JPS5968104A - アデイテイブ回路基板 - Google Patents
アデイテイブ回路基板Info
- Publication number
- JPS5968104A JPS5968104A JP57177994A JP17799482A JPS5968104A JP S5968104 A JPS5968104 A JP S5968104A JP 57177994 A JP57177994 A JP 57177994A JP 17799482 A JP17799482 A JP 17799482A JP S5968104 A JPS5968104 A JP S5968104A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inorganic material
- circuit board
- inorganic
- additive
- fibrous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims description 26
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title claims description 24
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 34
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 32
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 9
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 235000012241 calcium silicate Nutrition 0.000 claims description 7
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical group [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 15
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 5
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 5
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 229910052882 wollastonite Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100433727 Caenorhabditis elegans got-1.2 gene Proteins 0.000 description 1
- 241001672694 Citrus reticulata Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000567769 Isurus oxyrinchus Species 0.000 description 1
- 241001085205 Prenanthella exigua Species 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052454 barium strontium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 244000309466 calf Species 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 230000003189 isokinetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 235000013372 meat Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052604 silicate mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPILDHPJSYVNAF-UHFFFAOYSA-M sodium;diiodomethanesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C(I)I BPILDHPJSYVNAF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010456 wollastonite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
- C03C14/002—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of fibres, filaments, yarns, felts or woven material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B32/00—Artificial stone not provided for in other groups of this subclass
- C04B32/005—Artificial stone obtained by melting at least part of the composition, e.g. metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/02—Fibres; Filaments; Yarns; Felts; Woven material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/06—Whiskers ss
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/18—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
- H05K3/181—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/901—Printed circuit
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は、電子機器の電気回路に通ずるアディティブ回
路基板に関する。
路基板に関する。
この種のアディティブ回路は、無電解メッキ単独かまた
は電気メ・ツキとの組合ゼを用いて基板の」二に導体パ
ターンを析出することにより形成され、絶縁材料の表面
に予め銅を張っておく必要はない。
は電気メ・ツキとの組合ゼを用いて基板の」二に導体パ
ターンを析出することにより形成され、絶縁材料の表面
に予め銅を張っておく必要はない。
このためアディティブ回路基板の表面は、メッキ層との
接着力を大きくするため、微細な多数の凹凸を形成して
おく必要がある。
接着力を大きくするため、微細な多数の凹凸を形成して
おく必要がある。
従来このアディティブ回路基板は、生産性および機械加
工性の観点からエポキシ・ガラス積層機のような有機系
複合材料が多用されるが、この有機系複合材料の積層板
の表面に凹凸を形成するためには、積層板の表面をクロ
ム酸処理により粗化して、無電解メッキの接着性を高め
