JPS5962849A - 塩基を含む改良テルル画像形成組成物 - Google Patents
塩基を含む改良テルル画像形成組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/734—Tellurium or selenium compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
画像および1111像の作製ケつくろに&、L各qji
+の方法が知られている。使用する画像形成月1物T1
はある場合に(」1、特別の有機化合物である。これら
の従来知られていた方法のうちのあるものけハロゲン化
銀のような無機化合物と増感剤のような一つまたは一つ
より多くの特別な極炉の有機化合物との混合物を用いて
いる。
+の方法が知られている。使用する画像形成月1物T1
はある場合に(」1、特別の有機化合物である。これら
の従来知られていた方法のうちのあるものけハロゲン化
銀のような無機化合物と増感剤のような一つまたは一つ
より多くの特別な極炉の有機化合物との混合物を用いて
いる。
テルル化合物を用いてpiii像をつくる新しい写q法
は1979年6月6日公告の米国特πF第4.142,
896号に開示さ牙1ている。米国時?〆「第4,14
2,896号によ→1ば、ある被還元性(τOd、u、
cihle)テルル化合物を還元剤先駆物+1,4と支
持体上にフィルム様被偉物を形成するのに適する粘結剤
または暴利中で組合せて使用してエマルジョンが形成さ
れる。それからつくられるフィルムを活性化用エネルギ
ーへ画f象的に露光し、その彼、あとでのべる公知文献
で知られている4I[Iりに現像する。熱現像が好まし
い。
は1979年6月6日公告の米国特πF第4.142,
896号に開示さ牙1ている。米国時?〆「第4,14
2,896号によ→1ば、ある被還元性(τOd、u、
cihle)テルル化合物を還元剤先駆物+1,4と支
持体上にフィルム様被偉物を形成するのに適する粘結剤
または暴利中で組合せて使用してエマルジョンが形成さ
れる。それからつくられるフィルムを活性化用エネルギ
ーへ画f象的に露光し、その彼、あとでのべる公知文献
で知られている4I[Iりに現像する。熱現像が好まし
い。
米国特許第4,142,896月の写白、法において使
用するために記述されているいくつかのテルル化合物は
、例えば、式 %式% によって表わしてもよく、式中、Rは少くとも一つのカ
ルボニル基を含む有機基であり、Xはハロゲン好ましく
は塩素であり、Xは1.2または6であり、x + y
= 4である。有様基Rは、2個の独立の基であるか
、あるいは結合して一つの環状化合物を形成するかのど
ちらかであってよい。米国時W「第4,142.896
号において述べられている化付物の別の群はエチレン性
またはアセチレン性の炭化水素の四ハロゲン化テルルの
伺加物として考えられあるいは4η孕づけてよい有機テ
ルル化合物である。このようブエ化合物のある4、のば
−τ〕υ。
用するために記述されているいくつかのテルル化合物は
、例えば、式 %式% によって表わしてもよく、式中、Rは少くとも一つのカ
ルボニル基を含む有機基であり、Xはハロゲン好ましく
は塩素であり、Xは1.2または6であり、x + y
= 4である。有様基Rは、2個の独立の基であるか
、あるいは結合して一つの環状化合物を形成するかのど
ちらかであってよい。米国時W「第4,142.896
号において述べられている化付物の別の群はエチレン性
またはアセチレン性の炭化水素の四ハロゲン化テルルの
伺加物として考えられあるいは4η孕づけてよい有機テ
ルル化合物である。このようブエ化合物のある4、のば
−τ〕υ。
X−R−Tg−R1−X
および(X−R)、−Te−Xn
によって表わされ、式中、RとR1は各にエチレン性炭
化水素の残基であり、又はハロゲンで01才しくは塩素
である。
化水素の残基であり、又はハロゲンで01才しくは塩素
である。
有用であることがわかった感光性テルル化合物σ)本5
一つの拒−は式 %式% の化合物のよ5なノ・ロゲン化テルル化合物であり、式
中、ルは2から4の整数であり、B+yルー4である。
一つの拒−は式 %式% の化合物のよ5なノ・ロゲン化テルル化合物であり、式
中、ルは2から4の整数であり、B+yルー4である。
画像形成法におけるこの千1Fのノ・ロゲン化テルル化
合物の使用はチヤツプらの1978年1月6日公告の米
国特許第4,066,460号に開示されている。
合物の使用はチヤツプらの1978年1月6日公告の米
国特許第4,066,460号に開示されている。
有用なテルル化合物のさらにもう一つσ)群は1978
年8月15日公告の米国%許第4j06.939号にお
いて記載さJlている。こ第1らの化合物は芳香族アミ
ンの四ハロゲン化テルルの付加!吻であり、その中で、
芳香族環へ直接または間接に結合した窒素は炭素原子1
−4個のアルキル類によって置換され、この伺加物はジ
アゾ基は段まない。
年8月15日公告の米国%許第4j06.939号にお
いて記載さJlている。こ第1らの化合物は芳香族アミ
ンの四ハロゲン化テルルの付加!吻であり、その中で、
芳香族環へ直接または間接に結合した窒素は炭素原子1
−4個のアルキル類によって置換され、この伺加物はジ
アゾ基は段まない。
前記のようなテルル化合物は増感剤として役立つ還元剤
先駆物仙と一緒に用いてよい。この還元剤先駆物14は
、活性化用エネルギーの影響下で輻射線エネルギーを吸
収し適切な水素供与体から不安定水素を引き抜き強力還
元剤となる化@物である。この強力還元剤はテルル1ヒ
合物を2価のテルル化合物または元素状テルルへ還元す
る。いずわの場合においても、光学曲溝m°の変化がお
こりこれが情報記録に適する画像形成をもたら1°。一
般的にいえば、前記の反応は次の機構によって表913
してよい。
先駆物仙と一緒に用いてよい。この還元剤先駆物14は
、活性化用エネルギーの影響下で輻射線エネルギーを吸
収し適切な水素供与体から不安定水素を引き抜き強力還
元剤となる化@物である。この強力還元剤はテルル1ヒ
合物を2価のテルル化合物または元素状テルルへ還元す
る。いずわの場合においても、光学曲溝m°の変化がお
こりこれが情報記録に適する画像形成をもたら1°。一
般的にいえば、前記の反応は次の機構によって表913
してよい。
hν
PQ −) PQ −+ PQ
3PQ + 2RH→PQ、H2+R−R(R1)2・
TC−X2+2PQ−H2→2 PQ + 2R”H=
Tg +2HXここに、PQは還元剤先駆物質増感剤、
IPQ ハそ牙1の第一の励起されたシングレット状
態であり、3PQ ばそれのトリプレット状774%
であり二RHに水素供与体ゼキ・す: PQ−R2はそ
の還元状態にk)る4v元剤先駆物1t’ljであり、
そ17て(R)2・Tg−X2は被還元性のテルル両像
形成性化合物である。
TC−X2+2PQ−H2→2 PQ + 2R”H=
Tg +2HXここに、PQは還元剤先駆物質増感剤、
IPQ ハそ牙1の第一の励起されたシングレット状
態であり、3PQ ばそれのトリプレット状774%
であり二RHに水素供与体ゼキ・す: PQ−R2はそ
の還元状態にk)る4v元剤先駆物1t’ljであり、
そ17て(R)2・Tg−X2は被還元性のテルル両像
形成性化合物である。
この関係において、水素((j与体は、もし所9Jの場
合には各種のアルコール炉を使用4できるし1れども、
特に供給さすする必勇がないこと/」咄gめらねるべき
である。!1賢げ的に供給さねろ水素供与体が存在しな
いときには、不安定水素は粘結剤として1す3用I−ろ
有ド・モ樹脂から引き抜かJlろことかできろ。
合には各種のアルコール炉を使用4できるし1れども、
特に供給さすする必勇がないこと/」咄gめらねるべき
である。!1賢げ的に供給さねろ水素供与体が存在しな
いときには、不安定水素は粘結剤として1す3用I−ろ
有ド・モ樹脂から引き抜かJlろことかできろ。
その他の場合には、増感剤がそわ自身水素供与体である
ことができ、そl、てこ第1は少くとも一つの好ましい
Jl、9感剤すプ、Cわちイソプロポキシナフトキノン
についての場合であることが知られている。
ことができ、そl、てこ第1は少くとも一つの好ましい
Jl、9感剤すプ、Cわちイソプロポキシナフトキノン
についての場合であることが知られている。
テルル写1を法の一つの変形は米国時♂「第854,1
93号に記載さねており、その場合には、式 %式% のある種のジオールを上述増感剤と一綿に使用するだめ
の水素供与体として採用してよい。上式において、Rl
oとR11は水素および各種のイ1゛促置換基を表わす
。Zは2個のヒドロキシ防換炭素原子の間の直接炭素−
炭素結合であってもよく、あるいは各種連結基のいす牙
1かであってよい。−ド1及したジオールについてのよ
り詳しいtC:述はイルギー特許第854,196号を
参照されたい、このベルギー特δ′Iにおいては、こわ
らのジオールは水素供与体として役立つといわわている
。その後の研究では、こねは完全には正確て・フエいこ
とが提唱されている。実際に、このジオールの大部分は
テルル化合物と標合物ケ形成すると思わA主る。
93号に記載さねており、その場合には、式 %式% のある種のジオールを上述増感剤と一綿に使用するだめ
の水素供与体として採用してよい。上式において、Rl
oとR11は水素および各種のイ1゛促置換基を表わす
。Zは2個のヒドロキシ防換炭素原子の間の直接炭素−
炭素結合であってもよく、あるいは各種連結基のいす牙
1かであってよい。−ド1及したジオールについてのよ
り詳しいtC:述はイルギー特許第854,196号を
参照されたい、このベルギー特δ′Iにおいては、こわ
らのジオールは水素供与体として役立つといわわている
。その後の研究では、こねは完全には正確て・フエいこ
とが提唱されている。実際に、このジオールの大部分は
テルル化合物と標合物ケ形成すると思わA主る。
この知見により一般式
%式%
のジオールが見出された。こねはテルルベースの耳白、
フィルムにおいて使用するときに+ν・れた特性をもつ
。
フィルムにおいて使用するときに+ν・れた特性をもつ
。
基Rは単純な脂肪族基(例えば、アルキルまたはアルケ
ニル)であってよい。また、基Rはカルボニル基(例え
ばアシル基)を含んでいてよい。
ニル)であってよい。また、基Rはカルボニル基(例え
ばアシル基)を含んでいてよい。
しかし好ましくは、基Rは芳香族である。最良の結果は
その芳香族環がエーテル酸素から一つのメチレン基によ
って離されている場合に得られる。
その芳香族環がエーテル酸素から一つのメチレン基によ
って離されている場合に得られる。
これらのジオールに田1するさらに完全な記述は198
1年7月28日公告の米国特許第4,281,058号
に含まJlていて、それの引用によって】8加的説明が
なされる。
1年7月28日公告の米国特許第4,281,058号
に含まJlていて、それの引用によって】8加的説明が
なされる。
感光剤としてのテルル化合物の使用におけろさらにもう
一つの変形は「マスクさ治、た還元剤」として知ら灼る
本、のを含んでいろ。有機テルル化合物を還元、する、
フェニドンのような、数多くの化合物が知ら矛1ている
。この種の化合物の芹元能力は適切な置換によって、[
マスクされ−1、すなわち抑制されていてよい。このよ
うな場合、その置換基がテルル化合物の光還元時に放出
される反応生成物によって開裂され得るljらば、この
マスクされた置元剤は次の機構によって光応答を増幅す
るのに使用できる: 光+増感剤→光反応性僅元剤 光反応性還元剤+テルル化合物→テルル+副生成物 副生成物+マスクさねた得元剤→脱マスク還元剤 脱マスク葆ル削+テルル化合物→テルル+副生成物 普通に用いられろ有機テルル化合物は昇“光反応の副生
物としてハロゲン化水Vf:、 (T+!rにm化水素
)を放出しそしてフェニドンのような還元剤はアミン化
合物であるので、最も効果的に用いられるマスギング剤
はアミン窒素をアミドへ転化する化合物である。代表的
なマスクされたj′q元剤は従って化合物 である。マスクさねた還元剤のより完全な記述は197
8年7月19日のベルギー特許第863,052号にお
いて見られ、それの引用によって追加的説。
一つの変形は「マスクさ治、た還元剤」として知ら灼る
本、のを含んでいろ。有機テルル化合物を還元、する、
フェニドンのような、数多くの化合物が知ら矛1ている
。この種の化合物の芹元能力は適切な置換によって、[
マスクされ−1、すなわち抑制されていてよい。このよ
うな場合、その置換基がテルル化合物の光還元時に放出
される反応生成物によって開裂され得るljらば、この
マスクされた置元剤は次の機構によって光応答を増幅す
るのに使用できる: 光+増感剤→光反応性僅元剤 光反応性還元剤+テルル化合物→テルル+副生成物 副生成物+マスクさねた得元剤→脱マスク還元剤 脱マスク葆ル削+テルル化合物→テルル+副生成物 普通に用いられろ有機テルル化合物は昇“光反応の副生
物としてハロゲン化水Vf:、 (T+!rにm化水素
)を放出しそしてフェニドンのような還元剤はアミン化
合物であるので、最も効果的に用いられるマスギング剤
はアミン窒素をアミドへ転化する化合物である。代表的
なマスクされたj′q元剤は従って化合物 である。マスクさねた還元剤のより完全な記述は197
8年7月19日のベルギー特許第863,052号にお
いて見られ、それの引用によって追加的説。
明がなされる。
ベルギー特許第866.052号にオ6いて述べている
マスクされた還元剤に変るものとして、新し2いれi類
のマスクされた還元剤を置き換支てもよく、それは一般
式 %式%: によって表わさね、こ牙1らの式において、Yは水累ま
たは一〇NHR5であり、この化合物は少くとも〇 一つの一〇−NH−R5基を含んで(・ろ。前記の式に
おいて、R1はアルキル、アルカノイル、アルコキシカ
ルボニル、フェニル、ベンジル、ズンゾイル、ニトロフ
ェニル、ベンジルカルボニル、)上ニルメチル、フェニ
ルエチルまたはフェニルプロピルカルボニル よい。R2.R3およびR4 は各々かつ独rUに、水
素、アルキルまたはフェニルおよびアミノであっテヨい
。R4 はフェニル、ニトロフェニル、ノ\ロフェニル
、アルキル、モノ−、シー*1こ&i ) IJ −ハ
ロアルキル、ベンゾイル、アルキルフェニル。
マスクされた還元剤に変るものとして、新し2いれi類
のマスクされた還元剤を置き換支てもよく、それは一般
式 %式%: によって表わさね、こ牙1らの式において、Yは水累ま
たは一〇NHR5であり、この化合物は少くとも〇 一つの一〇−NH−R5基を含んで(・ろ。前記の式に
おいて、R1はアルキル、アルカノイル、アルコキシカ
ルボニル、フェニル、ベンジル、ズンゾイル、ニトロフ
ェニル、ベンジルカルボニル、)上ニルメチル、フェニ
ルエチルまたはフェニルプロピルカルボニル よい。R2.R3およびR4 は各々かつ独rUに、水
素、アルキルまたはフェニルおよびアミノであっテヨい
。R4 はフェニル、ニトロフェニル、ノ\ロフェニル
、アルキル、モノ−、シー*1こ&i ) IJ −ハ
ロアルキル、ベンゾイル、アルキルフェニル。
あるいはアルキルシアノフェニルであってよい。
マスキング基は深元剤のアミノ水素部位の一つまたは両
者のいずjlかで植換さJlてよい。上に言及したアル
キル基類け7個までの炭素原子を含んでいてよい。この
ような化合物は親.ヒドラジンオ1こはピラゾリンと式 %式% との反応を通じて容易にイ1)ることがでとる。
者のいずjlかで植換さJlてよい。上に言及したアル
キル基類け7個までの炭素原子を含んでいてよい。この
ような化合物は親.ヒドラジンオ1こはピラゾリンと式 %式% との反応を通じて容易にイ1)ることがでとる。
