動きまわるが、大電流に
なってくると、そのアークに生ずるｆ’ａ界と外部回路
の作る磁界によってアークは電４１υ（面を移動し、電
極端部或いは周辺部に片寄って固着し、陽楊；点が発生
するために、その部分を局ｔ’ｉｌｓ的に加熱し、多周
の蒸気を放出させて容器内の真り？度の低下を招くので
、しゃ断容量が低下−」る。
発生するアークは、接点面上を動きまわるが、大電流に
なってくると、そのアークに生ずるｆ’ａ界と外部回路
の作る磁界によってアークは電４１υ（面を移動し、電
極端部或いは周辺部に片寄って固着し、陽楊；点が発生
するために、その部分を局ｔ’ｉｌｓ的に加熱し、多周
の蒸気を放出させて容器内の真り？度の低下を招くので
、しゃ断容量が低下−」る。
このようｌ電イ戦の局部加熱を防止するため、第１図の
ようにｔｔｃ４ｉＮＪに螺旋状スリット２を形成し、こ
のアークを回転駆動させアーク電流を電極全体で均一に
分４１１させるようにしだものである。しかし実際には
大電流アークになってくると、アーク発生中金属蒸気又
はイオン化された金属蒸気が電４ｉ［：間の外に逃げ、
アーク託持に必要なイオンが不足することから陽極点が
発生するために、それによシアークが一点で固着してし
まうので、電極間のアークが不安定になるものと考えて
必ずしもアーク電流を％： ４ｔ＜ ｉｌｎ全体で均一
に分担させることができない。
ようにｔｔｃ４ｉＮＪに螺旋状スリット２を形成し、こ
のアークを回転駆動させアーク電流を電極全体で均一に
分４１１させるようにしだものである。しかし実際には
大電流アークになってくると、アーク発生中金属蒸気又
はイオン化された金属蒸気が電４ｉ［：間の外に逃げ、
アーク託持に必要なイオンが不足することから陽極点が
発生するために、それによシアークが一点で固着してし
まうので、電極間のアークが不安定になるものと考えて
必ずしもアーク電流を％： ４ｔ＜ ｉｌｎ全体で均一
に分担させることができない。
前述のよう力現象を防ぐため、他の方法として′ＩＣ空
しゃ断器の負荷電流により接点の接触表面と垂直に接点
を貫通する磁界を発生させ、この磁界のアークに及ばず
磁気力によってアーク接点、電極の表面に一様に分散さ
ぜる方法があり、これによシ優れたしゃ断能力が得られ
る。
しゃ断器の負荷電流により接点の接触表面と垂直に接点
を貫通する磁界を発生させ、この磁界のアークに及ばず
磁気力によってアーク接点、電極の表面に一様に分散さ
ぜる方法があり、これによシ優れたしゃ断能力が得られ
る。
しかし印加される電源が交流の場合には、電極部に加え
られる交番磁界のために％、 イｉｌｊ部に渦電。
られる交番磁界のために％、 イｉｌｊ部に渦電。
カ１．が発生し、この渦電流は加えた磁界を打消す方向
の磁界を発生するため、期待した磁界をアークに加える
ことが出来なくなるという問題がある。この渦電流を発
生するため、第２図（ａ）。
の磁界を発生するため、期待した磁界をアークに加える
ことが出来なくなるという問題がある。この渦電流を発
生するため、第２図（ａ）。
（ｂ）のように縦磁界発生用コイル４を組込んだ電極栴
造の主７ｒｌＬｌ＋Ｍ 、ｑに複数本のスリット６を形
成する技術がすでに知られている。すなわち、第２図（
、）及びθ】）は電電イ販の裏ｆ、１！ｌ Ｋ設けた縦
磁界発生用コイルによ！Ｊ ！ＩＱ！１方向磁界を発生
させる方式の電極４δ造の代表例を示す平面図及び縦断
面図である。図中、３は電磁４１箕で、’ｒＦＡＩ流し
ゃ断時にこの表面でアークが発生する。４は主磁極背面
に設けたコイル電４瓶で、中央から放射状に延びる腕１
Ｊ４ａと円周方向に回る外周部４ｂと電電１．５ｔ＋ｉ
３との接続部４Ｃとからなる。５は導電棒でこれから
縦磁界発生用コイル４の前記各部を、４ａ、４ｂ、４ｃ
