JPS5966422A - Silicone resin manufacturing method - Google Patents

Silicone resin manufacturing method

Info

Publication number
JPS5966422A
JPS5966422A JP17608282A JP17608282A JPS5966422A JP S5966422 A JPS5966422 A JP S5966422A JP 17608282 A JP17608282 A JP 17608282A JP 17608282 A JP17608282 A JP 17608282A JP S5966422 A JPS5966422 A JP S5966422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mol
silicone resin
water
trialkoxysilanes
organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17608282A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0149171B2 (en
Inventor
Ikuo Nozue
野末 幾男
Nagahiko Tomomitsu
友光 長彦
Yoshitsugu Isamoto
勇元 喜次
Yoshio Matsumura
松村 喜雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
JSR Corp
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd, Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Priority to JP17608282A priority Critical patent/JPS5966422A/en
Publication of JPS5966422A publication Critical patent/JPS5966422A/en
Publication of JPH0149171B2 publication Critical patent/JPH0149171B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はシリコーン樹脂の製造方法に関し、特に有機溶
剤に可溶な耐熱性に優れたシリコーン樹脂の製造方法に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a silicone resin, and particularly to a method for producing a silicone resin that is soluble in organic solvents and has excellent heat resistance.

従来、有機溶剤に可溶なシリコーン樹脂の製造方法とし
ては、水と任意の割合では混合し得ないケトン(A)と
アミンを含む水(B)とで2層を形成さ伊、これにアル
キルトリクロロシランを添加して2層間の界面において
アルキル) IJジクロロランの加水分解および縮合反
応を行なう方法(特開昭50−111198号公報)が
知られている。しかしながらこの反応により得られたシ
リコーン樹脂は分子量が低すぎるために沈澱回収が困難
であり、しかも反応終了if後は確かに有機溶剤に可溶
性であるが、室温下で放置すると、有機溶剤に不溶性と
なり、保存安定性に劣り、きわめて取扱いにくいという
欠点がある。
Conventionally, as a method for producing silicone resin soluble in organic solvents, two layers are formed of a ketone (A) that cannot be mixed with water in any proportion and water (B) that contains an amine, and then an alkyl A method is known (Japanese Unexamined Patent Publication No. 111198/1983) in which trichlorosilane is added and hydrolysis and condensation reactions of alkyl (IJ) dichlorolane are carried out at the interface between two layers. However, the silicone resin obtained by this reaction has a too low molecular weight, making it difficult to collect the precipitate, and although it is certainly soluble in organic solvents after the reaction is complete, it becomes insoluble in organic solvents when left at room temperature. However, it has the disadvantage of poor storage stability and is extremely difficult to handle.

一方、高分子量のシリコーン樹脂を製造する方法として
は、塩素量0.1〜5,0重量%のメチルトリアルフキ
/シランを、アルカリ土類金属水酸化物またはアルカリ
金属炭酸塩を含む溶液中で、加水分解および縮合反応を
行なう方法(特公昭56−39808号公報)、オルガ
ノハロゲンシランと二官能シロキサンを共加水分解し、
不活性溶媒溶液にしたのち、金属水酸化物等の強アルカ
リ性物質を加えて常温ないし160℃の温度で反応させ
る方法(特公昭50−34600号公報)が知られてい
る。
On the other hand, as a method for producing high molecular weight silicone resin, methyltrialfoxy/silane with a chlorine content of 0.1 to 5.0% by weight is added to a solution containing an alkaline earth metal hydroxide or an alkali metal carbonate. , a method of carrying out a hydrolysis and condensation reaction (Japanese Patent Publication No. 56-39808), a method of co-hydrolyzing an organohalogensilane and a bifunctional siloxane,
A method is known (Japanese Patent Publication No. 34,600/1983) in which a strong alkaline substance such as a metal hydroxide is added to a solution in an inert solvent and reacted at a temperature of room temperature to 160°C.

しかしながら、これらの金属水酸化物などの存在下に行
なわれる従来の方法は、反応のコントロールが難しく再
現性に欠け、しかも生成したシリコーン樹脂への触媒混
入が避けられず、このだめ高温加熱時に混入触媒による
触重合が起こり、熱安定性に優れたものが得られないな
どの欠点を有していた。
However, in conventional methods carried out in the presence of these metal hydroxides, it is difficult to control the reaction and lacks reproducibility, and furthermore, it is inevitable that the catalyst will be mixed into the silicone resin produced. Catalytic polymerization occurs due to the catalyst, and it has disadvantages such as the inability to obtain products with excellent thermal stability.

本発明の目的は、上記従来方法の欠点を除去し、アルコ
キシシラy類から有機溶剤に可溶性で、保存安定性およ
び熱安定性に優れた高分子瞳のシリコーン樹脂を製造す
ることにある。
An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the above-mentioned conventional methods and to produce a polymeric silicone resin from alkoxysilicates that is soluble in organic solvents and has excellent storage stability and thermal stability.

本発明のシリコーン樹脂の製造方法は、一般式R1Si
 (ORz) m (式中R1は水素原子、低級アルキ
ル基、アルケニル基まだはアリール基、R2は低級アル
キル基を意味する)で表わされるトリアルコキシシラン
類単独、または該トリアルコキシシラン類と、一般式R
5RaSi (ORs)z (式中、R4およびR4は
同一または異なり、水素原子、低級アルキル基、アルケ
ニル基またはアリール基、R5は低級アルキル基を意味
する)で表わされるジアルコキシシラン類とを、有機溶
媒、水および有機塩基の存在下に加熱反応させることを
特徴とする。
The method for producing a silicone resin of the present invention has the general formula R1Si
(ORz) m (wherein R1 means a hydrogen atom, a lower alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, and R2 means a lower alkyl group) alone, or together with the trialkoxysilanes, general Formula R
5RaSi (ORs)z (wherein R4 and R4 are the same or different and mean a hydrogen atom, a lower alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, and R5 means a lower alkyl group) and an organic It is characterized by carrying out a heating reaction in the presence of a solvent, water and an organic base.

