JPS5975245A - 感光性転写材料、及びフオトレジストステンシルの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一時的に可撓性の支持フィルムと熱可塑性感
光１−エクなる感光性転写材料に関し；さらに、本発明
は、フォトレジストステンシルを、固体の熱可塑性感光
ｉｔ転転写判別エリ不変の支持体に転写し、画像に広じ
て露光し、かつこの不変の支持体上で現像することにエ
リ製造する方法に関する。

前記した種類の転写法及び転写材料は、例えば西ドイツ
国特許第１５２２５１５号明細書又は米国特許第４１９
３７９７号明細書中に記載されている。これらの特許明
細書の記載によれば、ネガ型又はポジ型の熱可塑性感光
層は、乾燥状態で圧力下又は加熱下で不変の支持体に転
写されかつフォトレジストステンシルに処理され、次に
不変の支持体は、ステンシルに工っで被覆されてない部
分が変性、例えば腐蝕又は電気メッキされている。

英国特許第１３２３７９２号明細書及び米国特許＠３８
８４６９３３８８４６９３号明細書中材料が記載されて
おり、この場合には、非熱可塑性中間層が感光層と一時
的支持体との間に塗布されている。この非熱可塑性中間
層は、感光層を処理するために使用される現像液に溶解
すること（５） ができ、一時的支持体に対するエリも感光層に対して大
きい密着性を有する。該材料は、感光層を不変の支持体
に積層し、次に一時的支持体全中間層から剥離すること
によって処理される。

この処理の後にのみ、材料はオリジナルの下で接触露光
され、次いで現像される。好ましい中間層は、水溶性で
あるので、それは、大気湿度に芯じて空気中で膨潤する
傾向にあり、正確な露光を著しく困難にするか又はむし
ろ不可能にする不規則な構造を有する表面を形成する。

米国特許第４２７８７５２号明細書には、ドライレジス
ト法によるはんだレジストマスクの製造が開示されてい
る。この明細書中で前記の使用の場合にも一時的支持フ
イルム全剥離した後に残るレジスト層の高光沢面は、幾
つかの場合に不利であることが判明した。特別なはんだ
メッキ条件下で、はんだメッキ合金の糸又はペレットは
、ウェーブ−はんだメッキ後にはんだレジストマスクの
表面に密着することが起こり、場合によっては短絡を導
きうる。付加的に、光沢（６） 面は、特に成分を手により装入する場合に支障のある反
射全生起させる。

ドライレジストの場合、銅面に比して著しく減少しｆｃ
反射を有する無光沢の１／シスト表面は、現像し念印刷
回路板を光学装置に４しって検査すること全可能にする
。

米国特許第３８９１４４３号明細ｗＶＣは、光重合可能
なレリーフ印刷板が記載されており、この場合この光重
合可能な層の表面は、真空型枠中でのオリジナルと光重
合可能な層との接触を改善しかつ促進する究め及びフレ
キソ印刷においてインキ受理性を改善するために艶消し
されている。表面の艶消仕上は、例えば表面は艶消面又
は粒状面、例えば粗面化されたアルミニウムシート又は
粗面化された？リエステルフイルムと接触させることに
よって行なうことができ；この方法の場合、艶消仕上面
は、その後に必要とされる層からの除去を可能にするた
めにシリコーンで被覆されている。感光性印刷板の処理
は、ドライレジスト材料の処理とけ著しく異なり、感光
性印刷板の処理の場合に惑つｆｆｉ層の表面を艶消仕上
することによって達成される目的は、前記のようにはん
だレジストマスク又はレジストステンシルへのドライレ
ジストの処理に包含される問題とは区別される。

本発明の目的は、湿潤空気中で水溶性又は膨潤可能であ
る中間層を使用する場合に露光下で問題を起こさずかつ
一時的支持フイルムを剥離した後に高光沢の層表面を示
さない転写材料金得ることである。

本発明によれば、前記種類の感光性転写材料が得られる
。

本発明による材料の場合、支持フィルムは、感光層に面
する粗面を有する。

本発明によれば、さらにフォトレジストステンシルの製
造法が得られ、この場合には、可撓性の支持フィルムに
塗布された熱可塑性感光層をその自由表面に、Ｃつ不変
の支持体に積層し、次に感光層を画像に応じて露光し、
可撓性の支持フィルムを剥離した後にレリーフ画像に現
像する。

