JPS5975108A - 微小隙間の光学的測定方法及び測定装置 - Google Patents
微小隙間の光学的測定方法及び測定装置Info
- Publication number
- JPS5975108A JPS5975108A JP57184526A JP18452682A JPS5975108A JP S5975108 A JPS5975108 A JP S5975108A JP 57184526 A JP57184526 A JP 57184526A JP 18452682 A JP18452682 A JP 18452682A JP S5975108 A JPS5975108 A JP S5975108A
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- Japan
- Prior art keywords
- optical path
- reflected light
- light
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は２つの部材に光ビームを当て、これら２つの部
材間に形成される微小隙間をそれぞれの部材からの反射
光を利用して測定する測定方法および測定装置に関する
ものである。
材間に形成される微小隙間をそれぞれの部材からの反射
光を利用して測定する測定方法および測定装置に関する
ものである。
第１図は従来の光干渉を利用した微小隙間の測定方法を
説明する図である。この図を用いて例えば磁気ディスク
装置のスライダとディスクとの間の微小隙間の変化を測
定する場合について簡単に説明する。レーザ発振器１か
らのレーザビームＢＯはビームスプリッタ２を経て磁気
ディスク装置のスライダ９とディスク８に入射し、スラ
イダ９に接着した１／４波長板１００表面から反射光Ｂ
ｌが反射し、偏光板１１を通して光電変換素子１２に入
射する。一方、ディスク８から反射した光Ｂ２は偏光ビ
ームスプリッタ３で反射し、電わい素子４に取付けたミ
ラー５と電わい素子６に取付けたミラー７の間を１往復
した後光電変換素子１２に入射する。反射光Ｂ１．Ｂ２
は互に偏光面が９０°異なっているが、光電変換素子１
２を通過すると、光電変換素子１２の透過軸方向の偏光
成分のみとなり、両者の光は干渉する。前記反射光Ｂ＋
、Ｂ２ とで発生する干渉光の明るさを光電変換素子
１２によって電気信号に変換して、制御回路１３を介し
て、電わい素子４にフィードバックし、スライダ９とデ
ィスク８で形成される隙間りが時間的に変化しても、こ
の変化を補償するようにミラー５が変位するようにして
、電わい素子４へのフィードバック電圧を測定すること
によって前記隙間の変化を測定するものである。
説明する図である。この図を用いて例えば磁気ディスク
装置のスライダとディスクとの間の微小隙間の変化を測
定する場合について簡単に説明する。レーザ発振器１か
らのレーザビームＢＯはビームスプリッタ２を経て磁気
ディスク装置のスライダ９とディスク８に入射し、スラ
イダ９に接着した１／４波長板１００表面から反射光Ｂ
ｌが反射し、偏光板１１を通して光電変換素子１２に入
射する。一方、ディスク８から反射した光Ｂ２は偏光ビ
ームスプリッタ３で反射し、電わい素子４に取付けたミ
ラー５と電わい素子６に取付けたミラー７の間を１往復
した後光電変換素子１２に入射する。反射光Ｂ１．Ｂ２
は互に偏光面が９０°異なっているが、光電変換素子１
２を通過すると、光電変換素子１２の透過軸方向の偏光
成分のみとなり、両者の光は干渉する。前記反射光Ｂ＋
、Ｂ２ とで発生する干渉光の明るさを光電変換素子
１２によって電気信号に変換して、制御回路１３を介し
て、電わい素子４にフィードバックし、スライダ９とデ
ィスク８で形成される隙間りが時間的に変化しても、こ
の変化を補償するようにミラー５が変位するようにして
、電わい素子４へのフィードバック電圧を測定すること
によって前記隙間の変化を測定するものである。
しかし、本測定方法ではつぎのような欠点を有している
。
。
（１）光学系が複雑であること。
（２）フィードバック用型わい素子４によってミラー５