の順に流れ、その電流経路によシアーク柱に対して軸方
向の磁界（縦磁界）が発生する。縦磁界中でのアークは
接点間に一様に分散し、アーク電圧が低く安定しておシ
、電極の局；Ｔ１ζ的な溶融が起こりにくいため、電流
しゃ断性能が向上するという特徴を持っている。
造の主７ｒｌＬｌ＋Ｍ 、ｑに複数本のスリット６を形
成する技術がすでに知られている。すなわち、第２図（
、）及びθ】）は電電イ販の裏ｆ、１！ｌ Ｋ設けた縦
磁界発生用コイルによ！Ｊ ！ＩＱ！１方向磁界を発生
させる方式の電極４δ造の代表例を示す平面図及び縦断
面図である。図中、３は電磁４１箕で、’ｒＦＡＩ流し
ゃ断時にこの表面でアークが発生する。４は主磁極背面
に設けたコイル電４瓶で、中央から放射状に延びる腕１
Ｊ４ａと円周方向に回る外周部４ｂと電電１．５ｔ＋ｉ
３との接続部４Ｃとからなる。５は導電棒でこれから
縦磁界発生用コイル４の前記各部を、４ａ、４ｂ、４ｃ
の順に流れ、その電流経路によシアーク柱に対して軸方
向の磁界（縦磁界）が発生する。縦磁界中でのアークは
接点間に一様に分散し、アーク電圧が低く安定しておシ
、電極の局；Ｔ１ζ的な溶融が起こりにくいため、電流
しゃ断性能が向上するという特徴を持っている。
６は渦電流を抑制するために主電極３に複数本等間隙に
入れたスリットである。
入れたスリットである。
しかしながら、スリット６によって渦電流の発生を抑制
する技術には、電極の溶融によシ、スリット６がふさが
シ、そのため渦電流が大きくなって期待した磁界が得ら
れない場合がある。
する技術には、電極の溶融によシ、スリット６がふさが
シ、そのため渦電流が大きくなって期待した磁界が得ら
れない場合がある。
一方溶融した電極材によってスリット６がふさがるのを
防ぐため、スリット６０幅を広くすると、電極間に生じ
たアークがそのスリット内を通過して磁界発生用コイル
４に移り、磁界発生効果が下がる場合もある。更に、ス
リット６の幅が広いとしゃ断に有効なｔ４ｊ ４ｉｊ＜
表面の面積が減少する為、しゃ断性能の低下を招く。又
スリット６を形成することは、加工工数の増大を招く上
に、機械的強度の低下等の欠点もＩ沼められる。
防ぐため、スリット６０幅を広くすると、電極間に生じ
たアークがそのスリット内を通過して磁界発生用コイル
４に移り、磁界発生効果が下がる場合もある。更に、ス
リット６の幅が広いとしゃ断に有効なｔ４ｊ ４ｉｊ＜
表面の面積が減少する為、しゃ断性能の低下を招く。又
スリット６を形成することは、加工工数の増大を招く上
に、機械的強度の低下等の欠点もＩ沼められる。
本発明は、上記のよう々事情にＱＡ’ａみてなされたも
ので、その目的とするところは渦電流による障害を軽減
化でき、安定した高いしゃ断性能を有する真空バルブ用
接点およびその製造方法を提供するにある。
ので、その目的とするところは渦電流による障害を軽減
化でき、安定した高いしゃ断性能を有する真空バルブ用
接点およびその製造方法を提供するにある。
本発明の１＋″ｆ徴は、渦電流を細分化しそのほとんど
又は一部分を相殺するよう電極、接点に埋設した渦電流
抑制体を持った真空バルブ用接点及びその製造方法にあ
る。
又は一部分を相殺するよう電極、接点に埋設した渦電流
抑制体を持った真空バルブ用接点及びその製造方法にあ
る。
以下、図面を引用しながら本発明の実施例について詳細
を説明するが、はじめに接点構成について説明するが、
第３，４図において、接点７は埋設した渦電流抑制体８
と、それに囲まれた接点合金９よりなる導電体とで構成
されている。第３図の渦電流抑制体８は板面から見て格
子状になっておシ、第４図の渦電流抑制体８は多数の円
形リングからなっている。
を説明するが、はじめに接点構成について説明するが、
第３，４図において、接点７は埋設した渦電流抑制体８