実除には、前記鎖成分、すな」)ち、テルルi;ん導体
、還元剤先駆物ノ府増感剤、および、グリコール並びに
マスクされた還元剤のような追加的諸成分、− は適
半な基月中で糾合わされて適1J1なj1持体または基
板上((フィルムとして塗布1−ることかできろエマル
ジョンを形成する。フィルム中の潜像は画像形成性エネ
ルギー例えば一つの光画像への露出によって形成さ第1
る。
、還元剤先駆物ノ府増感剤、および、グリコール並びに
マスクされた還元剤のような追加的諸成分、− は適
半な基月中で糾合わされて適1J1なj1持体または基
板上((フィルムとして塗布1−ることかできろエマル
ジョンを形成する。フィルム中の潜像は画像形成性エネ
ルギー例えば一つの光画像への露出によって形成さ第1
る。
潜像形成後、明視画像は米国特♂「第4,1 4 2,
8 9 6号におい゛C記載の通りにこの露出フィルム
を加熱することによって覗,像される。
8 9 6号におい゛C記載の通りにこの露出フィルム
を加熱することによって覗,像される。
このフィルムの速度すなわち光感度は一つり画像をつく
り出すのに必要なエネルギー量によって決定されろ。多
(の応用に対しては、比較曲事(かつその上、フィルム
によって形Ifされる像の光学濃度と相対的の低い光学
0))Wをもつiilii 1”4形成フイルムをもつ
ことが望ましい。
り出すのに必要なエネルギー量によって決定されろ。多
(の応用に対しては、比較曲事(かつその上、フィルム
によって形Ifされる像の光学濃度と相対的の低い光学
0))Wをもつiilii 1”4形成フイルムをもつ
ことが望ましい。
本発明によれば、テルル化合物、還元剤先駆物質および
マスクされた還元剤を含む上述の有)暖テルル画像形成
系が改良される。さらに特冗的にいえば、フィルム性能
改善のためにこのilIIl像形成フィルム組成物の中
にある塩基を剣めることかできろことを出願人は発見し
たのである。塩基を配,合することにより、このような
組成物で以てつくった画像形成フィルムについて、スピ
ード(i感度)を改善しかつ/または露出部分の現像後
の光学濃度を改善するという予想外の結果を提供する。
マスクされた還元剤を含む上述の有)暖テルル画像形成
系が改良される。さらに特冗的にいえば、フィルム性能
改善のためにこのilIIl像形成フィルム組成物の中
にある塩基を剣めることかできろことを出願人は発見し
たのである。塩基を配,合することにより、このような
組成物で以てつくった画像形成フィルムについて、スピ
ード(i感度)を改善しかつ/または露出部分の現像後
の光学濃度を改善するという予想外の結果を提供する。
塩基の包含はまたフィルムの非露光部分の背景のかぶり
または光学濃度を減らすかもしねない。これらの組成物
は、論じた辿り、他の鎖成分を含んでいてよい。
または光学濃度を減らすかもしねない。これらの組成物
は、論じた辿り、他の鎖成分を含んでいてよい。
塩基は有機質または炉枦買であってよく、マスりされた
還元剤をイオン化しあるいはさもなければ組成物に好都
合に影響を及ぼすのに十分なアルカリ性であるべきであ
る。一般的には、例えば速度の増加、露光部の光学濃度
の増加、あるいは非露光部のかぶりの減少、のようなフ
ィルム性能を改善する塩基はどhでも利用できろ。好ま
しくは、望ましくない悪影響をもたらす塩基を避けろ。
還元剤をイオン化しあるいはさもなければ組成物に好都
合に影響を及ぼすのに十分なアルカリ性であるべきであ
る。一般的には、例えば速度の増加、露光部の光学濃度
の増加、あるいは非露光部のかぶりの減少、のようなフ
ィルム性能を改善する塩基はどhでも利用できろ。好ま
しくは、望ましくない悪影響をもたらす塩基を避けろ。
適量な無4@質塩基は例えば金属水酸化物およびアンモ
ニウム水酸化物を含む。より特知的にいえば、アルカリ
金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物を利用す
ることができる。有用なアルカリ金属水酸化物1はリチ
ウム、ナトリウム、力、リウム、ルビジウム、およびセ
シウムの水酸化物を含む。水酸化リチウムは好ましいア
ルカリ金属水酸化物であ7)。不用なアルカリ土類金属
水酸化物1はマグネシウム、カルシウムオ・5よびバリ
ウムの水1契化物を含む。金属水酸化物の水利形を用い
ろことができる。1個より多くの塩基ケ両像形成フィル
ム組成物の中に含めることができる。
ニウム水酸化物を含む。より特知的にいえば、アルカリ
金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物を利用す
ることができる。有用なアルカリ金属水酸化物1はリチ
ウム、ナトリウム、力、リウム、ルビジウム、およびセ
シウムの水酸化物を含む。水酸化リチウムは好ましいア
ルカリ金属水酸化物であ7)。不用なアルカリ土類金属
水酸化物1はマグネシウム、カルシウムオ・5よびバリ
ウムの水1契化物を含む。金属水酸化物の水利形を用い
ろことができる。1個より多くの塩基ケ両像形成フィル
ム組成物の中に含めることができる。
また、有機塩基は脂肪族アミン化合物または窒素原子含
有複素環化合物であってよい。
有複素環化合物であってよい。
本発明に従って使用に適するアミンは一級、二級および
三級のアミン類を含み、脂肪族または芳香族であってよ
い。さらには体重にいえば、好適なアミンは例えば、メ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ルー、
シール−1およびトリーループロ上0ル′アミン、イン
プロピルアミン、?iミーブチルアミンイソブチルアミ
ン、ジー n−ブチルアミン、t−ブチルアミン、およ
びルーテトラデシルアミンのようなものである。一般的
にQ」風、次式のアミン類が適している。
三級のアミン類を含み、脂肪族または芳香族であってよ
い。さらには体重にいえば、好適なアミンは例えば、メ
チルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチ
ルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ルー、
シール−1およびトリーループロ上0ル′アミン、イン
プロピルアミン、?iミーブチルアミンイソブチルアミ
ン、ジー n−ブチルアミン、t−ブチルアミン、およ
びルーテトラデシルアミンのようなものである。一般的
にQ」風、次式のアミン類が適している。
R−N H2
式中、Rは脂肪族系(例えは、Cl−13、C2■−)
5、C3l(7、など)である。
5、C3l(7、など)である。
R基は所望の画像形成効果を妨害しない容重1■のa機
または焦機の基によって置4a(さJlてぃてもよい。
または焦機の基によって置4a(さJlてぃてもよい。
ピリジンおよびビシリジンのような環状化合物も適して
おり、かつ所望の画像形成効果を妨害しない各種の有機
または無(;3の基によってt1〆f′換されていても
(・なくてもよい。
おり、かつ所望の画像形成効果を妨害しない各種の有機
または無(;3の基によってt1〆f′換されていても
(・なくてもよい。
塩基はマスクされた還元剤をイオン化して、このイオン
化されたマスクされた還元剤、止のテルルイオン、およ
びフィルムを画像形成用エネルギーへ露出後に侵元剤に
よって形成される潜像、の間に一つの複合物が形成する
のを容易にする、と信じられる。この初合物は電子の移
送をきわめて受は易く、可視像形成を助けるものと信じ
られろ。
化されたマスクされた還元剤、止のテルルイオン、およ
びフィルムを画像形成用エネルギーへ露出後に侵元剤に
よって形成される潜像、の間に一つの複合物が形成する
のを容易にする、と信じられる。この初合物は電子の移
送をきわめて受は易く、可視像形成を助けるものと信じ
られろ。
一般的には、アルカリ士カ′」またはアルカリ金属の水
酸化物が有機塩基よりも好ましい。塩基からの金属イオ
ンはや元剤先駆物質とイj利な複合物を形成してこれが
還元剤先駆物質をより活性にする。
酸化物が有機塩基よりも好ましい。塩基からの金属イオ
ンはや元剤先駆物質とイj利な複合物を形成してこれが
還元剤先駆物質をより活性にする。
フィルム形成組成物中に存在する塩基の部は可変である
。一般的には、改良フィルムを提供するのに必要とする
塩基についての最低量は存在し]、速い。しかし、改良
の程度は各々の特定的フィルム調合物と塩基についであ
る部までの塩基存在惜に関係がある。その量をこえると
、一般的には、フィルムの光応答性が低下する。一つの
具体的調合に対する一つの具体的塩基の4@’ 1rA
量は、単純に特定塩基の各種の4−を含むフィルム形成
組成物を調合しそ才1からつくったフィルムのl、iQ
績を試験することによって容易に決めることができる。
。一般的には、改良フィルムを提供するのに必要とする
塩基についての最低量は存在し]、速い。しかし、改良
の程度は各々の特定的フィルム調合物と塩基についであ
る部までの塩基存在惜に関係がある。その量をこえると
、一般的には、フィルムの光応答性が低下する。一つの
具体的調合に対する一つの具体的塩基の4@’ 1rA
量は、単純に特定塩基の各種の4−を含むフィルム形成
組成物を調合しそ才1からつくったフィルムのl、iQ
績を試験することによって容易に決めることができる。
例えば、実施例8に示すフィルムについては、水fy、
−n化アンモニウムの最1り1@はテルル画像形成化合
物の1モルにつき約0.16モルであった。丈M1i例
2および6に示すフィルムについては、水酸化ナトリウ
ムの@適量はテルル画像形成化合物の1モルあたり約0
.13モルであった。実施例4および1〔1において示
すフィルムについては、水酸化リチウム(1個の水和水
をもつ)の郁摘吊はテルル画像形成化合物の1モル力)
たり約0.05モルであった。
−n化アンモニウムの最1り1@はテルル画像形成化合
物の1モルにつき約0.16モルであった。丈M1i例
2および6に示すフィルムについては、水酸化ナトリウ
ムの@適量はテルル画像形成化合物の1モルあたり約0
.13モルであった。実施例4および1〔1において示
すフィルムについては、水酸化リチウム(1個の水和水
をもつ)の郁摘吊はテルル画像形成化合物の1モル力)
たり約0.05モルであった。
従って、本発明の第一の目的は、テルル画像形成化合物
、水素供給体から活性化用輻射鍔の影響下において不安
?水素を引き抜いて画像形成性テルル化合物に関して僅
元剤となる置元剤先駆物仙、マスクされた還元剤、還元
削先駆物竹との反応のための不安定水素)於、フイルノ
、の各成分を支持体へ施用できる組成l吻を形成するの
に有効フ、【団で絹合わせているマトリックス、から成
り、マスクされた還元剤をイオン化することができ組成
物中に存在するマスクされた還元剤の少くとも一部をイ
オン化する計で存在するj4基と塩基の影響下でイオン
化するマスクさねた還元剤とを特全とする、画像形成組
成物を形成するだめのフィルムを提供することである。
、水素供給体から活性化用輻射鍔の影響下において不安
?水素を引き抜いて画像形成性テルル化合物に関して僅
元剤となる置元剤先駆物仙、マスクされた還元剤、還元
削先駆物竹との反応のための不安定水素)於、フイルノ
、の各成分を支持体へ施用できる組成l吻を形成するの
に有効フ、【団で絹合わせているマトリックス、から成
り、マスクされた還元剤をイオン化することができ組成
物中に存在するマスクされた還元剤の少くとも一部をイ
オン化する計で存在するj4基と塩基の影響下でイオン
化するマスクさねた還元剤とを特全とする、画像形成組
成物を形成するだめのフィルムを提供することである。
本発明の第二の目的は、テルル画像形成化合物、水素供
与体から不安定水素を活性化用輻射線の影響下で引き抜
いて画像形成用テルル化合物に19.lして還元剤とな
る1し元剤先駆物仙、マスクさ第1た還元剤、還元剤先
駆I物質との反応のための不安定水素源、フィルム各成
分が支持体へ施用できる組1jy物を溶成するのにイ1
効な絹で組合せられて存在するマトリックスからjrv
す、マスクさメまた貸元3111をイオン化することが
でき組成物中に存在するマスクさJ(たU元剤の少くと
も一部をイオン化する一部で存在する塩基と」盆基の影
響下でイオン化されるマスクさ才また1ψ元剤とを!4
21−徴とする、画像形成フィルムを形成す4)ための
活性化用エネルギーに応答性である組成物を提供するこ
とである。
与体から不安定水素を活性化用輻射線の影響下で引き抜
いて画像形成用テルル化合物に19.lして還元剤とな
る1し元剤先駆物仙、マスクさ第1た還元剤、還元剤先
駆I物質との反応のための不安定水素源、フィルム各成
分が支持体へ施用できる組1jy物を溶成するのにイ1
効な絹で組合せられて存在するマトリックスからjrv
す、マスクさメまた貸元3111をイオン化することが
でき組成物中に存在するマスクさJ(たU元剤の少くと
も一部をイオン化する一部で存在する塩基と」盆基の影
響下でイオン化されるマスクさ才また1ψ元剤とを!4
21−徴とする、画像形成フィルムを形成す4)ための
活性化用エネルギーに応答性である組成物を提供するこ
とである。
本発明の第三の目的は百1磁輻射線を記録する方法を提
供することであって、その場合、この方法は、輻射線を
感光性フィルムへ衝突させてその性質の少くとも一つに
変化を生じさせることがら成り、このフィルムは支持体
によって4月持さえ1.る一つの感光性組成物がらつく
られ:この感光性組成物は、テルル両像形成に1゛化合
物、水素供与体から不安定水素を活性化用輻射線の影響
下で引き抜いて画像形成性テルル化合物に関して還元剤
となる還元剤先駆物質、マスクされた還元剤、還元剤先
駆物質との反応のための不安定水素源、フィルム各成分
を基板へ施JVl l、てよい感光性組成物を形成する
のに有効なMで組合ゎ田る基材、がら成り:マスクさ第
1た還元剤をイオン化することができる塩基が組成物中
に存在するマスクされた顛元剤の少(とも一部を貸元す
る量で右在し、マスクされた還元剤が塩基の影響下でイ
オン化さ第1ることを特徴とする。
供することであって、その場合、この方法は、輻射線を
感光性フィルムへ衝突させてその性質の少くとも一つに
変化を生じさせることがら成り、このフィルムは支持体
によって4月持さえ1.る一つの感光性組成物がらつく
られ:この感光性組成物は、テルル両像形成に1゛化合
物、水素供与体から不安定水素を活性化用輻射線の影響
下で引き抜いて画像形成性テルル化合物に関して還元剤
となる還元剤先駆物質、マスクされた還元剤、還元剤先
駆物質との反応のための不安定水素源、フィルム各成分
を基板へ施JVl l、てよい感光性組成物を形成する
のに有効なMで組合ゎ田る基材、がら成り:マスクさ第
1た還元剤をイオン化することができる塩基が組成物中
に存在するマスクされた顛元剤の少(とも一部を貸元す
る量で右在し、マスクされた還元剤が塩基の影響下でイ
オン化さ第1ることを特徴とする。
本発明の第四の目的は、画像形成フィルムを形成するた
めの活性化用エネルギーに対して応答性である一つの組
成物を提供することであり:この組成物は、画像形成性
有接金属化合物、水素供与体から不安定水素を活性化用
輻射線の影響下で引き抜いて1Elil像形成件有砂金
属化合物に関して還元剤となる還元剤先駆物質、マスク
された葦元斉11、還元剤先駆物H111との反応のた
めの不安定水素源、フィルム各成分を支橢体へMli用
できる組成物を形成するのに有効な)iで絹合わせてい
るマトリックスから成り:マスクさハた還元剤は」蒜基
の影響下でイオン化される。
めの活性化用エネルギーに対して応答性である一つの組
成物を提供することであり:この組成物は、画像形成性
有接金属化合物、水素供与体から不安定水素を活性化用
輻射線の影響下で引き抜いて1Elil像形成件有砂金
属化合物に関して還元剤となる還元剤先駆物質、マスク