本発明方法を実施するに際]〜てば、一般式RrSi(
OR2) 3で表わされるトリアルコキシシラン類牟独
、または該トリアルコキシシラン類と一般式R3RtS
L(OR5)2で表わされるジアルコキシシラン類とを
、有機溶媒、水および有機塩基の存在下に加熱してυ1
水分解、縮合反応さ止る。
[When carrying out the method of the present invention] ~ If the general formula RrSi (
OR2) Trialkoxysilanes represented by 3, or the trialkoxysilanes and the general formula R3RtS
A dialkoxysilane represented by L(OR5)2 is heated in the presence of an organic solvent, water and an organic base to obtain υ1.
Water splitting and condensation reactions stop.

本発明方法において用いられる一般式R15t(ORz
)3で表わされるトリアルコキシシラン類におけるR1
としては水素原子、炭素数が1〜5のアルキル基、炭素
数が2〜5のアルケニル基または炭素数が6〜10のア
リール基が好ましく、特に水素原子、メチル基、エチル
基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、フェニル基ま
たはトリル基が好ましい。またR2としては炭素数が1
〜5のアルキル基、特にメチル基またはエチル基が好ま
しい。
The general formula R15t (ORz
) R1 in trialkoxysilanes represented by 3
Preferred examples include a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, particularly a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a vinyl group, Allyl, propenyl, phenyl or tolyl groups are preferred. Also, as R2, the number of carbon atoms is 1
-5 alkyl groups, especially methyl or ethyl groups are preferred.

これらのトリアルコキシシラン類としては、例えばトリ
メトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリプ
ロポキシシラン、エチルトリプトキシシラン、プロピル
トリプロポキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、
ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン
、ペンチルトリブトキシシラン、ペンチルトリエトキシ
7ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、アリルトリプロポキシシラン、アリルトリプ
トキシシラン、プロペニルトリエトキシシラン、フロベ
ニルトリプロポキシシラン、ブテニルトリメトキシシラ
ン、ブテニルトリエトキシシラン、ペンテニルトリプト
キシシラン、ペンテニルトリペントキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン
、トリルトリメトキシシラン、トリルトリブトキシシラ
ン、ジメチルフェニルトリメトキシシラン、エチルフェ
ニルトリメトキシシラン、エチルフェニルトリエトキシ
シラン、ブチルフェニルトリプロポキシシラン、ブチル
フェニルトリメトキンシランなどをあげることができる
Examples of these trialkoxysilanes include trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltripropoxysilane, ethyltriptoxysilane, propyltripropoxysilane, propyltriethoxysilane,
Butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, pentyltributoxysilane, pentyltriethoxy 7rane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltripropoxysilane, allyltriptoxysilane, propenyltriethoxysilane, flobenyltripropoxy Silane, butenyltrimethoxysilane, butenyltriethoxysilane, pentenyltriptoxysilane, pentenyltripentoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltripropoxysilane, tolyltrimethoxysilane, tolyltributoxysilane, dimethylphenyltrimethoxysilane , ethylphenyltrimethoxysilane, ethylphenyltriethoxysilane, butylphenyltripropoxysilane, butylphenyltrimethoxysilane, and the like.

また一般式R3R4Si (ORB)2で表わされるジ
アルコキシシラン頃におけるR3またはR4としては、
水素原子、炭素数が1〜5のアルキル基、炭素数が2〜
5のアルケニル基、炭素数が6〜10のアIJ−ル基が
好ましく、特に水素原子、メチル基、エチル基、ビニル
基、アリル基、フロベニル基、フェニル基またはトリル
基が好ましい。またR5としては炭素数が1〜5のアル
キル基、特にメチル基またはエチル基が好ましい。これ
らのジアルコキシシラン類としては、例えばメチルジメ
トキシシラン、メチルジェトキシシラン、メチルジブト
キシシラン、エチルジプロポキシシラン、エチルジベン
トキシシラン、プロピルジメトキシシラン、プロピルジ
ブトキシシラン、ブチルジェトキシシラン、ペンチルジ
ブトキシ7ラン、ビニルジメトキシシラン、フェニルジ
エトキシシラン、トリルジメトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エチルブ
ロビルジエトギシシラン、ジプロピルジメトキシシラン
、メチルベンチルジブトキシシラン、メチルビニルジェ
トキシシラン、エチルアリルジメトキシシラン、プロピ
ルブテニルジプロポキシシラン、エチルフェニルジメト
キシシラン、ブチルフェニルジエトキシシラン、メチル
トリルジプロポキシシラン、エチル(ジメチルフェニル
)ジブトキシシラン、フェニルビニルジメトキシシラン
、トリルアリルジェトキシシラン、フェニルビニルジメ
トキシシランなどをあげることができる。
Further, as R3 or R4 in the dialkoxysilane represented by the general formula R3R4Si (ORB)2,
Hydrogen atom, alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, 2 to 5 carbon atoms
5 alkenyl groups and C6-C10 alkenyl groups are preferred, and hydrogen atoms, methyl groups, ethyl groups, vinyl groups, allyl groups, flobenyl groups, phenyl groups, and tolyl groups are particularly preferred. Further, R5 is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, particularly a methyl group or an ethyl group. Examples of these dialkoxysilanes include methyldimethoxysilane, methyljethoxysilane, methyldibutoxysilane, ethyldipropoxysilane, ethyldibenoxysilane, propyldimethoxysilane, propyldibutoxysilane, butyljethoxysilane, and pentyldibutoxysilane. Dibutoxy 7rane, vinyldimethoxysilane, phenyldiethoxysilane, tolyldimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, ethylbrobyldiethoxysilane, dipropyldimethoxysilane, methylbentyldibutoxysilane, methylvinyljethoxysilane, Ethylallyldimethoxysilane, propylbutenyldipropoxysilane, ethylphenyldimethoxysilane, butylphenyldiethoxysilane, methyltolyldipropoxysilane, ethyl(dimethylphenyl)dibutoxysilane, phenylvinyldimethoxysilane, tolylyljethoxysilane, phenyl Examples include vinyldimethoxysilane.