と、それに囲まれた接点合金９よりなる導電体とで構成
されている。第３図の渦電流抑制体８は板面から見て格
子状になっておシ、第４図の渦電流抑制体８は多数の円
形リングからなっている。
このように４．ｊ７７成されているものにおいて接点合
金９をとシ囲む渦電流抑制体８中に誘起される渦電流１
０は１、第３図、第４図いずれも隣接する接点合金９中
に誘起する渦電流の成分は互いに逆向きのため打消し合
う結果、縦磁界の主磁束を減するように働らく渦電流の
合成値は械めて小くなシ、安定した磁界強度を維持する
ことが出来る。その効果を効率的に引き出すためには、
隣接する接点合金９よシなる導電部分は、渦電流抑制体
８によって互いに完全に独立している必要がある。また
該渦電流抑制体８の電気抵抗値は導電部分を構成する接
点合金９よシ高い必要があシ、好ましくは５倍以上が望
ましい。
金９をとシ囲む渦電流抑制体８中に誘起される渦電流１
０は１、第３図、第４図いずれも隣接する接点合金９中
に誘起する渦電流の成分は互いに逆向きのため打消し合
う結果、縦磁界の主磁束を減するように働らく渦電流の
合成値は械めて小くなシ、安定した磁界強度を維持する
ことが出来る。その効果を効率的に引き出すためには、
隣接する接点合金９よシなる導電部分は、渦電流抑制体
８によって互いに完全に独立している必要がある。また
該渦電流抑制体８の電気抵抗値は導電部分を構成する接
点合金９よシ高い必要があシ、好ましくは５倍以上が望
ましい。
更には、該渦電！ノ１１）抑制体８と接点合金９とは互
いに溶解度がイｉｆｊ ＜小さく、化合物の形成もない
ことが望ましい。また該渦電流抑制体８は接点合金９よ
シ融点が高い必要が有る。更に該渦電流抑制体８は、縦
磁界の磁束を乱すことのないよう動作温度に対して非磁
性であることが必要である。更にまた渦電流抑制体８の
幅が極端に薄いと隣接する接点合金へと渦電流が貫通し
抑制効果が発揮されず実用的制約も加味するとその下限
は約ｏ、 ｉ ａｍであシ、又その幅が極端に厚いと渦
電流抑制体８同志の接解確率の増大による溶着現象の発
生が認められることと、渦電流抑制体８内にも成る程度
の渦電流の誘起も認められ縦磁界を乱すよう働くためそ
の上限は約２ｍｍ ′８度が好ましい。
いに溶解度がイｉｆｊ ＜小さく、化合物の形成もない
ことが望ましい。また該渦電流抑制体８は接点合金９よ
シ融点が高い必要が有る。更に該渦電流抑制体８は、縦
磁界の磁束を乱すことのないよう動作温度に対して非磁
性であることが必要である。更にまた渦電流抑制体８の
幅が極端に薄いと隣接する接点合金へと渦電流が貫通し
抑制効果が発揮されず実用的制約も加味するとその下限
は約ｏ、 ｉ ａｍであシ、又その幅が極端に厚いと渦
電流抑制体８同志の接解確率の増大による溶着現象の発
生が認められることと、渦電流抑制体８内にも成る程度
の渦電流の誘起も認められ縦磁界を乱すよう働くためそ
の上限は約２ｍｍ ′８度が好ましい。
次に以上述べた接点７の製造方法について第５図を参照
して説明する。所定の内径と肉厚を持った例えばステン
レスパイプよりなる渦電流抑制体８と接点合金９とを溶
解用坩堝１１中に収納する。渦電流抑制体８は接点合金
９が溶融しているところへ挿入してもよく、又、接点合
金９が固体状態であってもよい。又は、渦電流抑制体８
のみを１１堝１１中に配置した状態のところへ他の袋層
、で溶融した接点合金９を注入してもよい。いずれかの
方法によって溶融中の接点合金９を加熱体１２又は坩堝
１１を移動することによって、一端から他端に向って接
点合金を一方向凝固させ接点合金９中の不純物（ガス等
）を除去すると共に、渦電流抑制体８と他の渦電流抑制
体８間の隙間にも充分接点合金９で満されるようにする