された葦元斉11、還元剤先駆物H111との反応のた
めの不安定水素源、フィルム各成分を支橢体へMli用
できる組成物を形成するのに有効な)iで絹合わせてい
るマトリックスから成り:マスクさハた還元剤は」蒜基
の影響下でイオン化される。
本発明に従って調合されるエマルジョンは、テルル化合
物、僅”元剤先駆物11g、マスクされた還元剤、適切
な粘結剤、および上述の地Ji!、を営む。任意的には
、その他の成分もエマルジョン中に含めてよい・ジオー
ル、好ましぐは米国時¥1・第4,281,058号の
グリセリル化合物、を含めてよい。アルコールおよび水
も、好ましくは米国特W1第4,281.058号のグ
リセリル化合物を含めるときに、含めてよい。
物、僅”元剤先駆物11g、マスクされた還元剤、適切
な粘結剤、および上述の地Ji!、を営む。任意的には
、その他の成分もエマルジョン中に含めてよい・ジオー
ル、好ましぐは米国時¥1・第4,281,058号の
グリセリル化合物、を含めてよい。アルコールおよび水
も、好ましくは米国特W1第4,281.058号のグ
リセリル化合物を含めるときに、含めてよい。
テルル化合物以外の被還元性の有機金属(―画像形成用
化合物および他の被還元性金b44化合物は本発明に従
って利用してよい。例えば、有梱金属’f4画像形、1
y用化合物を形成し得る仙の金属は、銅、銀、ニッケル
、水銀、およびコバルトを含む。例えば、コバルト画像
形成性化合物はアゾインらの米国特KF第4,2ot5
ssaに開示されている。
化合物および他の被還元性金b44化合物は本発明に従
って利用してよい。例えば、有梱金属’f4画像形、1
y用化合物を形成し得る仙の金属は、銅、銀、ニッケル
、水銀、およびコバルトを含む。例えば、コバルト画像
形成性化合物はアゾインらの米国特KF第4,2ot5
ssaに開示されている。
およびベヘン酸錫を含む。
春淵其瑛メ件テルル:多数の画像形成性テルル化合物が
従来の技術において記i′1.丈されており、この種の
化合物は一般には本発明において有用である。
従来の技術において記i′1.丈されており、この種の
化合物は一般には本発明において有用である。
一般に、本発明はこれら、および、後述する通りの還元
剤先駆物質の存在下で類世の還元反応を受ける他のテル
ル化合物を用いろことを考えている。
剤先駆物質の存在下で類世の還元反応を受ける他のテル
ル化合物を用いろことを考えている。
多(のテルル化合物は画像形成法にオdいての使用に連
合するいくつかの住僧を持つことが@見されlζ。一般
的に、これらは一般に上に述べた画像形成段階と覗1像
段階の結果として元素状テルルがテルル化合物から沈積
される化合物である。テルルは性質上句形成性であり、
写真目的に有用であるテルル化合物から−カ(シ的に沈
積され(好ましくは細い針状物を含む)、それらの化合
物は微結晶としての急速な核化および生長が可能であり
、これらの微結晶は鎖状物としてかつ多くは針状物とし
て生長する。このような鎖状物または針状物は不透明で
すぐれた光散乱性を特徴として熱的その他の現像後に観
、堅される良好なツC学濃度を生ずる。
合するいくつかの住僧を持つことが@見されlζ。一般
的に、これらは一般に上に述べた画像形成段階と覗1像
段階の結果として元素状テルルがテルル化合物から沈積
される化合物である。テルルは性質上句形成性であり、
写真目的に有用であるテルル化合物から−カ(シ的に沈
積され(好ましくは細い針状物を含む)、それらの化合
物は微結晶としての急速な核化および生長が可能であり
、これらの微結晶は鎖状物としてかつ多くは針状物とし
て生長する。このような鎖状物または針状物は不透明で
すぐれた光散乱性を特徴として熱的その他の現像後に観
、堅される良好なツC学濃度を生ずる。
酸化物形成を含むかもしれない効果は表面効果に実質上
制約され、鎖状物またはり状物の本体中に劣化をおこさ
せる効果とは区別される。
制約され、鎖状物またはり状物の本体中に劣化をおこさ
せる効果とは区別される。
好ましくは、テルル画像形成性化合物はチャングらの米
国!1′M訂第4.142.896号に開示されるよう
な有機、テルル化合物である。こ才1らの化合物は、本
来的に増感剤性償を保有する(そして/もしくは別の増
感剤と混合されてもよい)有機テルル化合物であり、そ
の化合物中で、テルルは有機テルル化合物の少くとも一
つの炭素原子あるいは有機基へ直接的に結合しており、
その有4(3テルル化合物は一つの構造をもっていてか
つ粒子または波動の輻射線の形で画像形1.ffl 7
月エネルギーを受けて加の検出可能特性をもつ異なる構
造の物)l!lをつくり出すことができる一つのイ9出
IJTnヒ%件をもっている。画像形成段階からη、−
する一つの異なる構造と竹なる検出−oJ能特性をもつ
物JiJがときには「画像形成化合物」とよばれる。
国!1′M訂第4.142.896号に開示されるよう
な有機、テルル化合物である。こ才1らの化合物は、本
来的に増感剤性償を保有する(そして/もしくは別の増
感剤と混合されてもよい)有機テルル化合物であり、そ
の化合物中で、テルルは有機テルル化合物の少くとも一
つの炭素原子あるいは有機基へ直接的に結合しており、
その有4(3テルル化合物は一つの構造をもっていてか
つ粒子または波動の輻射線の形で画像形1.ffl 7
月エネルギーを受けて加の検出可能特性をもつ異なる構
造の物)l!lをつくり出すことができる一つのイ9出
IJTnヒ%件をもっている。画像形成段階からη、−
する一つの異なる構造と竹なる検出−oJ能特性をもつ
物JiJがときには「画像形成化合物」とよばれる。
テルル画像形成性化合物は米国牛F if’l第4.0
62,685号に開示されるもののような有+郊金属化
合物であってよい。
62,685号に開示されるもののような有+郊金属化
合物であってよい。
本発明の実施において1リ−・用さねる画像形成有機テ
ルル化合物のうちl持に宿料な下位群はテルル原子へ直
接に結合した有機基およびハロゲンを含む有機化合物か
ら成り、その有機基中には少くとも一つのカルボニル基
が存在1ろ。それらのうちのあるものは、ハロゲン化テ
ルル、他に門地化テルルと有機化合物、特にケトンまた
は鎮イυ発色団との付加物であり、その有機化合物中に
少くとも一つのカルボニル基を角んでいる。従って、そ
れらはテルル原子へ直接的に結合したノ・ロゲンすl、
cわち、塩素、臭素、沃素、および弗素を含む有機テル
ル化合物または伺加物として見られあるいは特性づけら
れる。上記画像形成化合物のこの([3定の種類または
群の大部分は2個のカルボニルを含む有機基をもつ。本
発明の実施において特に有用であるものはハロゲンとし
て塩素を含む。しかし、ある場合には、一般的には7G
)まり満足できるものではないけれども、その他のノ・
ロゲンが存在できる。画像形成化合物は、後述するよう
に、利用される特定マトリックス物邪の中で可溶である
か均aに分散1〜得るように選ぶべきである。画像形成
有機テルル化@物1のこの群の多くは式8式%) によって表」)シてよく、ここに、Te がイ1(R基
中の炭素へ1肖接に結合していることを榮件に、■(は
少くとも一つのカルボニル基を含む41機基でル〕す、
(H4Z )はハロゲン、特に塩素であり、Xは1.2
、または6であり1.r+y=4である。9.1ましく
はXは2または6である。
ルル化合物のうちl持に宿料な下位群はテルル原子へ直
接に結合した有機基およびハロゲンを含む有機化合物か
ら成り、その有機基中には少くとも一つのカルボニル基
が存在1ろ。それらのうちのあるものは、ハロゲン化テ
ルル、他に門地化テルルと有機化合物、特にケトンまた
は鎮イυ発色団との付加物であり、その有機化合物中に
少くとも一つのカルボニル基を角んでいる。従って、そ
れらはテルル原子へ直接的に結合したノ・ロゲンすl、
cわち、塩素、臭素、沃素、および弗素を含む有機テル
ル化合物または伺加物として見られあるいは特性づけら
れる。上記画像形成化合物のこの([3定の種類または
群の大部分は2個のカルボニルを含む有機基をもつ。本
発明の実施において特に有用であるものはハロゲンとし
て塩素を含む。しかし、ある場合には、一般的には7G
)まり満足できるものではないけれども、その他のノ・
ロゲンが存在できる。画像形成化合物は、後述するよう
に、利用される特定マトリックス物邪の中で可溶である
か均aに分散1〜得るように選ぶべきである。画像形成
有機テルル化@物1のこの群の多くは式8式%) によって表」)シてよく、ここに、Te がイ1(R基
中の炭素へ1肖接に結合していることを榮件に、■(は
少くとも一つのカルボニル基を含む41機基でル〕す、
(H4Z )はハロゲン、特に塩素であり、Xは1.2
、または6であり1.r+y=4である。9.1ましく
はXは2または6である。
その他のものは式
%式%)
によって表わすことができ、Rはカルボニル含有有機基
であり、(Had)はハロゲンである。
であり、(Had)はハロゲンである。
R基は脂肪族、環状脂肪族または芳香族(イ核または多
核)あるいはそれらの混合物であり、411または環中
に1個または1個より多くの異種原子を含んで℃・でよ
し・。R基は各種の刊λ4.4糸または(J!〔桟の基
によって置換されていてもよ(、こflらの基は所望の
画像形成効果を助けるかあるいは少くとも妨害せず、こ
の種の基の例としてはG1−G6アルキル、相当するオ
キシアルキル基、アセチル、ニトロ、G=N、cI、
13r、 F、などである。一般的に℃積ば、例えばア
セトフェノンテルルトリクロライドのような一つの三ハ
ロゲン化基を含む前述のイ1゛機テルルIiI′Ii像
形成化合物は比較的低い融点(約70−80℃)をもち
、2個のハロゲン原子を含む一般的に類似の化合物より
も吸漫性でかつ不安定である傾向かあり、それゆえ、こ
の種の三ノ・ロゲン化物は本発明の実際において使用す
るのにあまり望ましくない。
核)あるいはそれらの混合物であり、411または環中
に1個または1個より多くの異種原子を含んで℃・でよ
し・。R基は各種の刊λ4.4糸または(J!〔桟の基
によって置換されていてもよ(、こflらの基は所望の
画像形成効果を助けるかあるいは少くとも妨害せず、こ
の種の基の例としてはG1−G6アルキル、相当するオ
キシアルキル基、アセチル、ニトロ、G=N、cI、
13r、 F、などである。一般的に℃積ば、例えばア
セトフェノンテルルトリクロライドのような一つの三ハ
ロゲン化基を含む前述のイ1゛機テルルIiI′Ii像
形成化合物は比較的低い融点(約70−80℃)をもち
、2個のハロゲン原子を含む一般的に類似の化合物より
も吸漫性でかつ不安定である傾向かあり、それゆえ、こ
の種の三ノ・ロゲン化物は本発明の実際において使用す
るのにあまり望ましくない。
画像形成性有機テルル化合物のこの特別の下位群のより
限定された種類は式 (A γ−G O−G H2)2T e=(Ha l
) 2によって表現してよく、Arは芳香族炭化水素基
であって−に連のように1汐(奏されてい′でもいフエ
<てもよく、(1−1cL)はハロゲン特に塩素である
。この下位群の化合物は、特に(1−1cl)が塩素で
あるときには、本賢明実施にイリ−・川するidi’+
像形成性有槻テルル化合物に関して本発明の特別に具体
化を表わす。
限定された種類は式 (A γ−G O−G H2)2T e=(Ha l
) 2によって表現してよく、Arは芳香族炭化水素基
であって−に連のように1汐(奏されてい′でもいフエ
<てもよく、(1−1cL)はハロゲン特に塩素である
。この下位群の化合物は、特に(1−1cl)が塩素で
あるときには、本賢明実施にイリ−・川するidi’+
像形成性有槻テルル化合物に関して本発明の特別に具体
化を表わす。
一つの有」を基中にカルボニル基を含ま−ずしかしテル
ルが炭素へ直接的に結合されている、本発明の実際にお
いて有用でありかつ本発明によって意図されている、も
う一つの下位群の画像形成性有機テルル化合物は、エチ
レン性またはアセチレン性の炭化水素の四ハロゲン化テ
ルル(II加物と卿られあるいは特徴づけられる化合物
である。こ牙1.らの化合物は1かも2モル、唱に2モ
ル、のエチレン性またはアセチレン性JR化水素を1モ
ルの四)・ロゲン化テルル、特にこの場合には好ましく
はTic/4、と反応させることによって一般に便利に
つくられる。この抑の化合物のあるものは式() %式% () ) によって表わすことができ、式中、R6とR7は各々エ
チレン性炭化水素の残基、例えはアルケンまたはシクロ
アルケンであり、(Hrz/)は聰累、臭素または沃素
、臂に塩素であり、Xは1から6であり、x + y
= 4である。
ルが炭素へ直接的に結合されている、本発明の実際にお
いて有用でありかつ本発明によって意図されている、も
う一つの下位群の画像形成性有機テルル化合物は、エチ
レン性またはアセチレン性の炭化水素の四ハロゲン化テ
ルル(II加物と卿られあるいは特徴づけられる化合物
である。こ牙1.らの化合物は1かも2モル、唱に2モ
ル、のエチレン性またはアセチレン性JR化水素を1モ
ルの四)・ロゲン化テルル、特にこの場合には好ましく
はTic/4、と反応させることによって一般に便利に
つくられる。この抑の化合物のあるものは式() %式% () ) によって表わすことができ、式中、R6とR7は各々エ
チレン性炭化水素の残基、例えはアルケンまたはシクロ
アルケンであり、(Hrz/)は聰累、臭素または沃素
、臂に塩素であり、Xは1から6であり、x + y
= 4である。
四ハロゲン化テルルと付加してこの神の+1−+i +
7り形成性有]塾テルル化合物を生成することができる
エチレン性およびアセチレン性炭化水素の例は、プロピ
レン:ブテン−1;イソゾチレン:ブテンー2;2,3
−ジメチル−2−ブチン;ろろ−ジメチルー1−ブデン
;2,4−ジメチル−1−はブチン;4.4−ジメチル
−1−4ンテン:2,5−ジメチル−6−ヘキセンニジ
Rブチン;1,1−ジフェニルエチレン;1−ヘプテン
:1−ヘキセン:2−メチル−1−ヘキセン;ろ−メチ
ル−1−ヘキセン:4−メチ#−1−ヘキセン;2−エ
チル・−1−へキセノ:2−イソプロピル−1−ヘキセ
ン:2−メチル−1−はブチン:2−メチル−2−Rン
テン:2−エチル−2−はブチン:3−メチル−1−は
ブチン;ヒ0はリレン;ヒニルシクロヘキセン;ビニル
シクロはブチン: 2− ヒニルナフタレン:1.2.
4− ) IJ ビニルシクロヘキセン:4−メチル−
1−シクロヘキセン:ローメチル−1−シクロヘキセン
:1−メチシー1−シクロヘキセン:1−メチル−1−
シクロRンテン;シクロへゾテン:シクロ×ンテン:シ
クロヘキセン;4.4−ジメチル−1−シクロヘキセン
=2−メチルブテン−1:ろ−メチルブテンー1:およ
び1−オクテン:シクロヘキセンのよう1.cアルケン
類の低級アルキルおよびイJXfvψアルコキシ誘導体
:1−はンチン:2−oンチン:1−ヘキシンンt6よ
び6−メチル−1−ブチン、である。
7り形成性有]塾テルル化合物を生成することができる
エチレン性およびアセチレン性炭化水素の例は、プロピ
レン:ブテン−1;イソゾチレン:ブテンー2;2,3
−ジメチル−2−ブチン;ろろ−ジメチルー1−ブデン
;2,4−ジメチル−1−はブチン;4.4−ジメチル
−1−4ンテン:2,5−ジメチル−6−ヘキセンニジ
Rブチン;1,1−ジフェニルエチレン;1−ヘプテン
:1−ヘキセン:2−メチル−1−ヘキセン;ろ−メチ
ル−1−ヘキセン:4−メチ#−1−ヘキセン;2−エ
チル・−1−へキセノ:2−イソプロピル−1−ヘキセ
ン:2−メチル−1−はブチン:2−メチル−2−Rン
テン:2−エチル−2−はブチン:3−メチル−1−は
ブチン;ヒ0はリレン;ヒニルシクロヘキセン;ビニル
シクロはブチン: 2− ヒニルナフタレン:1.2.
