JPS5962349A - 高シリカゼオライト触媒の製法 - Google Patents

高シリカゼオライト触媒の製法

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JPS5962349A
JPS5962349A JP57173234A JP17323482A JPS5962349A JP S5962349 A JPS5962349 A JP S5962349A JP 57173234 A JP57173234 A JP 57173234A JP 17323482 A JP17323482 A JP 17323482A JP S5962349 A JPS5962349 A JP S5962349A
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JP
Japan
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liquid
soln
gel
gel mixture
contg
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JP57173234A
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Yoshinobu Takegami
武上 善信
Satoyuki Inui
智行 乾
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Showa Shell Sekiyu KK
Showa Oil Co Ltd
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Showa Shell Sekiyu KK
Showa Oil Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P30/00Technologies relating to oil refining and petrochemical industry
    • Y02P30/20Technologies relating to oil refining and petrochemical industry using bio-feedstock

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
  • Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はゲル組成およびゲル粒子の形状が均一な間シリ
カゼオライト触媒の製法に関するものである。通常の筒
シリカゼオライト触媒の合成に際し、従来は、例えばモ
ーピル社の特許(英国特許第1042981号)に記載
されているようにアルミニウムイオンとシリケートイオ
ンとを反応させてアルミノシリケートゲルを生成させる
方法として、アルミニウムイオン源として帆酸アルミニ
ウム、含窒累有・:涜カチオンとして臭化テトラプロピ
ルアンモニウム(TPAB ) 、イオン調整剤として
塩化ナトリウム水溶1(A液)とケイ酸ソーダ水溶液(
By)とを混合してゲルを生成させる方法が採用された
。結晶化の過程において反応混合物は筒速で攪拌し、こ
れによって物質移動速度をすみやかにする方法が採用さ
れた。
この方法によるとケル生成の初期の結晶母液組成と末期
の結晶母液組成とが者しく異なる。
その結果、生成するゲルの組成および形状が不均一にな
ることはさけられない。
上記欠点な袖うため入部(触媒第23巻、第3号)等は
上記A′leL中のイオン調整剤(Nacl)をとり出
してC液を調望し、A液とB液とをC液に添加する方法
を採用しているが、この方法においてもイオン調整剤(
Nac7 )以外の液組成についてはゲル生成反応の初
期と末期では著しい差異が生ずることはさけがたい。
本発明では、ゲル生成反応にともなって結晶母液の各成
分に濃度変化が起るのをできるだけ少なくしてゲル生成
の沈澱条件を均一にするため次のような方法を試みた。
すなわち、アルミニウム塩、含窒素有俄カチオンおよび
無機酸を含む水浴液をAgとし、ケイ酸塩水溶液をB液
とし、イオン調整剤水溶液をC液とし、A液およびBN
7.をそれぞれ一定速度でC液に添加混合するに除し、
1)A液にもイオン調整剤(NacA )を祭加し、2
)cwはその容量を2借にしてイオン調雁炸jのみなら
ずへ赦中のTPABの一部およ乙1無徐ば(H2CO4
)の一部を予じめC液に徐力nし、さらに水ば化アルカ
リによりphン9な(・し11に調整する(第1工程)
上記方法を採用することによって納1図に示す如くケル
生成反応に際し、結晶母液に含゛まれるむ成分のIII
V変化を者しく低減させることカスできた。
またA液とB液とをそれぞれC戒に添加する除、A液お
よびB液を定量ポンプ等により流速を市1]徊]しつ\
一定量づ\C液に糸カルてC液が常に一定の成分比率を
維持するように調搬して母畝中の各成分の濃+3E K
化を低減させる(第1工程)。その結果、ゲル組成およ
びゲル粒子の形状の均一性を2嵜させることができる。
次に、上記第1工程から得られたケル混合物をそのま\
または上澄准を分離した後梱潰により結晶形状な倣細化
、均一化する(第2工程)。
ケルの匍償は超音波撹拌、ボールミルおよび惰漬により
行なうが、惰潰が適当である。グルの慣潰乗件の1例を
示せば次の如くである。
土澄紗 遠心分離(1500r、p、m、、 15分間)除去 捕漬30分N」 し190℃、好ましくは160℃ないし180℃に毎分
1ないし3″Cの速度で昇温した後さらに該温度から2
20°Cまでは一定速度または指数函数的速度で昇温し
て短時間で水熱合成を行なう(第3工程)。
本発明の第3工程を実施する一水熱合奴栄件は次の如く
である。
温一度=160℃ないし210℃ 時間:2時間50分ないし13時間20分、好ましくは