本発明による方法の場合には、透明な支持フイＡ・ムが
使用され、この場合感光＃を有する表面は、荒く、この
感光層は、支持フィルムを剥離する前に支持フィルムを
通して曙光される。

本発明方法のもう１つの実施態様によれば、一時的支持
フィルム、約１５０℃までの温度に加熱する際に粘着性
にならない薄い中間層及び該中間層の上面に塗布されｔ
熱可塑性感光層から構成された転写材料（この場合、該
中間層は、支持フィルムに対するエリも感光層に対して
堅固に密着しかつ感光層に使用される現津液に可溶であ
る）は、感光層の自由表面にエリ不変の支持体に積層さ
れ、一時的支持フィルムは、剥離され、感光層は、画像
に応じて露光され、かつレリーフ画像に現像される。

本発明方法の場合には、中間層及び感光層が存在する粗
面を有する一時的支持フイルムが使用される。

一時的支持フイルムから背反する、本発明に（９） よる転写材料の表面は、支持フィルムに対する密着性エ
リも少ない感光層に対する密着性を有する被Ｍを有する
のが好ましい。

一時的支持フイルムの粗面は、機械的に粗面化すること
、例えばサンドブラストラかけること又は微細粒子を埋
封することによって得ることができる。好ましいフィル
ムは、その質量中に均一に分配された、例えば二酸化珪
素、タルク、酸化マグネシウム、窒化硼累、酸化アルミ
ニウム又は高融点の不溶性有機物質の粒子を有する。粒
子の量は、フィルムの重置に対して約０．５〜６重量−
の範囲にあるのが好ましい。

支持フィルムの荒さは、一般に０．３〜１０μの範囲内
、有利に０．５〜５μの範囲内になければならない。こ
の所定の範囲の上部範囲の荒さは、厚い感光層に対して
選択され、その下部範囲の荒さは、殊に比較的に薄Ａ中
間層が存在する場合に薄い感光層に対して選択される。

フィルム表面の兎さ全粒子をフィルム中に埋封すること
によって得る場合には、粒径は、平（１０） 均で所望の荒さエフも僅かに大きい寸法であり；粒径は
、例えば所望の荒さの１．５〜２．５倍に達することが
できる。

一時的支持フイルムは、中間層全使用しないような場合
に透明でなければならない。更に、透明度が実質的に影
響を受けない工うな場合には、埋封した粒子の敗及び屈
折率全選択する必要がある。この目的のために、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムと二酸化珪素粒子との組
合せは、特に好ましいことが証明された。一般に、フィ
ルムは、米国特許第３８８４６９３号明細書に記載の材
料エリなることができる。

米国特許第３８８４６９３号明細書中にも、中間層全製
造するのに適当な材料が記載されている。

好ましい物質は、例えばポリビニルアルコール、ポリビ
ニルピロリドン及びアクリルアミド重合体である。中間
層は、約０．０５〜８μ、有利に１〜５μの範囲の厚さ
を有する。

感光層の少数の少なくとも１つの成分全中間層に添加す
ることは、特に有利であることができる。このような添
加に、感光層に対する密着性及び支持フィルムからの分
離に関して好ましい効果會有する。この実施態様は、感
光層が光重合可能な層よりなる場合及び中間層に添加し
た層成外が第１に重合可能な化合物である場合に特に有
用であることが証明された。

感光層は、ポジ型又はネガ型の層エフなることができる
、すなわちそれは、可溶化されているか又は線光によっ
て硬１ヒされている。通常、一般に重合可能な化合物、
特に少なくとも２個のアクリル酸エステル基又はメタク
リル酸エステル基を有するｆヒ合物、フリーラジカルに
より開始される鎖重合に対する光重合開始剤、高分子Ｉ
結合剤及び他の常用の添加剤から構成された、光重合可
能な層は、好ましいものである。

この種の層及び他のネガ型の層は、例えば西ドイツ国特
許第１５２２５１５固持細臀、米国特許第３８８４６９
３号明Ｍ瞥、米固持許第４２７８７５２号明細書及び西
ドイツ国特許公開公報第３０３６６９４号中に記載され
ている。

適当なポジ型層は、殊に１，２−キノンジアジド又は酸
分解可能な化合物をベースにしたものである。この種の
ｒａは、米国特許第４１９３７９７号明細誓、同固持１
Ｏ１３２３号明細誓及び固持４Ｚ４７６１１号明細書中
に記載されている。