る必要があるため、作業が煩雑で廃液処理にコストを要
する問題があった。また積層板の表面部分に、相化し易
くするメッキ密着性を付与する樹脂などを用いることも
各種挟剖されているが、この樹脂が積層板の表面に形成
されることにより、積層板が湿度の影響を受り易くなる
等の欠点があった。
工性の観点からエポキシ・ガラス積層機のような有機系
複合材料が多用されるが、この有機系複合材料の積層板
の表面に凹凸を形成するためには、積層板の表面をクロ
ム酸処理により粗化して、無電解メッキの接着性を高め
る必要があるため、作業が煩雑で廃液処理にコストを要
する問題があった。また積層板の表面部分に、相化し易
くするメッキ密着性を付与する樹脂などを用いることも
各種挟剖されているが、この樹脂が積層板の表面に形成
されることにより、積層板が湿度の影響を受り易くなる
等の欠点があった。
また一方、」二記有機系複合材料は、接着剤などの有機
質部分が耐熱性に劣り、高温での絶縁抵抗および優れた
誘電特性が得られず、また湿度の影響を受けやすいこと
などから高温度下で長期に使用することができない欠点
もあった。
質部分が耐熱性に劣り、高温での絶縁抵抗および優れた
誘電特性が得られず、また湿度の影響を受けやすいこと
などから高温度下で長期に使用することができない欠点
もあった。
一方、電子機器の小型化、薄型化の傾向に伴い、印刷回
路基板への部品の実装密度が高まっているため、アディ
ティブ回路基板に対しても優れた熱り月技性、」法衣定
性等の特性が要求されてきている。
路基板への部品の実装密度が高まっているため、アディ
ティブ回路基板に対しても優れた熱り月技性、」法衣定
性等の特性が要求されてきている。
本発明者らは、上記従来の基板の欠点を解消するために
、剣状無機物または繊維状無機物とガラス状無機物とを
混練して所定形状に成型した後、この成型物をガラス状
無機物の軟化する温度以上であって、剣状無機物または
繊維状無機物の熔融しない温度で焼成して、剣状無機物
または繊維状無機物を、針状または繊維状の形態を保ら
ながら等方性固体ガラス状無機物中に混在さゼる無機物
複合体について、特願昭57−78028により出願し
た。
、剣状無機物または繊維状無機物とガラス状無機物とを
混練して所定形状に成型した後、この成型物をガラス状
無機物の軟化する温度以上であって、剣状無機物または
繊維状無機物の熔融しない温度で焼成して、剣状無機物
または繊維状無機物を、針状または繊維状の形態を保ら
ながら等方性固体ガラス状無機物中に混在さゼる無機物
複合体について、特願昭57−78028により出願し
た。
しかしこの無機物複合体は、平板にするためには、押出
成型または圧縮成型等の方法が採られるため、成型品の
少なくとも片面は、滑らかに形成され易く、そのままア
ディティブ回路基板にすると、メッキ層との接着力にバ
ラツキが生じることがあった。
成型または圧縮成型等の方法が採られるため、成型品の
少なくとも片面は、滑らかに形成され易く、そのままア
ディティブ回路基板にすると、メッキ層との接着力にバ
ラツキが生じることがあった。
本発明は、上記様々の欠点を解消するもので、耐熱性が
あり機械加工性に優れ、熱膨張が小さく、かつ熱放散性
および熱遮断性の優れ、しかも製造コス1−が安価で公
害問題が生じないアディティブ回路基板を提供すること
を目的とする。
あり機械加工性に優れ、熱膨張が小さく、かつ熱放散性
および熱遮断性の優れ、しかも製造コス1−が安価で公
害問題が生じないアディティブ回路基板を提供すること
を目的とする。
本発明は、針状無機物または繊維状無機物が針状または
繊維状の形態を保ちながら等方性固体ガラス状無機物中
に混在してなる無機物複合板の表面に微細な多数の凹凸
が形成されたことを特徴とする。
繊維状の形態を保ちながら等方性固体ガラス状無機物中
に混在してなる無機物複合板の表面に微細な多数の凹凸
が形成されたことを特徴とする。
なお上記表面の微細な多数の凹凸はRmaxが3〜50
μmであることが好ましい。
μmであることが好ましい。
また上記針状無機物はメタケイ酸カルシウムであるごと
が女工ましい。
が女工ましい。
さらに上記繊維状無機物はチタン酸カリウム系繊維また
はケイ酸マグネシウム系繊維であることが好ましい。
はケイ酸マグネシウム系繊維であることが好ましい。
本明細書で、rRmaxJとは、アディティブ回路基板
の断面曲線から抜き取った一定の長さく基準長さ)を用
い、その平均線(被測定面から断面曲線までの偏差の自
乗用が最小になるような線)に平行な2直線ではさまれ
た部分を断面曲線の縦倍率の方向に測定し、その値をミ
クロン単位で表した抜取部分をいう。
の断面曲線から抜き取った一定の長さく基準長さ)を用
い、その平均線(被測定面から断面曲線までの偏差の自
乗用が最小になるような線)に平行な2直線ではさまれ
た部分を断面曲線の縦倍率の方向に測定し、その値をミ
クロン単位で表した抜取部分をいう。
本発明をさらに補足説明すると、
(a+ !を状無機物は天然産のメタケイ酸カルシウ
ムに代表される無機物である。このメタケイ酸カルシウ
ムは、化学式CaSiO3を主成分とする針状性の物質
で、径に対する長さの比が10倍以上あり、明るい白色
の針状の結晶形状を有する無機物である。特に耐熱性に
優れその融点は約1500°Cであり、天然物であるこ
とからガラスパウダと同程度以下の低価格である。天然
針状性のメタケイ酸カルシウムとしてウメラストナイl
−(wollastonite、 NYCO製)が−例
として挙げられる。
ムに代表される無機物である。このメタケイ酸カルシウ
ムは、化学式CaSiO3を主成分とする針状性の物質
で、径に対する長さの比が10倍以上あり、明るい白色
の針状の結晶形状を有する無機物である。特に耐熱性に
優れその融点は約1500°Cであり、天然物であるこ
とからガラスパウダと同程度以下の低価格である。天然
針状性のメタケイ酸カルシウムとしてウメラストナイl
−(wollastonite、 NYCO製)が−例
として挙げられる。
また繊維状無機物はチタン酸カリウム系繊維またケイ酸
マグネシウム系繊維に代表される無機物である。このチ
タン酸カリウム系繊維は、化学式に20 ・n Ti
02あるいはに20・nTiO2・m1]20で表され
、径に対する長さの比が10倍以」二の上記剣状無機物
よりH!の繊維形状を有する。
マグネシウム系繊維に代表される無機物である。このチ
タン酸カリウム系繊維は、化学式に20 ・n Ti
02あるいはに20・nTiO2・m1]20で表され
、径に対する長さの比が10倍以」二の上記剣状無機物
よりH!の繊維形状を有する。
ただし上記n、 mは必ずしも整数でなくてもよい。
この種のチタン酸カリウム系繊維は、近年安(illi
に量産される製法が開発され、繊維径に対する繊維長の
比が1000以上もあるものも容易に得られるようにな
っている。上記チタン酸カリウム系繊維には、チタン酸
カリウム繊維を酸処理して得られる水和酸化チタン繊維
(Ti 02 ・ m th O)およびこれを焼成
して得られる二酸化チタン繊維(Ti02)もチタン酸
カリウム繊維誘導体として含まれる。この水和チタン酸
カリウム繊維はもとより水和酸化ヂクン繊維においても
、水分芋が焼成段階で取り除かれ安定した無機物となる
。
に量産される製法が開発され、繊維径に対する繊維長の
比が1000以上もあるものも容易に得られるようにな
っている。上記チタン酸カリウム系繊維には、チタン酸
カリウム繊維を酸処理して得られる水和酸化チタン繊維
(Ti 02 ・ m th O)およびこれを焼成
して得られる二酸化チタン繊維(Ti02)もチタン酸
カリウム繊維誘導体として含まれる。この水和チタン酸