4− ) IJ ビニルシクロヘキセン:4−メチル−
1−シクロヘキセン:ローメチル−1−シクロヘキセン
:1−メチシー1−シクロヘキセン:1−メチル−1−
シクロRンテン;シクロへゾテン:シクロ×ンテン:シ
クロヘキセン;4.4−ジメチル−1−シクロヘキセン
=2−メチルブテン−1:ろ−メチルブテンー1:およ
び1−オクテン:シクロヘキセンのよう1.cアルケン
類の低級アルキルおよびイJXfvψアルコキシ誘導体
:1−はンチン:2−oンチン:1−ヘキシンンt6よ
び6−メチル−1−ブチン、である。
前記有機テルル化合物の製造方法、1[びにそ脅1らの
多くの例は米国特許第4,142.896号にさらに十
分に示されている。
多くの例は米国特許第4,142.896号にさらに十
分に示されている。
上記のように、)・ロゲン化物が塩素と臭素から成る群
から選ばれる少くとも−dであるテルルの四ハロゲン化
物もまた本発明における画像形成物質として有用である
。このようなテルルハロゲン化物は米国%Wl′第4,
066,460号に十分に記載されている。これらの画
像形成物tp4のある4・、のけ式 %式% によって表現することができ、nは1かも4の整数であ
り、m、 + n = 4である。使用してよい代表的
な四ハ0ゲ/化テA/ルは、TeCl4:TeG12B
τ2:およびT:eGIBr である。TeCl4
はl侍に有用である。これらの四ハロゲン化テルルおよ
び画像形成物質どしてのそれらの用法に関するさらに十
分な記述については米甲特許第4.066.460−>
F3が参照される。
から選ばれる少くとも−dであるテルルの四ハロゲン化
物もまた本発明における画像形成物質として有用である
。このようなテルルハロゲン化物は米国%Wl′第4,
066,460号に十分に記載されている。これらの画
像形成物tp4のある4・、のけ式 %式% によって表現することができ、nは1かも4の整数であ
り、m、 + n = 4である。使用してよい代表的
な四ハ0ゲ/化テA/ルは、TeCl4:TeG12B
τ2:およびT:eGIBr である。TeCl4
はl侍に有用である。これらの四ハロゲン化テルルおよ
び画像形成物質どしてのそれらの用法に関するさらに十
分な記述については米甲特許第4.066.460−>
F3が参照される。
さらにもう一つの群の画像11′り酸化合物はチャンク
らの米国特許第4,106,939+jK記載の四)・
ロゲン化テルルから誘導される化合物である。・これも
の関連化合物は、ジメチルアニリンの四ノ・ロゲン化テ
ルル付加物によって例示されろ4四ノ・口ゲン化テルル
と芳香族アミンとの伺加物であり、この伺加物はジアゾ
基を含まない。さらに憤定的にいえば、これらの四ハロ
ゲン化テルルを芳香族基へ直接または間接に結合した窒
素が1個から4個の炭素原子を含むアルキルによって儀
゛換されている芳香族アミンとを糾合わせろことによっ
て形成され、この画像形成有機テルル物質はジアゾ基を
倉まな(・。
らの米国特許第4,106,939+jK記載の四)・
ロゲン化テルルから誘導される化合物である。・これも
の関連化合物は、ジメチルアニリンの四ノ・ロゲン化テ
ルル付加物によって例示されろ4四ノ・口ゲン化テルル
と芳香族アミンとの伺加物であり、この伺加物はジアゾ
基を含まない。さらに憤定的にいえば、これらの四ハロ
ゲン化テルルを芳香族基へ直接または間接に結合した窒
素が1個から4個の炭素原子を含むアルキルによって儀
゛換されている芳香族アミンとを糾合わせろことによっ
て形成され、この画像形成有機テルル物質はジアゾ基を
倉まな(・。
四ハロゲン化テルルのこれらの芳香族アミン付加物はチ
ャングらの米国特許第4.106.969号に十分に記
載されている。
ャングらの米国特許第4.106.969号に十分に記
載されている。
活性なテルル化合物は、心労ならば、例えば、テルル酸
化物またはテルルj、・1にを過半な有機化@物Iどの
絹合わせで使用することによって、その−で、形成させ
てよい。ときには、この現場形成は酸の存在によって促
進される。例えば、ビス(アセトフェノン)テルルジク
ロライドまたはテルルjlk化物またはアルカリ金属テ
ルレー) (t、elurate)は以下に述べるグリ
コールの一つと組合せてテルル−有機化合物複合体を形
成させ、これは活性である。この反応は上述のような有
機′テルル化合物とジオールとの反むと41似であると
信じらJする。予備的情報ではこの反応が酸情幌体によ
って有利になることを暗示されている。無水の塩化水垢
のような酸を少匍添加してよい。また、ハロゲン含有テ
ルル化合物は所要の酸度゛を折1’、する。
化物またはテルルj、・1にを過半な有機化@物Iどの
絹合わせで使用することによって、その−で、形成させ
てよい。ときには、この現場形成は酸の存在によって促
進される。例えば、ビス(アセトフェノン)テルルジク
ロライドまたはテルルjlk化物またはアルカリ金属テ
ルレー) (t、elurate)は以下に述べるグリ
コールの一つと組合せてテルル−有機化合物複合体を形
成させ、これは活性である。この反応は上述のような有
機′テルル化合物とジオールとの反むと41似であると
信じらJする。予備的情報ではこの反応が酸情幌体によ
って有利になることを暗示されている。無水の塩化水垢
のような酸を少匍添加してよい。また、ハロゲン含有テ
ルル化合物は所要の酸度゛を折1’、する。
賭元剤先駆物物=
テルル画像形成化合物のほかに、本発明の両像形成系は
還元剤先jly;物質、あるいは増感剤を含み、これは
、上述のように、活性化用エネルギーの影響下において
、不安定水素を水素供与体から引き抜いて画像形成テル
ル化合物に関して還元剤となる性質をもつ化合物である
。活性化された還元剤は次にテルル化合物を頷元して所
望の画像を牛じさせる。水素供与体はこの目的のために
特定的に提供されるアルコールのような水素以外の供給
分 。
還元剤先jly;物質、あるいは増感剤を含み、これは
、上述のように、活性化用エネルギーの影響下において
、不安定水素を水素供与体から引き抜いて画像形成テル
ル化合物に関して還元剤となる性質をもつ化合物である
。活性化された還元剤は次にテルル化合物を頷元して所
望の画像を牛じさせる。水素供与体はこの目的のために
特定的に提供されるアルコールのような水素以外の供給
分 。
であってよい。しかし、水素供与体は僅元剤先、駆物質
の分子構造の一部である適切な一つの基であってもよい
。
の分子構造の一部である適切な一つの基であってもよい
。
本発明において有用である好ましい蓑元剤先J厘物質は
キノン類、特に2−インプロポキシナフトキノン: 9
.10−フエナンセンキノン;および2−tブチルアン
スラキノンである。そのイl!Jの具体的な罫元剤先駆
物質は、6−クロロ−2−インプロポキシ−1,4−ナ
フトキノン:6−クロロ−2−インプロポキシ−1,4
−アンスラキノン;ろ−クロロ−2−インプロポキシ−
1,4−7ンスラキノン;6−クロロ−2−イソプロポ
キシ−6,7−ジフェニル−1,4−ナフトキノン=6
−クロロ−2−(3’−はブトキシ)−1,4−ナフト
キノン;6−クロロ−2−(2’−ブトキシ)−1,4
−太フトギノン:6−クロロー2−(3’、3’−ジメ
チル−2′−ブトキシ)−1,4−ナフトキノン:2,
3−ジインプロポキシ−1,4−ナフトキノン:6−ク
ロロ−2−メトキシ−1,4−ナフトキノン;2.ろ−
ジメトキシ−1,4−ナフトキノン:3−クロロ−2−
エトキシ−1,4−ナフトキノン:ろ−クロロ−2−(
n、−ブトキシ)−1,4−ナフトキノン:5−クロロ
−2−(2’−メチル−プロポキシ)−1,4−ナフト
キノン:および2−イソプロd?キシー1.4−アンス
ラキノン:を含む。前述のソ゛11−からの特に有用で
ある還元剤先駆物質は6−クロロ−2−インプロポキシ
−1,4−ナフトキノン、3−クロロ−2−インプロポ
キシ−1,4−アンスラキノン、および2.ろ−ジイソ
プロポキシー1,4−ナフトキノン、を含む。これらの
還元剤先駆物質は、フィルムに良好な速度をもたせなが
ら、uJ視領領域おける電磁輻射に対して良好な感度を
示す。
キノン類、特に2−インプロポキシナフトキノン: 9
.10−フエナンセンキノン;および2−tブチルアン
スラキノンである。そのイl!Jの具体的な罫元剤先駆
物質は、6−クロロ−2−インプロポキシ−1,4−ナ
フトキノン:6−クロロ−2−インプロポキシ−1,4
−アンスラキノン;ろ−クロロ−2−インプロポキシ−
1,4−7ンスラキノン;6−クロロ−2−イソプロポ
キシ−6,7−ジフェニル−1,4−ナフトキノン=6
−クロロ−2−(3’−はブトキシ)−1,4−ナフト
キノン;6−クロロ−2−(2’−ブトキシ)−1,4
−太フトギノン:6−クロロー2−(3’、3’−ジメ
チル−2′−ブトキシ)−1,4−ナフトキノン:2,
3−ジインプロポキシ−1,4−ナフトキノン:6−ク
ロロ−2−メトキシ−1,4−ナフトキノン;2.ろ−
ジメトキシ−1,4−ナフトキノン:3−クロロ−2−
エトキシ−1,4−ナフトキノン:ろ−クロロ−2−(
n、−ブトキシ)−1,4−ナフトキノン:5−クロロ
−2−(2’−メチル−プロポキシ)−1,4−ナフト
キノン:および2−イソプロd?キシー1.4−アンス
ラキノン:を含む。前述のソ゛11−からの特に有用で
ある還元剤先駆物質は6−クロロ−2−インプロポキシ
−1,4−ナフトキノン、3−クロロ−2−インプロポ
キシ−1,4−アンスラキノン、および2.ろ−ジイソ
プロポキシー1,4−ナフトキノン、を含む。これらの
還元剤先駆物質は、フィルムに良好な速度をもたせなが
ら、uJ視領領域おける電磁輻射に対して良好な感度を
示す。
ベンゾフェノンは、キノンではないけれども、多数のよ
り単純なケトン類と同様に、還元剤先駆物質としてまた
有用である。
り単純なケトン類と同様に、還元剤先駆物質としてまた
有用である。
遺元剤先駆物質の選択においての重要な一つの因子は還
元剤先駆物Illが応答するスはクトル領域である。そ
の理由のために、単純′なケトン類はそれらの感度が遠
紫外領域にあり、可視光を記録するには一般には有用で
はないからである。
元剤先駆物Illが応答するスはクトル領域である。そ
の理由のために、単純′なケトン類はそれらの感度が遠
紫外領域にあり、可視光を記録するには一般には有用で
はないからである。
次のものは約400μmまでの範囲において感光性であ
り従って紫外領域においてのみ有用である例示的な儒元
斉11先駆物質である:ベンゾフエノン:アセトフエノ
ン; 1,5−ジフェニル−1,3,5−−<ンタント
リオン:ニンヒドリン;4,4′−シズロモはンゾフェ
ノン:および1.a−:)クロロアンスラキノン。
り従って紫外領域においてのみ有用である例示的な儒元
斉11先駆物質である:ベンゾフエノン:アセトフエノ
ン; 1,5−ジフェニル−1,3,5−−<ンタント
リオン:ニンヒドリン;4,4′−シズロモはンゾフェ
ノン:および1.a−:)クロロアンスラキノン。
各種の他の還元剤先駆物η、特r(−置換または非置換
の多核キノン伊のもの、を利用することができ、このF
il’? IWのもののうち、あるものは上述したが、
その他のものは1.2−ペンブチンスラギノン:2−メ
チルアンスラキノン:1−クロロアンスラキノン: 7
.8,9.1o−テトラヒト90ナフタセンキノン:
9.10−アンスラキノン:および1.4−ジメチルア
ンスラキノン:である。用いられる還元剤先駆物質の感
度領域における画像形成用エネルギーの利用性を考慮に
入れると、各々の与えられた画像形成物質の場合に、す
べての還元剤先駆物質が有効あるいは等しく有効である
わけでけ/、C(そして特Tの画(8)形Dν物質と特
定の還元剤先駆物ηとの糾合−+1−の適当な選択が所
望または最適の結果を達JNするのに必要とされる、と
いうことが理解されるであろう。このような選択はしか
しなから比較的容易になし得る。
の多核キノン伊のもの、を利用することができ、このF
il’? IWのもののうち、あるものは上述したが、
その他のものは1.2−ペンブチンスラギノン:2−メ
チルアンスラキノン:1−クロロアンスラキノン: 7
.8,9.1o−テトラヒト90ナフタセンキノン:
9.10−アンスラキノン:および1.4−ジメチルア
ンスラキノン:である。用いられる還元剤先駆物質の感
度領域における画像形成用エネルギーの利用性を考慮に
入れると、各々の与えられた画像形成物質の場合に、す
べての還元剤先駆物質が有効あるいは等しく有効である
わけでけ/、C(そして特Tの画(8)形Dν物質と特
定の還元剤先駆物ηとの糾合−+1−の適当な選択が所
望または最適の結果を達JNするのに必要とされる、と
いうことが理解されるであろう。このような選択はしか
しなから比較的容易になし得る。
一般には、前述の事実に関連して、還元剤先駆物質はπ
、π 状態よりかいエネルギーの、シングレットおよび
トリプレットの両方のηπ0 状態をもち、そして、少
くとも大部分の場合において、最似エネルギーのπ、π
8状態をもつ化合物は感光的には有効でないことが群i
められるがもしれないが、もつとも、ある限定された’
Fr合においては、π→π*遷移より低いエネルギーη
→π0をもっという試験にかなう化合物は還元剤先駆物
質として機能しない。しかし、」二記考察は、大体は、
与えられた化合物が本発明の実施において使J−r4す
るp元剤先駆物質として機能するがどうかを事前に決定
するのに有効なものである。ともかく、ある与えられた
場合における単純な予備的実験的試験は所望の画像形成
化合物と還元剤先駆物ノl′ノを使用して試験用エマル
ジョンをつくることによって必要ならば容易に実b(1
:できる。
、π 状態よりかいエネルギーの、シングレットおよび
トリプレットの両方のηπ0 状態をもち、そして、少
くとも大部分の場合において、最似エネルギーのπ、π
8状態をもつ化合物は感光的には有効でないことが群i
められるがもしれないが、もつとも、ある限定された’
Fr合においては、π→π*遷移より低いエネルギーη
→π0をもっという試験にかなう化合物は還元剤先駆物
質として機能しない。しかし、」二記考察は、大体は、
与えられた化合物が本発明の実施において使J−r4す
るp元剤先駆物質として機能するがどうかを事前に決定
するのに有効なものである。ともかく、ある与えられた
場合における単純な予備的実験的試験は所望の画像形成
化合物と還元剤先駆物ノl′ノを使用して試験用エマル
ジョンをつくることによって必要ならば容易に実b(1
:できる。
いくつかの場合においては、外部的増感剤にLIト要で
はない。例えば、250−3 [10μmの領域におけ
る波長においてはたいていの有機テルル化合物は直接的
に光分解さね、セしてい(っかの他のテルル化合′吻、
特にハロゲン化物、けii7ネ1−スはクトルの青色部
に対して感光性である。画像形成が電子によって達成さ
れるときには、振部的増感剤は必卯でなく、■子が画像
形成物質の直接的分解を行なうからである。
はない。例えば、250−3 [10μmの領域におけ
る波長においてはたいていの有機テルル化合物は直接的
に光分解さね、セしてい(っかの他のテルル化合′吻、
特にハロゲン化物、けii7ネ1−スはクトルの青色部
に対して感光性である。画像形成が電子によって達成さ
れるときには、振部的増感剤は必卯でなく、■子が画像
形成物質の直接的分解を行なうからである。
いくつかの好ましい傑元剤先駆物質の製造をとこに述べ
る。一般的には、好ましいナフトキノン類またはアンス
ラキノン類を形成させるため(lこは、適当な出発物a
を適当なアルコキサイドと反1芯させて所望の僅元先駆
′吻aを形成させろ。
る。一般的には、好ましいナフトキノン類またはアンス
ラキノン類を形成させるため(lこは、適当な出発物a
を適当なアルコキサイドと反1芯させて所望の僅元先駆
′吻aを形成させろ。
一般式
の還元剤先駆物質(式中、Yl はアルコキシでありY
2 はアルコキシまたはクロロである)を形成させるこ
とを望むJA′、合には、2,6−ジクロロ−1゜4−
ナフトキノンをナトリウムアルフキ1イト8のような金
属アルコキサイドと反応させる。このアルコキサイドは
所望のアルコキシ基に相半する。
2 はアルコキシまたはクロロである)を形成させるこ
とを望むJA′、合には、2,6−ジクロロ−1゜4−
ナフトキノンをナトリウムアルフキ1イト8のような金
属アルコキサイドと反応させる。このアルコキサイドは
所望のアルコキシ基に相半する。
金属アルコキサイド8はアルコールをナトリウムのよう
な活性金属と反応させることによって形成することがで
きる。例えば、ナトリウムとイソプロパツールとの反応
はナトリウムイソゾロホキサイドを生ずる。かくして、
2,6−ジインブロポキシー1.4−ナフトキノンをつ
くるために、ナトリウムイソゾロホキサイドゝを2,6
〜ジクロロ−1,4−ナフトキノンと好ましくは室温に
おいて戊、 L−t−;させて、2,6−:)インプロ
ボギシー1,4−ナフトキノンが形成されろ。?−クロ