を高速で変位させる必要がある。電わい素子４の機械的
共振点は素子の形状によって決まり、一般的に形状を小
形にすれば、共振点を高くすることができるが、印加電
圧に対する変位が小さくなる関係にあるので、あまり小
さく出来ない、したがって共振点を高くとれない。結果
的に隙間の変化速度が速くなると測定が困難となる。
を高速で変位させる必要がある。電わい素子４の機械的
共振点は素子の形状によって決まり、一般的に形状を小
形にすれば、共振点を高くすることができるが、印加電
圧に対する変位が小さくなる関係にあるので、あまり小
さく出来ない、したがって共振点を高くとれない。結果
的に隙間の変化速度が速くなると測定が困難となる。
（３）隙間の変化量しか測定できない。
第２図は前記測定方法とは異なる他の測定方法を示した
もので、レーザ発振器１３から出たし＝−ザビームはビ
ームスプリッタキューブ１４によって下方に曲げられ、
さらに複屈折板１５で偏光方向が互いに９０異なる２本
の直線偏光に分割する。
もので、レーザ発振器１３から出たし＝−ザビームはビ
ームスプリッタキューブ１４によって下方に曲げられ、
さらに複屈折板１５で偏光方向が互いに９０異なる２本
の直線偏光に分割する。
そして被測定部材１６に入射させ、それぞれの反射光は
再び一本のビームになって、電気光学結晶部材１７に入
射する。ここで電気光学結晶部材１７にあらかじめ高周
波電源１８を印加しておくと、被測定部材１６の傾斜量
によって内反射光の光路差が変るから、電気光学結晶部
材１７に印加されている電圧がこの光路差を補償するよ
うな値になった瞬間だけ検光子１９を介して光検出器２
０の入射光が極小になるから、これらの瞬時値を測定す
れば、傾斜量を知ることができる。但しこの測定方法に
よると、光路差はλ／２以上は測定できない。反射面が
光学的な粗面である場合には、反射光の光量が複雑に変
化して、前記瞬時値を検出することは難しい等の欠点を
有している。
再び一本のビームになって、電気光学結晶部材１７に入
射する。ここで電気光学結晶部材１７にあらかじめ高周
波電源１８を印加しておくと、被測定部材１６の傾斜量
によって内反射光の光路差が変るから、電気光学結晶部
材１７に印加されている電圧がこの光路差を補償するよ
うな値になった瞬間だけ検光子１９を介して光検出器２
０の入射光が極小になるから、これらの瞬時値を測定す
れば、傾斜量を知ることができる。但しこの測定方法に
よると、光路差はλ／２以上は測定できない。反射面が
光学的な粗面である場合には、反射光の光量が複雑に変
化して、前記瞬時値を検出することは難しい等の欠点を
有している。
本発明の目的は公知技術の欠点をなくシ、光学系を簡単
にし、かつ光路長調節器は機械的可動部をなくして高速
の隙間変化にも十分応答するようにした微小隙間の測定
方法を提供することにある。
にし、かつ光路長調節器は機械的可動部をなくして高速
の隙間変化にも十分応答するようにした微小隙間の測定
方法を提供することにある。
本発明は２つの部材に光ビームを当ててこれら２つの部
材からの反射光を、電圧によってその屈折率が変化する
素子を備えた光路長調節手段と偏光手段を通して干渉さ
せ、この干渉光の明るさを電気信号に変換したのち制御
回路を介して光路長調節手段にフィードバックし、この
制御量から２つの部材の微小隙間を光学的に測定するこ
とを特徴としている。
材からの反射光を、電圧によってその屈折率が変化する
素子を備えた光路長調節手段と偏光手段を通して干渉さ
せ、この干渉光の明るさを電気信号に変換したのち制御
回路を介して光路長調節手段にフィードバックし、この
制御量から２つの部材の微小隙間を光学的に測定するこ
とを特徴としている。
第３図は本発明の微小隙間の光学的測定方法の一例の動
作を、例えば磁気ディスク装置のスライダとディスクと
の間の微小隙間の変化を測定する場合について説明する
ための図である。２１はレーザ発振器で、例えば紙面に
平行な偏光面を持つ直線偏光ビームＢＯを発生し、レー
ザビームＢ。
作を、例えば磁気ディスク装置のスライダとディスクと
の間の微小隙間の変化を測定する場合について説明する
ための図である。２１はレーザ発振器で、例えば紙面に