カリウム繊維はもとより水和酸化ヂクン繊維においても
、水分芋が焼成段階で取り除かれ安定した無機物となる
。
さらに上記以外のチタン酸カリウム繊維誘導体としては
、チタン酸カリウム繊維を出発原料としてこのチタン酸
カリウム繊維とバリウム、ストロンチウム等とを反応さ
せて合成される繊維状のチタン酸バリウムあるいはチタ
ン酸ストロンチウム等がある。
、チタン酸カリウム繊維を出発原料としてこのチタン酸
カリウム繊維とバリウム、ストロンチウム等とを反応さ
せて合成される繊維状のチタン酸バリウムあるいはチタ
ン酸ストロンチウム等がある。
上記チタン酸カリウム系繊維は、特に耐熱性と機械的強
度に優れその融点は約1300’Cであり、その引張強
度はガラス繊維の約3倍にも及ぶ性質がある。
度に優れその融点は約1300’Cであり、その引張強
度はガラス繊維の約3倍にも及ぶ性質がある。
またケイ酸マグネシウム系繊維は、一般に石綿と呼ばれ
るが、この石綿は天然剣状および繊維状ケイ酸鉱物の総
称である。この石綿の中で本発明に特に重要なものはケ
イ酸マグネシウム系の温石綿(114Mg3Si20
s )である。この温石綿は径に対する長さの比カ月0
倍以上あり、長いものでは5 cmに及ぶ。また温石綿
は約500°Cで構造水を失い始め、800℃でも繊維
構造を保持する灰白色の低価格の鉱物である。
るが、この石綿は天然剣状および繊維状ケイ酸鉱物の総
称である。この石綿の中で本発明に特に重要なものはケ
イ酸マグネシウム系の温石綿(114Mg3Si20
s )である。この温石綿は径に対する長さの比カ月0
倍以上あり、長いものでは5 cmに及ぶ。また温石綿
は約500°Cで構造水を失い始め、800℃でも繊維
構造を保持する灰白色の低価格の鉱物である。
上記針状、繊維状無機物としては、メタケイ酸カルシウ
ム、チタン酸カリウム系繊維、およびケイ酸マグネシウ
ム系繊維に限らず、アルミナ(^1203)、炭化けい
素(SiC)、窒化けい素(Si3N、)、窒化はう素
(BN)等の耐熱性に優れた無機物が挙げられる。また
剣状、繊維状の結晶形状には、これらの形状に類似する
細管状、短冊状の結晶形状も含まれる。また針状無機物
には天然産に限らず人工的に製造される無機物も含まれ
る。
ム、チタン酸カリウム系繊維、およびケイ酸マグネシウ
ム系繊維に限らず、アルミナ(^1203)、炭化けい
素(SiC)、窒化けい素(Si3N、)、窒化はう素
(BN)等の耐熱性に優れた無機物が挙げられる。また
剣状、繊維状の結晶形状には、これらの形状に類似する
細管状、短冊状の結晶形状も含まれる。また針状無機物
には天然産に限らず人工的に製造される無機物も含まれ
る。
上述の針状無機物および繊維状無機物は、耐熱性に優れ
強度が高い特長があるが、それぞれ単独で成型物になり
得る温度が高く、この高い温度でそれぞれ焼成すると、
針状あるいは繊維形態が崩れ、一般的な無機質焼結物と
同様に機械加工性等が劣るようになる。
強度が高い特長があるが、それぞれ単独で成型物になり
得る温度が高く、この高い温度でそれぞれ焼成すると、
針状あるいは繊維形態が崩れ、一般的な無機質焼結物と
同様に機械加工性等が劣るようになる。
またガラス状無機物としては、一般ガラスがすべて考え
られるが、代表的なガラス状無機物として第1表に示さ
れるものがある。これらの各種力゛ラス状無機物は、第
2表に示す特性を有する。
られるが、代表的なガラス状無機物として第1表に示さ
れるものがある。これらの各種力゛ラス状無機物は、第
2表に示す特性を有する。
このガラス状無機物の選択は、アディティブ回路基板の
用途によりなされる。
用途によりなされる。
(以下本頁余白)
(1])本発明のアディティブ回路話(反の製造方法ε
J、前記ガラス状y11(載物とこのガラス状2■6機
物の軟化温度では熔融しない前記全1状無槻物または前
記繊維状無機物とを含む混合物を混練し、また必要あれ
4.1、第三の1.仁加物を添加して混練して混合物を
つく る。
J、前記ガラス状y11(載物とこのガラス状2■6機
物の軟化温度では熔融しない前記全1状無槻物または前
記繊維状無機物とを含む混合物を混練し、また必要あれ
4.1、第三の1.仁加物を添加して混練して混合物を
つく る。
次に■第一の方法とし°ζ、表面にブラスト加」ニによ
りrめ凹凸が形成された金型を用いて、上記混合物を甲
板状に成型して、金型の凹凸を成型物の表面に転:lj
:する。この成型物を上記カラス状(!1(載物の軟化
温度以」−9てあって上記針状無機物または11(錐状
無機物の7借、■;シない〆W!1IIEて焼成し′(
アう一イティブ回路占I:坂を1する。なお「プラスI
・加工」とは、細砂を金属面に吹き伺り゛ζ金屈而面(
σ[BPさせ、金属表面に凹凸を形成さゼる加工であり
、その表16目′11さの測定力法は、+1SB 06
01によっ゛ζj、見定され′ζいる。
りrめ凹凸が形成された金型を用いて、上記混合物を甲
板状に成型して、金型の凹凸を成型物の表面に転:lj
:する。この成型物を上記カラス状(!1(載物の軟化
温度以」−9てあって上記針状無機物または11(錐状
無機物の7借、■;シない〆W!1IIEて焼成し′(
アう一イティブ回路占I:坂を1する。なお「プラスI
・加工」とは、細砂を金属面に吹き伺り゛ζ金屈而面(
σ[BPさせ、金属表面に凹凸を形成さゼる加工であり
、その表16目′11さの測定力法は、+1SB 06
01によっ゛ζj、見定され′ζいる。
また(り第二の方法として、成IQ、′Jに成型金型よ
り取り除くために用いる離型用フィルムの表面をマット
加工により予め旧1面化して、この組曲を成1−1シ物
の2に而にΦ1:: :J4する。この成型物を−4−
記カラ′、l、仄ブH1t l;tl物の「欧化温度す
上であって]−記旧仄、ju% l、ilj ’(:゛
Hテ1−)、は11iiイ1」入!ji%載物の溶融し
ない温)−C2こ1(1L成してアうイティフ回路基板
を得る。
り取り除くために用いる離型用フィルムの表面をマット
加工により予め旧1面化して、この組曲を成1−1シ物
の2に而にΦ1:: :J4する。この成型物を−4−
記カラ′、l、仄ブH1t l;tl物の「欧化温度す
上であって]−記旧仄、ju% l、ilj ’(:゛
Hテ1−)、は11iiイ1」入!ji%載物の溶融し
ない温)−C2こ1(1L成してアうイティフ回路基板
を得る。
、二のIJ11合のソイルノ、としては、ボリゾ1.l
ピレン、ポリ上ステル等の!;ハL+J塑性の安価なフ
ィルムが挙りf、、’ll、、表面が3〜1メtmのl
芋さに旧[間化した4)のが!l+’ :f L、い。
ピレン、ポリ上ステル等の!;ハL+J塑性の安価なフ
ィルムが挙りf、、’ll、、表面が3〜1メtmのl
芋さに旧[間化した4)のが!l+’ :f L、い。
さらにソイルノ、の他Gごアルミ:1°N″つの、1)
な金属Q゛110110表面ト加上をJAl!L、た4
)のを用いてもよい。なお1マット加上1と4.1、フ
ィルJ・面分プラスト加工してに111かい凹凸を(=
1リソfルノ、而を艶消しにする加工であり、その表面
組、′l・の測定力法(コ 、113n 0601によ
って規定され゛(いる。
な金属Q゛110110表面ト加上をJAl!L、た4
)のを用いてもよい。なお1マット加上1と4.1、フ
ィルJ・面分プラスト加工してに111かい凹凸を(=
1リソfルノ、而を艶消しにする加工であり、その表面
組、′l・の測定力法(コ 、113n 0601によ
って規定され゛(いる。
バ、た(■第三の方法として、上記混合物を−・(ノ板
状に成型する。この−火成型時および後土稈゛(成型I
IIJの表11・1部分G、二焼成f11.!11度で