感光層の自由な側は、一時的支持フィルムに対するエフ
も感光層に対して少ない密着性？有する被膜、例えばポ
リエチレンフィルムで被覆するのが好ましい。

本発明による材料は、場合に工っでは存在する被膜を除
去し、熱可塑性感光層の被覆されてない表面又は自由な
表面を、有利に圧力下及び加熱下で、不変の支持体、有
利に回路板又は銅被覆基材にそれぞれ積層するような方
法で処理される。一時的支持フィルムと感光層との間に
中間層が存在する場合には、露光は、その後に支持フィ
ルムを通して行なわれ、支持フィルムは、剥離され、か
つ露光した感光層は、現１象さシル。はんだレジストマ
スクの場合には、現像に続いて熱処理が行なわれる。レ
ジストマスク（１３） シルの表面は、その無光沢の外観にエフ、被覆されてな
い銅表面とは容易に目で見て区別され、したがってコピ
ーの評価は簡易化される。その後のはんだメッキ処理の
場合、はんだレジストマスクの艶消面は、意外なことに
、はんだ、例えば鉛−錫合金から形成された糸又はペレ
ットを有しないまま留まる。

常用のフォトレジストステンシルの場合には、現像に続
いて被覆されてないベースの金属を腐蝕するか又はその
ベースの金属上に普通に電気メツキ法で金属を蒸着する
。

中間ｌｉｔ　’に支持フィルムと感光層との間に有する
材料全処理する場合、支持フィルムは、積層処理後に剥
離され、次にオリジナルは、支持フィルムの粗面によっ
て刻印された中間層の上に置かれる。刻印効果の結果と
して梨地構造を有するか又は艶消されている中間層は、
それが湿潤空気中で長時間保持される場合であっても不
規則な膨潤又は歪み現象の傾向を全く示さず、したがっ
て完全な接触印刷が可能である。

（１４） 感光層が光重合可能な混合物エリなり、それ故に大気酸
累に対して敏感である場合、塗布された中間層は支持フ
ィルムの表面荒さエリも薄くないこと全配慮しなければ
ならない。さもなければ、同時に酸素遮断層として役立
つこの層は、場所にエリ中断され、その保護機能を失な
うという危険が存在する。一般１／Ｃ，層厚がフィルム
の最大荒さよりも僅かだけ、はぼ十分の数μだけ大きい
場合に連続的なポリビニルアルコール層を得ることがな
お可能である。

本発明に↓る材料は、工業界で知られているように常用
の印刷用電溶によって供給される短波長の可視光線又は
紫外線を使用して透明なオリジナルの下で接触露光され
る。レーザーの照射によって層に像を形成することもで
きる。本発明にエリ光線の必装置の減少、すなわち有効
な感光性の増大をも生じることは、特に好ましい。

次に、本発明の好ましい冥施態様を笑雄側につき記載す
る。百分率及び量比は、別記しない限り重置単位に関連
するものである。重量部（ｐ−ｂ−ｗ、）と容散部（ｐ
−ｂ−ｖ、）との比は、？対ｃｔ／１である。

例１ 塗布溶液を、 平均分子鎗約３５０００及び酸価１９５を有する、ｎ−
へΦシルメタクリレート、メタクリル酸及びスチレン（
６０：３０：１０）から形成された三元共重合体　　　
　　　　１３重量部、ポリエチレングリコール−４００
−ジメタクリレート４．４重置部、 グリシジルメタクリレート、アジピン酸及びトリレンジ
イソシアネートとポリブタン−１゜４−ジオールとの反
応に工って得られたオリゴマーのジイソシアネートから
なるエラスト−ｒ　−の反応生成物（西ドイツ国特許公
開公報第３０３６６９４号、参照）１，６重置部、ヘキ
サメトキシメチルメラミン　　１重置部、９−フェニル
アクリジン　　　　０．２重量部、２．４−ジニトロ−
６−クロルベンゼンジアゾニウム塩を２−メトキシ−５
−アセチル゛アミノーＮ、Ｎ−ジエチルアニリンとカッ
プリングすることによって得られた宵色アゾ染料０．０
１重１部、 ならびに ブタノン　　　　　　　　　３０重社部及びエタノール
　　　　　　　　５．　ＯＭ　１７１部中の１．４−ビ
ス−（４−第三ブトキシ−フェニルアミノ）−５，８−
ジヒＰロキシアントラキノン　　　　　　　　　　　　
０．０３重Ｉｉ１部から得た。

