JPS5960935A - 継電器の接点ばねの調整方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特にレーデパルスを用℃・る局所的計量加熱
によってその都度の接点ばねの一定σ）位置変化か得ら
れることより成る継電器の接点ばねの調整方法に関する
。また本発明は同方法を実施するための装置に関する。

この種の方法は西独国特許出願公開第２９１８１００号
明細書からずでに公知でちる。同明細書にはすでに１例
えばレーずパルスを用いることによって接点ばねの一定
のひずみ又は調整すべきその他の部分の得られることが
記載され−ＣＬ・る。また同明細書では、レ−ず光の適
用された融解部分の種々の形状を用いろことによって該
ばねの種々の大きさのひずみが検出されうろことも指摘
されている。最後にまたレーサ゛光の転向装置、例えば
鏡の使用もすでに記載されている。

本発明の課題は、前記技術水準から公知の原理を更に発
展させて、できるだけ迅速かつ簡単に継電器に敗ｆ寸け
た接点ばねな精密に調整′ｊ−ることのできる方法ケ創
作することであり、この際該方法は特に継電器の１業的
大量生、免に、招いて使用されうろことが一要求される
。更に本発明は前記方法ン実施１−るための装置を創作
することも目的とずろ。

前記課題は本発明に２Ｌり一冒・ｊシミ−ｊ載の種類の
方法を用い、接点ばね表面上で選択可能のマトリックス
場（Ｍａｔｒｉｘｆｅｌｄ　）の個々の点に関して、所
定のパル“７１．１−不・し；℃ゞ−、パルス幅及び所
定の集光直径での熱パルス、特にレーデパルスを用いろ
前記点の照射時に得られる接点ばね位置の補正値が記憶
がイしており、調整−ｆ−・−’−と接点ばねの位置が
目標位置と比較されて測定されかつその偏差が検出され
、同偏差が記憶された補正値と比較され、加算陳がせい
ぜい前記偏差に等しくなる該当補正値が選択されかつ選
択された補正値に４目応１−る接点ばね表面ヒのマトリ
ックス点が所定の熱パルス発生装置な用いて制御されか
つ照射されることによって解決される。

従って本発明による方法の場合、各接点ばねについて特
有の形状を有する全く新しい、特有の照射点が同ばねの
所望の変形に応じて検出されて照射されるのではなく、
むしろ調整１−べき１−べての継′亀器又は接点ばねに
対して標準的マトリックス場が設けられていて、同マト
リックス場のどの点も熱線、特に所定のパルスエネルギ
ー、パルス幅及び集光直径を有１−ろレーデ光で照射さ
れうる。マトリック場のすべての点について許容ｔｉＪ
能な補正値がｒめ特定さオしておりかつ出現するすべて
の調−整過程に関して記憶されているので、補正″１−
べき偏差を許容可能の補正値と比軟することによつ゛（
その都度マトリックス場の該当する点が選択され、これ
らの点をレーず光で照射することによって全体として所
望の補正が最適近１以Ｃ得られる。各レーサ゛パルスは
相応にｊｌｉｌ制御された接点ばねの点において特定の
角度変化を与えるので、接点はねの接点を有する自由端
の変動は、照射点が同ばねの固定位置に近はス・シば近
い程それだけ大きい。従って種々の点の選択及び照射に
よってマトリック場内では接点ばねの自由端の行程変動
よりも小さい補正値ど大き（・補正値が得られ、相ａ−
ｒｃボ１１合ｋ＞されうろ。またマトリックス場の二次
元的形成によって、接点ばねの彎曲す場合により２軸の
周りで行なうことも可能であって、これは例えば架橋接
点ばねの場合に該当する。レーずパルスで照射するに当
って選択可能の面積をマトリックス場の比較的少ない個
々の点に縮小することによって極めて迅速な選択及び制
御が可能になる、これは継電器の天童生産にとって決定
な利点である。