平行な偏光面を持つ直線偏光ビームＢＯを発生し、レー
ザビームＢ。
はビームスプリッタ２２によってビームＢｌ＋Ｂ２に分
割される。２３は一方の被測定部材のスライダで、この
スライダ２３には小穴２４があけられている。また、２
５は被測定部材のスライダ２３に接着された１／４波長
板で、反射膜２６がコーティングされている。２７は他
方の被測定部材のディスクである。レーザビームＢ２は
一部反射膜２６で反射し、反射光Ｂ３となる。また、１
／４波長板２５を透過した光はディスク２７で反射し、
反射光Ｂ４となる。反射光Ｂ３ 、Ｂ４はビームスプリ
ッタ２２を透過して光路長調節器２８に入射する。この
光路長調節器２８はボッケル効果を有する結晶部材で構
成されており、この光路長調節器２８には高周波電圧が
印加される。
割される。２３は一方の被測定部材のスライダで、この
スライダ２３には小穴２４があけられている。また、２
５は被測定部材のスライダ２３に接着された１／４波長
板で、反射膜２６がコーティングされている。２７は他
方の被測定部材のディスクである。レーザビームＢ２は
一部反射膜２６で反射し、反射光Ｂ３となる。また、１
／４波長板２５を透過した光はディスク２７で反射し、
反射光Ｂ４となる。反射光Ｂ３ 、Ｂ４はビームスプリ
ッタ２２を透過して光路長調節器２８に入射する。この
光路長調節器２８はボッケル効果を有する結晶部材で構
成されており、この光路長調節器２８には高周波電圧が
印加される。
ここではＬＩＮｂ０３を例にとってその機能を説明する
。第４図は上記のボッケル効果を有する結晶部材の説明
図である。この結晶部材にｘ、軸とＸ２軸で形成される
面に平行な偏光面を持つ直線偏光をＸ２軸方向に入射さ
せ、Ｘ３軸方向に電界Ｅを印加すると、この光に対する
屈折率ｎ。′は次式で示される。
。第４図は上記のボッケル効果を有する結晶部材の説明
図である。この結晶部材にｘ、軸とＸ２軸で形成される
面に平行な偏光面を持つ直線偏光をＸ２軸方向に入射さ
せ、Ｘ３軸方向に電界Ｅを印加すると、この光に対する
屈折率ｎ。′は次式で示される。
但し、ｎｏ ＝電界がＯのときの屈折率ｒ１３：定数
一方、Ｘ２軸とＸ３軸で形成される平面に平行な偏光面
を持つ直線偏光に対する屈折率ｎ 、／は次式で示され
る。
を持つ直線偏光に対する屈折率ｎ 、／は次式で示され
る。
但し、ｎｏ ：電界が０のときの屈折率ｒ３３：定数
次に光路長調節器２８を第３図に示すように、ｘ、、Ｘ
２軸を紙面に対して平行に配置した場合について考える
。反射光Ｂ３の偏光面は紙面に対して平行であるから、
この場合の屈折率は（１）式が適用できる。したがって
、光路長調節器２８の長さをｔとすると、反射光Ｂ３に
対する光路長調節器２８の等測的な光路長ｔ１．は（３
）式で示される。
２軸を紙面に対して平行に配置した場合について考える
。反射光Ｂ３の偏光面は紙面に対して平行であるから、
この場合の屈折率は（１）式が適用できる。したがって
、光路長調節器２８の長さをｔとすると、反射光Ｂ３に
対する光路長調節器２８の等測的な光路長ｔ１．は（３
）式で示される。
一方、反射光Ｂ４は１／４波長板２５を１往復している
ため、反射光Ｂ３に対して偏光面が９０度異方り、ｘ２
、Ｘ３軸で形成される面に対して平行となる。この光
に対する光路長調節器２８の屈折率は（り式が適用でき
るので、この場合の等側光路長ｔ１１は（４）式で示さ
れる。
ため、反射光Ｂ３に対して偏光面が９０度異方り、ｘ２
、Ｘ３軸で形成される面に対して平行となる。この光
に対する光路長調節器２８の屈折率は（り式が適用でき
るので、この場合の等側光路長ｔ１１は（４）式で示さ
れる。
つぎに入射光Ｂ２力秋反射膜２６とディスク２７で反射
し、光路長調節器２８を透過するまでの光路差をΔｔと
するとΔｔは（５）式で示される。
し、光路長調節器２８を透過するまでの光路差をΔｔと
するとΔｔは（５）式で示される。
Δｔ＝２（ｌｎ４．（−１−ｈ Ｌ ）＋ｔｔｔ −／
−１０−２（ｔ−ｎ ２／４＋ｈ ｔ ） 、１ ＋１２／／４． 、波長板２５の屈折率ｈニスライダ２
３とディスク２７の間に形成される隙間 ここで隙間りは（６）式で示される。
