JPS5976559U - 高周波スパツタマスク治具 - Google Patents
高周波スパツタマスク治具Info
- Publication number
- JPS5976559U JPS5976559U JP17058682U JP17058682U JPS5976559U JP S5976559 U JPS5976559 U JP S5976559U JP 17058682 U JP17058682 U JP 17058682U JP 17058682 U JP17058682 U JP 17058682U JP S5976559 U JPS5976559 U JP S5976559U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- spatuta
- high frequency
- mask jig
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図及び第２図は従来形の高周波スパッタマスクの使
用状態を示し、第１図は平面図、第２図は１部を断面し
た正面図である。第３図乃至第５図は本考案の高周波ス
パッタマスクの１実施例を示し、第３図は従来形スパッ
タマスクにおける第１図に対応する図、第４図は同じ（
第２図に対応する図、第５図は第４図の１部を拡大した
詳細な断面図である。 １・・一基板台、２・・・基板、３・・・発熱抵抗体、
４・・・配線部、５・・・金属マスク、６・・・開口部
、７・・・垂直面、８・・・傾斜面、９． ９’・・・
スペーサ、１０・・・ガイドピン、１１・・・取付ネジ
、１２・・・開口部、１３・・・金属マスク、１４・・
・スパッタ加工を示す矢印、１５・・・スパッタ被膜。
用状態を示し、第１図は平面図、第２図は１部を断面し
た正面図である。第３図乃至第５図は本考案の高周波ス
パッタマスクの１実施例を示し、第３図は従来形スパッ
タマスクにおける第１図に対応する図、第４図は同じ（
第２図に対応する図、第５図は第４図の１部を拡大した
詳細な断面図である。 １・・一基板台、２・・・基板、３・・・発熱抵抗体、
４・・・配線部、５・・・金属マスク、６・・・開口部
、７・・・垂直面、８・・・傾斜面、９． ９’・・・
スペーサ、１０・・・ガイドピン、１１・・・取付ネジ
、１２・・・開口部、１３・・・金属マスク、１４・・
・スパッタ加工を示す矢印、１５・・・スパッタ被膜。
Claims (1)
- 高周波スパッタ加工用のマスクにおいて、開口部の下端
付近を垂直面によって構成するとともに、上記の垂直面
に連続して上方に向かって開く傾斜面によって該開口部
の中央部及び上端部を構成し、かつ、マスクと被加工物
とが対向する区域の周辺及び中央部にスペーサを設けた
ことを特徴とする高周波スパッタマスク治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17058682U JPS5976559U (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 高周波スパツタマスク治具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17058682U JPS5976559U (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 高周波スパツタマスク治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5976559U true JPS5976559U (ja) | 1984-05-24 |
Family
ID=30372361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17058682U Pending JPS5976559U (ja) | 1982-11-12 | 1982-11-12 | 高周波スパツタマスク治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5976559U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003323980A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機ｅｌ素子用蒸着マスクとその製造方法 |
| JP2003324075A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-14 | Applied Materials Inc | 半導体装置用桟付きシャドウフレーム |
-
1982
- 1982-11-12 JP JP17058682U patent/JPS5976559U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003324075A (ja) * | 2002-04-25 | 2003-11-14 | Applied Materials Inc | 半導体装置用桟付きシャドウフレーム |
| JP2003323980A (ja) * | 2002-04-26 | 2003-11-14 | Kyushu Hitachi Maxell Ltd | 有機ｅｌ素子用蒸着マスクとその製造方法 |
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