厚さ２３μのポリエチレンテレフタレートフィルムの幅
１１０ｃｒｎのウェブ（この場合、１つのフィルムは平
滑であり、他のものは平均粒径１μを有する多孔質の二
酸化珪累が埋封されている）全スロットダイを用いてこ
の溶液で連続。

的に塗布した。レジスト層は、乾燥部分通過した後にそ
のつど厚さ１００μを有し、次に厚さ２５μのポリプロ
ピレンフィルムで被覆された。

こうして得られたドライレジストフィルムをス（１７） リッター全使用して切断し、幅４５ｚ及びウェブ長さ５
０ｍｋ有する扱い易いレジストロールに巻取った。

積層試験を、錫メツキ表面及びメツキスルーホールを有
する銅の厚さ約６５μの導電路を装備したエポキシ−ガ
ラス繊維積層品の試験板を使用して冥施した。導電路の
幅及び距離は、２００〜１０００μの範囲内にあり、メ
ツキスルーホールは、０．６〜４１１１Ｉの範囲の直径
を有した。

厚さ１００μのはんだレジスト層全市販の貼合せ根分使
用して１２０℃でこの板に積層した。

次に、この板１５ｋＷの金属ハロゲン化物・灯を有する
市販の露光装置中ではんだメッキすべきパッド及びホー
ルを覆うオリジナルを通して２５秒間露光し、次にこの
板を市販の噴霧処理装置中で１５０秒間０．８チ強のソ
ーダ溶液で現浄し、吹付乾燥した。こうして得られた印
刷回路板をその後に乾燥炉中で１５０℃で６０分間ベー
キングした。冷却後、この板金融剤、アルファφ（１８
） グリＯ（Ａｌｐｈａ　Ｇｒｉｌｌｏ）社のＴＬ３３−１
ｆｉ、で湿らせ、次にそれを市販の鉛−錫ウニーブーは
んだメッキ浴に２５０℃で運搬速度１．、ｏｍ／−で通
過させた。

前記の艶消仕上げんだレジストマスクで被覆した印刷回
路板’ｋｄんだメッキ後及び清浄ｒヒ後に完全に清浄に
した。

平滑なポリエステルフィルムから転移されたはんだレジ
ストｒ＠は、特別のはんだメッキ条件下（例えば、融剤
の膜が不十分に乾燥した場合）で清浄ｆヒ処理した場合
であってもはんだレジストマスクに密着しかつ除去する
ことができないはんだメッキのペレット又は糸によって
惹起された欠陥全現出した。このような欠陥は、短絡を
まねき、印刷回路板は、使用不可能になる。

鉛−錫粒子が光沢面、すなわち平らな面に対するエリも
艶消仕上レジスト表面、すなわち粗面化レジスト表面に
対して僅かに密着することは明白である。

例２ 塗布溶液金側１の記載と同様に得、この場合には、ポリ
エチレングリコール−４００−ジメタクリレート全欠の
単計体に代えた： ａ）２，２．４−）ＩＪメチル−へキサメチレン−ジイ
ソシアネート及びヒドロキシエチルメタクリレートの反
応生成物、 ｂ）トリエチレングリコール、２，２．４−トリメチル
−ヘキサメチレン−ジイソシアネート及びヒドロキシエ
チルメタクリレートの反応生成物、 ｃ）２．２−ビス−〔４−（２−アクリロイルオかジ−
プロポキシ）フェニル）−フロパン。

例１の記載と同様に、溶液を平滑なポリエステルフィル
ム及びシリカゲル會埋封したポリエステルフィルムに塗
布し、乾燥後にポリプロピレンフィルムをこの層に積層
した。ドライレジストフィルムを例１の記載と同様に処
理した。

本例の場合、鉛−錫残分は、はんだメッキ後にはんだレ
ジストマスクの艶消面に全く付着せず、むしろ光沢面で
不利な条件下で残分を付着することが起こることが再び
判明した。