調整時に得られる行程変動の再現性は、個々の各マトリ
ックス点について、特に接点ばね表面のその都度の状態
によって限定された特定の許容範囲を有しかつこれらの
許容範囲は加算されうるので、検出された偏差が所定の
許容値を越えると、選択された点の照射後に接点はねの
位置を目標位置と比リツしてｒＴＪび測定しがっ場合に
よっては他の補正値を選択して接点はね表面上の相応の
点を照射するのが有利である。

接点ばね表面上のマｌ−ＩＪツクス場の個々の点は単一
の熱源によって発生されたエネルギー線の光学的転向に
よって制御されうる。またこのエネルギー線、好ましく
はレーデ光によって継電器内の数個の接点はねも照射さ
れうる。

周知のように特定点の照射は、接点ばねがバイアス電圧
の印加なしに配置されている限り一前記の点を中心とす
る同ばねの彎曲を与える。

例えば接点ばねを一方の対向接点に接触させてバイアス
電圧を印加することによって、点の照射によって得られ
る同ばねの彎曲は強化されるか又はバイアス電圧が大き
いと反対方向に反転する。

接点ばね位置の測定のためには、有利（Ｃは、接点ばね
の自由端及び／又は−測定方法に応じて一同自由端に並
置された継電器の作用素子、つまり一般には接極子を走
査する電気光学的撮影装置が使用される。すなわち例え
ば静的測定方法の場合機械的に固定された接極子の中央
位置では２個の対向接点の間の接点はねの中火位置が走
査さｉｔかつこの位置からの偏差が？１１１定される。

動的測定、つまり接続運動中の接点はね位置の測定が特
に有利である。この場合には接点の開放又は閉鎖の瞬間
ごとに接極子位置が測定される。接点の開放又は閉鎖の
瞬間における接極子の位置と接極子の最終位置との間の
距離は、接触力を決定する過剰行程である。この際この
過剰行程は接点ばねの調整によって所定の量に調整され
ろ。この場合有利には接極子は電気光学的撮影の瞬間に
フラツ／ユを用いて照明されて、急速に動かされた部分
の高い位置精度か達成される。

更に熱源及びレーず光の光学的転向装置の位置決定のた
めには、調整開始前に接点ばねの輪郭を受光装置と関係
１−ろ光線を用いて走査１−るのが有利である。この走
査のためには、熱パルスを発生さぜろ第一レーずに対し
て同一線」二に配置されていて、同し−サ゛よりも著し
く小さいエネルギーを放射するもう１個のレーザ″を有
利に使用１−ろことかできる。

またはね調整のためには、接点ばねが変化する厚さを有
し、調整パルスで照射される部分は接触のために用いら
れろばねの自由端よりも厚℃・のが有利である。

本発明による方法を実施づ−るための装置は有利にば、
調整１−べき継電器の位置決定のための撮影装置、接点
はね位置を走査するための４１１］定装置、接点はね位
置を記憶された目標位置と比較しかつ偏差値を形成する
ための第一比較装置、マトリックス場の特定の点に相関
された補正量を記憶するだめの補正値記障装置、検出さ
れた偏差値及び記憶された補正量か伝送される第二比較
装置、熱線パルス発生装置、特にレーザ゛及び調整すべ
き接点ばねの特定点に対する第二比較装置の出力信号に
依存して調節可能の転向装置を有する。

この際撮影装置は、調整１−べき継電器を測定装置及び
レ−ず尤の転向装置に対して正しく位置決定するために
用いられる。また同撮影装置は、測定過程の同継電器を
制御し、接極子運動の間Ｉ渚測測定実施しうるためにも
使用されうろ。

この目的のために該撮影装置は継電器の接続端子を接触
させるだめの装置を包含する。この際開閉装置を介して
継電器の励磁コイルに電圧を印加することができ、調整
ずべき接点ばねの接点の開放又は閉鎖の際に前記測定装
置がしＩＪ　−ズされる。