。得られた接点累月を所定厚さに輪切シにし、切断面を
接解面とすることにより接点７ができる。
して説明する。所定の内径と肉厚を持った例えばステン
レスパイプよりなる渦電流抑制体８と接点合金９とを溶
解用坩堝１１中に収納する。渦電流抑制体８は接点合金
９が溶融しているところへ挿入してもよく、又、接点合
金９が固体状態であってもよい。又は、渦電流抑制体８
のみを１１堝１１中に配置した状態のところへ他の袋層
、で溶融した接点合金９を注入してもよい。いずれかの
方法によって溶融中の接点合金９を加熱体１２又は坩堝
１１を移動することによって、一端から他端に向って接
点合金を一方向凝固させ接点合金９中の不純物（ガス等
）を除去すると共に、渦電流抑制体８と他の渦電流抑制
体８間の隙間にも充分接点合金９で満されるようにする
。得られた接点累月を所定厚さに輪切シにし、切断面を
接解面とすることにより接点７ができる。
次に製造方法の具体的実施例およびこれと比較する比殻
例について説明する。
例について説明する。
以上述べたように容器例えば坩堝１１内に接点合金材料
（第１の材料）を収納し、これを溶解した状態で、渦電
流抑制体材料（第２の制別）を坩堝１１内に徐々に浸漬
して両月料を一体硬化させる方法によれば、できた接点
素材の健全性が高く例えば穴、ガス等の存在がなくなる
。
（第１の材料）を収納し、これを溶解した状態で、渦電
流抑制体材料（第２の制別）を坩堝１１内に徐々に浸漬
して両月料を一体硬化させる方法によれば、できた接点
素材の健全性が高く例えば穴、ガス等の存在がなくなる
。
この反面設備費としては高くなる。
また、容器例えば坩堝１１内に、予じめ渦電流抑制体材
料（第２の材料）を例えばやぐらのごとき組立てた状態
で、坩堝１１内に接点合金材料（第１の材料）を例えば
粒状にして入れて、これ側らかの手段により溶解させる
かあるいは溶解した状態の接点合金材料を入れる方法に
よれば、設備費が安くなるという利点を有する。
料（第２の材料）を例えばやぐらのごとき組立てた状態
で、坩堝１１内に接点合金材料（第１の材料）を例えば
粒状にして入れて、これ側らかの手段により溶解させる
かあるいは溶解した状態の接点合金材料を入れる方法に
よれば、設備費が安くなるという利点を有する。
実施例−１、比較例−１
外径７問肉厚０．３晒のステンレス製・ぐイブを１８ｃ
ｒｎに切断したもの３７本をＮｉの、１、ｌｌＩ腺で束
ねた後、Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの真空中で、１３５
０℃で脱ガスを兼ねて一体化処理を行った。このステン
レスパイプの束を、内径５０１：ｆｎ１長さ１５０鰭の
カーぎン１［１堝中で１２００℃で溶融中の０、５重量
９！ＩＢｌ −Ｃｕ合金中へ、・ぐイブ束の下端から１
０ｆｌ／分の速度で挿入した。」■場内で両者が一体化
後、加熱用コイルを月１堝の下部から上方へ向って、２
η＋ｍ１分の速度で引抜きながら接点合金を凝固させて
接点素材を得た。このようにしてイ４′ｌられた接点素
材を厚さ４醋に切断しステンレスで完全に細分化された
直径５０能の旧−Ｃｕ接点片を作った。
ｒｎに切断したもの３７本をＮｉの、１、ｌｌＩ腺で束
ねた後、Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの真空中で、１３５
０℃で脱ガスを兼ねて一体化処理を行った。このステン
レスパイプの束を、内径５０１：ｆｎ１長さ１５０鰭の
カーぎン１［１堝中で１２００℃で溶融中の０、５重量
９！ＩＢｌ −Ｃｕ合金中へ、・ぐイブ束の下端から１
０ｆｌ／分の速度で挿入した。」■場内で両者が一体化
後、加熱用コイルを月１堝の下部から上方へ向って、２
η＋ｍ１分の速度で引抜きながら接点合金を凝固させて