例３ Ａ、感光層を製造するための溶液は、次の組成を有した
： 平均分子量約３５０００及び酸価１９５を有する、ｎ−
ヘキシルメタクリレート、メタクリル酸及びスチレン（
６０：３０：１０）から形成された三元共重合体　　６
，５重を部、ポリエチレングリコール−４００−ジメタ
クリレート　　　　　　　　　　３．２重１部、例１に
記載のエラストマー　０．８重１部、９−フェニルアク
リジン　　０．１重１部、２　、４−）ニトロ−６−ク
ロルベンゼンジアゾニウム塩を２−メトキシ−５−アセ
チルアミノ−Ｎ−シアンエチル−Ｎ−ヒドロキシエチル
−アニリンとカップリングすることによって得られ友ア
ゾ染料　　０．０３５重１部、メチルエチルケトン　　
　１ｕｌ１部及びエタノール　　　　　　　　　１重１
部。

Ｂ、中間層を製造するための溶液は、次の組成（２１） を有したニ ア％強のポリビニルアルコール水溶液 ２００重［Ｌ ポリエチレングリコール−４００−ジメタクリレート　
　　　　　　　　　　１重置部、クリスタルノ々イオレ
ット　０．００２重量部。

０、厚さ２５μを有しかつポリビニルアルコールの厚さ
約１μの中間層が設けられた、二軸延伸シたヒートセッ
トポリエチレンテレフタレートフィルムを、溶液Ｂを使
用して、層重量４０９／ｒｒ？が１００℃で乾燥した後
に得られるような方法で塗布溶液人で回転塗布した。

Ｄ、処理Ｏを繰り返したが、平均粒径１μを有する多孔
質の二酸化珪素的１．５重１１％’を添加することによ
り生じる粗面を有するプリエチレンテレ７タレートフイ
ルムを使用してそれ金繰り返した。

市販の貼合せ機ｔ、１２０℃で０及びＤにより得られた
ドライレ・クストフイルムを厚さ１７５μの銅箔で被覆
したガラス繊維強化エポキシ積（２２） 層品に積層するために使用した。室温への冷却後、ポリ
エステルフィルムを剥離した。

表面状態を観察し、時間と大気湿度の１つの関数として
記録した： 例４ ドライレジストフィルムを工業規模で製造するために、
次の方法を夾施した： 例３Ｄの記載と同様に粗面全有しかつポリビニルアルコ
ールで前塗布された厚さ２５μのポリエステルフィルム
の幅１００ｃＩｎのウェブを、スロットダイを使用して
例３ＡＶｃｅ載の組成物の溶液で連続的に塗布した。乾
燥部を通過した後、レジスト層は、厚さ３８μを有し、
ポリプロピレンフィルムで被覆された。こうして得られ
ｔドライレジストフィルムを大型ロールで貯蔵し友。こ
の大型ロールをその後にスリ′ツタ−を用いて切断し、
幅４５ｃＩｎ及びウェブ長さ５０ｍを有する取扱い易い
レジストロールに巻取った。最適な巻取張力に調節する
ことによって、ロールを層ごとに支持芯上に均一に配置
し、かつ横方向にすべらない、すなわち竹の千秋にな／ らないことが保証され九〇 比較のために、レジストロールを同じ塗布溶液を用いて
製造したが、しかし使用したポリエステルフィルムは、
艶消仕上げがなされず、ポリビニルアルコールの中間層
は設けられなかった。

得られたフィルムを、市販の貼合せ機を使用して厚さ１
７．５μの銅箔で被覆したガラス繊維強化エポキシ積層
品に１２０℃で積層し、次にポリビニルアルコール中間
層の場合、支持フィルムを剥離した後に市販のｉｇ元装
置（出力５に’Ｗ）中で鞘光した。使用したオリジナル
ｆｌ、６０μにまで減少する線幅及び線距離を有する線
オリジナルであった。

露光後、この層を噴霧処理装置中で６０秒間０．８％強
の炭酸す）　ＩＪウム溶液で現像した。

この板金水道水で３０秒間洗浄し、ベルオキシニ（ｉｉ
ｌ［アンモニウムの１５％強溶液中で３０秒間両腐蝕し
、次に銅電解浴、シュレツター（８ｃ１１１ｏｅｔｔｅ
ｒ　　、Ｇｅｉ＊Ｉｉｎｇｅｎ／Ｓｔｅｉｇｅ　　（Ｆ
ｅｄｅｒａｌＲｅｐｕｂｌｉｃ　ｏｆ　Ｇｅｒｍａｎｙ
　）在）社の製電グランツクツブフェルーパート（Ｇｌ
ａｎｚｋｕｐｆｅｒ−Ｔ３ａｄ　）　’１中で６０分間
電気メツΦした。