一つの実施態様では測定装置として半導体撮像装置か使
用され、この際継電器の走査すべき範囲はレンズ系を介
してＣＣＤ撮像累子列に結像されろ。また静的走査の場
合の明暗のコントラストを鮮明にづ−ろために有利にブ
Ｃ源か設けられていて、その光は導光体束な介して走査
づ−ベき継電器部分に向けられろ。動的測定の場合には
走査の瞬間にフラツンユを形成づ−るためのストロボが
有利に使用される。

比較装置及び記１意装置は有利にはマイクロプロセッサ
によって構成されて（・ろ。また熱エイ・ルギー源とし
ては有利な実施態様ではパルスレーサ゛装置が使用され
、そのビームは２軸の周りに旋回用能の鏡を介して調整
″″３−べき接点ばね」二のマトリックス場の個々の点
に対して調節可能である。また熱線又はレーず光の光路
には好ましくは調節目］能の集光光学系が配置されて（
・ろ。

他の実施態様では継電器の撮影装置の両側に各１個の鏡
が設けられており、他方レーサ゛光又は熱線の光路には
調節可能の転向装置が設けられていて、同装置によって
光が一方又は他方σ）鏡に対して選択的に調節可能であ
る。該転向装置は有利には金属化１ｌ（１１面を何１−
る稼動可能のプリズムを有することができろ。

製造工場で調整の再現性を保証するためには、接点ばね
表面」二のマトリックス場の照射点を可及的に精密に位
置決定しなければならない。この目的のために本発明の
他の実施態様では熱発生装置の他に熱線と同一線上にそ
の光路が存在するもう１個の測定レーずならびに継電器
撮影装置の他に、測定レーサ゛光の特定の反射の際に転
向装置の零点決定のための信号な継電器撮影装置に対し
て送信１−る受光装置が設けられている。

次に本発明を実施例に関し、図面により詳述する。

第１図は、継電器調整のための個々の装置の配置を示す
方式構成図である。継電器１は、同継電器を精密に設定
された位置にもたらしかつ同継電器の接続端子用接触装
置を有する撮影装置２上に配置されて（・る。本例によ
る継電器はおよそ、西独国特許出願第Ｐ′５１６２２３
９．５号明細書に記載されているような構造を有′１″
ろ。

第１図で継電器１はキャップなしの平面図で図示し、主
要部分が略示しである。平面基体３上には略示ぜろコイ
ル４を有′１−ろスプールブロック（図示してない）が
あって、前記コイル内で細長（・接極子５がピボットキ
ン６で旋回可能に支承されている。ぎボットピン６は軸
受部拐７に形成されており、同部材は接極子５と固定さ
れていて接極子の両側にそれぞれ１個の接点ばね８を有
する。これらの接点はね８は調整のために用いられる厚
い部分８ａを有しかつ同はねの薄い自由端８ｂには、接
極子の接続時に２個の対向接触素子９及び１０りつうち
の１個と選択的に接触するそれぞれ１個の接触片を有す
る。

中央位置に図示しである接極子５は、その最終位置で極
板１１又は１２にそれぞれ選択的に接触する。

接極子の掴みを介して同接極子に固定結合された接点は
ね８は、接極子のどの最終位置でも特定のバイアス電圧
を用いてその都度対向接触素子９又は１０に接触しなけ
ればならない。つまり接点はねは接極子の中央位置の場
合には同様に接点はねの両対向接触素子の間の中央位置
になければならず、十分な接触力を得るためには前記接
触素子は、接極子がその最終位置に達する前にその都度
閉じられなレフればならない。

接点ばね８が同ばねの前記の相対位置に関Ｉ−目漂位置
からずれる場合には、同ばねは調整されなけれはならな
い。この調整は、Ｎｄ　：　ＹＡＯ（Ｎｅｏｄｙｍ　：
　Ｙｔｔｒｉｕｍ−Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ−Ｇｒａｎａｔ
　）−パルスレーず装置によって発振されるレーデパル
ス１３を用いて行なわれる。該レーず光１３は、２軸に
関して旋回可能の１個の転向鏡１５を介して接点ばね８
の種々の点に向けられうる。この点については後で詳述
する。