接点素材を得た。このようにしてイ４′ｌられた接点素
材を厚さ４醋に切断しステンレスで完全に細分化された
直径５０能の旧−Ｃｕ接点片を作った。
との接点片を約５０エルステツドの縦磁界を発生する試
験用−Ａ空バルブに組込んで３０ ｋＡを６回しゃ断し
たととる、溶着が力い上に完全なしゃ断が行われた。特
にしゃ断時の接点における電流及びアークの発生現象を
検証してみる− と電流及びアークが接点全面に均一に
分散していた。
験用−Ａ空バルブに組込んで３０ ｋＡを６回しゃ断し
たととる、溶着が力い上に完全なしゃ断が行われた。特
にしゃ断時の接点における電流及びアークの発生現象を
検証してみる− と電流及びアークが接点全面に均一に
分散していた。
これと比較のために、同じ阻のＢｉを含有しだＢｉ −
Ｃｕ合金よりなる接点片を、上記と同じ５０エルステツ
ドの縦磁界を発生する試験用真空バルブに組込んで、３
０ｋＡをしゃ断したところ、３回目でしゃ断不能を呈し
た。Ｊｉｌｔ、流を２４ｋＡに下げてしゃ１所を行なっ
たが、４回目でやはシしゃ断不能を呈した。しゃ断時の
アーク発生現象を検証すると、アークが接点の局部に集
中しがちであり、これがしゃ断性ｒ＋ｌ：の向上を阻害
している要因と考えられた。このバルブを分解したとこ
ろ、スリットが溶融接点でふさがっていたことと、局部
的に溶融による大きな凹みが認められていた上に、接点
表面には脆い接点に特有の亀裂も認められた。これに対
し、前述の実施例１による接点表面は平滑であった。
Ｃｕ合金よりなる接点片を、上記と同じ５０エルステツ
ドの縦磁界を発生する試験用真空バルブに組込んで、３
０ｋＡをしゃ断したところ、３回目でしゃ断不能を呈し
た。Ｊｉｌｔ、流を２４ｋＡに下げてしゃ１所を行なっ
たが、４回目でやはシしゃ断不能を呈した。しゃ断時の
アーク発生現象を検証すると、アークが接点の局部に集
中しがちであり、これがしゃ断性ｒ＋ｌ：の向上を阻害
している要因と考えられた。このバルブを分解したとこ
ろ、スリットが溶融接点でふさがっていたことと、局部
的に溶融による大きな凹みが認められていた上に、接点
表面には脆い接点に特有の亀裂も認められた。これに対
し、前述の実施例１による接点表面は平滑であった。
実施例−２、比較例−２
両面に３μのＮｉメッキを施した厚さ０．２５ ｎｍの
Ｔａ （タンタル）薄板を、−辺が６ ｍｍの正方彫を
有する格子状に組立て、これを内径５０ ｍｍの坩堝中
に配置した後、この中に２ ％ Ｔｅ −１％Ｐｂ −
９７’％ Ｃｕ合金を＠造し、Ｔａ格子とＴｅ −Ｐｂ
−Ｃｕ合金を一体化し、接点合金とした。
Ｔａ （タンタル）薄板を、−辺が６ ｍｍの正方彫を
有する格子状に組立て、これを内径５０ ｍｍの坩堝中
に配置した後、この中に２ ％ Ｔｅ −１％Ｐｂ −
９７’％ Ｃｕ合金を＠造し、Ｔａ格子とＴｅ −Ｐｂ
−Ｃｕ合金を一体化し、接点合金とした。
５Ｘ１０ Ｔｏｒｒで１２００℃に加熱した前記接点
合金の底部から上部に向って冷却して接点素材とし、所
定の加工を行左っだ後、実施例−１で使用し／メ二試１
１・外用真空バルブに組込んでしゃ［：）７テストに供
し／；−０ 実施例−１と同様に比較のためＴａ （タンタル）格子
の々い２ ％ Ｔｅ −１％ Ｐｂ −９７％ Ｃｕ合
金を得て、同型の試験用真空パルプに紹込んで比較例−
２としてしゃＦ？テストに供した。Ｔａ製の渦電流抑制
体が存在する場合、３０ｋＡを６回冗全にり、中断が完
了しプこが、比較例−２では、３０ ｋＡをしゃ断した
ところ２回目で１−や断不能を呈した。２４ ｋＡ ？
ｆ、で電流を下げだかやはシしゃ断不能な星した。しゃ
１４１’、中のアーク観測によると、渦電流抑制体の存
在する実Ｍ￥ｉ例−２の方が接点面のアークの分散ム′
［合に均一性が認められた。しゃ断ａ≦バルブを分解し