これらのトリアルコキシシラン類マたはジアルコキシシ
ラン類は、それぞれ1種または2種以−ヒ併用してもよ
い。またトリアルコキシシラン煩ハ単独で、または前記
のジアルコキシシラン類と併用して用いることができる
う トリアルコキシシラン類とジアルコキシシラン類とを併
用する場合のジアルコキシシラン類の肴は、トリアルコ
キシシラン類1モルに対して1モル未満、特に好ましく
は0.5モル以下である。ジアルコキシシラン類のトリ
アルコキシシラン類に対する割合が多す程得られるシリ
コーン樹脂の軟化温度が低くなり、加熱による減量開始
温度が低下する傾向にある。両者を併用する場合には、
トリアルコキシシラン類とジアルコキシシラン類の混合
物を同時に加水分解し縮合させてもよいし、トリアルコ
キシシラン類またはジアルコキシシラン類のうち一方を
加水分解し縮合させたのち、油力を添加1−でさらに加
水分解し縮合させてもよく、これらの添加方法や順序は
特に限定されるものではない。
These trialkoxysilanes or dialkoxysilanes may be used alone or in combination of two or more. In addition, trialkoxysilane can be used alone or in combination with the above-mentioned dialkoxysilanes. When trialkoxysilanes and dialkoxysilanes are used together, the side dish of dialkoxysilanes is trialkoxysilane. The amount is less than 1 mol, particularly preferably 0.5 mol or less, per mol of silane. The higher the ratio of dialkoxysilanes to trialkoxysilanes, the lower the softening temperature of the obtained silicone resin, and the lower the temperature at which weight loss by heating begins. When using both together,
A mixture of trialkoxysilanes and dialkoxysilanes may be simultaneously hydrolyzed and condensed, or one of trialkoxysilanes or dialkoxysilanes may be hydrolyzed and condensed, and then oil is added. Further hydrolysis and condensation may be carried out, and the method and order of these additions are not particularly limited.

本発明に用いられる有機溶媒としては、上記アルコキシ
シラン類を溶解し、加水分解および縮合反応に不活性な
ものであれば何ら限定されない。
The organic solvent used in the present invention is not particularly limited as long as it dissolves the alkoxysilanes mentioned above and is inert to hydrolysis and condensation reactions.

これらの溶媒のうち、特に好ましいものは、ケトン、エ
ステル、エーテル、アルコールナトでア炊例えばケトン
としてはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、ジエチルケトyなどエステルとしては酢酸ノルマルブ
チル、酢酸イソアミルなど、エーテルとしてはテトラヒ
ドロフラン、エチレングリコール、シメf−ルエーテル
、ジオキサンなどアルコールとしてはヘキサノール、4
−メチル−2−ペンタノールなどがあげられる。これら
の有機溶媒は単独でも、他のものと混合しても用いるこ
とができる。有機溶媒の使用1はトリアルコキシシラン
類とジアルコキシシラン類の合計量1容骨部に対して3
〜30容量部が適当である。
Among these solvents, particularly preferred are ketones, esters, ethers, and alcohols such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and diethyl ketone, esters such as n-butyl acetate, isoamyl acetate, and ethers such as tetrahydrofuran. , ethylene glycol, dichloroether, dioxane, etc. Alcohols include hexanol, 4
-Methyl-2-pentanol and the like. These organic solvents can be used alone or in combination with others. Use of organic solvent 1 is 3 to 1 total volume of trialkoxysilanes and dialkoxysilanes.
~30 parts by volume is suitable.

有機塩基としては通常1級〜3級のアミン、例えばトリ
エチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン
、ジエチルアミン、エチルアミン、ジプロピルアミン、
エチレンジアミン、トリエチレンジアミン、アニリン、
ピリジンなどの脂肪族アミンまたは芳香族アミンが好ま
しく用いられる。
The organic base is usually a primary to tertiary amine, such as triethylamine, tripropylamine, tributylamine, diethylamine, ethylamine, dipropylamine,
Ethylenediamine, triethylenediamine, aniline,
Aliphatic amines or aromatic amines such as pyridine are preferably used.

特に好ましい有機アミンは、水中における酸解離定数(
7)Kα)が7以上の有機アミンであり、特に好ましく
はトリエチルアミン、ジエチルアミンなどの、pKαが
10以上のものである。
A particularly preferred organic amine has an acid dissociation constant in water (
7) An organic amine with a pKα of 7 or more, particularly preferably one with a pKα of 10 or more, such as triethylamine and diethylamine.

有機アミン類の使用量は使用するアミンの種類反応条件
により異なり、特に規定されないが、トリアルコキシシ
ラン類とジアルコキシシラン類の合計量に対して0.0
5〜3倍モル程度が一般的で(9) ある。水の使用量はトリアルコキシシラン類とジアルコ
キシシラン類の合計量に対して3〜30倍モル程度が適
当である。アミン項以外の有機塩塙の場合の使用量もこ
れに準じる。
The amount of organic amines used varies depending on the type of amine used and the reaction conditions, and is not particularly specified, but is 0.0% based on the total amount of trialkoxysilanes and dialkoxysilanes.
Generally, it is about 5 to 3 times the molar amount (9). The appropriate amount of water to be used is about 3 to 30 times the molar amount of the total amount of trialkoxysilanes and dialkoxysilanes. This also applies to the amount used in the case of organic salts other than amines.

本発明方法において、加水分解および縮合反応は、アル
コキシシランを溶解した有機溶媒、水および有機塩基を
混合し、この混合液を油浴なとで加熱することにより行
なわれる。加熱温度は通常、130℃以下であるが、6
0〜120℃で、1〜6時間程度加熱するのが好ましい
。なお加熱操作中は混合液を攪拌してもよいし、混合液
を速流下に放置してもよい。
In the method of the present invention, the hydrolysis and condensation reactions are carried out by mixing an organic solvent in which an alkoxysilane is dissolved, water and an organic base, and heating this mixture in an oil bath. The heating temperature is usually 130°C or less, but 6
It is preferable to heat at 0 to 120°C for about 1 to 6 hours. Note that during the heating operation, the mixed liquid may be stirred, or the mixed liquid may be left under rapid flow.