j旗ti&する物y(を含むよ)1.ニルり胃し、1を
己力′ラス4大F!!! ?現り勿の11火山メ晶度以
J−1(コあっ′CC上記状状無機物たは繊維状態(現
物の溶(、’+1! シない温度で焼成してアディティ
ゾ回1/8基板をi:する。
状に成型する。この−火成型時および後土稈゛(成型I
IIJの表11・1部分G、二焼成f11.!11度で
j旗ti&する物y(を含むよ)1.ニルり胃し、1を
己力′ラス4大F!!! ?現り勿の11火山メ晶度以
J−1(コあっ′CC上記状状無機物たは繊維状態(現
物の溶(、’+1! シない温度で焼成してアディティ
ゾ回1/8基板をi:する。
ここで上記逸1ikする物質としては、+”it b、
パラフィン、鉱油、載4′5)、スヂレン、メチルアル
コール、エチルアル」−ル、j!)硬化性樹脂、!:1
シ可塑性樹脂等が挙げられる。またこの逸11にする物
質の配合lt]を増加するほど、望ましい粗面化が行わ
れる。
パラフィン、鉱油、載4′5)、スヂレン、メチルアル
コール、エチルアル」−ル、j!)硬化性樹脂、!:1
シ可塑性樹脂等が挙げられる。またこの逸11にする物
質の配合lt]を増加するほど、望ましい粗面化が行わ
れる。
ごの粗面化は、無機物複合体の内部まで行われると、ア
ディティブIO1路基板の耐湿性が悪化するため、表層
部分に皆めでおくことが重要である。この方法によれは
、溶剤、水、薬品等によりあらかじめ膨潤さ−Uたり、
熔解さ−Uたりした後に焼成しても良い結果を得ること
ができる。また焼成温度で水分イが逸1&する無機物の
水酸化物または水和物を加えて&層部分を作製すること
もてきる。
ディティブIO1路基板の耐湿性が悪化するため、表層
部分に皆めでおくことが重要である。この方法によれは
、溶剤、水、薬品等によりあらかじめ膨潤さ−Uたり、
熔解さ−Uたりした後に焼成しても良い結果を得ること
ができる。また焼成温度で水分イが逸1&する無機物の
水酸化物または水和物を加えて&層部分を作製すること
もてきる。
さらに■第四の方法として、上記混合物を5F 1M状
に成型して、」−4記ガラス状無機物の軟化4!L L
IJヌ上であっ゛ζζ上記状状無機物た(」繊維状jH
1% l現物の溶融しない温度でS′ε成した後、」−
記ガラス状無機物を熔解する液体11弓こ浸漬して、焼
成物の表面を凹凸にしてアディティブ回路基板を得る。
に成型して、」−4記ガラス状無機物の軟化4!L L
IJヌ上であっ゛ζζ上記状状無機物た(」繊維状jH
1% l現物の溶融しない温度でS′ε成した後、」−
記ガラス状無機物を熔解する液体11弓こ浸漬して、焼
成物の表面を凹凸にしてアディティブ回路基板を得る。
−(記4つの方fJkで得られるアディティソ回路U。
扱の表面組さである凹凸は、Rmaxが33〜50μ口
ICある。これによりアディティブ回路〕、(板のメッ
キ1督との接着力は強大化する。
ICある。これによりアディティブ回路〕、(板のメッ
キ1督との接着力は強大化する。
:J: )ご上記製法で1vられるアブイブイブ回路占
(11りのJ、l’U結成型性はガラス状無機物により
伺+1され、にた機械的強度は剣状無機物または11(
錐状j(((載物にまりイクJ、すされ、その結果とし
て)′ディティ1回路基Jljに優れた機械加工性が生
し、アディティブ回1/8占(板に1°リル穴明り加」
二あるいはりJ削加工を施すことが可能となる。
(11りのJ、l’U結成型性はガラス状無機物により
伺+1され、にた機械的強度は剣状無機物または11(
錐状j(((載物にまりイクJ、すされ、その結果とし
て)′ディティ1回路基Jljに優れた機械加工性が生
し、アディティブ回1/8占(板に1°リル穴明り加」
二あるいはりJ削加工を施すことが可能となる。
((1)前記剣状7!!% iIl物または繊維状無機
物とガラス仄無IJtt物とを混練するときの混合比は
、最終lid品として(1iられる゛)′ディティ1回
v(を基11ソの111途により定められる。この混合
比は、剣状または縄随状ブ、11(載物2〜50 jT
j )’iJ%に対してガラス状l!1(載物98〜5
0 iij iIl、%の範囲が望ましい。多1状また
は繊随扶無れに物を2市h1%未満にし、ガラス状無機
物が90i1+10%を超えると、jIIられる印刷量
t/:G !、(板は、1幾械的強度に乏しく、機械加
工性の劣るものになる。
物とガラス仄無IJtt物とを混練するときの混合比は
、最終lid品として(1iられる゛)′ディティ1回
v(を基11ソの111途により定められる。この混合
比は、剣状または縄随状ブ、11(載物2〜50 jT
j )’iJ%に対してガラス状l!1(載物98〜5
0 iij iIl、%の範囲が望ましい。多1状また
は繊随扶無れに物を2市h1%未満にし、ガラス状無機
物が90i1+10%を超えると、jIIられる印刷量
t/:G !、(板は、1幾械的強度に乏しく、機械加
工性の劣るものになる。
また剣状または繊維状無機物が50重量%を超えて、ガ
ラス状態(現物を50車量%未l&iにすると、焼結成
型性の良くない印刷回1/8基板となる。さらに剣状ま
たは繊維状無機物が80重量%ζカラス状無機物を20
車量%となるまでカラス状無機物を少なくすると、焼成
温度を高くするごとにより焼結成型さ才)、るが、(J
■械加工性暮若十劣るようになる。
ラス状態(現物を50車量%未l&iにすると、焼結成
型性の良くない印刷回1/8基板となる。さらに剣状ま
たは繊維状無機物が80重量%ζカラス状無機物を20
車量%となるまでカラス状無機物を少なくすると、焼成
温度を高くするごとにより焼結成型さ才)、るが、(J
■械加工性暮若十劣るようになる。
また混練は、常温−5゛圧下で各無機物が均一にtit
合されるまこ行われる。
合されるまこ行われる。
また第三の添加物としては、上記機械的特性および焼結
成型性をfiJなわない範囲で、好ましくは」二記混合
比において20重量%以下で添加する。この添加物とし
ては混合物の成型性または混合物の焼結性を向−1−さ
ゼ、あるいはアディティゾ回路基板の誘電11ケ性を変
更させる物質が望ましい。この焼結性を向上さ−lる添
加物を加えて混#!ずれは、焼成a&度を低くするごと
ができ、かつ密度の商い゛1ディティゾ回173基板を
得ることが一層きる。
成型性をfiJなわない範囲で、好ましくは」二記混合
比において20重量%以下で添加する。この添加物とし
ては混合物の成型性または混合物の焼結性を向−1−さ
ゼ、あるいはアディティゾ回路基板の誘電11ケ性を変
更させる物質が望ましい。この焼結性を向上さ−lる添
加物を加えて混#!ずれは、焼成a&度を低くするごと
ができ、かつ密度の商い゛1ディティゾ回173基板を
得ることが一層きる。
なおアディティソ回路基板の誘電特性を変更する方法と
しては、−1一連の第三の添加物として誘電率を高くJ
−る二酸化チタンわ)末または誘電14を低く」るti
tうt俊等の)j1曳物質がj巽ぽれるイ山に、汀シに
束時に所望の誘電特性をi’i’lるガラス状無機物を
」×1.1<ずろ方法を1;1″っでもよい。このとき
のカラス仄無(ハt’151としては、−11y的な電
気絶糾性を11する場合に4J、第2表に示すように誘
電イ45.11の13ガソスかj套沢され、11:た低
い訂う電率が要求される場合にし1、例えは同しく誘電
率が3.56の1〕カラスがj巽11・3さ112、さ
らに商いlir′J電率が要求される場合には1’b(
1,BaO等の含イ1量の多いガラスが選1)(さJl
、る。
しては、−1一連の第三の添加物として誘電率を高くJ
−る二酸化チタンわ)末または誘電14を低く」るti
tうt俊等の)j1曳物質がj巽ぽれるイ山に、汀シに