接点ばね８の調整のためには先づ、目標値に対する前記
のずれ（偏差）を測定しなげればならない。このために
第１図によれば光学測定装置、例えばＣ０Ｄ−カメラ１
６か設けられて（・て、同装置によって接極子５及び場
合によっては接点はね８の位置か光学的に記録され、そ
れから接点ばねの目標位置からの偏差が検出されうる。

得られた像は測定装置１６で評価され、この際接極子又
は場合により接点ばね８のその都度測定された位置か比
較装置ＶＧ１に供給され、そこで記憶装置ｓｐ１に記憶
された目標値と比較されろ。比較によって偏差値が得ら
れろと、この偏差値が第二比較装置ＶＯ２に供給され、
そこで記憶装置ｓｐ２に記憶された補正値と比較される
。これらの補正値はそれぞれマトリックス場の特定の点
に相関して℃・る、つまり接点はね表面上の当該点を照
射すると接点はねに対する相関補正値か得られろ。比較
装置ＶＧ２によって、総和において少なくとも測定され
た偏差にほぼ一致する補正値に相関されたマトリック場
の該光点が選択される。接点ばねの調整が一方向でしか
可能でない場合には、補正値は許容範囲を考慮しても偏
差の大きさを越えないように保証されなげればならない
。選択されたマトリック点はもう１個の記憶装置ｓｐろ
に投入され、レーザ１４の制御及び転向制御装置１８を
介する転向装置１５の制御のために用（・られる。転向
制御装置１８は鏡１５を軸１９及び軸２０の周りに旋回
させるので、レーず光１３をその都度接点はね８の選択
された点２１（第７図参照）に対して調節することかで
きる。

第７図は継電器１の側面図であって、その接点はね８上
には制御６Ｊ能な７トリツクス点２１が調整領賊（マト
リックス場）２２中に描℃・である。本例では６×６の
調整点２１から成るマトリックスが図示してあり、接点
ばね８の固定位置からの個々の調整点の距離に応じて異
なった調整効果が得られる。

個々の調整点２１の制御のためには一定の出発状態を得
、ひいては大量生産で補正値を再現可能にするために、
第１図によれば補助的なパイロットレーザ゛２３が設け
られていて、実際の調整過程の前に活動される。エネル
ギーレーザゝ１４に対して同一線」二に配置された調整
レーザ゛−２３ノヒーム２４は、転向鏡１５を介して接
点はね８の縁に亘って移動され、この際反射光が感光夕
゛イオード２５によって受光されてＪ゛］′洒される。

これによって接点はねの輪郭の状態が正確に検出され、
相応の１を号により転向制御装置４１８に投入される。

次に転向鏡１５も接点ばね輪郭によって与えられた零位
置から出発して所望の調整点２１に正確に向けられつる
。また接点はねの零位置は受光装置２５がも例えば記憶
装置ｓｐ３に投入され、そこで選択されたマトリックス
点の座標に算入されうる。

第２図は光学測定装置１６を用いる接点はね位置の静的
測定のための装置を示−１−、この静的測定の場合には
、接極子５を中央位置にもたらし、例えば機械的手段に
よってその位置に固定させる。次に、接極子のこの中央
位置で中央接点ばね８も、それぞれの対向接触素子９及
び１００間に存在するかどうかが測定される。これは第
６図における線２６に沿う光学的走査で上２である。光
学的信号撮像のためにはＣＯＤダイオード列２７、対物
レンズ２８及びここでは詳細には図示してない評＠ｌｉ
　ｒ−レクトロニクス２９を有する市販のＣＣＤカメラ
が使用される。