反応終了後、反応液から有機溶媒層を分離し、水で洗浄
する。少量の1を含む水、例えば0.2重量%程度の硝
酸アンモニウム水溶液などで洗浄すると、洗浄操作が容
易になる。洗浄後の水が中性になるまで洗浄したのち、
必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシープ
スなどの乾燥剤で有機溶媒層を乾燥し、濃縮乾固するこ
とにより目的とするシリコーン樹脂が得られる。なお、
上(10) 記濃縮乾固の代りに、適当な濃度に濃縮した液を、シリ
コーン樹脂を溶解しない溶剤、例えばアセトニトリルな
どに注いでシリコーン樹脂を分離してもよい。
After the reaction is completed, the organic solvent layer is separated from the reaction solution and washed with water. Cleaning with water containing a small amount of 1, such as an aqueous ammonium nitrate solution of about 0.2% by weight, facilitates the cleaning operation. After washing until the water after washing becomes neutral,
The desired silicone resin is obtained by drying the organic solvent layer with a desiccant such as anhydrous calcium sulfate or molecular sheep, if necessary, and concentrating to dryness. In addition,
Instead of the concentration to dryness described in (10) above, the silicone resin may be separated by pouring the liquid concentrated to an appropriate concentration into a solvent that does not dissolve the silicone resin, such as acetonitrile.

このようにして得られたシリコーン樹脂は、ポリスチレ
ン換算数モ均分子1が、通常、3000〜200,00
0程度で、保存安定性がよく、長時間、例えば2〜3ケ
月間室温で保存しておいても不溶化することがない。
The silicone resin thus obtained usually has a polystyrene equivalent molecular weight of 3000 to 200,000.
0, it has good storage stability and will not become insolubilized even if stored at room temperature for a long time, for example, 2 to 3 months.

本発明方法により得られるシリコーン樹脂は、トリアル
コキシシラン類単独を原料とした場合、赤外線吸収スペ
クトルの11351’付近と10401−1付近に強い
吸収が観測される。
When the silicone resin obtained by the method of the present invention uses trialkoxysilane alone as a raw material, strong absorption is observed in the infrared absorption spectrum near 11351' and 10401-1.

一方、下記一般式(I) (式中&は有機基を、ルは繰返し数を意味する。)(1
1) で示される有機溶媒に可溶性のオルガノポリシルセスキ
オキサンは1135 cvt−”付近及び1040cm
−1付近にSLOSi結合の伸縮運動に基づく強い特異
的な2木の吸収を示すことから(、L Pθlym。
On the other hand, the following general formula (I) (in the formula & represents an organic group, and R represents the number of repeats) (1
1) Organopolysilsesquioxane soluble in organic solvents has a diameter around 1135 cvt-” and 1040 cm
Since it shows a strong specific two-tree absorption based on the stretching motion of the SLOSi bond near −1 (, L Pθlym.

Sci、、Cr巻、83N(1963年);特開昭50
−139900号など)、本発明のシリコーン樹脂も前
記一般式(I)の構造を有するものと考えられる。
Sci, Volume Cr, 83N (1963); Japanese Patent Application Publication No. 1973
-139900, etc.), and the silicone resin of the present invention is also considered to have the structure of the general formula (I).

まだ一方、原料としてトリアルコキシシラン類とジアル
コキシシラン類との混合物を用いた場合には、シルセス
キオキサン単位(Rx5tOb5 ) トシオルガノシ
ロキサン単位(YtsR4SiO)とが入り混じった構
造のシリコーン樹脂になると考えられる。
On the other hand, when a mixture of trialkoxysilanes and dialkoxysilanes is used as a raw material, a silicone resin with a mixed structure of silsesquioxane units (Rx5tOb5) and tosiorganosiloxane units (YtsR4SiO) is obtained. Conceivable.

なお、トリアルコキシシラン類もしくはジアルコキシシ
ラン類のうち一方を加水分解および縮合反応させたのち
、さらに他の一方を添加し、再び加水分解および縮合反
応する場合にも、シルセスキオキサン単位(R+SiO
x、s )とジオルガノシロキサン嘔位(R5R45i
O)とが入り混じった構;青のシリコーン樹脂になると
考えられる。
Furthermore, even when one of trialkoxysilanes or dialkoxysilanes is subjected to hydrolysis and condensation reaction, the other is further added, and the hydrolysis and condensation reaction is carried out again, the silsesquioxane unit (R+SiO
x, s) and diorganosiloxane position (R5R45i
It is thought that the structure is a mixture of O) and blue silicone resin.

本発明方法により得られるシリコーン樹脂は、(12) 有機溶剤に可溶性であり、固体状態で長間間、室温に放
置しておいても有機溶剤に対して不溶化することがなく
、貯蔵安定性がよいものである。さらにこのシリコーン
樹脂は耐熱性に優れ、基板に対する接着性にも優れてい
るため、例えば耐熱性絶縁膜として広範な用途に利用す
ることができる。
The silicone resin obtained by the method of the present invention is (12) soluble in organic solvents, does not become insolubilized in organic solvents even if left in a solid state at room temperature for a long period of time, and has good storage stability. It's good. Furthermore, this silicone resin has excellent heat resistance and excellent adhesion to substrates, so it can be used in a wide range of applications, for example, as a heat-resistant insulating film.

具体的用途としては、例えば集積回路などの絶縁保護膜
または層間絶縁膜、液晶配向補助膜、耐熱性塗料、有機
ポリマー表面の改質剤などがあげられる。また本発明方
法は、その工程上、ハロゲン化合物および金属水酸化物
を用いていないため生成したシリコーン樹脂が・・ロゲ
ンおよび金属などによって汚染されることがなく、特に
高純度を要求される集積回路などの絶縁保護膜または層
間絶縁膜、半導体素子の封止または絶縁材料、磁気メモ
リ用材料など電気、電子分野における材料として好適で
ある。
Specific applications include, for example, insulating protective films or interlayer insulating films for integrated circuits, liquid crystal alignment auxiliary films, heat-resistant paints, and modifiers for organic polymer surfaces. In addition, the method of the present invention does not use halogen compounds or metal hydroxides in the process, so the produced silicone resin is not contaminated with halogens or metals, and is especially suitable for integrated circuits that require high purity. It is suitable as a material in the electrical and electronic fields, such as an insulating protective film or an interlayer insulating film, a sealing or insulating material for semiconductor elements, and a material for magnetic memory.