束時に所望の誘電特性をi’i’lるガラス状無機物を
」×1.1<ずろ方法を1;1″っでもよい。このとき
のカラス仄無(ハt’151としては、−11y的な電
気絶糾性を11する場合に4J、第2表に示すように誘
電イ45.11の13ガソスかj套沢され、11:た低
い訂う電率が要求される場合にし1、例えは同しく誘電
率が3.56の1〕カラスがj巽11・3さ112、さ
らに商いlir′J電率が要求される場合には1’b(
1,BaO等の含イ1量の多いガラスが選1)(さJl
、る。
、l :l +、 LコJ、す仔、■に所望の誘電率を
γ1−Jるアディティソ回1/1を基1反をj傅造する
ごとがてきる。
γ1−Jるアディティソ回1/1を基1反をj傅造する
ごとがてきる。
(CI) このllこ純され1.= 11〜合物は、
アゾ7fテ2イフ回1烙基扱として最適な甲板状に成型
される。この成型法としCは、加圧圧1ii成型、押出
成型、!1j出成11°シゝ9′;各種の成型法による
ごとが−できろ。ノ1.冒こ加圧圧イ111成型庄ノ、
押出成型時に剣状または縄眉1状無ta物0> 14′
を径をアディティフ回11?r)−;板の水=+’方向
に配向する、1、)に成型′Jるごとにより、この基板
の水平力向の1法収縮をより小さくすることがζきると
ともに、水平方向の熱放散性および厚さ方向の熱遮1折
性をより一層高くすることができる。
アゾ7fテ2イフ回1烙基扱として最適な甲板状に成型
される。この成型法としCは、加圧圧1ii成型、押出
成型、!1j出成11°シゝ9′;各種の成型法による
ごとが−できろ。ノ1.冒こ加圧圧イ111成型庄ノ、
押出成型時に剣状または縄眉1状無ta物0> 14′
を径をアディティフ回11?r)−;板の水=+’方向
に配向する、1、)に成型′Jるごとにより、この基板
の水平力向の1法収縮をより小さくすることがζきると
ともに、水平方向の熱放散性および厚さ方向の熱遮1折
性をより一層高くすることができる。
(el 次に成型された平板は、ガラス状無機物の軟
化づる温度以上であって、釦無機を現物または繊維状無
機物の/8融しない温度で焼成される。この焼成条件は
、焼成温度を除いて一般的なセラミ’)クスの焼成条件
で行われる。また焼成温度は一般の無(λU物焼結体の
焼成温度に比べて、低い温度であることから、Vε成エ
ネルギーを低減し焼成設備を簡素化しく47る。また剣
状無機物また繊にイr状jlj%載物の融点以下で焼成
されるため、剣状無機物また番、1繊ff<E状無機物
がその緒特性を損なうことなく、等力性の固体カラス状
無機物の平板中に混在する。
化づる温度以上であって、釦無機を現物または繊維状無
機物の/8融しない温度で焼成される。この焼成条件は
、焼成温度を除いて一般的なセラミ’)クスの焼成条件
で行われる。また焼成温度は一般の無(λU物焼結体の
焼成温度に比べて、低い温度であることから、Vε成エ
ネルギーを低減し焼成設備を簡素化しく47る。また剣
状無機物また繊にイr状jlj%載物の融点以下で焼成
されるため、剣状無機物また番、1繊ff<E状無機物
がその緒特性を損なうことなく、等力性の固体カラス状
無機物の平板中に混在する。
焼成されたこの平板は、徐冷される。
以上述べたように、本発明によれば、剣状無機物または
繊組、状無機物が剣状または繊維状の形態を保すながら
等力性固体ガラス状無機物中に混在してなる無機物複合
板の表面に敬細な多数の凹凸を形成“3−ることにより
、 ■ メツ十屓との接着力を強大化することができ、■
?!1的に安定な剣状無機物まノ、は(1いイ(状無機
物か最終110品中に熔融されJ′に混在するため、I
リルによる穴明り加工等のlJ、1!械加工がiiJ能
となり、かつ!:(シ膨張が小さく基板の寸法変化か少
なく、1、勾 またガラス状無機物のめ結晶化すること
によ〃)、11°ε成温度以上の温度に対してもi1熱
性があり、(131械的強度が高く、しかも温湿度にり
1して電気特性が安定する、 ■ また成型時に針状または繊K(]、状111(博物
の14i条を基板の水平方向に配向するように成型する
ことにより、この基板の水平方向のl法収縮を、1、り
小さくすることができるとともに、水平方向の!119
放11、(性および厚さ方向の熱遮断性をより一層高く
することができる、 ■ また低温焼成により、省J−不ルギーで441)設
(A:iを簡素化し、かつ廃棄物で公害問題を生ずるこ
となく、安(曲に隼!Ji貴゛できる、(jl、れたす
J果がある。
繊組、状無機物が剣状または繊維状の形態を保すながら
等力性固体ガラス状無機物中に混在してなる無機物複合
板の表面に敬細な多数の凹凸を形成“3−ることにより
、 ■ メツ十屓との接着力を強大化することができ、■
?!1的に安定な剣状無機物まノ、は(1いイ(状無機
物か最終110品中に熔融されJ′に混在するため、I
リルによる穴明り加工等のlJ、1!械加工がiiJ能
となり、かつ!:(シ膨張が小さく基板の寸法変化か少
なく、1、勾 またガラス状無機物のめ結晶化すること
によ〃)、11°ε成温度以上の温度に対してもi1熱
性があり、(131械的強度が高く、しかも温湿度にり
1して電気特性が安定する、 ■ また成型時に針状または繊K(]、状111(博物
の14i条を基板の水平方向に配向するように成型する
ことにより、この基板の水平方向のl法収縮を、1、り
小さくすることができるとともに、水平方向の!119
放11、(性および厚さ方向の熱遮断性をより一層高く
することができる、 ■ また低温焼成により、省J−不ルギーで441)設
(A:iを簡素化し、かつ廃棄物で公害問題を生ずるこ
となく、安(曲に隼!Ji貴゛できる、(jl、れたす
J果がある。
以下本発明の態様を明確にするために、実施例を示して
さらに具体的に説明り一るが、ここに示す例はあくまで
も−・例であってこれにより本発明の範囲をlif+!
定するものではない。
さらに具体的に説明り一るが、ここに示す例はあくまで
も−・例であってこれにより本発明の範囲をlif+!
定するものではない。
(実施例1)
出発原料として平均径0.blm、平均長80μmの六
チタン酸カリウム繊維(K2O・6 ’ri 02 )
と第2表に示した1−ルガラスパウダとをそれぞれ4文
・16の市lIl比で配合し、混合機を用いて各原料が
均一に混合するまで當温當圧下で混練Jる。
チタン酸カリウム繊維(K2O・6 ’ri 02 )
と第2表に示した1−ルガラスパウダとをそれぞれ4文
・16の市lIl比で配合し、混合機を用いて各原料が
均一に混合するまで當温當圧下で混練Jる。
次Gこごの混練した混合物を押出成型機のホッパに入れ
てタイ、Jり厚さl m++の平板状に押出成型して2
5 cm ×21) (・mの大きさの平板を作製する
。
てタイ、Jり厚さl m++の平板状に押出成型して2
5 cm ×21) (・mの大きさの平板を作製する
。
この平板を、片面がプラスト加工Gこより深さ15μm
の1甘さに仕」−げた2、01厚のスデンレススチール
板に挟み、約250 ’C1500kg / ctて5
分間熱圧成型を行・う。この成型された平板を焼成炉内
で、700 ’C13時間焼成して表面111さくRm
ax)が7〜2371 mの厚さl ++l+の25
cm X 25 cmのアディティブ回1i’6 占!
、II9.をi)I ノこ 。
の1甘さに仕」−げた2、01厚のスデンレススチール
板に挟み、約250 ’C1500kg / ctて5
分間熱圧成型を行・う。この成型された平板を焼成炉内
で、700 ’C13時間焼成して表面111さくRm
ax)が7〜2371 mの厚さl ++l+の25
cm X 25 cmのアディティブ回1i’6 占!