−１０−２（ｔ−ｎ ２／４＋ｈ ｔ ） 、１ ＋１２／／４． 、波長板２５の屈折率ｈニスライダ２
３とディスク２７の間に形成される隙間 ここで隙間りは（６）式で示される。
ｈ＝Ｈ＋ｈ（ｔ） ・・・（
６）（６）式を（５）式に代入すると次式が得られる。
６）（６）式を（５）式に代入すると次式が得られる。
Δｔ＝２（ｔ（ｎλ４１）＋Ｈ）
＋２ ｈ（ｔ） ＋ （ｎ 、 ｎＱ ） を入射光
Ｂ２が反射光Ｂ３ 、Ｂ４となって光路長調節器２８を
透過するまでの光路差は（７）式で示されるが、反射光
Ｂ３．＋Ｂ４は偏光面が９０度異方っているため、光路
長調節器２８を透過した位置では干渉しないが、偏光板
２９をおき、この透過軸をＸｌ軸にθなる角度におくと
、反射光Ｂ３＋Ｂ４は干渉する。
Ｂ２が反射光Ｂ３ 、Ｂ４となって光路長調節器２８を
透過するまでの光路差は（７）式で示されるが、反射光
Ｂ３．＋Ｂ４は偏光面が９０度異方っているため、光路
長調節器２８を透過した位置では干渉しないが、偏光板
２９をおき、この透過軸をＸｌ軸にθなる角度におくと
、反射光Ｂ３＋Ｂ４は干渉する。
反射光Ｂａ 、Ｂ４の光路差と干渉光との明るさとの関
係は第５図の曲線ａのようになる。この光路差によって
決まる干渉光の明るさを光電変換素子３０で電気信号に
変換し、この結果を制御回路３１を介して光路長調節器
２８にフィードバックし、光路差が常に一定となるよう
にすれば光路長調節器２８へのフィードバック量から隙
間の変化を測定することができる。
係は第５図の曲線ａのようになる。この光路差によって
決まる干渉光の明るさを光電変換素子３０で電気信号に
変換し、この結果を制御回路３１を介して光路長調節器
２８にフィードバックし、光路差が常に一定となるよう
にすれば光路長調節器２８へのフィードバック量から隙
間の変化を測定することができる。
つぎに前記制御回路３１の一例について第６図〜第８図
によって説明する。ある瞬間における反射光Ｂ３．Ｂ４
の光路差が第６図に示す曲線口のａ点にあったとする。
によって説明する。ある瞬間における反射光Ｂ３．Ｂ４
の光路差が第６図に示す曲線口のａ点にあったとする。
この状態で光路長調節器２８に発振器３２によって高周
波電圧を印加すると、干渉光の明るさは第７図の点線で
示す曲線ノ・のように変化する。この干渉光の明るさの
変化を光電変換素子３０によって電気信号に変換して増
幅器３３を介して掛算器３４に供給する。この掛算器３
４では、前記増幅器３３の出力電圧と前記発振器３２の
電圧（第７図、第８図の実線で示す曲線二）との積を演
算すると第７図の一点鎖線で示す曲線ホのように正負非
対象の出力信号をローパスフィルタ３５により低周波成
分のみ取り出した後、十分大きな増幅度を持った増幅器
３６で増幅して光路長調節器２８にフィードバックする
と、反射光Ｂ３．Ｂ４の光路差が変化して第６図に示す
曲線口のｂ点でバランスする。何故ならば、第６図に示
す曲線口のａ点がｂ点に移動すると、干渉光の明るさは
第８図の点線で示す曲線へのように変化し、掛算器３４
の出力は第８図の一点鎖線で示す曲線トのように正負対
象となり、ローパス（１１） フィルタ３５の出力信号はは”（Ｑとなるからである。
波電圧を印加すると、干渉光の明るさは第７図の点線で
示す曲線ノ・のように変化する。この干渉光の明るさの
変化を光電変換素子３０によって電気信号に変換して増
幅器３３を介して掛算器３４に供給する。この掛算器３
４では、前記増幅器３３の出力電圧と前記発振器３２の
電圧（第７図、第８図の実線で示す曲線二）との積を演
算すると第７図の一点鎖線で示す曲線ホのように正負非
対象の出力信号をローパスフィルタ３５により低周波成
分のみ取り出した後、十分大きな増幅度を持った増幅器
３６で増幅して光路長調節器２８にフィードバックする
と、反射光Ｂ３．Ｂ４の光路差が変化して第６図に示す
曲線口のｂ点でバランスする。何故ならば、第６図に示
す曲線口のａ点がｂ点に移動すると、干渉光の明るさは
第８図の点線で示す曲線へのように変化し、掛算器３４
の出力は第８図の一点鎖線で示す曲線トのように正負対
象となり、ローパス（１１） フィルタ３５の出力信号はは”（Ｑとなるからである。