電流密度’２−５Ａ／ｄｍ２ 金属構成：　　　　　約３０μ　。

次表には、オリジナルとして役立つ階段喫の楔段階に、
ｃジ測定された２つのレジスト材料の（２５） 感光性と、３つの異なるオリジナル幅に対して電気メッ
キによって蒸着された銅導電路の幅とが記載されている
。

（２６） 例５ 例４に記載のドライレジストフィルム全厚さ１７．５μ
の銅箔で被覆した２５Ｘ１６ｍのガラス繊維強化エポキ
シ積層品に１２０℃で積層した。１０分間の貯蔵後、支
持フィルムを剥離した。この板を、アルザンイオンレー
ザーケ装備した、市販のレーザー照射装置ｔ（ＴＪＡ８
１ＤＩ＋、ＩＴＩす■１５０　Ｒ１μｍｅｒｉｃａｎ　
Ｈｏｅｃｈｓｔ　０ｏｒｐｏｒａｔｌｏｎのＥｏｃｏｍ
　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ製造）で１５０ｍＷ及び１２００線
／　２．５４ｃｍ　（４ｍＪ／−に相当）で照射した。

この方法ノ場合、レーゼライト（ＬＡＳＰＩｒＬＩＴＥ
）　装置全中間接続されるコンピューターと結合し、し
九がって回路パターンを非物質的オリジナルにエフレジ
スト層上に得た。非物質的画像は、２００μ〜７０μの
範囲の線幅及び線距離を得るために、種々の角位置で直
線及び曲線を包含した。照射後、この板’ｉ０．８％強
の炭酸ナトリウム溶液中で現像した。

導電路でのレジスト７ランクは、鮮明な輪郭を有した。

レジストステンシルは、貯蔵される導電路の位置及び形
状とは無関係に非物質的オリジナルの正確な複写であっ
た。

ベーキングしたレジストステンシルは、電気メッキ浴に
対して著しく良好な抵抗性を示し、したがって板は、例
えば例４に記載の銅メッキ浴、’　Ｚ　７ンツクツプフ
エルーノ々−ト（Ｇｌａｎ−ｚｋｕｐｆｅｒ−Ｂａｄ）
　Ｉ　、中で欠陥のない堅固に密着する銅導電路を設け
ることができた。

例６ ポジ型のドライレジスト材料全製造するために、次の塗
布溶液を得た： Ａ、感光層： エチレングリコールモノメチルエーテル３４．５重量部
、 ブタノン　　　　　　　　２１．０重量部、ＤＩＮ　　
５３１８１の毛管法により測定された軟化範囲１０５℃
〜１２０℃を有するクレゾールホルムアルデヒドノヂラ
ック ２７．５重量部、 ポリエチレングリコール（分子量２０００　）５．４重
１部、 ２−エチル−ブチルアルデヒド及びトリエチレングリコ
ールから形成されたポリアセタール　　　　　　　　　
　　　９．７重置部、２−（４−エトキシ−ナフト−１
−イル）−一４，６−ビス−トリクロルメチルー３−ト
リアジン　　　　　　　　　　０．３重量部、シリコー
ンをベースとする市販の塗布助剤１．９１歎部、及び クリスタルバイオレット塩基 ０．０２重量部。

Ｂ、中間層： ７チ強のポリビニルアルコール水溶液 ２００重量部及び ポリエチレングリコール（分子数２０００）１重を部。

溶液Ｂを、厚さ１．４〜１．８μのポリビニルアルコー
ル層を平均粒径１μの熱分解法二酸化珪（２９） 素１．５重社’１’（ｒ含有する、粗面含有する二軸延
伸シたヒートセットポリエチレンテレフタレートフイル
ムに塗布するためにこの層の上面で使用し、塗布溶液Ａ
’に、９０℃〜ｔｔｏｒでの乾燥後に層装置４５ｆ／−
が得られるような方法で回転塗布した。