、II9.をi)I ノこ 。
(実施例11)
出発原料としζ平均径0.1μm、平均長8[) /I
mの六チタン酸カリウムtル維(K20 ・li i
’i 0.! )と、第2表に示したI3ガラスパウダ
と、tJ・)酸(+131103 )とをそれぞれ3文
・17対■の重量比で配合し、実施例Iと同様に混練し
て押出成型し、151さ2開の25釦X 25 cmの
大きさの平板を作i1H!!する。
mの六チタン酸カリウムtル維(K20 ・li i
’i 0.! )と、第2表に示したI3ガラスパウダ
と、tJ・)酸(+131103 )とをそれぞれ3文
・17対■の重量比で配合し、実施例Iと同様に混練し
て押出成型し、151さ2開の25釦X 25 cmの
大きさの平板を作i1H!!する。
−刀、−1−記三1f配合にさらに20市用96のスチ
レンを加えて混#□l混合物をつくる。ごの115合物
を(7二市1現に、1、り上記平板の両表面に20μm
の19−さに均一に塗る。
レンを加えて混#□l混合物をつくる。ごの115合物
を(7二市1現に、1、り上記平板の両表面に20μm
の19−さに均一に塗る。
次いてこの混合物が塗布された甲1反を I(i(+’
(:’ζ24時間乾燥し゛ζスチレンを逸散さゼた後、
ごの甲412の両に面Gご、マット加工を施した40
tl m厚のボ’) フl:”ヒレ7−) イルJhを
配置し、約1 (i 0 ’C14(l kg2・7(
・nlこ5舅間ζ:(シ圧成型を行・)。徐冷後このコ
l111シを1[J、り出し、フィルムを取り除き、焼
成炉内(700゛C13時間焼成して表面粗さくRma
x)が3〜I5、・1mの厚さ2■の25 cm X
25 cmのアディティソ回1/、?基板をflた。
(:’ζ24時間乾燥し゛ζスチレンを逸散さゼた後、
ごの甲412の両に面Gご、マット加工を施した40
tl m厚のボ’) フl:”ヒレ7−) イルJhを
配置し、約1 (i 0 ’C14(l kg2・7(
・nlこ5舅間ζ:(シ圧成型を行・)。徐冷後このコ
l111シを1[J、り出し、フィルムを取り除き、焼
成炉内(700゛C13時間焼成して表面粗さくRma
x)が3〜I5、・1mの厚さ2■の25 cm X
25 cmのアディティソ回1/、?基板をflた。
(実施例用)
出発原料として平均(そ0.Ipm、平均長80μmの
六チクン酸カリウム繊IG < K20 ・6 Ti
02 )と、平均fM 112μm’ −、4’均Ja
il(lumのメクケイ酸カルシウム(ウォラストリ・
イト)と、第2表に示したΔガーンスバウタとをそれぞ
れ2りI2対6の口■種化て配合し、さらにメチルアル
コールをその25市1社%加え”C3本L1−ルで粘稠
な形態を保つように各原料が均一に混合するまで當温常
圧下で混練する。
六チクン酸カリウム繊IG < K20 ・6 Ti
02 )と、平均fM 112μm’ −、4’均Ja
il(lumのメクケイ酸カルシウム(ウォラストリ・
イト)と、第2表に示したΔガーンスバウタとをそれぞ
れ2りI2対6の口■種化て配合し、さらにメチルアル
コールをその25市1社%加え”C3本L1−ルで粘稠
な形態を保つように各原料が均一に混合するまで當温常
圧下で混練する。
次にこの混練した混合物を2本1」−ルてJ叫圧しなか
らl、Qm11厚のシート状成型物を作製する。
らl、Qm11厚のシート状成型物を作製する。
このシート状成型板を25 c+n X 25 Cmの
人きさとしζ200℃でl[jtl、5間乾燥し”ζメ
チルアル:I−ルを除去した後、約2501シ、 50
0kg / cIIl ’j’ 5 ’)月1)1!リ
シ圧成型を行い、密度の向」−をはかる。
人きさとしζ200℃でl[jtl、5間乾燥し”ζメ
チルアル:I−ルを除去した後、約2501シ、 50
0kg / cIIl ’j’ 5 ’)月1)1!リ
シ圧成型を行い、密度の向」−をはかる。
一方、上記間合配合にさらにメチルアルコールを30i
1口d%加えて、より一層粘稠なltk状物質にし、こ
の液状物質を50°Cに加り1シした30 、II m
厚のアルミニウム箔に塗布する。
1口d%加えて、より一層粘稠なltk状物質にし、こ
の液状物質を50°Cに加り1シした30 、II m
厚のアルミニウム箔に塗布する。
次にこのアルミニウム箔の塗布面が」二記シート4ノ、
成型板の両表面に重なるよ・うに加圧子に′りし2、−
ノー1・状成型1反の両表面に30μm厚の薄l模を作
製し。
成型板の両表面に重なるよ・うに加圧子に′りし2、−
ノー1・状成型1反の両表面に30μm厚の薄l模を作
製し。
た後、この成型板を200 ’cから700”(:まご
の温度勾配のある酸化雰囲気のトンネル炉l)I+:0
.3m15jの速度で走行さ−Uて約1時間焼成して表
面゛111さくRmax)が5〜18/1111の厚さ
l、Ql1県、大きさ25cm X 25 Cmのア
ディティブ回1?11基板を得た。
の温度勾配のある酸化雰囲気のトンネル炉l)I+:0
.3m15jの速度で走行さ−Uて約1時間焼成して表
面゛111さくRmax)が5〜18/1111の厚さ
l、Ql1県、大きさ25cm X 25 Cmのア
ディティブ回1?11基板を得た。
(実施例IV)
出発原料としてski均径6.0μm、平均長60 p
mのメタゲ・i n2カルシウム(つAラスト・ノー
イl)と第2表に示したEカラスパウダとをそれぞれ4
苅6の!1弓1)比て配合し、実施例1と同4.Tjに
混練する。
mのメタゲ・i n2カルシウム(つAラスト・ノー
イl)と第2表に示したEカラスパウダとをそれぞれ4
苅6の!1弓1)比て配合し、実施例1と同4.Tjに
混練する。
次にごの混1rlj L、た混合物を半分に分り、その
−力にスチレンを70重Ju%加えて11°月′l L
、Q、濁イ1ンを作る。この懸’/G ;lkを、マ
ソト力目二[が施され)こ40 p m厚のふっ素フィ
ルムの表面に、■ii問によりlr、!さイ0 //
m ?こなるよ・)6.二塗布し、200℃で10 I
t;)間、加f′!シ乾燥してスチレンを逸11&さ−
Uる。
−力にスチレンを70重Ju%加えて11°月′l L
、Q、濁イ1ンを作る。この懸’/G ;lkを、マ
ソト力目二[が施され)こ40 p m厚のふっ素フィ
ルムの表面に、■ii問によりlr、!さイ0 //
m ?こなるよ・)6.二塗布し、200℃で10 I
t;)間、加f′!シ乾燥してスチレンを逸11&さ−
Uる。
次に上記混合物の他力をこの/S・っ累フィルム内に配
置し−(金(1′!に入れ、約1)(0°(:、2(1
0kg / cnlて、153r lad !’71圧
成型を行・)。徐冷後ごの成型物を取り出し、ソイルノ
、を取り除き、J3“L成炉内で700 ’C13時間
焼成して表面オ且さくRmax)か3〜16μmのI)
;iさ2.lnmの2512m X 25 cmの大き
さのアう−イティゾ回路基板を冑だ。
置し−(金(1′!に入れ、約1)(0°(:、2(1
0kg / cnlて、153r lad !’71圧
成型を行・)。徐冷後ごの成型物を取り出し、ソイルノ
、を取り除き、J3“L成炉内で700 ’C13時間
焼成して表面オ且さくRmax)か3〜16μmのI)
;iさ2.lnmの2512m X 25 cmの大き
さのアう−イティゾ回路基板を冑だ。
(実施例■)
出発原料として・(i均径0.5/1m平均j叱5oμ
mの六チクン酸カリウ11蛾維(K2O・G ’I’i
07 )と第2表に示しゾこ1〕ガラスパウクとをそ
れぞ4”L 4対6の車星比で配合し、実施例Iと11
旧、pに混練場る。
mの六チクン酸カリウ11蛾維(K2O・G ’I’i
07 )と第2表に示しゾこ1〕ガラスパウクとをそ
れぞ4”L 4対6の車星比で配合し、実施例Iと11
旧、pに混練場る。
Qs b、:ごの混練した混合物を半分に分り、その−
・力を金型に入れ、約150℃、200kg / cn
lで、15分間熱圧成型を行〜)。徐冷後この成型物を
取り出し、厚さ2.()門の25 cm X 25 (
・Inの人きさの平成をiWする。
・力を金型に入れ、約150℃、200kg / cn
lで、15分間熱圧成型を行〜)。徐冷後この成型物を
取り出し、厚さ2.()門の25 cm X 25 (