以下、本発明方法の実施例を下記に示すが、実施例中の
モ均分子量は、下記のゲルパーミエイションクロマトグ
ラフイー(以下GPCと記す)によ(13) り求められた標準ポリスチレン換算数平均分子数である
Examples of the method of the present invention are shown below, and the average molecular weights in the examples are standard polystyrene equivalents determined by the following gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC) (13). It is the number average number of molecules.

GPC測定方法 装置:米国ウォーターズ社製高温高速ゲルバーミエイシ
ョンクロマトグラム(モデル150−CALC/GPC
) カラム:昭和電工■製5HODEX  A−8M。
GPC measurement method Equipment: High-temperature high-speed gel permeation chromatogram (Model 150-CALC/GPC manufactured by Waters, USA)
) Column: 5HODEX A-8M manufactured by Showa Denko ■.

長さ50CrrL 測定温変40’C 流速:lcc/分 試料:シリコーン樹脂1gを100m1のテトラヒドロ
フランに溶解して用いた。なお、標準ポリスチレンとし
ては米国プレッシャーケミカル社製標準ポリスチレンを
1吏用した。
Length 50 CrrL Measured temperature change 40'C Flow rate: lcc/min Sample: 1 g of silicone resin was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran. As the standard polystyrene, one piece of standard polystyrene manufactured by Pressure Chemical Company, USA was used.

実施例1 直流冷却庁、攪拌俸、滴下ロートを備えだ反応容器に、
メチルイソブチルケトン495 ml (3,95モル
)、メチルトリメトギシシラン49.5d(0゜35モ
ル)およびトリエチルアミン12m1(0,086モル
)を加えた。この溶液に滴下ロートより(14) 攪拌下に水66m/’(3,67モル)を滴下したが、
殆んど発熱は見られなかった。次いで油浴温度80℃で
反応溶液を4時間加熱し縮合させ、反応終了後有機溶媒
層を分離し、0.2重電チ硝酸アンモニウム水溶液で、
洗浄水溶液が中性になるまで洗浄1〜だ。さらに有機溶
媒1−をモレキュラーシーブスで乾燥後、減圧下に低沸
点物を留去することにより固形分を得た。この固形分を
一夜、40°CでJX空乾燥すると、シリコーン樹脂1
4.3gが得られた。この樹脂の平均分子量は25,0
00であった。
Example 1 A reaction vessel equipped with a DC cooling chamber, a stirring bowl, and a dropping funnel was
495 ml (3.95 mol) of methyl isobutyl ketone, 49.5 d (0.35 mol) of methyltrimethoxysilane and 12 ml (0.086 mol) of triethylamine were added. 66 m/' (3.67 mol) of water was added dropwise to this solution from the dropping funnel (14) while stirring.
Almost no fever was observed. Next, the reaction solution was heated at an oil bath temperature of 80°C for 4 hours to cause condensation, and after the reaction was completed, the organic solvent layer was separated and treated with a 0.2 diammonium dinitrate aqueous solution.
Wash 1 until the washing aqueous solution becomes neutral. Furthermore, after drying the organic solvent 1- with molecular sieves, a solid content was obtained by distilling off low-boiling substances under reduced pressure. When this solid content was air-dried overnight at 40°C using JX, silicone resin 1
4.3g was obtained. The average molecular weight of this resin is 25.0
It was 00.

実施例2 酢酸ノルマルブチル198m1(1,5モル)、メチル
トリメトキシシラン49.5ml (0,35モル)、
トリエチルアミン12d(0,086モル)および水6
6m/(3,67モル)を用い、その他は実施例1と同
様な操作、後処理を施(−、シリコーン樹脂14.1#
を得た。このものの平均分子1直は30,000であっ
た。
Example 2 198 ml (1.5 mol) of n-butyl acetate, 49.5 ml (0.35 mol) of methyltrimethoxysilane,
Triethylamine 12d (0,086 mol) and water 6
6m/(3.67 mol), and other operations and post-treatments were performed in the same manner as in Example 1 (-, silicone resin 14.1#).
I got it. The average molecular weight of this product was 30,000.

実施例3 (15) 4−メチル−2−ペンタノール198 ml (1,、
56モル)、メチルトリメトキシシラン49.5il(
0835モル)、トリエチルアミン12m/!(0,0
86モル)および水66 ml (3,67モル)を用
いその池は実施例1と同様な操作、後処理を施し、シリ
コーン樹脂13.8.9を得た。このものの平均分子−
itは18,000fLツ*。
Example 3 (15) 4-methyl-2-pentanol 198 ml (1,,
56 mol), methyltrimethoxysilane 49.5 il (
0835 mol), triethylamine 12 m/! (0,0
86 mol) and 66 ml (3.67 mol) of water, the same operation and post-treatment as in Example 1 were carried out to obtain silicone resin 13.8.9. The average molecule of this -
It is 18,000fL*.

実施例4 テトラヒトo7う7247.5 ml (3,06モル
)、メチルトリメトキシ7ラン49.5 ml (0,
35モル)、トリエチルアミン12m1(0,086モ
ル)および水66m1(3,67モル)を用いその池は
実施例1と同様な操作、後処理を施し、シリコーン樹脂
14.8gを得だ。このものの平均分子量は23゜00
0であった。
Example 4 7247.5 ml (3,06 mol) of tetrahydro7, 49.5 ml (0,
The pond was operated and post-treated in the same manner as in Example 1 using 12 ml (0,086 mol) of triethylamine (0,086 mol) and 66 ml (3,67 mol) of water to obtain 14.8 g of silicone resin. The average molecular weight of this substance is 23°00
It was 0.

