JPS5966534A - 与えられたプログラムに従つて綜絖フツクを持上ナイフに係合させる綜絖フツク制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発す」は−に哉機の開口装置はとして用いられるドビ
ー機に於て、与えられたプログラムに従って綜絖ノック
を持上ナイフに係合させるようにした綜絖フック制御装
置に関するものである。

従来公知のドビー機では、持」ニナイフと綜絖フックの
係合は複雑な機械的インパルス装置によって達成されて
いた。

本発明の目的は、電チ的手段によってドビーの持上ナイ
フと綜絖フックの係合毛：行なう簡単な装置を構成する
ことＫあシ、そのに劣題は下記の技術的事項によって達
成される。

（リ　各岸絖は、不作動位置において、スプリングによ
って持上ナイフと係合され、そしてカムによって制御さ
れる基準片（ｒｕｌｅ、’）によって面別支持台と係合
される。

、（ｂ）各綜絖フ・り恍１！磁的に制御され冬支持症、
、。

と接触するようになっている支持表面を備えている＝　
　　　　　　」１　　　　　　・　　□・・　酢　・（
Ｃ）　　各支持片はそ９基点で、スイリングによって固
定抑止片の方か、制御基準片の方かで整えられる。

（ｄ）　　支持片制御用電磁石は之電子的制シ（１シス
テムに接続されている。

更にまた本発明の利点と特９．は第１図と第２図に描か
れた実施例に基づいて詳述す３゜ドビーの綜絖フック１
　、１’は、スプリング３゜３′によってその不作動位
置で持上ナイン２，２′と係合し、そしてそれから基準
片５．５′によってスプリング３，３′の張力に抗して
静止支トｊ台４，４′と係合す／：）０ 各綜絖２ツクｌ、１′は支持表面６，６′を備え、該表
面は支持片７，７′と接触するように仕向けられ、支持
片７，７′は電磁石８，８′と関係し、予じめ与えられ
たプログラムに従って電磁石にニジ制御される。

現実の支持片７，７′は、ビボッ）　９　、９’上に揺
動巧能に取付けられ、電磁石ｓ　ｅ　ｓ’　（第１図）
によってか、接触面１３．１３’（第２図）を介して：
制御基基片１２　、１２’によってかスプリング１０゜
、１０′の張力に抗して、その基点位置から価挨えられ
る。

スプリング１０．１０’の張力Ｋ　ｊっで、支持片７．
７′は、固舅抑止片１１，１１．’（第１１図）の方か
、制徊］基準片１２．１２’（第２図）の方かどちらか
にその基点位置を調整される。支持片７，７′の再１ｉ
Ｉｌｌｌ整は静止支持台４，４′に抗して基準片５゜５
′で綜絖フック１．１′を押圧するたびに実施され、そ
して綜絖ソックｌ、１′の支持表面６，６′と支持片７
，７′間に間隙が出来るンとに実施される。

綜絖（図示なし）がプログラムに従って持上げられてい
る時、支持片７，７′は電磁石８．８′によって片寄せ
られて保持される（第１図）か、支持片７，７′は制御
基準片１２．１２’によって接触面１３．１３’ｔ”介
して片寄せられ綜絖フック１．１’の支持表面６．６′
から離れて電磁石８，８′で保持される（第２図）基準
片５，５′による綜絖フ、り１．１′の解放によって、
綜絖フック１　、１’は持上ナイフ２，２′と係合され
、それから先７）機構によって他端位置に振シ動かされ
ることによって綜絖は持上げられる。綜絖がプログラム
に彼って下げられている時、支持片７，７′は固定抑圧
片１１゜１１’にもたれて支持されたスプリング１（１
，１０’の張力によってその基点位置に留′まる（　Ｅ
４ｓ　１図）か、制御基準片１２．１２’と共にその基
点位置に戻る（第２図）。

基準片５．５′による綜絖ソック１．ｊ′の解放によっ
て、綜絖フックｌ、１′はその支持面６，６′で支持片
７，７′にもたれて支えられ、そして持上ナイフ２，２
′が綜絖フック１，１′と係合されることなく振１）　
ＰＭかされ、そしてそれだ力・ら綜絖は下げられる。

′１磁石８，８′による支持片７，７′の測針はプログ
ラムによって決められ、プログラムＣよしｊ示されてな
い電子的貯蔵で用怠されそしてそれから各緯糸の為の操
作に関して連続して読取る。

このドビーの実施例で、電子設備は機械の同期もなしに
連続的に解除開口から取除くことが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明図。 第２図は第１図のものにおいて支持片制御に制御基準片
を用いた実施例図。 １．１′・・・綜絖フック、２．２’・・・持上ナイフ
、４゜４′・・・静止支持台、５．５’・・・基準片、
７．７’・・・支持片、８．８’・・・電磁石、１２．
１２’・・・制御基準片。 特許出願人 エリテックス、コンツェルン　テクステイルニホストロ
イレンストビ 特許出願代理人 弁理士　官　木　　　朗 弁理士　西　舘　和　之 □弁理士　戸　１）利　雄 弁理士　　山　　口　　昭　　之 図面の浄書（内容に変更なし） Ｕ ト 穆 〜 鱗 手続補正書ｃＪｉ民） 昭和５８年＋ＪＪｌ＋　口 特許庁長官　若　杉　和　夫　殿 １、事件の表示 昭和５８年　特許願　　第１３１１０２号２、発明の名
称 刀えらねたプログラムに１１Ｃって綜絖ンソつてＪ−）
上ナイフに係合さぜるＸｌ；【光フック１１１吐１１装
（ｉシ３、補正をする者 事件との関係　　特許出願人 名称エリテνクス、　コンツェルン テクスティルニホ　ストロイレンストビ４、代理人 （外　：Ｉ　名） ５、補正命令の日付 昭耐３５８年１０月２５１ＥＩ　（発送にｊ）６、補正
の対象 図　　　面 ７、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし） ８、添付幣類の目録 浄書図面　　　　　１通

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　各綜寛ンック（１、ｔ′）Ｆｉ電磁石（ｓ、、、
   ｓ’）と関連する支掲片（，７、７’　）と接触するよ
   ・うになっている支持部（６、６’）ｆｆｉ備え、そ才
   １によって該支持片・（７，７’）は与えられたプログ
   ラムに従って制御されることを特徴とする与えられたプ
   ログラムに従って持上ナイフと綜絖フックが係合する綜
   絖フック制御装置。 ２、綜絖ノック（ｔ’ｔｉ’）は基準片（５，５’）に
   よって持上ナイフ（２，２つからスプリング（３、３’
   ）の張力に抗して支持台（４，４’）に係合され、そし
   て基準体がカムで制御されること全特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の装置。 ３、各支持片（７，７つは制御基準片（１２゜１２′）
   又は他の制御要素と接触するようＩｆ（なっている接触
   面（１３，１３’）を備え、そして制御基準片又は制御
   袈素は支持片（７，、７’）を↑１１．磁石（８，８’
   ）の方に片寄らせることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項又は第２項に記載の装ｆｉｇ＜　。