・Inの人きさの平成をiWする。
次に1−記混合物の他力に水酸化アルミニウム(八l
(011) 3 ) 20市量%と、メナル−1′ル−
2−ル50 f旧、1%とを加え”(R’11’l シ
液状↑りJ質をつくる。この液状物質を塗布機により」
二記平扱の両表面に、501すm厚のiW +194と
なるように塗布ず・にJoこの甲板を200 ’cて1
0時間、加熱中2燥して水酸化−)′ルミニ・1ツノ・
の一部を11(化物にし、かつメチルアル、:I −/
l/を逸11Ti、さ−B);二l&、1.l’L 成
炉内’(: 750℃、31h5間焼成して表面1]1
さくRmax)が15−211 It mの厚さ2.1
II11の25 cm X 25 C1l+の大きさの
アディティーノ 1p目l18.!l!、1反を()I
ノこ。
(011) 3 ) 20市量%と、メナル−1′ル−
2−ル50 f旧、1%とを加え”(R’11’l シ
液状↑りJ質をつくる。この液状物質を塗布機により」
二記平扱の両表面に、501すm厚のiW +194と
なるように塗布ず・にJoこの甲板を200 ’cて1
0時間、加熱中2燥して水酸化−)′ルミニ・1ツノ・
の一部を11(化物にし、かつメチルアル、:I −/
l/を逸11Ti、さ−B);二l&、1.l’L 成
炉内’(: 750℃、31h5間焼成して表面1]1
さくRmax)が15−211 It mの厚さ2.1
II11の25 cm X 25 C1l+の大きさの
アディティーノ 1p目l18.!l!、1反を()I
ノこ。
(実施例Vl)
出発原イ′]として平均径0.177 m 、’1ノ均
148011 mの六チクン酌カリウムfへ維(1f2
0 ・G Ti (i))と第2表に示したEカラスパ
ウタとをそれぞれ4!!1Gの屯1.1比で配合し、実
施例Iと同様に混練しC押出成型し、厚さ2m11の2
J t:m X 25 c(Hの人きさの11′板?:
l′l製J”?)。
148011 mの六チクン酌カリウムfへ維(1f2
0 ・G Ti (i))と第2表に示したEカラスパ
ウタとをそれぞれ4!!1Gの屯1.1比で配合し、実
施例Iと同様に混練しC押出成型し、厚さ2m11の2
J t:m X 25 c(Hの人きさの11′板?:
l′l製J”?)。
・二〇甲扱を電気炉内で、800℃で2時1i団1L成
し、>+1(pi物決合扱をf/る。ごの無機物複合1
及を10%の′1・:’+ /!!のふっ化氷素酸濱液
中に平均粒1¥3/1mの酸化りrIム(’Lr203
)をIO市量96混合したl客演を71、プレーにて
jli% lil物複合1にの−J、層に吹き伺り、表
j督部のカノス成づトを部分的に溶解し7て、表面1′
11さくRmax)か5〜20.17 mのアディティ
フ回路基板をI、l ノこ 。
し、>+1(pi物決合扱をf/る。ごの無機物複合1
及を10%の′1・:’+ /!!のふっ化氷素酸濱液
中に平均粒1¥3/1mの酸化りrIム(’Lr203
)をIO市量96混合したl客演を71、プレーにて
jli% lil物複合1にの−J、層に吹き伺り、表
j督部のカノス成づトを部分的に溶解し7て、表面1′
11さくRmax)か5〜20.17 mのアディティ
フ回路基板をI、l ノこ 。
(試験方法13よひ試験結果)
ワ、」、のよ・)にして(17られた実施例I〜■1ま
でのアディティソ回路基1kに無7It h’+″銅メ
7・キを施し、さらに化1η+1同メッキとして硫酸釘
11メッキを)Liして30μm厚のメッキ層を作製す
る。このメッキ層の引き剥がし強さをJyIIべ、評価
した。
でのアディティソ回路基1kに無7It h’+″銅メ
7・キを施し、さらに化1η+1同メッキとして硫酸釘
11メッキを)Liして30μm厚のメッキ層を作製す
る。このメッキ層の引き剥がし強さをJyIIべ、評価
した。
第3表1,1その試験結果である。これらの試験結果は
、ず−・てア)−゛イティゾ回路、2I(仮としζ実用
に供することのできる結果であった。
、ず−・てア)−゛イティゾ回路、2I(仮としζ実用
に供することのできる結果であった。
(以−1本1°を余白)
第 13 表
特許出願人
代理人 弁理士 ノt 11 u’j;¥(ばか1名
) 手*l’r: *n↑jE¥片 昭和58年4ノJt、3 fEl 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年 特 許 願 第 177994 号2、
発明の名称 アデイケイフ回路基扱3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都目黒区大岡山1丁目35番22号名
称 ニソカン上業株式会社 代表者 諸井宜夫 4、代理人 G、 ?lli止によりL?+加゛J’る発明の数
4(シフ、 ?Ni正の対象 〔)用仔ル〕 2、特許請求の範囲 (1,+ !I状無機物または繊維状無機物力<!1
状またはt)(紐状の形!ぶを保らながら等力性固体カ
ラス伏j1!((?1(物中に11こ在L7てなイ〕無
till物複合j5の表面に1ず1(細スI′)・故の
凹凸が形成されたアゾ、fう〜イソ回路基板。
) 手*l’r: *n↑jE¥片 昭和58年4ノJt、3 fEl 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年 特 許 願 第 177994 号2、
発明の名称 アデイケイフ回路基扱3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都目黒区大岡山1丁目35番22号名
称 ニソカン上業株式会社 代表者 諸井宜夫 4、代理人 G、 ?lli止によりL?+加゛J’る発明の数
4(シフ、 ?Ni正の対象 〔)用仔ル〕 2、特許請求の範囲 (1,+ !I状無機物または繊維状無機物力<!1
状またはt)(紐状の形!ぶを保らながら等力性固体カ
ラス伏j1!((?1(物中に11こ在L7てなイ〕無
till物複合j5の表面に1ず1(細スI′)・故の
凹凸が形成されたアゾ、fう〜イソ回路基板。
(2)表面の微細な多数の凹凸はlマmaXが3〜50
11111である特i71請求の範囲第fil頃に記・
1&のアディティソ回1洛基板。
11111である特i71請求の範囲第fil頃に記・
1&のアディティソ回1洛基板。
(3)剣状無機物はメタケイ酸カルシウムとある116
詰請求の範囲第(1,i項または第(2)頃に記載のア
ディティブ回路基1反。
詰請求の範囲第(1,i項または第(2)頃に記載のア
ディティブ回路基1反。
+i+−(、jli維状錐状!(載物はヂタン酸カリウ
ム糸繊維またはゲ・イ酸マクネシウム系繊維である特#
’r alt求の範囲第(lllfjないし%5−(3
1頃のいずれかに記載のアディティソ回路基扱。
ム糸繊維またはゲ・イ酸マクネシウム系繊維である特#
’r alt求の範囲第(lllfjないし%5−(3
1頃のいずれかに記載のアディティソ回路基扱。
Claims (3)
- (1)剣状無機物または繊維状無機物が針状または繊維
状の形態を保ちながら等方性固体ガラス状無機物中に混
在してなる無機物複合板の表面に微細な多数の凹凸が形
成されたアディティブ回路基板。 - (2)表面の微細な多数の凹凸はRmaxが3〜50μ
mである特許請求の範囲第(1)項に記載のアディティ
ブ回路基板。 - (3)剣状無機物はメタケイ酸カルシウムである特許請
求の範囲第+11項または第(2)項に記載のアディテ
ィブ回路基板。 (3)繊維状無機物はチタン酸カリウム系繊維またはゲ
イ酸マグネシウム系繊維である特許請求の範囲第(1)
項ないし第第(3)項のいずれかに記載のアディティブ
回路基板。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57177994A JPS5968104A (ja) | 1982-10-09 | 1982-10-09 | アデイテイブ回路基板 |