実施例5 メチルイソブチルケトン432ml (3,4,5モル
)、メチルトリメトキシ7ラン36 ml (0,25
モル)およびジエチルアミン3.3 ml (0,03
’2モル)の溶液に水48m1(2,67モル)を添1
711したのち、(16) 80℃で3時間υ口熱した。次いで実施例1と同様に後
処理すると、シリコーン樹脂1.0.1 #が得られた
このものの平均分子1は35,000であった。
Example 5 432 ml (3,4,5 mol) of methyl isobutyl ketone, 36 ml (0,25 mol) of methyltrimethoxy7
mol) and diethylamine 3.3 ml (0,03
Add 48 ml (2.67 mol) of water to a solution of
After 711 hours, (16) heated the mouth at 80℃ for 3 hours. Subsequent post-treatment in the same manner as in Example 1 yielded a silicone resin of 1.0.1 #, which had an average molecular weight 1 of 35,000.

実施例6 メチルトリメトキシシラン42m/(0,3モル)、ジ
メチルジメトキシ7ラン6.9mA’(0,05モル)
およびトリエチルアミン12m/(0,086モル)を
メチルイソブチルケトン450m/(3,59モル)に
溶解し、この溶液に水66 ml (3,67モル)を
添加したのち、90′Cで5時間加熱縮合させた。
Example 6 Methyltrimethoxysilane 42 m/(0.3 mol), dimethyldimethoxy7rane 6.9 mA' (0.05 mol)
and 12 m/(0,086 mol) of triethylamine were dissolved in 450 m/(3,59 mol) of methyl isobutyl ketone, 66 ml (3,67 mol) of water was added to this solution, and the mixture was heated at 90'C for 5 hours. Condensed.

次いで有機溶媒層を分離し、0.2重電チ硝酸アンモニ
ウム水溶液で、洗浄水が中性になるまで洗浄した。さら
に有機溶液を濃縮したのち、濃縮液をアセトニトリルに
注ぐと、シリコーン樹脂が凝固分離した。これを−夜真
空乾燥すると、13.1.9のシリコーン樹脂が得られ
た。このものの平均分子lは2o、o6oであつfc。
The organic solvent layer was then separated and washed with an aqueous 0.2 diammonium nitrate solution until the washing water became neutral. After further concentrating the organic solution, the concentrated liquid was poured into acetonitrile, and the silicone resin was solidified and separated. This was vacuum dried overnight to obtain silicone resin 13.1.9. The average molecule l of this is 2o, o6o, and fc.

実施例7 メチルトリメトキシシラン42m1(0,3モル)およ
びトリエチルアミン10mA!(0,072モル)(1
7) をメチルイソブチルケトン380d(3,04モル)に
溶解し、この溶液に水57aJ(3,17モル)全添加
したのち、80℃で2時間加熱した。反応溶液を冷却し
たのち、これにジメチル・/メトキシシラン6.9++
+7!(0,05モル)を添加し、さらに80℃で2時
間加熱した。次いで実施例6と同様に後処理すると、シ
リコーン樹脂13gが得られた。
Example 7 42 ml (0.3 mol) of methyltrimethoxysilane and 10 mA of triethylamine! (0,072 mol) (1
7) was dissolved in 380 d (3.04 mol) of methyl isobutyl ketone, and 57 aJ (3.17 mol) of water was completely added to this solution, followed by heating at 80° C. for 2 hours. After cooling the reaction solution, dimethyl/methoxysilane 6.9++ was added to it.
+7! (0.05 mol) was added and further heated at 80° C. for 2 hours. Subsequently, post-treatment was performed in the same manner as in Example 6 to obtain 13 g of silicone resin.

このものの平均分子量は24,000であった。The average molecular weight of this product was 24,000.

実施例8 トリエチルアミン11.5ゴ(0,088モル)、メチ
ルトリメトキシシラン40 m、l (0,279モル
)ビニルトリメトキシシラン5.3 m、l! (0,
035モ)、フェニルトリメトキシシラン6.5 ru
ll(0,035モル)、メチルイソブチルケトン36
3d(2゜9モル)および水67.5 ml (3,7
5モル)を用い、その他は実施例1と同様な操作、後処
理を施すと、シリコーン樹脂17gが得られた。このも
のの早吻分子瞼は22,000であった。
Example 8 11.5 m, l of triethylamine (0,088 mol), 40 m, l of methyltrimethoxysilane (0,279 mol), 5.3 m, l of vinyltrimethoxysilane! (0,
035 mo), phenyltrimethoxysilane 6.5 ru
ll (0,035 mol), methyl isobutyl ketone 36
3d (2°9 mol) and 67.5 ml of water (3,7
5 mol), and the other operations and post-treatments were the same as in Example 1, to obtain 17 g of silicone resin. The early proboscis molecular eyelid of this one was 22,000.

実施例9 トリ、T−チ# 7ミン10.3m1(0,079モ#
)・、(18) メチルトリメトキシシラン40m/(0,279モル)
およびビニルトリメトキシシラン4.8ml (0,0
31モル)をメチルイソブチルケトン356 ml (
2゜84モル)に溶解し、この溶液に水60 ml (
3,33モル)を添ノJ口したのち、80℃で2時間加
熱した。次いで実施例1と同様に後処理すると、シリコ
ーン樹脂15gが得られた。このものの平均分子量は2
4,000であった。
Example 9 Bird, T-chi #7 min 10.3 m1 (0,079 mo #
)・, (18) Methyltrimethoxysilane 40m/(0,279 mol)
and vinyltrimethoxysilane 4.8ml (0,0
31 mol) and 356 ml of methyl isobutyl ketone (
2°84 mol) and add 60 ml of water to this solution (
After adding 3.33 mol) to the mixture, it was heated at 80°C for 2 hours. Subsequently, the product was post-treated in the same manner as in Example 1 to obtain 15 g of silicone resin. The average molecular weight of this substance is 2
It was 4,000.