4時間10分 方法二段階的(指数函数的)または連続的に昇温、好ま
しくは連続的に昇温する。
その他の未件 10時間 2時間        5時間 指認函数的速度 上記(g)ないしく1)は特に好ましい方法である。
ゼオライ)Mfflkの製法について本兜明方法と従来
法(モービル法および八−法)とを比軟すれば=−次の
如くである。
谷試架の混合割合は第1表に示した(第1工程)。
本発明方法と従来法との比較を第2表に示した(第2工
程、第3工程)。
第 2 表 本発明方法を実施するに当り、第1工程と第2工程、第
1工程と第3工程、第2工程とをそれぞ度変化を第1図
に示した。
また上記の第1工程ないし第3工程の各工程がケル生成
に及ぼす影響を明らかにするためゲルの状態(形状およ
び大きさ)をそれぞれ第2図ないし第6図に示した。
第2図(KS−20)は従来法によりグルを調歪し、 
160 ’C,20時間水熱合成を行なったときのゲル
の状態を表わした図(写真倍率5000 )である。
第3図(KS−232)は従来法によりゲルを調整した
後室温から160℃まで1.5時間を要して昇温し、1
60℃から210℃まで毎分0.2℃の速度で昇温して
水熱合成を行なったときのゲルの状態を表わした図(写
真倍率5ooo )である。第4図(KS、−23b’
)はKS−23のゲルの状態を表わした図(写真倍率2
000 )である。
第5図(Ks−33)は従来法によりゲルを調整した後
沈澱物を分離し、これを薄情後洗澱物と上澄液とを混合
後KS−23と同様にして水熱合成を行なった。このと
きの薄情条件は薄情を15分間行なった後上澄液を除去
し、さらに15分間藩潰後再び上澄液を除去した後30
分間捕薄情沈淑物と上澄液とを混合し、次にKS−23
と同様にして水熱合成を行なった。この場合のゲルの状
態を表わす図(写真倍率2000 )である。
第6図(KS−36)は水熱合成ゲル生成の際マイクロ
フィーダーを使用し濃度変化が起らないように調整し、
その後捕潰、水熱合成はKS−33と同様に行なった場
合のゲルの状態を表わす図(写真倍率2000 )であ
る。
第2図(KS−20)と第3図(KS−23a)とを比
較すれば、水熱合成における連続昇温による効果が明ら
かである。
本発明方法実施に適する高シリカゼオライト触媒の組成
の他の1例を示せば次の如くである。
組成(モル%)   適用範囲   最適範囲Si/A
7      15以上   25−3500QH/ 
′5i02    0.30−1.0  0.62−0
.8H20/5I02       30 100  
   42 60R/R十M       O,05−
0,150,10−0,12NaCA!/HzOO,0
1−0,060,030,05上記式中Rは第4級アル
キルアンモニウムカチオン、好ましくは第4級プロピル
アンモニウムカチオンであり、Mはナトリウムまたはカ
リウムイオンである。
実施例 本発明方法の各工程の効果を確認するため、第1工程に
おいて従来法の入部法(KS−20)を使用し、第2工
程を省略し、これに第2工程の連続昇温操作を組み合せ
た場合(KS −23a、 b) 、第1工程において
従来法の入部法を使用し、これに第2工程の細潰操作と
第3工程の連続昇温操作とを組み合せた場合(KS−3
3)、および第1工程の水熱合成用ゲル生成時の濃度均
一化操作と、第2工程の細潰操作と第3工程の連続昇温
操作とを組み合せた場合(KS−36)について比較検
討を行なった。
各試薬の混合割合は第3表に示した。また水熱合成用ゲ
ル生成時の濃度変化を第4表に示した。
第1表および第2表の方法によって得られたゼオライト
ゲルはr過、水洗、乾燥後400℃ないし600℃、好
ましくは450℃ないし550”C10,5ないし5時
間、            ■焼後触媒として使用し
た〇 各種触a (KS  23a s b−KS  33、
KS−36)について、メタノールからの炭化水素転化
反応を行ない、その結果を第5表ないし第7表に示した
ゼオライトゲルの結晶化条件: 温度160℃からI210℃までの昇温速度 0.2°
C/分反応条件: GH8V 1889 (hr”−”
)KS−23a、b触媒の場合(Si/A140 )反
応温度”C280300 炭化水素の分析 (モル%) C1+C211,812,40 c310.79    13.46 C417,7525,97 C5、ν<z                   
 25.62          58.17芳香族 
   6.13  24.15トルエン      0
.53    4.36キンレン      2.37
    10.74(モル%)       65.9
7    100上記実験結果から、本発明方法によっ
て製造された触媒では反応温度が低温(280℃)の場
合従とがわかった。
本発明方法の特徴をのべれば次の如くである。
(1)試薬A、B、Cの缶液を混合してゼオライトゲル
を生成する際混合時の濃度勾配をなくするようにC液中
に含窒素有機カチオン(TPAB )、無機酸、水酸化
アルカリを、A液中にイオン調整剤を添加して、ゲル生
成過程に、おける缶液(A−C液)の濃度勾配をなくす
るようにした。
(2)試薬A液およびB液の送量をマイクロフィーダー
を用い−て定量化し、生成ゲル中のSi/A7のモル比
の均一化をはかった。
(3)生成したゼオライトゲル混合物を傾瀉または遠心
分離により母液と分離し、分離されたゲルを薄情により
細分化することによって結晶生成(4)水熱合成時の温
度の上げ、核形成、結晶\長とについて水熱合成用ゲル
製造の際におけるA、B、Cの缶液の成分の濃度変化を
示すグラフ、第2図ないし第6図は各工程のゼオライト
ゲル生成に及ぼす影響を明らかにするためのゲルの状態
を示す図(写真)である。
第2図 第3図 511flO; 第  4  図 X 2IfII′’、−′   に7゛第5 X200OF、u。
第6図 ×2!lll+)   、、□