ロー6−イツプロボ先シー1,4−ナフトキノンは同様
にしてつ(られるが、ただしアルコキサイドは2,6−
ジクロロ−1゜4−ナフトキノンの冷部(好ましくはO
−5℃またはほぼ水浴温度)懸濁液へゆっくりと添加さ
れる。このようにして、クロロ基の一つだけが一つのイ
ソプロポキン基によって置換される。6−クロロ−2−
、(2’−ブトキシ)−1,4−ナフトキノン、2−ク
ロロ−6−インブロポキゾー1,4−アンスラキノン、
および2−クロロー6−インプロホキシー6.フージフ
エニル−1,4−ナフトキノン、のような1個のアルコ
キシ基と1個のクロロ基をもつ他の還元剤先駆物質は、
同じ方法でつくることができる。この最後の二つの化合
物はそれぞれ2.6−ジクロロ−1,4−ナツトキノン
と2.6−ジクロロ−6,7−ジフェニル−1,4−ナ
フトキノンからつくられる。
な活性金属と反応させることによって形成することがで
きる。例えば、ナトリウムとイソプロパツールとの反応
はナトリウムイソゾロホキサイドを生ずる。かくして、
2,6−ジインブロポキシー1.4−ナフトキノンをつ
くるために、ナトリウムイソゾロホキサイドゝを2,6
〜ジクロロ−1,4−ナフトキノンと好ましくは室温に
おいて戊、 L−t−;させて、2,6−:)インプロ
ボギシー1,4−ナフトキノンが形成されろ。?−クロ
ロー6−イツプロボ先シー1,4−ナフトキノンは同様
にしてつ(られるが、ただしアルコキサイドは2,6−
ジクロロ−1゜4−ナフトキノンの冷部(好ましくはO
−5℃またはほぼ水浴温度)懸濁液へゆっくりと添加さ
れる。このようにして、クロロ基の一つだけが一つのイ
ソプロポキン基によって置換される。6−クロロ−2−
、(2’−ブトキシ)−1,4−ナフトキノン、2−ク
ロロ−6−インブロポキゾー1,4−アンスラキノン、
および2−クロロー6−インプロホキシー6.フージフ
エニル−1,4−ナフトキノン、のような1個のアルコ
キシ基と1個のクロロ基をもつ他の還元剤先駆物質は、
同じ方法でつくることができる。この最後の二つの化合
物はそれぞれ2.6−ジクロロ−1,4−ナツトキノン
と2.6−ジクロロ−6,7−ジフェニル−1,4−ナ
フトキノンからつくられる。
もしYl とY2が異なるアルコキシである場合には
、一方のアルコキザイドをI=J)つくりと添加して1
個のクロロを直換し、生成物?回収し、次いで生成物を
同じ方法で他方のアルコキザイドと反応させる。
、一方のアルコキザイドをI=J)つくりと添加して1
個のクロロを直換し、生成物?回収し、次いで生成物を
同じ方法で他方のアルコキザイドと反応させる。
一般式
()
(式中、Yl はアルコキシでありY3 は水素、クロ
ロ、あるいはアルコキシである)の還元剤先駆物質は2
−クロロ−1,4−アンスラキノン(Y3カ水素テ$)
るべき場合)または2,6−ジクoo −1,4−アン
スラキノン(Y3 がクロロまたはアルコキシであるべ
き場合〕をナフトキノン類に関してさきに述べたような
嫡半な金属アルカノイル8と反応させることによってつ
くることかできる。
ロ、あるいはアルコキシである)の還元剤先駆物質は2
−クロロ−1,4−アンスラキノン(Y3カ水素テ$)
るべき場合)または2,6−ジクoo −1,4−アン
スラキノン(Y3 がクロロまたはアルコキシであるべ
き場合〕をナフトキノン類に関してさきに述べたような
嫡半な金属アルカノイル8と反応させることによってつ
くることかできる。
一般式
(式中、Y はアルコキシであり、Y3は水素、クロロ
、またはアルコキシである)のM元剤佐:駆物質は2,
6−シフエニルーブタジエンを2.ろ−ジクロロインゾ
キノンと酢酸中で反L’i”、、、さ−(Jて2,6−
ジクロロ−6,7−ジフェニル−1,4−ナフトキノン
を得ることによってつくることかでき、これを次に2,
3−ジクロロ−1,4−ナツトキノンに関してさきに述
べたような金属アルコキザイ、ドと反応させる。また、
Y3 が水素である場合には、2−クロロベンゾキノン
を2.6−ジクロロベンゾキノンの代りに用し・る。
、またはアルコキシである)のM元剤佐:駆物質は2,
6−シフエニルーブタジエンを2.ろ−ジクロロインゾ
キノンと酢酸中で反L’i”、、、さ−(Jて2,6−
ジクロロ−6,7−ジフェニル−1,4−ナフトキノン
を得ることによってつくることかでき、これを次に2,
3−ジクロロ−1,4−ナツトキノンに関してさきに述
べたような金属アルコキザイ、ドと反応させる。また、
Y3 が水素である場合には、2−クロロベンゾキノン
を2.6−ジクロロベンゾキノンの代りに用し・る。
マスクされた還元剤二本発明によれば、マスクさ牙1だ
憚元剤が含まれている。代表的なマスクされた醤元剤は
化合物1−フェニル−2−ベンゾイルアミド−6−ピラ
ゾリドン である。マスクされた還元剤のより完全な記述は197
8年7月19日の×ルギー特許 第863,052号に見出されるが、さらに詳細につい
てはそれが参照される。
憚元剤が含まれている。代表的なマスクされた醤元剤は
化合物1−フェニル−2−ベンゾイルアミド−6−ピラ
ゾリドン である。マスクされた還元剤のより完全な記述は197
8年7月19日の×ルギー特許 第863,052号に見出されるが、さらに詳細につい
てはそれが参照される。
ベルギー特許第863.052号において記載されてい
るマスクされた還元剤に変るものとして、新しい種類の
マスクされた賭元剤を置き拶−えてもよく、それは一般
式 %式% (式中、Yは水素またはCNHR5である)にょって表
現され、この化合物は少(とも一つの1 cm、raH−R5基を含んでいる。前記の式におい′
で、R1はアルキル、アルカノイル、アルコキン−カル
ボニル、フェニル、(ンジル、ベンゾイル、ニトロフェ
ニル、ベンジルカルボニル、フェニルメチル、フェニル
エチル、アルい(」、フェニルプロピルカルボニルまた
はアミノカルボニル、であってよい。R2、R3および
R4は各々かつ独立的に、水素、アルキルまたはフェニ
ルおよびアミノであツテヨい。Rはフェニル、ニトロフ
ェニル、ハロフェニル、アルキル、モノ−、ジー :l
は) +)−ハロアルギル、ベンゾイル、アルキルフェ
ニル、あるいはアルキルシアノフェニル、であってよい
。
るマスクされた還元剤に変るものとして、新しい種類の
マスクされた賭元剤を置き拶−えてもよく、それは一般
式 %式% (式中、Yは水素またはCNHR5である)にょって表
現され、この化合物は少(とも一つの1 cm、raH−R5基を含んでいる。前記の式におい′
で、R1はアルキル、アルカノイル、アルコキン−カル
ボニル、フェニル、(ンジル、ベンゾイル、ニトロフェ
ニル、ベンジルカルボニル、フェニルメチル、フェニル
エチル、アルい(」、フェニルプロピルカルボニルまた
はアミノカルボニル、であってよい。R2、R3および
R4は各々かつ独立的に、水素、アルキルまたはフェニ
ルおよびアミノであツテヨい。Rはフェニル、ニトロフ
ェニル、ハロフェニル、アルキル、モノ−、ジー :l
は) +)−ハロアルギル、ベンゾイル、アルキルフェ
ニル、あるいはアルキルシアノフェニル、であってよい
。
マスキング基は蹴元剤のアミン水素部位の一つまたは両
方のいずれかにおいて置″換されてよい。上に言及した
アルキル基は7個までの炭素原子を含んでいてよ(・。
方のいずれかにおいて置″換されてよい。上に言及した
アルキル基は7個までの炭素原子を含んでいてよ(・。
このような化合物は親ヒドラジンまたはピラゾリンと式
%式%
のイソシアネートとの反応を通じて便利に入手できる。
ジオール二本発明によれは、テルル化合物と反応して活
性な中間複合物を形成するジオールか含まれてよい。こ
の複合物の化学は十分には理解されて還・ないが、一般
的に&13、この移合物はテルルの各1モルについでは
02モルのジオールを必要とする。好ましくは、ジオー
ルは、存在するときには、複合物を形成する最小桁より
過剰に用いられる。ジオールは不安定水素源としても機
能して幇元剤先駆物質の反応において必要とされろ水素
源を提供するからである。
性な中間複合物を形成するジオールか含まれてよい。こ
の複合物の化学は十分には理解されて還・ないが、一般
的に&13、この移合物はテルルの各1モルについでは
02モルのジオールを必要とする。好ましくは、ジオー
ルは、存在するときには、複合物を形成する最小桁より
過剰に用いられる。ジオールは不安定水素源としても機
能して幇元剤先駆物質の反応において必要とされろ水素
源を提供するからである。
塩基の使用を含む本発明はジオールを含めることなしで
実施できるが、ジオールの存在はマスクされた還元剤が
存在するときには特に好ましい。
実施できるが、ジオールの存在はマスクされた還元剤が
存在するときには特に好ましい。
ジオールの存在は非露出領Jlの光学濃度を著しく減少
させるのに役立つ(すなわち、露出領域と非露出領域と
の間の対JK+を増加させ7−))。このように、マス
クさねた還元剤はジオールの右往なしで使用できろけれ
ども、マスクさねた還元剤を含むテルルフィルム組成物
は非臓出領域において比較的高い光学濃度をもつ傾向が
ある。それは−マスクされた原元剤の還元能力がマスキ
ング基によって十分には抑制されていないからである。
させるのに役立つ(すなわち、露出領域と非露出領域と
の間の対JK+を増加させ7−))。このように、マス
クさねた還元剤はジオールの右往なしで使用できろけれ
ども、マスクさねた還元剤を含むテルルフィルム組成物
は非臓出領域において比較的高い光学濃度をもつ傾向が
ある。それは−マスクされた原元剤の還元能力がマスキ
ング基によって十分には抑制されていないからである。
画像形成組成物を調合するのに使用するジオールの一つ
の群は式 %式% のジオールであり、式中、R8とR9の各々は独立的に
水素、:面部、分枝、および環状の炭化水素基を含めた
炭化水素基:ヒト90ギシーアルキル基;アルコキシカ
ルボニル基ニジクロアルキル、fik; * タはアリ
ール基を表わし、そしてZはアリーレン基(例えばフェ
ニレン)、基(−cヨG)、基(−CH10=にH1l
)を表わし、ルは整敷例えば1または2を表わし、H,
10とR11の各々は水素またはアルキル基を表わし、
あるいは炭素環式また複素環式の環を構成する。Zはま
た省略されてもよく、1なわち、2個のヒドロキシ置換
炭素が相互に直接に結合される。次の表は使用してよい
多数のジオールを示している。
の群は式 %式% のジオールであり、式中、R8とR9の各々は独立的に
水素、:面部、分枝、および環状の炭化水素基を含めた
炭化水素基:ヒト90ギシーアルキル基;アルコキシカ
ルボニル基ニジクロアルキル、fik; * タはアリ
ール基を表わし、そしてZはアリーレン基(例えばフェ
ニレン)、基(−cヨG)、基(−CH10=にH1l
)を表わし、ルは整敷例えば1または2を表わし、H,
10とR11の各々は水素またはアルキル基を表わし、
あるいは炭素環式また複素環式の環を構成する。Zはま
た省略されてもよく、1なわち、2個のヒドロキシ置換
炭素が相互に直接に結合される。次の表は使用してよい
多数のジオールを示している。
化合勿R8Z R9沸点 融点
番号 (BP)
’C、まbま(MP) ℃1HHBP 198 3H3G−−HBP 189 4 HC−−−GH3BP 1835
H−G=ミC−HMP 52−547
HO(GH□)4−HBP 17815+1−go
O 前記ジオール類のより十分な説明は前記はルギー特許第
854,196号に見出される。
’C、まbま(MP) ℃1HHBP 198 3H3G−−HBP 189 4 HC−−−GH3BP 1835
H−G=ミC−HMP 52−547
HO(GH□)4−HBP 17815+1−go
O 前記ジオール類のより十分な説明は前記はルギー特許第
854,196号に見出される。
しかし、好ましくは、ジオールは上述ベルギー特許願に
開示されているよりも仲雑なタイプのものである。これ
らのより複all():cジオール類は米国特許第4,
281,058@の主題である。
開示されているよりも仲雑なタイプのものである。これ
らのより複all():cジオール類は米国特許第4,
281,058@の主題である。
米国特許第4,281,058号に6C載の、りfまし
いジオールは式 R” 2−O−CH2−CHOH−C
H20Hの化合物である。この化合物において、R12
はアルキル、アシル、チアゾリニル、アルケニル、フェ
ニル、アルキルフェニル、アルケニルフェニル、ヒト9
0キシアルキルフエニル、ベンジル、アルキルヘンシル
、アルコキンベンジル、ヒドロキシアルキルベンジル、
およびハロばンジル、並びに類似の基であってよい。
いジオールは式 R” 2−O−CH2−CHOH−C
H20Hの化合物である。この化合物において、R12
はアルキル、アシル、チアゾリニル、アルケニル、フェ
ニル、アルキルフェニル、アルケニルフェニル、ヒト9
0キシアルキルフエニル、ベンジル、アルキルヘンシル
、アルコキンベンジル、ヒドロキシアルキルベンジル、
およびハロばンジル、並びに類似の基であってよい。
前記化合物の[チオ]同族列を用いることができる(す
なわち、基H12がオキシ結合の代りにチオ結合によっ
てグリセロール残基へ結合される)。
なわち、基H12がオキシ結合の代りにチオ結合によっ
てグリセロール残基へ結合される)。
前記構造の好ましい化合物は基R12がはンジルマタは
腑換ベンジルであるものである。前記構造のジオールの
使用が好ましいことが発見された。
腑換ベンジルであるものである。前記構造のジオールの
使用が好ましいことが発見された。
それはそれらがベルギー特許第854.196号に記載
のジオールよりも非露出領域の光学濃度を減少させるの
により有効であるからである。
のジオールよりも非露出領域の光学濃度を減少させるの
により有効であるからである。
補助的成分:
本発明の調合物の前記の主要部分のほかに、補助的成分
が6オ4↓の目的で含まれてよい。このように、例えば
、ある物質は本発明の非露出の新しい乾燥フィルム組成
物の保存寿命を憎進さぜ、ある場合には、上記フィルム
糾Jy、物の感度を増、1(することか発見された。自
らの分子中にエーテル結合またはポリエーテル結合を含
むこの種の追加的または補助的物質の例示的具体化は1
.+: IJエチレン−20ソルビタンモノラウレート
:zリエチレン−20ソルビタンモノオレエー) :
、]r りオツクスー10:2リオツクスー80;ポリ
刊ツクスー750;JIJエチレンクリコール−4o
o ジステアレート;ポリエチレングリコール−6oo
ジステアレート:ポリ(1,6−シオキノラン):ポリ
(テトラヒト80フラン) ; 、lrす(1,ろ−ジ
オキセパン):ポリ(1,6−シオキザン):ポリアセ
トアルデヒド頌:ポリオキシメチレン91 ; +(F
IJオキシメチレン類の脂肪1裳エステル頻:ポリ(
シクロヘキザンメチレンオキサイト’):、]妄り(4
−メチル−1,6−シオキ丈ン):ポリオキセタン知:
ポリフェニレンオキサイ)U:#?す[3,3−ヒス(
ハロメチル)オキソシクロブタン];ポ・す(オキシプ
ロピレン)グリコールエポキシ樹脂;オ6よびプロピレ
ンオキサイI、゛とスチレンオキサイドとのコポリマー
類:のような物質またはポリマーである。このような物
質は画像形成フィルム糸1]成物中に、一般的には画像
形成フィルム組成物固体の1邪で5%から2[]%の6
椋の量で組入れることができる。ある場合には、それら
は、与えられた貯蔵条件下で保存寿命を50%もあるい
けさらにきわめて実質的に2倍以上も増大また延長させ
、そして、前記のようにそれらはまた、各種の場合にお
(・て、フィルムの感度を効果的に増す。
が6オ4↓の目的で含まれてよい。このように、例えば
、ある物質は本発明の非露出の新しい乾燥フィルム組成
物の保存寿命を憎進さぜ、ある場合には、上記フィルム
糾Jy、物の感度を増、1(することか発見された。自
らの分子中にエーテル結合またはポリエーテル結合を含
むこの種の追加的または補助的物質の例示的具体化は1
.+: IJエチレン−20ソルビタンモノラウレート
:zリエチレン−20ソルビタンモノオレエー) :
、]r りオツクスー10:2リオツクスー80;ポリ
刊ツクスー750;JIJエチレンクリコール−4o
o ジステアレート;ポリエチレングリコール−6oo
ジステアレート:ポリ(1,6−シオキノラン):ポリ
(テトラヒト80フラン) ; 、lrす(1,ろ−ジ
オキセパン):ポリ(1,6−シオキザン):ポリアセ
トアルデヒド頌:ポリオキシメチレン91 ; +(F
IJオキシメチレン類の脂肪1裳エステル頻:ポリ(
シクロヘキザンメチレンオキサイト’):、]妄り(4
−メチル−1,6−シオキ丈ン):ポリオキセタン知:
ポリフェニレンオキサイ)U:#?す[3,3−ヒス(
ハロメチル)オキソシクロブタン];ポ・す(オキシプ
ロピレン)グリコールエポキシ樹脂;オ6よびプロピレ
ンオキサイI、゛とスチレンオキサイドとのコポリマー
類:のような物質またはポリマーである。このような物