実施例10 メチルトリメトキシシラン16mA!(0,112モル
)、フェニルトリメトキシシラン2.3 ml (0,
O12モル)、トリエチルアミy4.1m1(0,03
1モル)およびメチルイソブチルケトン128m/(1
,02モル)を用い、その他は実施例1と同様の操作、
後処理を怖し、シリコーン樹脂6gが得られた。このも
のの平均分子量は30,000であった。
Example 10 Methyltrimethoxysilane 16mA! (0,112 mol), phenyltrimethoxysilane 2.3 ml (0,
O12 mol), triethylamine y4.1 m1 (0,03
1 mol) and methyl isobutyl ketone 128 m/(1
, 02 mol), otherwise the same operation as in Example 1,
6 g of silicone resin was obtained without post-treatment. The average molecular weight of this product was 30,000.

実施例11 メチルイソブチルケトン490m/(3,90モル)、
トリエチルアミ713.7 ml (0,098モル)
 オよ(19) び水36+++J(2,0モル)の混合溶液に、メチル
イソブチルケトン22.6ml (0,18モル)、メ
チルトリメトキシシラン24.6d(0,17モル)お
よびトリメトキシシラン2.81nl(0,02モル)
の混合溶液を約10分間で滴下した後、反応溶液を70
℃で3時間加熱縮合した。次いで実施例1と同様に後処
理するとシリコーン樹脂11.0gが得られた。この樹
脂の平均分子量は17,000であった。
Example 11 Methyl isobutyl ketone 490 m/(3,90 mol),
Triethylamine 713.7 ml (0,098 mol)
22.6 ml (0.18 mol) of methyl isobutyl ketone, 24.6 d (0.17 mol) of methyltrimethoxysilane and 2.0 ml of trimethoxysilane were added to a mixed solution of Oyo(19) and 36++J (2.0 mol) of water. .81nl (0.02mol)
After dropping the mixed solution over about 10 minutes, the reaction solution was
Heat condensation was carried out at ℃ for 3 hours. Subsequently, it was post-treated in the same manner as in Example 1 to obtain 11.0 g of silicone resin. The average molecular weight of this resin was 17,000.

実施例12 メチルイソブチルケトン495mj(3,95モル)、
ブチルトリメトキシシラン67.0d(0,35モルX
トリエチルアミン12ゴ(0,086モル)、水66 
ml (3,67モル)を用い、その池は実施例1と同
様な操作を施しシリコーン樹脂13.0#を得た。
Example 12 Methyl isobutyl ketone 495 mj (3.95 mol),
Butyltrimethoxysilane 67.0d (0.35 mol
12 triethylamine (0,086 mol), 66 water
ml (3.67 moles) and the same procedure as in Example 1 was performed to obtain 13.0 # of silicone resin.

このものの平均分子量は23,000であった。The average molecular weight of this product was 23,000.

実施1+IJ 13 メチルイソブチルケトン495+++/(3,95モル
)、エチルトリメトキシシラン55Tnl(0,35モ
ル)、トリエチルアミン12+++4!(0,086モ
ル)及び水66m1(3,67モル)を用い、その他は
実施例1(20) と同様な操作を施しシリコーン樹脂13.0gを得た。
Example 1+IJ 13 Methyl isobutyl ketone 495+++/(3,95 mol), ethyltrimethoxysilane 55 Tnl (0,35 mol), triethylamine 12+++4! (0,086 mol) and 66 ml (3,67 mol) of water, and the same operation as in Example 1 (20) was carried out to obtain 13.0 g of silicone resin.

この樹脂の平均分子量は21,000であった。The average molecular weight of this resin was 21,000.

実施例 実施例1〜13で得られたシリコーン樹脂の窒素下での
熱分解温度は第1表に示すとおりであった。
Examples The thermal decomposition temperatures under nitrogen of the silicone resins obtained in Examples 1 to 13 were as shown in Table 1.

第   1   表 上表の結果より、本発明により得られたシリコーン樹脂
、特にトリアルコキシシラン類単独を原料としたものを
熱硬化させた樹脂が極めて高い耐(21) 熱性を示すことが分る。
From the results shown in Table 1, it can be seen that the silicone resins obtained according to the present invention, especially the resins obtained by thermosetting the silicone resins made from trialkoxysilanes alone, exhibit extremely high (21) heat resistance.

以L1本発明によれば、長期間室温に保存しても有機溶
剤中で不溶化することがない熱硬化性の樹脂が得られ、
これを加熱成形することにより耐熱性に優れたシリコー
ン樹脂製品を得ることができる。また本発明方法では金
属水酸化物を全く用いないため、得られたシリコーン樹
脂は高熱加熱時における熱安定性に優れ、金属含量が極
めて少ないので、耐絶縁性等の電気的性質にも優れてい
る。
L1 According to the present invention, a thermosetting resin that does not become insolubilized in an organic solvent even when stored at room temperature for a long period of time is obtained,
By thermoforming this, a silicone resin product with excellent heat resistance can be obtained. Furthermore, since the method of the present invention does not use metal hydroxides at all, the obtained silicone resin has excellent thermal stability during high-temperature heating, and since the metal content is extremely low, it also has excellent electrical properties such as insulation resistance. There is.