表面を比較したが、比較例−２の表面には局部的に激し
い溶融痕跡が存在していた。
合金の底部から上部に向って冷却して接点素材とし、所
定の加工を行左っだ後、実施例−１で使用し／メ二試１
１・外用真空バルブに組込んでしゃ［：）７テストに供
し／；−０ 実施例−１と同様に比較のためＴａ （タンタル）格子
の々い２ ％ Ｔｅ −１％ Ｐｂ −９７％ Ｃｕ合
金を得て、同型の試験用真空パルプに紹込んで比較例−
２としてしゃＦ？テストに供した。Ｔａ製の渦電流抑制
体が存在する場合、３０ｋＡを６回冗全にり、中断が完
了しプこが、比較例−２では、３０ ｋＡをしゃ断した
ところ２回目で１−や断不能を呈した。２４ ｋＡ ？
ｆ、で電流を下げだかやはシしゃ断不能な星した。しゃ
１４１’、中のアーク観測によると、渦電流抑制体の存
在する実Ｍ￥ｉ例−２の方が接点面のアークの分散ム′
［合に均一性が認められた。しゃ断ａ≦バルブを分解し
表面を比較したが、比較例−２の表面には局部的に激し
い溶融痕跡が存在していた。
実施例−３、比較例−３
通電性能を向上させるため、第６１シ１（ａ） ｐ （
ｂ）の如く、接点の上面、又は下面或いは両方に導電性
の高いｙＩ：、γ板層１３並びに１４を設けるとよい。
ｂ）の如く、接点の上面、又は下面或いは両方に導電性
の高いｙＩ：、γ板層１３並びに１４を設けるとよい。
この場合、他方の接点と対向する側の面の薄板層１３は
、耐溶着性材料でもよいが、他の導電性の高い通電に適
する材料例えば純銅でもよい。
、耐溶着性材料でもよいが、他の導電性の高い通電に適
する材料例えば純銅でもよい。
Ｍｏ製の渦電流抑制体８及びｓｂ −ｐｂ （ｓｂが１
：Ｐｂが３の比率）を２係含有しだＣｕ −Ａｇ基合金
（Ｃｕが９０ ： Ａｇが１０の比率）よシなる接点に
、前記純銅製の薄板層１４を配し、実施例−１と同じ試
験用真空パルプに組込んでしゃ断テストを行なったが、
良好なしゃ断時性を示した。
：Ｐｂが３の比率）を２係含有しだＣｕ −Ａｇ基合金
（Ｃｕが９０ ： Ａｇが１０の比率）よシなる接点に
、前記純銅製の薄板層１４を配し、実施例−１と同じ試
験用真空パルプに組込んでしゃ断テストを行なったが、
良好なしゃ断時性を示した。
実施例１〜３では、渦電流抑制体として、ステンレス、
タンタル、モリブデンについてか、接点合金と溶解度が
なく、かつ接点台金よシ融点が高く、電気抵抗が高いイ
Ａ相なら、７９Ｆ７１Ｊ］目的を達するのは明白である
。
タンタル、モリブデンについてか、接点合金と溶解度が
なく、かつ接点台金よシ融点が高く、電気抵抗が高いイ
Ａ相なら、７９Ｆ７１Ｊ］目的を達するのは明白である
。
以上述べた本発明の渦電流を、１１１１分化する渦電流
抑制体を有する接点及びその製造方法によれば、従来の
スリットを持った紬１磁界による真空パルプに見られる
ようなスリットのふさがシがなく、安定した、均一な磁
界強度及び分布を得ることが出来、従って安定したしゃ
断性能の真空バルブを提供することが可能となる。
抑制体を有する接点及びその製造方法によれば、従来の
スリットを持った紬１磁界による真空パルプに見られる
ようなスリットのふさがシがなく、安定した、均一な磁
界強度及び分布を得ることが出来、従って安定したしゃ
断性能の真空バルブを提供することが可能となる。
第１図は、従来用いられるスミ９イラル溝を持った真空
バルブ用接点の平面トＪ、１、第２図（ａ） ｔ （ｂ
）は、従来用いられる縦磁界発生コイルと主電極コイル
を持った真空バルブの＠ ４に構造を示す平面図及び断
面図、第３図（ａ） ？ （ｂ）及び４図（ａ） Ｆ
（ｂ）は、それぞれ本発明による真空パルプ用接点の異
なる例を示す平面図、断面−’？！−面図、断面図、及
び第５図は、本発明による真空バルブ用接点の製造方法