測定のためには、定出力を有する光源（例えば調節冷光
源、照明ダイオード又はレーサ゛ダイオード）の光が、
接点はね８及び接極子５を有する２つの接点系を個々に
照明するために、レンズ３１及び導光体束３２及びその
分裂端部３２”＋　　３２ｂ及び３２ｃを介して６つの
測定位置に局所的に分けられる。これは半導体カメラの
コン；・ラストの加減のために使用されろ。次に全測定
範囲がレンズ系によりＣＣＤ撮像素子列２７上に結像さ
れる。”その評価から、例えば第２図の図面のように接
極子５が中央位置にあ５にもかかわらず接点ばねがそれ
ぞれ対向接触素子９に接触していることが判れば、接点
ばねをレーず光による照射によって、同ばねか対向接触
素子９及び１００間の中央に存在するまで外側へと調整
しなければならない。

しかし特に有利な測定方法は、測定プロセスの際、接極
子の位置が接点か開かれるか又は閉じられる瞬間ごとに
測定されうろように継電器１を接続する点にある。この
動的測定方法のためには第１図の装置においてコイル４
に一方の陰性の電圧と他方の極性の電圧を交〃に印加づ
−る開閉器Ｓ１が設けられていて−その結果（有極）継
電器１の接極子は一回両方向（／ｉ−切換えられる。こ
の際接点の接続状態は導線１７を介して撮像装置２で捕
捉され、信号としてカメラ１６に転送されつるので、接
点の開放又は閉鎖の瞬間ごとに継電器の１象が撮影され
る。

前記の動的測定の原理は第４図乃至第６図で略示しであ
る。継電器は第２及び６図に図示したように構成されて
いると１−る。接極子５はそのピボット６の範囲で１又
は２個の中央接点ばね８と固定されておりがっ接極子の
自由端５ａをもって両極板１１及び１２０間で左右に接
続されうる。第４図は接極子の一方の最終位置における
状態を示し、この際接極子はその自由端５ａをもって極
板１１に接触し、接点はね８の接点８ｃは最大接触力を
もって対向接触素子９に接触している。同時（・ζ接点
ばね８は著しく曲っている。この状態の場合には接極子
、つまりその縁５ｂの位置が測定される。

継電器を接続すると接極子５は継鉄がら離れるが、接点
は接触力の減少にもがかわらずなお閉じている（第５図
参照）。この場合にもなお中央接点ばねは僅かに曲って
いる。接極子が丈に動くと、接点８ｃが対向接触素子９
がらはずれ、従って接点の開く時点が得られる。コノ接
点の開放時点はもう一つの像の撮影のために使用される
。つまりこの際にもまた接極子、′１−なわぢその縁５
ｂの位置が測定される（第６図）。

第４図（接極子接触）及び第６図（接点の開放）の接極
子の両位置の差から過剰行程が測定され、目標値と比較
され、評価されて補正値が決定される。

第８図は継電器の対向面に配置された２個の接点はね８
及び８′を調整するための装置を示す。

パルスレーず１４の光１３は金属化された側面を有する
プリズム３３により図示のように２軸の周りに旋回ｏＪ
龍の鏡２ｏに向けられる。次にレーず光１３は鏡２ｏが
らレンズ系３４を介してその都度所望されろ接点ばね８
上の調整点に集）記される。さて対向する接点はね８′
を調整しようとする場合には、プリズム３３を点線で表
わした位置３３′に移動すると、レーず光１３は反対側
面に入射され、調整パルス１３′として鏡２０′及び集
光レンズ３４′を介して接点ばね８′上に向げら１しる
。従って単一のパルスレーザ″−１４を用いて２個の接
点はね８及び８′を調整することができる。

第９図及び第１ｏ図はそれぞれ、調整すべき継電器１及
びここでは詳１ｆｌｌｌに図示してない接点はねの位置
を認知するための装置の正面図及び平面図で＄）　７Ｄ
、１位（４認知のためにはパイロットレ−＝ｊ’２３（
第１図参照）、例えばヘリウム−ネオン・レーずが用い
られる。このレーザ光２４は、プリズム３３（第８図）
ケ介してまず転向鏡２０に向けられ、次は転向鏡２０′
に向けられ、そこから次にレーず光は初めの場合には継
電器の左側に入射１−５二番目の場合には継電器の右側
に入射１〜、そこでレーず光は接点はね８及び８′によ
って反射されろ。また継電器１のそばには２個のフォト
ダイオード２５及び２５′も配置されている。