| US06/493,269 US4524098A (en) | 1982-10-09 | 1983-05-10 | Board for additive circuits |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57177994A JPS5968104A (ja) | 1982-10-09 | 1982-10-09 | アデイテイブ回路基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5968104A true JPS5968104A (ja) | 1984-04-18 |
| JPS6235202B2 JPS6235202B2 (ja) | 1987-07-31 |
Family
ID=16040678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57177994A Granted JPS5968104A (ja) | 1982-10-09 | 1982-10-09 | アデイテイブ回路基板 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4524098A (ja) |
| JP (1) | JPS5968104A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219195A (ja) * | 1985-03-21 | 1986-09-29 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 電子回路用プリント基板 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0117258B1 (de) * | 1983-02-23 | 1987-05-20 | Ibm Deutschland Gmbh | Verfahren zur Herstellung von haftfesten Metallschichten auf Kunststoffsubstraten |
| JPH0883861A (ja) * | 1994-07-12 | 1996-03-26 | Nitto Denko Corp | 半導体パッケージ被覆用金属箔材料および半導体装置 |
| US6417486B1 (en) * | 1999-04-12 | 2002-07-09 | Ticona Gmbh | Production of conductor tracks on plastics by means of laser energy |
| US20050112344A1 (en) * | 2003-08-20 | 2005-05-26 | Redfern Sean M. | Apparatus and method for use in printed circuit board drilling applications |
| US8323798B2 (en) | 2007-09-28 | 2012-12-04 | Tri-Star Laminates, Inc. | Systems and methods for drilling holes in printed circuit boards |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3949147A (en) * | 1970-10-01 | 1976-04-06 | Foseco International Limited | Protection of turbine casings |
| JPS54149708A (en) * | 1978-05-17 | 1979-11-24 | Sumitomo Bakelite Co | Ceramic laminate containing shield layer and production thereof |
| US4335216A (en) * | 1981-05-01 | 1982-06-15 | Tam Ceramics, Inc. | Low temperature fired dielectric ceramic composition and method of making same |
-
1982
- 1982-10-09 JP JP57177994A patent/JPS5968104A/ja active Granted
-
1983
- 1983-05-10 US US06/493,269 patent/US4524098A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219195A (ja) * | 1985-03-21 | 1986-09-29 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 電子回路用プリント基板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6235202B2 (ja) | 1987-07-31 |
| US4524098A (en) | 1985-06-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103146141A (zh) | 一种低介电系数poss/环氧树脂杂化材料及制备方法 | |
| JPS5968104A (ja) | アデイテイブ回路基板 | |
| JP7146301B2 (ja) | 絶縁接着フィルム及びその製造方法、多層プリント配線板 | |
| Gao et al. | Diamond‐Reinforced Al (H2PO4) 3@ Epoxy Hybrid Thermal Adhesive With Ultra‐High Thermal Conductivity and Bonding Strength | |
| TW201514093A (zh) | 人工合成石墨片之製造方法及其製成品 | |
| JP2758907B2 (ja) | 熱硬化成形方法 | |
| CN103756253A (zh) | 一种低介电常数的中空碳球/环氧树脂复合材料及其制备方法 | |
| EP1055708A1 (en) | Resin composition, molded article thereof, and process for producing resin composition | |
| JPS58225121A (ja) | エポキシ樹脂組成物及びそれを用いる電子部品の封止方法 | |
| JP2010126709A (ja) | 耐熱フィルム | |
| Zhao et al. | A high performance binary CaO-B2O3-SiO2 glass-ceramics with Si3N4 particle for LTCC applications | |
| CN107216614A (zh) | 一种适用于扇出型晶圆级封装的环氧树脂组合物 | |
| JP2011079986A (ja) | 高導熱且つ低散逸係数の増層接着剤製造方法 | |
| JP2008274046A (ja) | プリプレグとこれを用いたプリント配線板の製造方法 | |
| CN110878171A (zh) | 液晶聚合物lcp | |
| JP2996548B2 (ja) | 放熱性複合基板 | |
| JPS6352793B2 (ja) | ||
| CN106675032A (zh) | 无卤无锑环保型覆铜板的树脂材料配方 | |
| CN116334793A (zh) | 高介电纤维材料、粉末涂料组合物及制备方法 | |
| JPH0448678A (ja) | フレキシブルプリント回路基板 | |
| JPH042637A (ja) | 導電性セメントおよび導電性構造体 | |
| CN204659082U (zh) | 一种层压板 | |
| JP2002275357A (ja) | エポキシ系樹脂組成物 | |
| CN115866906A (zh) | Pcb制备工艺及pcb板 | |
| JP2000049461A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 |