こうして得られたＰライレジストフィルム全１１０℃で
市販の貼合せ機を用いて厚さ１７．５μの銅箔で被覆し
たガラス繊維強化エポキシ積層品に積層した。１０分間
の冷却後、ポリエステルフィルムは、困難なしに剥離す
ることがでキタ。ポリビニルアルコール層の梨地仕上面
は、相対湿度７０％及び２５℃で室内で２時間よりも長
時間貯蔵した後であっても不変であった。

塗布した板を普通の方法でオリジナルの下で露光し、３
．５％強の燐酸三す）　ＩＪウム溶液で現像した。被覆
されてない銅導電路を鉄−■−りＱ　ＩＪド溶液で腐蝕
し、その際得られる回路パターンは垂直なフランクを有
した。

（３（））

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一時的に可撓性の支持フィルムと熱可塑性感光層よ
   りなる感光性転写材料において、該感光層に面する支持
   フィルムの表面が荒いことを特徴とする、感光性転写材
   料。 ２、支持フィルムが透明である、特許請求の範囲第１項
   記載の感光性転写材料。 ３、　支持フィルムの平均表面荒さが０．５〜５μの範
   囲内にある、特許請求の範囲第１項記載の感光性転写材
   料。 ４、感光層が光重合可能な層よηなる、特許請求の範囲
   第１項記載の感光性転写材料。 ５、一時的に可撓性の支持フィルムと熱可塑性感光層よ
   りなる感光性転写材料において、該支持フィルムから背
   反する感光層の表面が支持フィルムに対する密着性エリ
   も少ない該層に対する密着性を有する被膜で被覆されて
   いることを特徴とする、感光性転写材料。 ６、　支持フィルムが透明である、特許請求の範囲第５
   項記載の感光性転写材料。 ７、　支持フィルムの平均表面荒さが０．５〜５μの範
   囲内にある、特許請求の範囲第５項記載の感光性転写材
   料。 ８、感光層が光重合可能な層よりなる、特許請求の範囲
   第５項記載の感光性転写材料。 ９、一時的に可撓性の支持フィルムと熱可塑性感光層エ
   リなる感光性転写材料において、該感光層と該支持フィ
   ルムとの間に、支持フィルムに対するエリも感光層に対
   して堅固に密着し、１５０℃までの温度に加熱する際に
   粘着性にならず、かつ感光層に使用される現像液に可溶
   である薄い中間層が設けられていることを特徴とする、
   感光性転写材料。 １０　　支持フィルムの平均表面荒さが０．５〜５μの
   範囲内にある、特許請求の範囲第９項記載の感光性転写
   材料。 １１、中間層が１〜５μの範囲の厚さを有する、特許請
   求の範囲第９項記載の感光性転写材料。 １２　　中間層が水溶性である、特許請求の範囲第９項
   記載の感光性転写材料。 １３、中間層が感光層の少量の少なくとも１つの成分を
   有する、特許請求の範囲第９項記載の感光性転写材料。 １４、感光層が光重合可能な層よりなる、特許請求の範
   囲第９項記載の感光性転写材料。 １５、フォトレジストステンシルを、可撓性の支持フィ
   ルムに塗布された、自由表面を有する熱可塑性感光層全
   不変の支持体に積層し、該感光層を画像に応じて露光し
   、可撓性の支持フィルムを剥離した後に該感光層？レリ
   ーフ画Ｉｌ！に現像することにより製造する方法におい
   て、該感光層含有する表面が荒い透明な支持フィルムを
   使用し、感光Ｉｉｉ′ｌｒ、支持フィルム全剥離する前
   に支持フィルムを通して露光することを特徴とする、フ
   ォトレジストステンシルの製造法。 １６、フォトレジストステンシル金、一時的に可撓性の
   支持フィルム、１５０’Ｃまでの温度に加熱する際に粘
   着性にならない薄い中間層及び該中間層の上面に塗布さ
   れた熱可塑性感光層から構成された転写材料を使用し、
   その際該中間層は、支持フィルムに対するエリも感光層
   に対して堅固に密着しかつ感光層に使用される現１象液
   に可溶であり、該感光層の目由表面金有する転写材料を
   不変の支持体に積層し、一時的支持フィルムを剥離し、
   感光層７画像に厄じて露光し、該感光層をレリーフ画１
   象に現像することＶｃエク製造する方法において、該中
   間層及び該感光層が存在する粗面全有する一時的支持フ
   イルム會使用することを特徴とする、フォトレジストス
   テンシルの製造法。