を１況明する坩堝４’＋’／成を示す断面図、第６図（
ａ） ｔ （ｂ）はそれぞれ本発明の方法によってでき
だ接点の異なる例を示す断面図である。 １・・・電極、２・・・嵯旋状スリット、３・・・主電
極、４・・・縦磁界発生用コイル、４ａ・・・腕部、４
ｂ・・・外周部、４Ｃ・・・接続部、５・・・導電棒、
６・・・スリット、７・・・接点、８・・・渦電流抑制
体、９・・・接点合金、１１・・・坩堝、１２・・・加
熱体、１３・・・凹板層Ｏ 出願入代ＢＩＢ人 弁理士 鈴 江 ５１（彦（ｂ） 第２図 （ａ）
バルブ用接点の平面トＪ、１、第２図（ａ） ｔ （ｂ
）は、従来用いられる縦磁界発生コイルと主電極コイル
を持った真空バルブの＠ ４に構造を示す平面図及び断
面図、第３図（ａ） ？ （ｂ）及び４図（ａ） Ｆ
（ｂ）は、それぞれ本発明による真空パルプ用接点の異
なる例を示す平面図、断面−’？！−面図、断面図、及
び第５図は、本発明による真空バルブ用接点の製造方法
を１況明する坩堝４’＋’／成を示す断面図、第６図（
ａ） ｔ （ｂ）はそれぞれ本発明の方法によってでき
だ接点の異なる例を示す断面図である。 １・・・電極、２・・・嵯旋状スリット、３・・・主電
極、４・・・縦磁界発生用コイル、４ａ・・・腕部、４
ｂ・・・外周部、４Ｃ・・・接続部、５・・・導電棒、
６・・・スリット、７・・・接点、８・・・渦電流抑制
体、９・・・接点合金、１１・・・坩堝、１２・・・加
熱体、１３・・・凹板層Ｏ 出願入代ＢＩＢ人 弁理士 鈴 江 ５１（彦（ｂ） 第２図 （ａ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）真空バルブ用接点材料として必要な機能を備えた
第１の材料と、前記第１の拐料中に第１の利料を細分化
し電気的に互いに独立するように配置した渦電流抑制体
にガる第２の材料とからなることを特徴とする真空バル
ブ用接点。 （２）第１の材料は、Ｃｕ 、 Ａｇ又は他の金属、若
しくはこれらの金属を含む合金又は複合金属であること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空バルブ用
接点。 （３）第１の材料は、Ｂｉ−ｙ Ｐｂ Ｉ Ｔｅ ＨＳ
ｂの少なくとも１の元素を含有する導電性材料であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空バルブ
用接点。 （４）第２の材料は、第１の利料よシ融点が高く、かつ
互いの固溶度が１チ未満であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の真空ノ々ルブ用接点。 （５）第２の材料は、第１の材料よシ高い電気抵抗を有
することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空
バルブ用接点。 （６）第２の月別は、鉄、クロム、タンタル。 ニオフッタングステン、モリブデン、ステンレス、黒鉛
、又は、これらを含有することを特徴とする特許′「請
求の範囲第１項記載の真空バルブ用接点。 （７）第２の祠料は、円形まメヒは多角形の断面を持つ
管、棒或いは板であることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の真空バルブ用接点。 （８）第２の材料の上面又は下面の少なくとも一方に第
１の月別からなる薄板層又は下面には導電性月別を設け
たことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空バ
ルブ用接点。 （９） 容器内に、真空パルプ用接点祠料としての必
要な機能を（ｉｉｆｔえた第１の材料が溶融した状態に