質は画像形成フィルム糸1]成物中に、一般的には画像
形成フィルム組成物固体の1邪で5%から2[]%の6
椋の量で組入れることができる。ある場合には、それら
は、与えられた貯蔵条件下で保存寿命を50%もあるい
けさらにきわめて実質的に2倍以上も増大また延長させ
、そして、前記のようにそれらはまた、各種の場合にお
(・て、フィルムの感度を効果的に増す。
ここでも、画像形成フィルム中に還元性糖類を含めろこ
とは、一般的に℃・えば、フィルムが前に開示したよう
に画像を与えられそして次に例えば約120−150℃
で約15秒程度の間均、像されるときに、特に、画像形
成フィルムが新たにけ′、1製されて製造後約1日より
も古くない場合には、画像領域の邊度(画像光学濃度−
背景光学濃度)増大をもたらすことが発見されたのであ
る。このようなフィルムは、曲1f象形1iV、用エネ
ルギーへ露出し次いt現像するときには、本発明の通常
の実際において存在するネガチブワーキング(ネガ型)
系と対照的にポジ画像(すなわち、光学濃度が露出領域
よりも非露出領域においてより大きい)をつくり出す結
果となった。画像形成組成物中に還元性糖類を含めるこ
とはまた、画像形成用エネルギ f−へ露出
後において、像の現像がより低塩で、室温においてすら
、数時間例えば著I山には10.12、または15時間
の間でおこることを可能とする。使用できる還元性糖類
は多く存在し、その例示的なものはデキストロース、グ
ルコース、アラビノース、エリスロース、フンクトース
、ガラクトース、フコース、マンノース、オ、j:、T
J’)ホースである。特に有効なのは、デキストロース
、アラビノース、ガラクトース、フコース、およびリボ
ース、である。截元件糖類は各種のf′Aで使用できる
が、一般的には2、画像形成フィルムの画像形成有機テ
ルル物質の量と相対的に、当量かあるいは多少少な(ま
たは多い量で使用することができる。
とは、一般的に℃・えば、フィルムが前に開示したよう
に画像を与えられそして次に例えば約120−150℃
で約15秒程度の間均、像されるときに、特に、画像形
成フィルムが新たにけ′、1製されて製造後約1日より
も古くない場合には、画像領域の邊度(画像光学濃度−
背景光学濃度)増大をもたらすことが発見されたのであ
る。このようなフィルムは、曲1f象形1iV、用エネ
ルギーへ露出し次いt現像するときには、本発明の通常
の実際において存在するネガチブワーキング(ネガ型)
系と対照的にポジ画像(すなわち、光学濃度が露出領域
よりも非露出領域においてより大きい)をつくり出す結
果となった。画像形成組成物中に還元性糖類を含めるこ
とはまた、画像形成用エネルギ f−へ露出
後において、像の現像がより低塩で、室温においてすら
、数時間例えば著I山には10.12、または15時間
の間でおこることを可能とする。使用できる還元性糖類
は多く存在し、その例示的なものはデキストロース、グ
ルコース、アラビノース、エリスロース、フンクトース
、ガラクトース、フコース、マンノース、オ、j:、T
J’)ホースである。特に有効なのは、デキストロース
、アラビノース、ガラクトース、フコース、およびリボ
ース、である。截元件糖類は各種のf′Aで使用できる
が、一般的には2、画像形成フィルムの画像形成有機テ
ルル物質の量と相対的に、当量かあるいは多少少な(ま
たは多い量で使用することができる。
多くの場合において、滑らかな連続フィルムのコーティ
ングの助けとなることがよく知られているように、少量
のシリコーン油または類似物J質を含めることが望まし
いかもしれない。
ングの助けとなることがよく知られているように、少量
のシリコーン油または類似物J質を含めることが望まし
いかもしれない。
フィルムの感度および/または露出後の光学濃度を増す
効果をもつことができるいくつかの他の補助的成分を利
j11シてよい。これらの補助成分は、一般式 (式中、R1−R4は各々かつ独立に水素またはアルキ
ルである)のインドアニリン染料〔例えは、札N−(7
J−ジメヂルアミノフェニル)−i、4−ナフトキノン
(インドフェノールブルー));2−フェニルインティ
ン−1,6−シオノのようなインディン−1,ろ−ジオ
ン訪導体:および一般式(式中、n−1,2、または6
であり、Xはクロロまたはヨードである)のシアミン染
料〔例えば1、1’−ジエチル−2,2’−カルボシア
ミンクロライド(ビナシアツールクロライド)〕を含む
。マトリックス物ノnが、大気からの水のような、望ま
しくない成分を吸収しないように注意を払わねばならな
い。
効果をもつことができるいくつかの他の補助的成分を利
j11シてよい。これらの補助成分は、一般式 (式中、R1−R4は各々かつ独立に水素またはアルキ
ルである)のインドアニリン染料〔例えは、札N−(7
J−ジメヂルアミノフェニル)−i、4−ナフトキノン
(インドフェノールブルー));2−フェニルインティ
ン−1,6−シオノのようなインディン−1,ろ−ジオ
ン訪導体:および一般式(式中、n−1,2、または6
であり、Xはクロロまたはヨードである)のシアミン染
料〔例えば1、1’−ジエチル−2,2’−カルボシア
ミンクロライド(ビナシアツールクロライド)〕を含む
。マトリックス物ノnが、大気からの水のような、望ま
しくない成分を吸収しないように注意を払わねばならな
い。
マトリックス物′Eに本発明によるフィルム組成物は上
述の各成分と任意成分とを摘肖なマ) IJソックス中
溶解することによって完成さ第1る。7トリツクスは活
性諸成分において実際的であるような濃度のものでなけ
ればならない。すなわち、最小量のマ) +7ツクスが
使用されるのが好ましい。マトリックスの量は各種活性
成分を一つの固溶体として丁度保持するように十分なも
のであるべきである。φ加量のマトリックスを井1いて
もよいが、しかし、それは明らかに活性成分の濃)ザを
稀めそれによってフィルム組成物の光応答をおそくさせ
る傾向がある。基Id物ノf4の選択はもちろんある持
重組成物に対して華大容解度を椋供ずろように、使用活
性成分と関連させねばならない。
述の各成分と任意成分とを摘肖なマ) IJソックス中
溶解することによって完成さ第1る。7トリツクスは活
性諸成分において実際的であるような濃度のものでなけ
ればならない。すなわち、最小量のマ) +7ツクスが
使用されるのが好ましい。マトリックスの量は各種活性
成分を一つの固溶体として丁度保持するように十分なも
のであるべきである。φ加量のマトリックスを井1いて
もよいが、しかし、それは明らかに活性成分の濃)ザを
稀めそれによってフィルム組成物の光応答をおそくさせ
る傾向がある。基Id物ノf4の選択はもちろんある持
重組成物に対して華大容解度を椋供ずろように、使用活
性成分と関連させねばならない。
有機テルル画像形成物質、および使用する場合には別の
増感削、を混入して画像形成フィルムまたは徘覆をつく
るマトリックス物ノ酌は室温において固体であり、比較
的多数の物り9から1jiiぶことができる。それらは
望ましくは少くとも一部は無定形特性のものであるべき
であり、そして、望ましくは約200℃をこ六るべきで
なくがつ約50 ’C杵度の低梠であってよくかつさら
に好ましくは約80−120℃の範囲内にあるガラス転
#温度をもつ、ガラス状の榛性無定形物質であることが
、特に望ましい。それらは一般的にはポリマー物質であ
る。その例示的なものは、シアンエチル化度が≧2であ
るシアンエチル化外粉、セルローズおよびアミローズ:
ポリビニル−ばンゾフエノン:ポリビニリデンクロライ
ド:ポリエチレンテレフタレ−)(’“マイラー“):
セルロースアセテート、セルロースフロ上0オネート、
セルロースフチレート、セルローズアセテートフチレー
ト、アセチルセルロース、メチルセルロース、エチルセ
ルローズ、ヒトゝロキシプロビルセルローズ、ポリビニ
ルカルバゾール、のようプIセルローズエステルおよび
エーテル類;ポリビニルクロライド:ポリビニルピロリ
ドン:ポリビニルメブールエーテル:ビニリデンクロラ
イドとアクリロニトリルのコポリマー:ポリビニルアセ
テート: ボリビニルプチラール:ボリスチレン:ポリ
メチルメタクリレート:ポリビニルピロリドノ:スチレ
ン−ブタジェンコポリマー:ボリアミド:ポリメチルメ
タクリレートおよびポリエチルメタクリレートのような
ポリメタクリルアルキルエステル:ポリビニルメチルエ
ーテルと無水マレイン酸のコポリマー:商標“ホルムバ
ール″(モンサンド社)の名で1段売されているいわゆ
る12/85、/S/95E、15/953.15/9
5E、B−79、B−98、などのような各紳等級のポ
リビニルホルマール樹脂、である。特別に有用なものは
ポリビニルホルマール15/953であり、これは24
,000−40.000の範囲の分子1とポリビニルホ
ルマールの%として表現するホルマール含覇約82%と
をもつ白色自由流動性粉末であり、静い熱安定性、すぐ
れた機械的耐久性、並びに脂肪族炭化水素、鉱油、動物
および植物油のよ5 :/、c物質に対する抵抗性を保
有している。
増感削、を混入して画像形成フィルムまたは徘覆をつく
るマトリックス物ノ酌は室温において固体であり、比較
的多数の物り9から1jiiぶことができる。それらは
望ましくは少くとも一部は無定形特性のものであるべき
であり、そして、望ましくは約200℃をこ六るべきで
なくがつ約50 ’C杵度の低梠であってよくかつさら
に好ましくは約80−120℃の範囲内にあるガラス転
#温度をもつ、ガラス状の榛性無定形物質であることが
、特に望ましい。それらは一般的にはポリマー物質であ
る。その例示的なものは、シアンエチル化度が≧2であ
るシアンエチル化外粉、セルローズおよびアミローズ:
ポリビニル−ばンゾフエノン:ポリビニリデンクロライ
ド:ポリエチレンテレフタレ−)(’“マイラー“):
セルロースアセテート、セルロースフロ上0オネート、
セルロースフチレート、セルローズアセテートフチレー
ト、アセチルセルロース、メチルセルロース、エチルセ
ルローズ、ヒトゝロキシプロビルセルローズ、ポリビニ
ルカルバゾール、のようプIセルローズエステルおよび
エーテル類;ポリビニルクロライド:ポリビニルピロリ
ドン:ポリビニルメブールエーテル:ビニリデンクロラ
イドとアクリロニトリルのコポリマー:ポリビニルアセ
テート: ボリビニルプチラール:ボリスチレン:ポリ
メチルメタクリレート:ポリビニルピロリドノ:スチレ
ン−ブタジェンコポリマー:ボリアミド:ポリメチルメ
タクリレートおよびポリエチルメタクリレートのような
ポリメタクリルアルキルエステル:ポリビニルメチルエ
ーテルと無水マレイン酸のコポリマー:商標“ホルムバ
ール″(モンサンド社)の名で1段売されているいわゆ
る12/85、/S/95E、15/953.15/9
5E、B−79、B−98、などのような各紳等級のポ
リビニルホルマール樹脂、である。特別に有用なものは
ポリビニルホルマール15/953であり、これは24
,000−40.000の範囲の分子1とポリビニルホ
ルマールの%として表現するホルマール含覇約82%と
をもつ白色自由流動性粉末であり、静い熱安定性、すぐ
れた機械的耐久性、並びに脂肪族炭化水素、鉱油、動物
および植物油のよ5 :/、c物質に対する抵抗性を保
有している。
これらのポリマー物僧または樹脂およびそれらの製造は
当芋によく知られている。そしてまた髄に有用であるの
は白標記号゛GAB“、特に“CAB500−5−とし
てイーストマンコダック社によって販売されている各A
IP等級のセルローズアセテートブチレートポリマーで
キ)ろ。
当芋によく知られている。そしてまた髄に有用であるの
は白標記号゛GAB“、特に“CAB500−5−とし
てイーストマンコダック社によって販売されている各A
IP等級のセルローズアセテートブチレートポリマーで
キ)ろ。
画像形成有機テルル物+i、増感剤および画像形成フィ
ルムまたは被覆または層の中に組入れてよいすべてのイ
…の成分を一体的組成・物として411持および保持す
るような機能、並びに、乾燥または本質的に乾燥したフ
ィルム形成・1勿切として悴ノいて濤いフィルムを提供
づ−る機能のほかに、少くともマトリックス」勿質の多
くのものはまた、重要ンJことに、容易に引き抜き得る
水素の濃を提供することによって肖像形成過程において
一つの化学的または物理的役割を演するものと思われ、
従って、後で論するように、潜像形成機構に16いて一
つの意義のある役割を演するものと思われる。ある場合
には、マトリックスの粘度を下げることが望ましいかも
しれず、これは例としては、ある錘の可塑剤例えばジブ
チルフタレートまたはジフェニルフタレートの添加によ
って行なうことができ、この添加は望ましい方向に高い
光学10.111をもつ画像の生成をもたらすが、しか
しこれはまた背堕のかぶりを増す欠点をもつ傾向もある
。
ルムまたは被覆または層の中に組入れてよいすべてのイ
…の成分を一体的組成・物として411持および保持す
るような機能、並びに、乾燥または本質的に乾燥したフ
ィルム形成・1勿切として悴ノいて濤いフィルムを提供
づ−る機能のほかに、少くともマトリックス」勿質の多
くのものはまた、重要ンJことに、容易に引き抜き得る
水素の濃を提供することによって肖像形成過程において
一つの化学的または物理的役割を演するものと思われ、
従って、後で論するように、潜像形成機構に16いて一
つの意義のある役割を演するものと思われる。ある場合
には、マトリックスの粘度を下げることが望ましいかも
しれず、これは例としては、ある錘の可塑剤例えばジブ
チルフタレートまたはジフェニルフタレートの添加によ
って行なうことができ、この添加は望ましい方向に高い
光学10.111をもつ画像の生成をもたらすが、しか
しこれはまた背堕のかぶりを増す欠点をもつ傾向もある
。
塩基性基を含むタイプの基材物仙は画像形成有機テルル
物質と複合化するかもしれず、従って、このような複合
化がおこるかもしねない程度へ、この種のマトリックス
物質の使用をさけるべきであることが沼められるであろ
う。
物質と複合化するかもしれず、従って、このような複合
化がおこるかもしねない程度へ、この種のマトリックス
物質の使用をさけるべきであることが沼められるであろ
う。
水:組成物はまた水を含んでもよ℃・。少1A−の水は
、一般的にはフィルム形成組成物の他の鎖成分と組合わ
せる前にマトリックス物刊へ添加されて、フィルムのス
ピードを改良するのに役立つ。しかし、多すぎる水はフ
ィルム形成組成物が組合わされるときにテルル酸化物を
沈澱させるかもしれず、従ってこれはさけるべきである
。
、一般的にはフィルム形成組成物の他の鎖成分と組合わ
せる前にマトリックス物刊へ添加されて、フィルムのス
ピードを改良するのに役立つ。しかし、多すぎる水はフ
ィルム形成組成物が組合わされるときにテルル酸化物を
沈澱させるかもしれず、従ってこれはさけるべきである
。
アルコール二本発明の組成物において、アルコールが含
まれてよい。好ましくは、前述の通りのジオールが組成
物中に存在するときにアルコールが使用されろ。アルコ
ールとジオールとはテルル化合物と複合物を形成してス
ピードの増大および/または改善さJまた背景のかぶり
を提供するがもじれない。アルコールは一級、二級また
は三級であってよい。測知ばルーブタノールおよびルー
プロバノールのような一級一価アルコールが好ましい。
まれてよい。好ましくは、前述の通りのジオールが組成
物中に存在するときにアルコールが使用されろ。アルコ
ールとジオールとはテルル化合物と複合物を形成してス
ピードの増大および/または改善さJまた背景のかぶり
を提供するがもじれない。アルコールは一級、二級また
は三級であってよい。測知ばルーブタノールおよびルー
プロバノールのような一級一価アルコールが好ましい。
フィルム組成物の調合:
溶液または均質分散体の形で一般的につくられて基板上
に被覆されまたは置かJする画像形成物質組成物のフィ
ルムあるいは薄層の製造においては、。
に被覆されまたは置かJする画像形成物質組成物のフィ
ルムあるいは薄層の製造においては、。
鎖成分を有機溶剤中で溶解するかあるいは増刊に分散さ
せることが特に望ましい。適当な溶剤の例はメチルエチ
ルケトン(MEK)、ジメチルホルムアミド、(DMF
)、クロロホルム、テトラヒドロフラン(THF)、ジ
メチルアセトアミド(DMA)、ジオキサン、ジクロロ
メタン、およびエチレンジクロライド゛、あるいはこの
ような有機溶剤の相溶性混合物あるいは他の有機溶剤と
の相溶性混合物、である。特に有用な溶剤はジクロロメ
タンとメチルエチルケトンの50:50混合物である。
せることが特に望ましい。適当な溶剤の例はメチルエチ
ルケトン(MEK)、ジメチルホルムアミド、(DMF
)、クロロホルム、テトラヒドロフラン(THF)、ジ
メチルアセトアミド(DMA)、ジオキサン、ジクロロ
メタン、およびエチレンジクロライド゛、あるいはこの
ような有機溶剤の相溶性混合物あるいは他の有機溶剤と
の相溶性混合物、である。特に有用な溶剤はジクロロメ
タンとメチルエチルケトンの50:50混合物である。