Ｎｄ：　ＹＡＧパルスレーずの光の同−ａ　、］二を進
行するＨｅ−Ｎｅシレー光は、調整前（（接点はね８及
び８′の上縁を介して移動され、この縁の散乱光がフォ
トダイオード２５及び２５′を用（・て測定さ、ｌｔろ
。］第１・ダイオードの特定の配置によって転向装置１
５（第１図）の座標に関する光の位置の正確な測定が次
の調整過程に関して保１止されている。

第１１図は第８図とは若干変更されたレー→ノ５光の転
向装置を示す。この場合には２個のレー・ず１４及び２
３の同一線−Ｈにある光が相互に垂直な２軸の周りに旋
回可能の転向鏡３５ａ及び３５ｂに入射し、そこから２
つの集光毘学系３６及び３６′の１つに向けられる。前
記の各光学系は、調節ねじ３８及び３８′により調節可
能のレンズ３７及び３７′を有する。レーサ゛光は集光
光学系３６又は３６′から転向鏡３９及び３９′の１つ
に入射し、そこから継電器１又は継電器の１側面の接点
ばね上に入射する。レンズ３７又は３７′の調節によっ
てばね表面ヒの光の直径。

ひいてはばね上で得られろ融解直径を変えろことができ
る。しかしこの系が一度調整されると。

継電器の連続的製造の陽合調整し−サ゛パルスはパルス
エネルギー、パルス幅及び集光直径に従って不変であっ
て−それを基礎にして記憶された、個々のマｌ−ＩＪツ
クス点の補正匝は再現ｎＪ化である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明よる継電器調整方法を実施するだめの装
置の方式構成図、第２及び６図は調整前の接点はね位置
の静的測定のための略示断面図、第４．５及び６図は継
電器の接続の際の接極子及び接点ばねの位置を示す断面
図、第７図は調整すべき接点ばねな有する継電器の側面
図、第８図は第２図による継電器の調整装置の正面図、
第９及び１０図は調整づ−ベき接点はねの位置認知のた
めの装置のそれぞれ略示正ｉ／＋ｊ図及び平面図、第１
１図はレーず光転同装置及び調節可能の集光装置を有す
る調整装置の他の実施例を示−づ−路示正面図である第 １・・・継電器、２・・・撮影装置、５・・・接極子、
８・・・接点ばｈ、９，１０・・・対向接触素子、１４
・・・エネルギーレーず、１５・・・転向鏡、１６・・
・光学測定装置（ｃｃＤ−カメラ）、２０　、　２０’
・・・鏡、２１・・・調整点（マトリックス点）、２２
・・・調整領域（マトリックス場）、２３・・・パイロ
ットレ−ず、２５，２５’・・・受光装置、３ｏ・・・
光源、３２．３２ａ、３２ｂ、３２ｃｍ・・導光体束、
３３゜３３′・・・プリズム、３４．３４’・・・レン
ズ系、３６゜３６′・・・集光光学系、ｖＧｌ・・・第
一比較装置、ＳＰｌ・・・目標位置記憶装置、ｖａ２・
・・第二比較装置、ｓｐ２・・・補旧値記憶装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　特にレーデパルスによる局所的計歇加熱によって
   その都度の接点ばねの限定的位置変化が得られろことよ
   り成る、継電器の接点ばねの調整方法において、接点ば
   ね表面ヒで選択可能のマ）　ＩＪツクス場（２２）’の
   個々の点に関して、所定のパルスエネルギー、パルス幅
   及び焦点直径での熱パルスを用いる前記点の照吋時に得
   られる接点ばね位置の補正値が記憶されており一調整す
   べき接点ばね（８）の位置が目標位置と比較されて測定
   されかつその偏差が検出され、同偏差が記憶された補Ｉ
   Ｆ値と比較され、加算値がせいぜい前記偏差Ｕこ等しく
   なる該当補正値が選択されか−）選択されだ補旧値に相