あるとき、前記容器内に複数個の第２の材料を互に間隔
を存して一唱から徐々に浸漬し、両材料を一体硬化させ
ることによ多接点素材を得、これを切断して真空バルブ
用接点をイ１−）る真錯バルブ用接点の製造方法。 α１ 複数個の第２の拐料を互に間１（凸を存して収納
した容器内に、真空バルブ用接点利料としての必要な機
能を備えた第１の月別の溶のを注入し、前記第１および
第２の月別を一体硬化させることにより接点素材を１！
：＋ 、これを切断して真空バルブ用接点を得る真空バ
ルブ用接点の製造方法。 （１１）容器内に、第１および第２０利４：ｌがともに
収納されかつ第１の材料が溶融した状態にあるとき、前
記第１の材料を容器の一方向から順次凝固させるように
した特許請求の１ｌｉｌｉ、間第９項又は第１０項記載
の真空バルブ用接点の製造方法Ｏ θ→ 第２の材料の方向を揃えて配ｊｉ、７．する特許
請求の範囲第９項又は第１０項記載のＪ（空）Ｚルブ用
接点の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16888082A JPS5958724A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 真空バルブ用接点およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16888082A JPS5958724A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 真空バルブ用接点およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5958724A true JPS5958724A (ja) | 1984-04-04 |
Family
ID=15876268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16888082A Pending JPS5958724A (ja) | 1982-09-28 | 1982-09-28 | 真空バルブ用接点およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5958724A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61161629A (ja) * | 1985-01-10 | 1986-07-22 | 三菱電機株式会社 | 真空しや断器用接点 |
| US5174249A (en) * | 1990-07-13 | 1992-12-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Piston cooling device for internal combustion engine |
-
1982
- 1982-09-28 JP JP16888082A patent/JPS5958724A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61161629A (ja) * | 1985-01-10 | 1986-07-22 | 三菱電機株式会社 | 真空しや断器用接点 |
| US5174249A (en) * | 1990-07-13 | 1992-12-29 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Piston cooling device for internal combustion engine |
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