したがって、光路長調節器２８の印加電圧と光路差との
関係をあらかじめ校正しておけば、増幅器３６の出力電
圧を測定することによって隙間の変化を求めることがで
きる。
関係をあらかじめ校正しておけば、増幅器３６の出力電
圧を測定することによって隙間の変化を求めることがで
きる。
不発明の測定方法によると、第１図に示す従来の測定方
法に比較して、光学系が非常に簡単になり、光路長調節
器は可動部がないので、高速の隙間変化を測定でき、反
射光Ｂ３．Ｂ４はほとんど同じ光路を通り異なる部分は
、２つの被測定部材間に形成される隙間だけであるので
、干渉光が安定する。
法に比較して、光学系が非常に簡単になり、光路長調節
器は可動部がないので、高速の隙間変化を測定でき、反
射光Ｂ３．Ｂ４はほとんど同じ光路を通り異なる部分は
、２つの被測定部材間に形成される隙間だけであるので
、干渉光が安定する。
一方、第２図に示す従来の測定方法に比較してＶ−ザ光
の波長に無関係に測定ができるので、測定精度が高い、
また、データ処理が簡単になる。
の波長に無関係に測定ができるので、測定精度が高い、
また、データ処理が簡単になる。
さらに、測定範囲はλ７／２以下に限定されることはな
い。
い。
以上説明したように、本発明によれば、光学系が簡単と
なシ、また、高速の隙間変化にも十分応（１２） 答することができる。
なシ、また、高速の隙間変化にも十分応（１２） 答することができる。
第１図、第２図は従来の光学的な微小隙間の測定方法を
説明する図、第３図は本発明の微小隙間の測定方法の一
例を説明する図、第４図は本発明における光路長調節器
の電気光学結晶部材を説明するだめの図、第５図は本発
明における光路差と干渉光の明るさとの関係を示す図、
第６図〜第８図は本発明における制御回路の一例を説明
する図である。 ２１・・・レーザ発振器、２２・・・ビームスプリッタ
、２３・・・スライダ、２７・・・ディスク、２８・・
・光路長調節器、２９・・・偏光板、３０・・・光電変
換素子、３１・・・制御回路。 −３と 第 ３ 口 ３３３ψ −１３１ ８０・ ３５ ６ ズ、１ 第 ２８ す ズ３ −１１ ３２ １ １ ５２ ←ｂ４ Ｙ４−困 第７０ 第３ 区
説明する図、第３図は本発明の微小隙間の測定方法の一
例を説明する図、第４図は本発明における光路長調節器
の電気光学結晶部材を説明するだめの図、第５図は本発
明における光路差と干渉光の明るさとの関係を示す図、
第６図〜第８図は本発明における制御回路の一例を説明
する図である。 ２１・・・レーザ発振器、２２・・・ビームスプリッタ
、２３・・・スライダ、２７・・・ディスク、２８・・
・光路長調節器、２９・・・偏光板、３０・・・光電変
換素子、３１・・・制御回路。 −３と 第 ３ 口 ３３３ψ −１３１ ８０・ ３５ ６ ズ、１ 第 ２８ す ズ３ −１１ ３２ １ １ ５２ ←ｂ４ Ｙ４−困 第７０ 第３ 区
Claims (2)
- １．２つの部材に光ビームを当て、これら２つの部材間
に形成される微小隙間をそれぞれの部材からの反射光を
利用して測定する測定方法において、２つの部材からの
反射光を、電圧によってその屈折率が変化する素子を備
えた光路長調節手段と偏光手段を通して干渉させ、この
干渉光の明るさを電気信号に変換したのち制御回路を介
して光路長調節手段にフィードバックし、この光路長調
節手段への制御量から２つの部材間の微小隙間を測定す
ることを特徴とする微小隙間の光学的測定方法。 - ２．２つの部材に光ビームを当て、これら２つの部材間
に形成される微小隙間を、それぞれの部材からの反射光
により測定する測定装置において、前記２つの部材のい
ずれか一方の部材に取付けられる通過光の偏光面を変え
る１／４波長部材と、前設反射光の光路中に設けられる
光ビームを測定対象物である２つの部材に当てるだめの
ビームスプレッダと電圧によって屈折率が変化する素子
を備えた光路長調節手段と、前記光路長調節手段を通っ
た２つの反射光を光干渉させるだめの偏光手段と、この
偏光手段において干渉した干渉光の明るさを電気信号に
変換する手段と、この電気信号を受は前記反射光の光路
差が常に一定になるように前記光路長調節手段に信号を