   応する接点ばね表ｉ？ｉｉ　ｌ＝の７トリツクス点（２
   １）が盾定の熱パルスを発生させろ装置を用いて制御さ
   れかつ照射されることを特徴とする継電器の接点はねの
   調整方法。 ２　検出された偏差が所定の許容値な越える場合には、
   選択された点（２１）の照射後に接点ばね（８）の位置
   が目標位置と比較されて再び測定されかつ再び補ＩＥ値
   が選択されかつイ目応の点か接点ばね表面上で照射され
   ろ特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６、個々の調整点（２１）が、単一の熱源（１４）によ
   って発生されたエネルギービームの光学的転向によって
   制御される特許請求の範囲第１項又は第２項記載の方法
   。 ４　継電器の数個の接点ばね（８，８’）が単一の熱源
   （１４）によって発生されたエネルギービーム（１３）
   の光学的転向によって制御される特許請求の範囲第１〜
   ３拍の（・づれか１項に記載の方法。 ５、接点ばね（８）の自由端に調整過程の間エネルギー
   ビームの方向又は逆方向にバイアス′亀圧が印加されて
   いることを特徴とする特ハヒ「請求の範囲第１〜４項の
   いづれか１項に記載の方法。 ６、接点ばね位置の測定のために接点ばねの自由端が並
   置された他の作用素子（５）と−緒に電気光学的撮像装
   置（１６）により撮像れろ特許請求の範囲第１〜５項の
   いづれか１項に記載の方法。 Ｚ　補正値の検出のために接点の開放及び／又は閉鎖の
   瞬間ごとに接極子（５）の位置が評価されろ特許請求の
   範囲第６項記載の方法。 ８、接極子（５）が走査の瞬間にフラッンユ乞用いて照
   明されろ特許請求の範囲第７項記載の方法。 ９　補正値の検出のためにその都度接極子（５）が中央
   位置にもたらされ、次に接点はねの対向接触素子（９，
   １０）に対する同ばねの相対位置が光学的に測定される
   特許請求の範囲第６項記載の方法。 １０、熱源（１４）及び光学的転向装置（１５）の位置
   決定のために接点ばねの輪郭が受光装置（２５）と連絡
   した光ビーム（２４）を用いて走査される特許請求の範
   囲第１〜９頓のいづれか１項に記載の方法。 １］、走査のためには、熱パルスを発生させる第一レー
   ずのビームと同一線上に配ｆｔされたビームを有しかつ
   前記レーデよりも著しく小さいエネルギーを有するパイ
   ロツトレーず（１４）が配置されている特許請求の範囲
   第１０項記載の方法。 １２、継電器において段階的に形成された断面を有ずろ
   接点ばねが使用されかつ照射−Ｊ−べき点が、それぞれ
   の接点ばねの接触自由端よりも厚い部分で選択される特
   許請求の範囲第１〜１１項のいづれか１項に記載の方法
   。 １６　　特にレーずパルスによる局所的計量加熱によっ
   てその都度の接点はねり限定的位置変化が得（しれ、こ
   の際接点ばね表面旧で選択用能のマトリックス場の個々
   の点に関して、所定のパルスエネルギー、パルス幅及び
   集光直径での熱パルスを用いる前記点の照射時に得られ
   る接点ばね位置の補正値が記憶されており、調整゛Ｊ−
   べき接点ばねの位置が目標値と比較されて測定されかつ
   その偏差が検出され、加算部がぜいぜい前記偏差に等し
   くなる該当補正匝が選択されか・つ選択された補正値に
   相応１−る接点ばね表面−Ｌのマ）　ＩＪックス点が所
   定の熱パルスを発生させる装置を用いて制御されかつ照
   射されることより成る継電器の接点ばねの調整方法を実