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)アルミニウム塩、含蟹累有俵カチオンおよび無機
    酸を含む水溶准をA液とし、ケイ酸塩水溶液をB液とし
    、イオン調至剤水溶数をC液とし、A液およびB液をそ
    れぞれ一定速度でC液に添加するに際し、A液にはイオ
    ン調整剤を添加し、Cgには含望素有機カチオン、びB
    rLの添加速度を調整する第1工程、および第1工程か
    ら得られたゲル混合物を梱潰、細分化する第2工程、お
    よび第2工程から優られたゲル混合物を150“Cない
    し190”Cに母分1ないし3℃の速度で昇温した後さ
    らに220“Cまで一定速度または指数函数的速度で昇
    温して水熱合成反応を行なう第3工程を包含することを
    特徴とする昼シリカゼオライト触媒の製法。 (27第2工程は第1工程より得られたゲル混合物をそ
    のま\または上澄液と分離した後信潰、細分化する前記
    第1項記載の方法。 (3)第3工程は(a)第2工程から得られたゲル混合
    金物を150℃ないし190℃、好ましくは160゜C
    ないし180℃に加熱した後毎分0.05ないし1℃、
    好ましくは毎分0.1ないし0.6℃の一定速度で昇温
    し、190℃ないし220℃に達した後放冷するかまた
    は(b)上記ゲル混合物を150℃ないし190℃、好
    ましくは160℃ないし180℃に加熱した後−。 °−°  指数面 数的に昇温し、190℃ないし220℃に達した後放冷
    する前記第1項記載の方法。 (4)第3工程は第2工程から得られたゲル混合物を1
    70℃ないし190℃に加熱した後xso’cないし1
    70℃に急冷し、次に一定速度または指数函数的速度で
    190ないし220℃に昇温後放冷する前記第3項記載
    の方法。 (5)  第1工程と第2工程、第1工程と第3工程、
    第2工程と第3工程とをそれぞれ組み合せる前記第1項
    ないし第4塊のいずれかに記載の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013541492A (ja) * 2010-11-05 2013-11-14 シェブロン ユー.エス.エー. インコーポレイテッド 小結晶ssz−32を調製する方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013541492A (ja) * 2010-11-05 2013-11-14 シェブロン ユー.エス.エー. インコーポレイテッド 小結晶ssz−32を調製する方法

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