溶液または均Jt「分散液を任意の適当な方法で支持体
上にフィルム状に陥いたのち、このfnjの有機溶剤ま
たは溶剤類の大部分は好ましくは叱較的低温で、そして
時には望ましくは、大気圧以下の圧力があるいは真空で
、そのフィルムあるいは被覆が指触に対して実質的に乾
くまで、蒸発させる。このような指触乾燥被層は取扱い
および加工処狸の目的に対して特に望ましい。このよう
なフィルムまたは被覆は、一般的にいえば、指触に対し
て乾燥状態であるかもしれないけれども、こねはフィル
ムが有機溶剤を倉まないという意味ではない。事実、i
+!ij @、形成用エネルギーへ露出する前の仕上が
りフィルムまたは辛皮物は、フィルムまたは神々尖の重
−let機溶剤、例えはジメチルホルムアミド(DMF
)を含むことがしばしばきわめて望ましいことが発見さ
れた。何故ならば、その存在は潜像形成および/または
現像工程後に得られる最終画像に関してその系の感度に
好都合な役割を果すと思われるからである。新鮮なフィ
ルムからの画像形成および現像の@K D M Fある
いは他の有機溶剤または溶剤類の−(べであるいは実躍
十全部を除去すると感度の低下に連がる。ともかく、断
食fな画像形成フィルムの乾燥を水仙的に廟機浴剤が存
在しない点まで実施しそれによって感1y−が不当に減
少する墳・合にはすべて、少量の有機溶剤をフィルムへ
それを画像形成用エネルギーへ露出する前に添加するこ
とによって増加または回復させることができる。
上にフィルム状に陥いたのち、このfnjの有機溶剤ま
たは溶剤類の大部分は好ましくは叱較的低温で、そして
時には望ましくは、大気圧以下の圧力があるいは真空で
、そのフィルムあるいは被覆が指触に対して実質的に乾
くまで、蒸発させる。このような指触乾燥被層は取扱い
および加工処狸の目的に対して特に望ましい。このよう
なフィルムまたは被覆は、一般的にいえば、指触に対し
て乾燥状態であるかもしれないけれども、こねはフィル
ムが有機溶剤を倉まないという意味ではない。事実、i
+!ij @、形成用エネルギーへ露出する前の仕上が
りフィルムまたは辛皮物は、フィルムまたは神々尖の重
−let機溶剤、例えはジメチルホルムアミド(DMF
)を含むことがしばしばきわめて望ましいことが発見さ
れた。何故ならば、その存在は潜像形成および/または
現像工程後に得られる最終画像に関してその系の感度に
好都合な役割を果すと思われるからである。新鮮なフィ
ルムからの画像形成および現像の@K D M Fある
いは他の有機溶剤または溶剤類の−(べであるいは実躍
十全部を除去すると感度の低下に連がる。ともかく、断
食fな画像形成フィルムの乾燥を水仙的に廟機浴剤が存
在しない点まで実施しそれによって感1y−が不当に減
少する墳・合にはすべて、少量の有機溶剤をフィルムへ
それを画像形成用エネルギーへ露出する前に添加するこ
とによって増加または回復させることができる。
画像形成用のフィルムまたは被覆の厚さは変り得るがし
かし通常は約1μmから約65μmの範囲に入り、約5
から15μmが一般的には一つの良好な平均値である。
かし通常は約1μmから約65μmの範囲に入り、約5
から15μmが一般的には一つの良好な平均値である。
ミリメートルに関しての埋。
さでは、約0.0005から約005闘、ある(゛はも
っと大きくて約0.o5から5闘で力)す、選ばハる厚
さは画像形成フィルムが折イ]tされるべき特定の厚さ
に依存′1″る。
っと大きくて約0.o5から5闘で力)す、選ばハる厚
さは画像形成フィルムが折イ]tされるべき特定の厚さ
に依存′1″る。
画像形成有様テルル物Hの製造、および必要とされる程
度へのそれの塗布、取級いおよび加工処理操作は、適切
な光の条件の下で実施され、それは当業熟練者が容易に
理解するところのものである・例えば、塗布組成物の調
合、オ6よび塗布と乾燥の操作は塀、珀色のフィルター
をかけた光(55゜μmでの弱い透過)の下で実施する
のが便利である。画像形成前の乾燥フィルムは暗所に貯
蔵するのが望ましい。ある場合には、諸成分中のあるも
のとある種の金属との接触を回避することは、還元のよ
うな望ましくない反応がおこるかもしれない場合には適
切であるかもしれない。一般的に、使用する容器、攪拌
器、などは塗布成分に対して不活性のガラスあるいは他
のガラス゛11j物JPfあるいは他の物質でつくって
汚染または可能性のある望ましくない反応に対して保証
すべきである。画像形成組成物はそれを選択した支持体
上へ塗布する僅か前につくることが一般的に有利である
。摘当な貯蔵条件下においては画像形成組成物の安定性
は良好であり、その条件は、暗さと空気または酸化性雰
囲気からの合理的回避の条件、f6よび湯度条件である
。
度へのそれの塗布、取級いおよび加工処理操作は、適切
な光の条件の下で実施され、それは当業熟練者が容易に
理解するところのものである・例えば、塗布組成物の調
合、オ6よび塗布と乾燥の操作は塀、珀色のフィルター
をかけた光(55゜μmでの弱い透過)の下で実施する
のが便利である。画像形成前の乾燥フィルムは暗所に貯
蔵するのが望ましい。ある場合には、諸成分中のあるも
のとある種の金属との接触を回避することは、還元のよ
うな望ましくない反応がおこるかもしれない場合には適
切であるかもしれない。一般的に、使用する容器、攪拌
器、などは塗布成分に対して不活性のガラスあるいは他
のガラス゛11j物JPfあるいは他の物質でつくって
汚染または可能性のある望ましくない反応に対して保証
すべきである。画像形成組成物はそれを選択した支持体
上へ塗布する僅か前につくることが一般的に有利である
。摘当な貯蔵条件下においては画像形成組成物の安定性
は良好であり、その条件は、暗さと空気または酸化性雰
囲気からの合理的回避の条件、f6よび湯度条件である
。
画1′家形成即成物υこおいて、マトリックス、画像形
成有機テルル物質および1W元剤先駆物硼の割合は可変
である。使用する画像形成イイ機テルル4勿質が本来的
にあるいは附随的に上述のように所望の増感性伯を保有
する物質である% ′iビの場合にオ、;いては、別の
還元剤先、1屋物aは必要ではブjい。しかし、このよ
うy、、場合でも、使用する特別のj+jii 像形成
有機テルル物デfが本来的にイカ。有1−ろ4、のとは
全く異なる増感イで1である別のあ?、少いは添加する
還元剤先駆物11丁を川〜・ることは望ましいかもし牙
17【い。
成有機テルル物質および1W元剤先駆物硼の割合は可変
である。使用する画像形成イイ機テルル4勿質が本来的
にあるいは附随的に上述のように所望の増感性伯を保有
する物質である% ′iビの場合にオ、;いては、別の
還元剤先、1屋物aは必要ではブjい。しかし、このよ
うy、、場合でも、使用する特別のj+jii 像形成
有機テルル物デfが本来的にイカ。有1−ろ4、のとは
全く異なる増感イで1である別のあ?、少いは添加する
還元剤先駆物11丁を川〜・ることは望ましいかもし牙
17【い。
ともかく、一般的にいえば、有(、;’、y、溶′fi
ll f、たけ溶剤類を除外しで、以下にのべるように
用いろときには、少くともたいていの場合において、通
帛は固体物質でありすなわち室温で固体であるマトリッ
クス116+質は仙の物伸のいずれの一つよりも多い悄
で用いられ、そしてまた普通には主要量として、すなわ
ち画像形成組成物中に存在する金物I)777の重量で
50%より多く、そして90%に至るまでの範囲で広く
用いられる。画像形成有機テルル物質は、一般的にはま
た通常は固体物質であって、マトリックス100部あた
り約1部から20部以上を通常は構成し、普通には基材
100部あたり約5−10部である。還元剤先駆物質は
、それが別の成分である場合には、通常は固体であって
、画像形成組成物の重量で約5から20%が共通的であ
り、普31jには6から15%の、比較的少ない割合で
用いられる。もつとも、ある場合には、その割合は実質
的にもつと多く、画f4形成テルル物質の割合とほぼ等
しいかあるいは多少超えることさえあり得る。前述の諸
成分の割合に関してさらにいえば、還元剤先駆物質の面
λτ(密度(αγpizdeル5ity)は還元剤先駆
物質の吸収バンド領域にオ、;いてフィルム上に落ちる
光子の約70−95’7が吸収されるように選ばれるの
が望ましいと表現してよい。
ll f、たけ溶剤類を除外しで、以下にのべるように
用いろときには、少くともたいていの場合において、通
帛は固体物質でありすなわち室温で固体であるマトリッ
クス116+質は仙の物伸のいずれの一つよりも多い悄
で用いられ、そしてまた普通には主要量として、すなわ
ち画像形成組成物中に存在する金物I)777の重量で
50%より多く、そして90%に至るまでの範囲で広く
用いられる。画像形成有機テルル物質は、一般的にはま
た通常は固体物質であって、マトリックス100部あた
り約1部から20部以上を通常は構成し、普通には基材
100部あたり約5−10部である。還元剤先駆物質は
、それが別の成分である場合には、通常は固体であって
、画像形成組成物の重量で約5から20%が共通的であ
り、普31jには6から15%の、比較的少ない割合で
用いられる。もつとも、ある場合には、その割合は実質
的にもつと多く、画f4形成テルル物質の割合とほぼ等
しいかあるいは多少超えることさえあり得る。前述の諸
成分の割合に関してさらにいえば、還元剤先駆物質の面
λτ(密度(αγpizdeル5ity)は還元剤先駆
物質の吸収バンド領域にオ、;いてフィルム上に落ちる
光子の約70−95’7が吸収されるように選ばれるの
が望ましいと表現してよい。
還元剤先駆物質の濃度をかなりの程度に・より高くして
もフィルムの暗い方の側は未露光のままで残り従って何
ら利点が相られない。一般的に、多くの場合における最
適結果のためには、画像形成有機テルル物質のモル濃度
は還元剤先駆物ηのモル濃度に合理的に近接しているか
あるいは太さつげに近似しているべきである。ポリマー
基材物aの濃度は画像形成有機テルル物質、増感剤およ
び使用するときはその他の補助成分の沈澱をおこさせる
ことなしに本質的に無定形のフィルムをつくるのに十分
なものであるべきである。過剰のポリマーマトリックス
物質はまたフィルムの感度を減らす傾向がある。
もフィルムの暗い方の側は未露光のままで残り従って何
ら利点が相られない。一般的に、多くの場合における最
適結果のためには、画像形成有機テルル物質のモル濃度
は還元剤先駆物ηのモル濃度に合理的に近接しているか
あるいは太さつげに近似しているべきである。ポリマー
基材物aの濃度は画像形成有機テルル物質、増感剤およ
び使用するときはその他の補助成分の沈澱をおこさせる
ことなしに本質的に無定形のフィルムをつくるのに十分
なものであるべきである。過剰のポリマーマトリックス
物質はまたフィルムの感度を減らす傾向がある。
ジオールのMはテルル化合物1モルについて少くとも2
モルのジオールを提供するよう、そして好ましくは6:
10モル比を提供するよう十分な濃度で存在するべきで
ある。上記の通り、出願人らの仕事は、一つの複合物が
ジオールとテルル化合物との間で2:10モル比で形成
されること、並びにそれをこえる過剰のジオールは還元
剤先駆物質との反応のための不安定水素の源を提供する
のに有用であること、を排案じている。より多くの量の
ジオールは望む場合には使用してよい。ある程度までは
改良結果がこれら太;皆ジオールの使用のときにも得ら
れるが、し7かし、ジオール11」の増加が出来上りフ
ィルムの光応答におけろ相応した改良を提供しな(なる
一つの変換点が存在する。
モルのジオールを提供するよう、そして好ましくは6:
10モル比を提供するよう十分な濃度で存在するべきで
ある。上記の通り、出願人らの仕事は、一つの複合物が
ジオールとテルル化合物との間で2:10モル比で形成
されること、並びにそれをこえる過剰のジオールは還元
剤先駆物質との反応のための不安定水素の源を提供する
のに有用であること、を排案じている。より多くの量の
ジオールは望む場合には使用してよい。ある程度までは
改良結果がこれら太;皆ジオールの使用のときにも得ら
れるが、し7かし、ジオール11」の増加が出来上りフ
ィルムの光応答におけろ相応した改良を提供しな(なる
一つの変換点が存在する。
マスクされた還元剤はテルル化合物の重1δで1%から
20.0%の川で存在してよい。きわめて少l)のマス
クされた還元剤の場合でも、l1lll力でし得る程度
に改善された感度が本発明に従って見出すことができ、
そして限度内において、その改首度はフィルム中に混入
したマスクさねた隋元剤の量に比例している。しかし、
この場合にも、変換点の法則が観、察され、大−Hのマ
スクされた還元剤がテルル化合物の量の2倍から4倍の
程度で浪人さ第1るが、これらの騎をこえると、得られ
る光応答の増大は混入されるマスクされた還元剤の増加
畢と相応しない。
20.0%の川で存在してよい。きわめて少l)のマス
クされた還元剤の場合でも、l1lll力でし得る程度
に改善された感度が本発明に従って見出すことができ、
そして限度内において、その改首度はフィルム中に混入
したマスクさねた隋元剤の量に比例している。しかし、
この場合にも、変換点の法則が観、察され、大−Hのマ
スクされた還元剤がテルル化合物の量の2倍から4倍の
程度で浪人さ第1るが、これらの騎をこえると、得られ
る光応答の増大は混入されるマスクされた還元剤の増加
畢と相応しない。
上述の辿りのフィルム形成組成物は任意の適当な支持体
に施用される。ガラス、磁器、紙、およびプラスチック
の支持体が適当であることが発見された。フィルム状物
質を形成させろ目的に対して、透明性は明らかに望まし
い。この目的で、ポリエチレンテレフタレートのフィル
ムは特に嫡していることが発見された。その他の支持体
は例えばポリイミド、ナイロン、およびトリアセチルセ
ルローズを含む。
に施用される。ガラス、磁器、紙、およびプラスチック
の支持体が適当であることが発見された。フィルム状物
質を形成させろ目的に対して、透明性は明らかに望まし
い。この目的で、ポリエチレンテレフタレートのフィル
ムは特に嫡していることが発見された。その他の支持体
は例えばポリイミド、ナイロン、およびトリアセチルセ
ルローズを含む。
7着:露出および現像後において、この現像は加熱によ
って達成してもよいのであるが、フィルムは米国特許第
4.142.896号に記載の通りに定着してよい。フ
ィルムはまたそれを例えばインプロパツールのようなア
ルコールと接触させ−ろことによって定着してよい。例
えばアセトンのよりなケトンの少(lもアルコールと一
緒に會めてよい。
って達成してもよいのであるが、フィルムは米国特許第
4.142.896号に記載の通りに定着してよい。フ
ィルムはまたそれを例えばインプロパツールのようなア
ルコールと接触させ−ろことによって定着してよい。例
えばアセトンのよりなケトンの少(lもアルコールと一
緒に會めてよい。
判に有用なのはインプロパツール50 NS /アセト
71部(各組で)の溶液である。
71部(各組で)の溶液である。
テルルをベースとするフィルム組成物を調合し使用する
際に力業熟練者が利用する追加的考慮は米国特許第4.
142.896号から明らかである。
際に力業熟練者が利用する追加的考慮は米国特許第4.
142.896号から明らかである。
本発明は以下の実施例によってさらに解説−fる。
実施例 1
本発明によらないテルル画像形成フィルムをつくって試
験した。0.625gのビス(アセトフェノン)テルル
ジクロライド、0.300gのイソプロポキンナフトキ
ノン(IPNQ)、0.625gσラマスクされた1−
フェニル−5−ピラゾリドン:24gのオルソ−メトキ
シベンジルグリセリフレエーテル、1.5 tnlの追
、加重な水を含む10.42gσ)CAB−500−5
、および1bomiのメチレンジクロライドとメチルエ
チルケトンの50 : 50混合物(容積)、均質粘性
溶液が得られるまで室温において完全暗黒下で一緒に4
W打した。溶液を次にマイラー支持体の上に、1平方メ
ートルあたり約2gのビス(アセトフェノン)テルルジ
クロライドの面積被覆率で塗布し、得られたフイルムを
50−55 ’Cで6時間、浴中で加熱した。
験した。0.625gのビス(アセトフェノン)テルル
ジクロライド、0.300gのイソプロポキンナフトキ
ノン(IPNQ)、0.625gσラマスクされた1−
フェニル−5−ピラゾリドン:24gのオルソ−メトキ
シベンジルグリセリフレエーテル、1.5 tnlの追
、加重な水を含む10.42gσ)CAB−500−5
、および1bomiのメチレンジクロライドとメチルエ
チルケトンの50 : 50混合物(容積)、均質粘性
溶液が得られるまで室温において完全暗黒下で一緒に4
W打した。溶液を次にマイラー支持体の上に、1平方メ
ートルあたり約2gのビス(アセトフェノン)テルルジ
クロライドの面積被覆率で塗布し、得られたフイルムを
50−55 ’Cで6時間、浴中で加熱した。
このフィルムの写真応答は、11段階と約05から6.
