JPS5969990A - 微細導体層パタ−ン形成方法 - Google Patents
微細導体層パタ−ン形成方法Info
- Publication number
- JPS5969990A JPS5969990A JP18030882A JP18030882A JPS5969990A JP S5969990 A JPS5969990 A JP S5969990A JP 18030882 A JP18030882 A JP 18030882A JP 18030882 A JP18030882 A JP 18030882A JP S5969990 A JPS5969990 A JP S5969990A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor layer
- fine
- forming
- pattern
- cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0284—Details of three-dimensional rigid printed circuit boards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
- H05K3/143—Masks therefor
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は微糺専体層パターン形成力法に係り。
特に形状が円筒である物体の表面に経済的で、かつ簡便
な微細堺体層パターンを形成する方法を提供するもので
ある。
な微細堺体層パターンを形成する方法を提供するもので
ある。
従来微細導体層パターンの形成においては、(A)通常
ガラスエボギシ上の銅箔をエツチングするというフリン
ト基板の製造工程で行っている方法。
ガラスエボギシ上の銅箔をエツチングするというフリン
ト基板の製造工程で行っている方法。
(BlハイブリッドエCの製造で用いられる微細パター
ンをスクリーン印刷法で形成し、その後焼成する方法が
ある。
ンをスクリーン印刷法で形成し、その後焼成する方法が
ある。
上記(Alの方法ではエツチングすべき導電性の皮膜が
先たって被榛されており、フォトレジスト法で微細なパ
ターンを形成し、上記パターン以外の皮膜をエツチング
により溶解している。この様な形成方法では、形状が円
篇の場合にはフォトレジスト法を適用することは困難で
ある。
先たって被榛されており、フォトレジスト法で微細なパ
ターンを形成し、上記パターン以外の皮膜をエツチング
により溶解している。この様な形成方法では、形状が円
篇の場合にはフォトレジスト法を適用することは困難で
ある。
一方(B)の方法では、被加工品とスクリーン版とを位
置合わせし、導電性の被抜剤を圧着しながら塗布するも
のである。
置合わせし、導電性の被抜剤を圧着しながら塗布するも
のである。
この方法も、形状が円筒の場合、スクリーン版との位置
合わせがむずがしく、特に寸法精度の厳しい微細パター
ンの場合1位置ずれが起こらないように位置合わせ用の
特殊な設備が必要である。
合わせがむずがしく、特に寸法精度の厳しい微細パター
ンの場合1位置ずれが起こらないように位置合わせ用の
特殊な設備が必要である。
又1通常カロエ品はスクリーン版の下で、導電性被傑剤
を含んだローラ〜を圧着しながら回転させるのであるが
、加工品が円筒形状の場合上記の組合わせとは逆で、ス
クリーン版の上にカロエ品があり、ローラーの代わりに
回転させることになり。
を含んだローラ〜を圧着しながら回転させるのであるが
、加工品が円筒形状の場合上記の組合わせとは逆で、ス
クリーン版の上にカロエ品があり、ローラーの代わりに
回転させることになり。
非常に困難である。
この発明は微細導体層パターン形成における上記諸欠点
を改善するもので1M、済的でかつ簡便な形成方法を提
案するものである。
を改善するもので1M、済的でかつ簡便な形成方法を提
案するものである。
以下図によってこの発す]Kよる方法を説明1゛る。
化1図(イ)〜(ホ)はパターン形成プロセスを示すも
ので1円筒形状の素材(?l」:セラミック)fllハ
U浄され1次にその外周面をフォトレジスト法で寸法精
度よく形成された微細パターン板(21でマスキングし
、その後蒸漸によりメタラづジンクをイボつて、導電性
のよい銅めっきを行って、マスキンク板な除去すること
によって円筒表面上に微細導体層パターン(3)が形成
さノ″Lる。
ので1円筒形状の素材(?l」:セラミック)fllハ
U浄され1次にその外周面をフォトレジスト法で寸法精
度よく形成された微細パターン板(21でマスキングし
、その後蒸漸によりメタラづジンクをイボつて、導電性
のよい銅めっきを行って、マスキンク板な除去すること
によって円筒表面上に微細導体層パターン(3)が形成
さノ″Lる。
第2図は微細導体層パターン形成後の加工品の断面を示
すもので、(1)は素材(例:セラミック)。
すもので、(1)は素材(例:セラミック)。
(3)は蒸着層、(4)は銅めっき層である。
この発明は以上のようになっているから、揚現性がよく
しかも導電性のよいパターンが得られ。
しかも導電性のよいパターンが得られ。
しかも安く形成することが可能である。
第1図はこの発明による微細導体層パターンの形成工程
を示す図、第2図はこの発明によって得られた力[1工
品の回向を示す図で1図中(1)は素相。 (2)は微細パターン板、(3)は蒸着層、(4)は銅
めっき層である。 なお図中、同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示しである。 代理人葛野信−
を示す図、第2図はこの発明によって得られた力[1工
品の回向を示す図で1図中(1)は素相。 (2)は微細パターン板、(3)は蒸着層、(4)は銅
めっき層である。 なお図中、同一あるいは相当部分には同一符号を付して
示しである。 代理人葛野信−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +l’1 所要形状の円筒の外周面にフォトレジスト
法で微細パターンを形成した微細パターン板を張り付け
て導電性の皮膜を上記円筒上に形成し、さらに銅めっき
を何9ことにより微細導体層パターンを上記円筒の外周
部に得るようにしたことを特徴とする微細導体層パター
ン形成力法。 (21円筒はセラミックによって形成されていることを
特徴とする特許話末の範囲第f11項記載の微細導体層
パターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18030882A JPS5969990A (ja) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | 微細導体層パタ−ン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18030882A JPS5969990A (ja) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | 微細導体層パタ−ン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5969990A true JPS5969990A (ja) | 1984-04-20 |
Family
ID=16080935
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18030882A Pending JPS5969990A (ja) | 1982-10-14 | 1982-10-14 | 微細導体層パタ−ン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5969990A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03195087A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-26 | Matsushita Electric Works Ltd | 金属層積層無機質基板への回路パターンの形成方法 |
-
1982
- 1982-10-14 JP JP18030882A patent/JPS5969990A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03195087A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-26 | Matsushita Electric Works Ltd | 金属層積層無機質基板への回路パターンの形成方法 |
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