代理人 弁理士  川 北 武 長 (22)Agent: Patent Attorney Takecho Kawakita (22)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式R55L(ORz) s (式中R1は水
素原子、低級アルキル基、アルケニル基またはアリール
基、R2は低級アルキル基を意味する)で表わされるト
リアルコキシシラン類単独、または該トリアルコキシシ
ラン類と、一般式R3R4S i (ORs ) 2 
(式中R3およびR4は同一または異なり、水素原子、
低級アルキル基、アルケニル基またはアリール基、R6
は低級アルキル基を意味する)で表わされるジアルコキ
シシラン類とを、有機溶媒、水および有機塩基の存在下
に加熱反応させることを特徴とするシリコ−/樹脂の製
造方法。
(1) Trialkoxysilanes represented by the general formula R55L(ORz) s (wherein R1 means a hydrogen atom, a lower alkyl group, an alkenyl group, or an aryl group, and R2 means a lower alkyl group), or the trialkoxy Silanes and the general formula R3R4S i (ORs) 2
(In the formula, R3 and R4 are the same or different, a hydrogen atom,
Lower alkyl group, alkenyl group or aryl group, R6
1 represents a lower alkyl group) and a dialkoxysilane represented by the formula (1) means a lower alkyl group, in the presence of an organic solvent, water and an organic base.
JP17608282A 1982-10-08 1982-10-08 Silicone resin manufacturing method Granted JPS5966422A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17608282A JPS5966422A (en) 1982-10-08 1982-10-08 Silicone resin manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17608282A JPS5966422A (en) 1982-10-08 1982-10-08 Silicone resin manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5966422A true JPS5966422A (en) 1984-04-14
JPH0149171B2 JPH0149171B2 (en) 1989-10-23

Family

ID=16007400

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17608282A Granted JPS5966422A (en) 1982-10-08 1982-10-08 Silicone resin manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5966422A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63165435A (en) * 1986-12-27 1988-07-08 Nippon Steel Corp Production of organometallic polymer composition
US4814407A (en) * 1985-05-08 1989-03-21 Pcr, Inc. Composition for waterproofing silica-ceramic insulation bodies
JPH01172473A (en) * 1987-12-28 1989-07-07 Toshiba Silicone Co Ltd Coating composition
JPH05140506A (en) * 1991-05-03 1993-06-08 Wacker Chemie Gmbh Preparation of coating composition and method for coating metal, metallic alloy, and plastic
JPH07188415A (en) * 1993-11-04 1995-07-25 Wacker Chemie Gmbh Method for producing organopolysiloxane containing Si-bonded hydrogen
JP2001131479A (en) * 2000-10-30 2001-05-15 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Coating liquid for forming silica-based film
WO2009096603A1 (en) * 2008-02-01 2009-08-06 Jsr Corporation Method for forming trench isolation structure
WO2011019005A1 (en) * 2009-08-11 2011-02-17 セントラル硝子株式会社 Heat-resistant polysiloxane composition
WO2015143592A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 苏州桐力光电技术服务有限公司 Method for preparing mt resin

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS575723A (en) * 1980-05-13 1982-01-12 Owens Illinois Inc Manufacture of organopolysiloxane resin with weak organic base

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS575723A (en) * 1980-05-13 1982-01-12 Owens Illinois Inc Manufacture of organopolysiloxane resin with weak organic base

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4814407A (en) * 1985-05-08 1989-03-21 Pcr, Inc. Composition for waterproofing silica-ceramic insulation bodies
JPS63165435A (en) * 1986-12-27 1988-07-08 Nippon Steel Corp Production of organometallic polymer composition
JPH01172473A (en) * 1987-12-28 1989-07-07 Toshiba Silicone Co Ltd Coating composition
JPH05140506A (en) * 1991-05-03 1993-06-08 Wacker Chemie Gmbh Preparation of coating composition and method for coating metal, metallic alloy, and plastic
JPH07188415A (en) * 1993-11-04 1995-07-25 Wacker Chemie Gmbh Method for producing organopolysiloxane containing Si-bonded hydrogen
JP2001131479A (en) * 2000-10-30 2001-05-15 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Coating liquid for forming silica-based film
WO2009096603A1 (en) * 2008-02-01 2009-08-06 Jsr Corporation Method for forming trench isolation structure
US8318582B2 (en) 2008-02-01 2012-11-27 Jsr Corporation Method of forming a trench isolation
WO2011019005A1 (en) * 2009-08-11 2011-02-17 セントラル硝子株式会社 Heat-resistant polysiloxane composition
WO2015143592A1 (en) * 2014-03-26 2015-10-01 苏州桐力光电技术服务有限公司 Method for preparing mt resin

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0149171B2 (en) 1989-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114929784B (en) Functionalized Q-T-siloxane-based polymer materials with low siloxane ring content and preparation methods
WO2003064490A2 (en) Process for the functionalization of polyhedral oligomeric silsesquioxanes
KR20000062910A (en) Hydrogenated octasilsesquioxane-vinyl group-containing copolymer and method for manufacture
JPH08245792A (en) Silicone ladder polymer, silicone ladder prepolymer and methods for producing the same
JP2003335788A (en) Method for producing nitrogen-containing organic compound containing SiH group
JPS5966422A (en) Silicone resin manufacturing method
JPH04353521A (en) Organopolysilsequioxane and production thereof
JP5153635B2 (en) Novel epoxy compound and method for producing the same
CN109415397B (en) Formulations comprising metal aprotic organosilane oxide compounds
CN101899156A (en) A kind of preparation method of multi-chain ladder polyalkylsilsesquioxane
JP3679972B2 (en) Method for producing high purity silicone ladder polymer
JPH06248083A (en) High-purity silicone ladder polymer and method for producing the same
JPWO2004074177A1 (en) Polymer-coated metal oxide and method for producing the same
JP2000038451A (en) Method for producing alkoxy-terminated polydiorganosiloxane
JP4172291B2 (en) Method for producing organosilicon compound
WO2006021989A1 (en) Process for producing organosilicon compound
CN109415396B (en) Metal aprotic organosilane oxide compounds
JP3908509B2 (en) Germanium atom and silicon atom containing ladder type heat resistant resin and method for producing the same
US7365213B2 (en) Organosilicon compound, organosilicon resin having diol, and processes for producing these
JP4147705B2 (en) Hydrosilyl group-containing polysilsesquioxane compound and method for producing the same
JPH04268333A (en) Production of organopolysiloxane
JP6583050B2 (en) Method for producing organopolysiloxane
JP4276805B2 (en) Novel silazane compound and method for producing the same, and novel silazane compound polymer and method for producing the same
WO2005044828A1 (en) Method for producing cyclic organic silicon compound and organic silicon resin having alcoholic hydroxyl group
JP2002363287A (en) Method for producing novel silsesquioxane having protected catechol group