05の光学濃度範囲をもつphotographics
te7y tabletを浦して画像形成用エネルギー
へこのフィルムを露出することによって試験した。
05の光学濃度範囲をもつphotographics
te7y tabletを浦して画像形成用エネルギー
へこのフィルムを露出することによって試験した。
ステップ タブレットは露出中フィルムと接触さセタ。
ハニクエル ストロボナール モデル篇710のクセノ
ン フラッシュチューブをフィルムから約10インチ(
25cm) 離して画像形成/−TIエネルギーを与
えるために利用した。b′8出後、フィルムは150−
155℃の温度で40−45秒間加熱することによって
現像した。フィルムの最大光学−m1.f−(OD
M、zx)は2.85であり、最小光学う良度すt、C
わらかふり(OD MIN) は04であり、これ
らは赤色フィルターを使用してマクベスモデルT−p5
04#度計で以て測定した。かぶりを差引〜・て(Oυ
er fog)光学濃度1におけるスピードは30.0
00エルグ/ crn2 と計算さ1また。
ン フラッシュチューブをフィルムから約10インチ(
25cm) 離して画像形成/−TIエネルギーを与
えるために利用した。b′8出後、フィルムは150−
155℃の温度で40−45秒間加熱することによって
現像した。フィルムの最大光学−m1.f−(OD
M、zx)は2.85であり、最小光学う良度すt、C
わらかふり(OD MIN) は04であり、これ
らは赤色フィルターを使用してマクベスモデルT−p5
04#度計で以て測定した。かぶりを差引〜・て(Oυ
er fog)光学濃度1におけるスピードは30.0
00エルグ/ crn2 と計算さ1また。
実施例 2
実施例IVニー述4た同じ過程を用いてフィルムをつく
り試験したが、ただしいくつかのフィルムは組成物中に
各4市の量の水酸化ナトリウムを含めることによって本
発明に従ってつくった。次の結果が得られた: 実施例 6 実施例1に示した同じ過程をJ+jいてフィルムをつ(
り試験したが、ただしいくつかのフィルムは組成物中に
水酸化カリウムを各種の量で含めることによって本発明
に従ってつくった。次の結果が得られた。
り試験したが、ただしいくつかのフィルムは組成物中に
各4市の量の水酸化ナトリウムを含めることによって本
発明に従ってつくった。次の結果が得られた: 実施例 6 実施例1に示した同じ過程をJ+jいてフィルムをつ(
り試験したが、ただしいくつかのフィルムは組成物中に
水酸化カリウムを各種の量で含めることによって本発明
に従ってつくった。次の結果が得られた。
実施例 4
実施例1に示した同じ過程を用いてフィルl−をつくり
試験したが、ただしいくつかのフィルムは組成物中に各
種の着の水酸化リチウム(L i OH・1−120)
を含めることによって本誓明に従ってつくった。
試験したが、ただしいくつかのフィルムは組成物中に各
種の着の水酸化リチウム(L i OH・1−120)
を含めることによって本誓明に従ってつくった。
次の結果が得られた。
実施例 5
本発明によらないテルル画像形成フィルムをつくり試験
した。このフィルム&:I:実施例1に示したのと同じ
jカ稈と成分を用いて試験したが、ただし−ツI) 任
意成分、すなゎち−っの7 ルコ−ル、n−ゾタノール
、をフィルムへ添カ牝た。3. Q rugのルーブタ
ノールを用いた。JR下の結果が得らJlだ:かぶりを
差引いた光学濃度1におけるスピードは3.000エル
グ/cn12であり、偕小光学濃1σは0.60 、
M太光学*)Wハ2.28 iJツタ。
した。このフィルム&:I:実施例1に示したのと同じ
jカ稈と成分を用いて試験したが、ただし−ツI) 任
意成分、すなゎち−っの7 ルコ−ル、n−ゾタノール
、をフィルムへ添カ牝た。3. Q rugのルーブタ
ノールを用いた。JR下の結果が得らJlだ:かぶりを
差引いた光学濃度1におけるスピードは3.000エル
グ/cn12であり、偕小光学濃1σは0.60 、
M太光学*)Wハ2.28 iJツタ。
実施例 6
実施例5に示したのと同じ1尚程を用いてフィルムをつ
くり試験し、その場合、各錘の量の水酸化ナトリウムを
組成物中に含めた。次の結果力味)られブこ。
くり試験し、その場合、各錘の量の水酸化ナトリウムを
組成物中に含めた。次の結果力味)られブこ。
実施例 7
実施例5に示したのと同じ赤程を用いてフィルムをつく
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各種の量の水
酸化カリウムを組成物中に含めることによって本発明に
従ってつ(つた。次の結果が得られた。
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各種の量の水
酸化カリウムを組成物中に含めることによって本発明に
従ってつ(つた。次の結果が得られた。
実施例 8
実施例5に示したのと同じ過程を用いてフィルムをつく
り試験したが、たたし、これらのフィルムは6穐の量の
水酸化アンモニウムを組成物中に組み入れろことによっ
て本発明によってつくった。
り試験したが、たたし、これらのフィルムは6穐の量の
水酸化アンモニウムを組成物中に組み入れろことによっ
て本発明によってつくった。
次の結果が得られた。
実施例 9
実施例5に示したのと同じ過程を用℃・てフィルムをつ
くり試験したが、ただし、これらσ)フィルムは各種の
扇の水酸化リチウムを組成物中に含めろことによって本
号と明に従ってつくった。次の結果が得られた。
くり試験したが、ただし、これらσ)フィルムは各種の
扇の水酸化リチウムを組成物中に含めろことによって本
号と明に従ってつくった。次の結果が得られた。
実施例 10
実施例5に示したのと同じ過程を用いてフィルムをつく
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各種金属水酸
化物のある檜を組成物中に含めることによって本発明に
従ってつくった。特定的に、水酸化カルシウム、水酸化
バリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、および
水酸化マグネシウムを用いた。次の結果が得られた。
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各種金属水酸
化物のある檜を組成物中に含めることによって本発明に
従ってつくった。特定的に、水酸化カルシウム、水酸化
バリウム、水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、および
水酸化マグネシウムを用いた。次の結果が得られた。
上記添加物は上記の預で用いるときにはフィルムスピー
ドおよび/または光学f5度の改善を示すが、溶解度の
低さからフィルム中に沈澱が存在した。
ドおよび/または光学f5度の改善を示すが、溶解度の
低さからフィルム中に沈澱が存在した。
実施例 11
実施例5に示したのと同じ過程を用℃・てフィルムをつ
くり試験したが、ただしこねらのフィルムは各種の量の
ルーテトラデシルアミン(3−(:’t 、1H29N
I)2)を含めることによって本発明に従ってつくった
。次の結果が得られた。
くり試験したが、ただしこねらのフィルムは各種の量の
ルーテトラデシルアミン(3−(:’t 、1H29N
I)2)を含めることによって本発明に従ってつくった
。次の結果が得られた。
実施例 12
実施例5で示したのと同じ過程を用いてフィルムをつ(
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各種の鰯のピ
リジンを組成物中に含めることによって本発明に従って
つくった。次の結果が得られた。
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各種の鰯のピ
リジンを組成物中に含めることによって本発明に従って
つくった。次の結果が得られた。
実施例 16
実施例5に示したのと同じ過程を用いてフィルムをつく
り試験したが、ただし各神童のメチルアミンを組成物中
に含めることによって本発明に従ってこれらのフィルム
をつくった。次の結果力−得られた。
り試験したが、ただし各神童のメチルアミンを組成物中
に含めることによって本発明に従ってこれらのフィルム
をつくった。次の結果力−得られた。
実施例 14
実施例5に示したのと同じ過程を用いてフィルムをつく
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各神童のピR
リジンを組成物中に含めることによって本発明に従って
つくった。次の結果が得られた。
り試験したが、ただしこれらのフィルムは各神童のピR
リジンを組成物中に含めることによって本発明に従って
つくった。次の結果が得られた。
特γf出願人 エナージー・コンバージョン・(外
4名)
4名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、テルル画像形成化合物、水素供給体から活性化1゛
」、輻射線の影響下で不安定水素を引き抜いて両汀形成
用テルル化合物に関して還元剤となる何元剤先駆物質、
マスクされた還元剤、上記還元剤先駆物穎との反応のた
めの不安定:小素源、トリツクス、から成る画r象形成
絹成物から(’巨少れるフィルムにオ、(いて。 上記のマスクされた還元剤をイメノ化1−ることができ
る塩基が上記組成物中にイr在する上記のマスクされた
◆’75元剤の少くとも一部をイオン化する16で存在
し; J−’、 rjll、θρマス゛りさλIた葆冗斉11
がその塩基の影響−1:でイオノ化さJしる: ことをIs i°1゛(lとするρ匝浄形成用フィルム
。 2、上記組成物中に式 (式中、R1とR2の各々は独立に水素、直鎖、分枝鎖
および環状の膨化水素基を含めた炭化水素基、ヒトゝロ
キシアルキル基、アルコギシカルボニル基、シクロアル
キル基、またはアリール基を表わし:Zはその両側の炭
素原子間の面接的C−C結合、あるいはアリーレン基、
基(−c−c−) 、基(−cR3=cR’ −)rL
、を表わし、ここでルは1または2であり、R3とR4
の各々は水素または゛rルキル基を表わすかあるいは炭
素環式または複素環式の埠゛を形成する)で表わされる
ジオールが更に配合され、該ジオールが上記テルル形成
化合物1モルにつき少くとも2モルに等しい量で配合さ
れる、ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
フィルム。 3、式 %式% (式中、R7はアルキル、アルカノイル、チアソリニル
、アルケニル、ベンジル、アルキルベンジル、アルコキ
シベンジル、ヒドロキシアルキルベンジル、あるいけハ
ロペンシルであり:そのアルキル法は1個から7昭の炭
素原子をもち:そしてXが酸素また←1、硫黄である)
で表わされるジオールが配合されることを特徴とする、
W訂請求の範囲なも1項に記載のフィルム。 4、上記テルル化合物が R,、−T、−(HL′LZ)、 ;(Ha Z
R8)工T e (Hal) y :およびT、0
7nBr、、 。 から成る群から選ばれ、これらの式において、Rは少く
とも1個のカルボニル基を含む有機基であり、R8はエ
チレン骨炭化ポ素の残基であり、(HaZ)k−1ハロ
ゲンであり、Xは1.2、または6であり、x+ y=
4であり、7+、は1から4の整数であり、m + n
= 4である、ことを特徴とする、9!: fr請求
の範囲第1狛にbC1載のフィルム。 5、上記のマスクされプこ還元剤が (α) R”−NY−NY2; (こねらの式において、R8はアルキル、アルカノイル
、アルコキシカルボニル、フェニル、ベンジル、ベンソ
イル、ニトロフェニル、ベンジルカルボニル、ジフェニ
ルメチル、ジフェニルエチル、ジフェニルプロぎルカル
ボニルk)るいはアミノカルボニルであり;R9、R1
0、およヒR11は各々かつ独立に、水素、アルギル、
フェニル、またはアミノであり;R12はフェニル、ニ
トロフェニル、ハロフェニル、アルギル、モノ−、ジー
、あるいはトリーハロアセチル、ベンゾイル、アルキル
フェニル、あるいはアルキル−p−イソシアノフェニル
、であり;RからR12の基の中の上記アルキル県は1
個から7個の炭素原子をもち:そして、Yは水素または
1 −GNH−R12テ、&ル)カらnX ルD カら選ば
れ、化合物(α)と(C1とは各々少くとイ)一つの1 一〇Nト1−Rl2 基を含み、その際にY2ばYま
たはフェニルであり、Y3 がYまたは 許請求の範囲第6項に記載のフイルノ・。 6、上記還元剤先駆物!#が2−イソプロポキシ−1,
4−ナフトキノン:2−t−ブチルアンスラキノン:
1.10−フェナンスレンキノン: 1.1’−シヘン
ゾイルフエロセン:1−フェニル−1゜2−プロパンジ
オン:2−ヒドロキシ−1,4−ナフトキノン:ベンジ
ル:フリル:ジアセチル−フェロセン:アセチルフェロ
セン= 1,4 ””ス(フェニルグリオキザル)ベン
ゼン:O−ナフトキノン:4,5−ビリンキノン;4,
5.9,10−ビリンギノン;ベンゾフェノン;アセト
フェノン;1,5−ジ−フェニル−1,3,5−はンタ
ントリオン:ニンヒドリン:4,4’−ジージロモベン
ゾフエノン:1,8−ジクロロアンスラキノン:1.2
−ベンズアンスラキノン:2−メチルアンスラキノン:
1−クロロアンスラキノン: 7.8゜9.10−テト
ラヒトゝロナフタセンキノン:210−アンスラキノン
;および1,4−ジメチルアンスラギノン;から成ろ7
jT、から選げれろことをさらに特徴とする、特許請求
の範囲第1項に記載のフィルム。 7、上記組成物中に水が配合されることを特徴とする特
許請求の範囲第1項に記載のフィルム。 8、上記組成物中にアルコールが配合されることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載のフィルム。 9、上記塩基がアルカリ金属水酸化物およびアルカリ土
類金属水酸化物から成る群から辿ばれることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項から第8狛のし・−1’f1功
・に記載のフィルム。 10、上記塩基が水酸化リチウムから成ることを特徴と
する特許[請求の範囲第1項から第8項のいずれかに記
載のフィルム。 11、上記塩基が水酸化ナトリウムから成ることを特徴
とする特許請求の範囲第1項から第8項のいずれかに記
載のフィルム。 12、上記塩基が水酸化カリウムから成ることを特徴と
する特許請求の範1囲第1項から第8項のいずれかKn
己載のフィルムう 13、上記塩基が水酸化ルビジウム、水酸化セシウム、
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、および水酸化
バリウムから成る群から選ばれることを特徴とする特許
請求の$i’j囲第1項第1項のフィルム。 14、上記塩基が水酸化アンモニウムから成ることを特
徴とする特許請求の範囲第1項から第8項のいす灼かに
記載のフィルム。 15、上記塩基が有機塩基から成ることを特徴とする特
許請求の範囲第1項から第8J工10℃・ずれかにH己
載のフィルム。 16 上記塩基が脂肪族アミン化合物およびザ素原子
含有複素環化合物から成るl:f、から選ばれることを
特徴とする特許請求の仲、間車1項に記載のフィルム。 17、組成物が、テルル画像形成化合物、水素供給体か
ら不安定水素を活性化用1唱射純の影響下で引き抜いて
画像形成相テルル化合物に関して還元剤となる我1元剤
先駆物%、マスクされた還元剤、上記還元剤先駆物)n
と反応させろための不安定水ろマトリックスから成り:
上記のマスクされた還元剤をイオン化させることができ
る塩基を上記組成物中に上記のマスクされた還元剤の少
くとも一部をイオン化する財で存在させ、かつ上t4F
、4のマスクされた還元剤がそれの影響下でイオン化さ
れろことを特徴とする:画像形成フィルムを形成するた
めの活性化用エネルギーに応答性の組成物。 18 電磁輻射線を感光性フィルム上に衝突させてその
少くとも一つの性質に変化を生じさせて電磁輻射線を記
録する方法において、 そのフィルムは一つの支持体によって相持された感光性
組成物から成り:その感光性組成物が、テルル画像形成
化合物、水素供給体から不安定水素を活性化用輻射線の
影響下で引き抜いて画像形成性テルル化合物に関して還
元剤となる還元剤先駆物質、マスクされた還元剤、上記
還元剤先駆物質と反応させるための不安定水素源、るマ
トリックスから成り、上記のマスクされた還元剤をイオ
ン化させることができる塩基が組成物中に存在する上記
のマスクされた還元剤の少くとも一部をイオン化させる
猿で存在し、かつ上記のマスクされた還元剤がとのゆ基
の影響下でイオン化されること、を特徴とする2方法。 19、画像形成性有機金属化合物、水素供給体力・ら不
安定水素を活性化用輻射線の影響下で引き抜いて上記画
像形成性有機金属化合物に[y4シて還元剤となる灼元
斉11先駆物質、マスクされた還元れているマトリック
ス、から成り;上記のマスクされた還元剤をイオン化ず
ろことができる塩基が、組成物中に存在ずろ上記のマス
クされた還元剤の少くとも一部をイオン化させろ;11
−で存在し、かつ上記のマスクさ渚また還元剤がこの塩
基の影響下でイオン化さ十1ろごとを特徴と−1−7゜
画像形成用フィルムを形成するための活111.化Jf
lエネルギーに応答性である組成物。 20、上記塩基がアルカリ金属水酸化物およびアルカリ
土類金属水酸化物から成る(jiiから選ばハることを
さらに特徴とする、特許請求の範囲第19項に記載の組
成物。 21、上記塩基が水酸化リチウムから1反ることをさら
に特徴とする、特許He?求の範囲第19珀に記載の組
成物。 22 −上記塩基が水酸化ナトリウムから成ることをさ
らに特徴とする、肪π1届求の範、項第19J良に記載
の組成物。 23 上記地路が水酸化カリウムから成ることを°さ
らに特徴とする、舶πF請求の範囲第19項に記載の糸
l成1勿。 24、上記塩基が水酸化アンモニウムから成ることをさ
らに特命とする、特許Wt!j求の9;])、囲第19
項にi己載の糸10戊1勿。 25 上記塩基が有機塩基であることをさらに特徴と
する、特γ1−請求の卸項第19項に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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