   施するための装置におし・て、調整すべき継電器（１）
   の位置決定のための撮影装置（２）、接極子（５）及び
   ／又は接点はね（８）の位置を走査するための測定装置
   （１６）、測定位置を記憶された目標位置（ＳＰＩ）と
   比較ｔ７て偏差値を形成するための第一比較装置（ＶＧ
   ｌ）、マ１．　ＩＪツク場の特定点に相関されだ補Ｊ［
   量を記録−ノーるための補正値記憶装置（ＳＦ３）−検
   出された偏差値及び記憶された補正敏の伝送される第二
   比較装置（ＶＯ２）、熱線パルス発生装置（１４）及び
   調整すべき接点ばね（８）の特定点（２１）に対する第
   二比較装置の出力信号に依存して調節可能の転向装置（
   １５）から構成されることを特徴とする前記装置。 １４、撮影装置（２）が継電器（１）の接続端子を接触
   させるだめの装置を包含ずろ特許請求の範囲第１６項記
   載の装置。 １５、継電器（１）の励磁コイルに電圧な印加づ−る開
   閉装置（Ｓｌ）が設けられており、調整すべき接点ばね
   （８）の接点の開放及び閉鎖時に測定装置（１６）がレ
   リーズ可能である特許請求の範囲第゛１４項記載の装置
   。 １６、測定装置（１６）として半導体撮像装置（２７，
   ２８，２９）が設けられていて、この際レンズ系（２８
   ）を介して継電器の走査すべき範囲がＯＣＤＣＤ撮像副
   子列像されろ翁Ｈｔ（″請求の範囲？、ＰＪ１３〜１５
   ＪＪ′］の（・づれが１項に記載の装置。 １Ｚ　光源（３ｏ）が設けられていて、その光が接触子
   及び接点はねの位置の走査の量測定装置（１６）によっ
   て導光体束（３２；　３２　ａ。 ３２１）、３２Ｃ）を介して走査すべき継電器部分（５
   ，８）に向けられる特許請求の範囲第１５〜１６項のい
   づれか１順に記載の装置。 １８　比較装置（ＶＧｌ、ＶＯ２）及び記憶装置（ＳＰ
   ｌ、５Ｐ２）がマイクロコンピュータ−によって形成さ
   れている特許請求の範囲第１６〜１７項のいづれか１項
   に記載の装置。 １９　７トリツクス場（２２）の個々の点を加熱ｒ″；
   ）ｌ“、ユめυてパルスレーず装置（１４）が設けられ
   ていて、そのビームは２輔の周りに旋回可能の鏡装置（
   １５）を介してマトリックス場の個々の点に対して調節
   可能である特許請求の範囲第１６〜１８項のし・づれか
   １項に記載の装置。 ２０、熱線（１３）の光路に調節可能の集光光学系（３
   ４，３４’；　３６．　３６’）が配置されている特許
   請求の範囲第１９項記載の装置。 ２１、継電器撮影％　置（２）の両側に各１個の鏡（２
   ０，２０’）が設けられておりかつレーサ゛光（１３）
   の光路に調節可能な転向装置（３３）が設けられていて
   、同装置＆によってレーず光が一方の鏡又は他方の境（
   ２０，２０’）に対して選択的に調節可能である特許請
   求の範囲第１９項又は第２０項記載の装置。 ２２、転向装置（３３）が金属ｆヒ側面ヶ有する移動＋
   ＋Ｊ能なプリズムを有１−る特許請求の範囲第２１項記
   載の装置。 ２ろ　熱発生レーず（１４）の他に、熱線（１３）と同
   一線−ににその光路が存在するもう１個のパイロットレ
   −＋ｙ〜（２３）が設けられておりかつ継電器撮影装置
   （２）の他に、測定レーず光の特定の反射時に転向装置
   （１５）の零点決定のための信号欠、篠屯罰撮影装置に
   対１−て発信する受光装置（２５，２５’）が設けられ
   ている特許請求の範囲第１３〜２０頂のいづれか１項に
   記載（７）しξ１；１゜