フィードバックするための制御回路とを備えた微小隙間
の光学的測定装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57184526A JPS5975108A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | 微小隙間の光学的測定方法及び測定装置 |
| US06/540,157 US4632556A (en) | 1982-10-22 | 1983-10-07 | Method and apparatus for optically measuring clearance change |
| GB08326817A GB2128735B (en) | 1982-10-22 | 1983-10-07 | Method and apparatus for optically measuring clearance change |
| DE19833338583 DE3338583A1 (de) | 1982-10-22 | 1983-10-24 | Verfahren und anordnung zur optischen messung von abstandsaenderungen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57184526A JPS5975108A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | 微小隙間の光学的測定方法及び測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5975108A true JPS5975108A (ja) | 1984-04-27 |
| JPH0472163B2 JPH0472163B2 (ja) | 1992-11-17 |
Family
ID=16154737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57184526A Granted JPS5975108A (ja) | 1982-10-22 | 1982-10-22 | 微小隙間の光学的測定方法及び測定装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4632556A (ja) |
| JP (1) | JPS5975108A (ja) |
| DE (1) | DE3338583A1 (ja) |
| GB (1) | GB2128735B (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219802A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-09-30 | Hitachi Ltd | 変位の光学的測定装置 |
| US4732483A (en) * | 1987-03-19 | 1988-03-22 | Zygo Corporation | Interferometric surface profiler |
| US4869593A (en) * | 1988-04-22 | 1989-09-26 | Zygo Corporation | Interferometric surface profiler |
| FI84709C (fi) * | 1990-02-27 | 1992-01-10 | Paloheimo Oy | Anordning i traebearbetningsmaskiner. |
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| DE3338583C2 (ja) | 1988-03-10 |
| GB2128735B (en) | 1986-07-09 |
| DE3338583A1 (de) | 1984-04-26 |
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