JPS5977308A - 螢光ｘ線膜厚測定装置 - Google Patents
螢光ｘ線膜厚測定装置Info
- Publication number
- JPS5977308A JPS5977308A JP18719682A JP18719682A JPS5977308A JP S5977308 A JPS5977308 A JP S5977308A JP 18719682 A JP18719682 A JP 18719682A JP 18719682 A JP18719682 A JP 18719682A JP S5977308 A JPS5977308 A JP S5977308A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- fluorescent
- housing
- rays
- distance
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、螢光ｘｇＪ膜厚測定′装微に関し、特に試
料と検出器との間の距離変動を測定し、膜厚測定値の補
正を行なう新規な改良に関するものである。
料と検出器との間の距離変動を測定し、膜厚測定値の補
正を行なう新規な改良に関するものである。
一般に、螢光Ｘ線膜厚計は、第１図に示すようにＸ線管
からなる線源１と７ヤツター２と、コリメータ３と、試
料Ｂ ｆ）ｈらの螢光：ｘｆｆｌＪｎを入射する開口部
４ａを備えた検出器４とからなり、ハウジング５に収納
されている。
からなる線源１と７ヤツター２と、コリメータ３と、試
料Ｂ ｆ）ｈらの螢光：ｘｆｆｌＪｎを入射する開口部
４ａを備えた検出器４とからなり、ハウジング５に収納
されている。
検出器４からの出力は、図示しない処理回路へ接続され
、計算結果は適宜表示手段によって表示される。ところ
が通常試料Ｓは、メツキラインにおいて紙面に直角方向
に連続的に流れるようになっておシ、試料Ｓの位置が上
下方向に変動することは当然力えらｉｌ、検出器４に対
する螢光Ｘ線Ｒの入射角度θは、試料日の上下位置につ
れて第２図（ａ）、 （１））に示すθ１．θ２のよう
に変動してしまう。即ち検出器４にはＸ線入射用の開口
部４ａがあるため、第２図（ａ）のように試料Ｓが下方
Ｓ１に存在するとき（入射角度θ亀が大のとき）Ｆｉ、
螢光Ｘ線ＲＩの検出感度（Ｘ線の強度を無視すれば斜線
で示す領域ｚ１にほぼ比例する）は大きくなり、第２図
（ｂ）のように上方Ｓ２にあるとき（入射角度θ２が小
のとき）は領域ｚ２が小となって、検出感度が小さくな
ってしまうという問題があった。
、計算結果は適宜表示手段によって表示される。ところ
が通常試料Ｓは、メツキラインにおいて紙面に直角方向
に連続的に流れるようになっておシ、試料Ｓの位置が上
下方向に変動することは当然力えらｉｌ、検出器４に対
する螢光Ｘ線Ｒの入射角度θは、試料日の上下位置につ
れて第２図（ａ）、 （１））に示すθ１．θ２のよう
に変動してしまう。即ち検出器４にはＸ線入射用の開口
部４ａがあるため、第２図（ａ）のように試料Ｓが下方
Ｓ１に存在するとき（入射角度θ亀が大のとき）Ｆｉ、
螢光Ｘ線ＲＩの検出感度（Ｘ線の強度を無視すれば斜線
で示す領域ｚ１にほぼ比例する）は大きくなり、第２図
（ｂ）のように上方Ｓ２にあるとき（入射角度θ２が小
のとき）は領域ｚ２が小となって、検出感度が小さくな
ってしまうという問題があった。
この発明は、以上のような欠点をすみやかに除去するた
めの極めて効果的な手段を提供することを目的とするも
ので、特に試料の上下高さを検出するセンサーを備え、
予め試料高さと螢光Ｘ線強度の関係を処理回路にメモリ
ーシておくことにより、実測定において検出器からのＸ
線強度をそのまま厚みに変換することなく、上下高さ検
出センサーからの出力をもとにＸ線強度の補正を行なっ
た後厚み変換し、試料の位置変動の影響を無視しつる測
定装置の（Ｈ成を得ることにある。
めの極めて効果的な手段を提供することを目的とするも
ので、特に試料の上下高さを検出するセンサーを備え、
予め試料高さと螢光Ｘ線強度の関係を処理回路にメモリ
ーシておくことにより、実測定において検出器からのＸ
線強度をそのまま厚みに変換することなく、上下高さ検
出センサーからの出力をもとにＸ線強度の補正を行なっ
た後厚み変換し、試料の位置変動の影響を無視しつる測
定装置の（Ｈ成を得ることにある。
以下、図面と共にこの発明を説明する。
第６１図（ａ）において、符号１５で示されるものは全
体が箱型をなすハウジングであり、このハウジング１５
内には、Ｘ線を発生するための線源１１、ンヤツタ１２
およびコリメータ１５が設けられ、線源１１から発射し
たＸ線はコリータ１３を介してハウジング１５の下部位
置において通過移動している試料Ｓ（本実施例ではメッ
キ鋼板）に照射され、試１！ｌ′ｌＳから発生した螢光
Ｘ＃Ｒは、ハウジング１５内のＸ線検出器１４に到達す
る構成である。１０はハウジング１５の外壁に固着さ；
ｆｉた距離センサーでちゃ、試料Ｓとの距離Ｈに基づく
出力りを常時出力している。２ｏは距離出力りに対応し
た記憶テーブルを有する処理回路であり、距離センサー
１０からの出力りによシＸ線検出器１４と試料Ｓとの距
離りの変動を感知し、適宜の補正演算を行なうものであ
る。
体が箱型をなすハウジングであり、このハウジング１５
内には、Ｘ線を発生するための線源１１、ンヤツタ１２
およびコリメータ１５が設けられ、線源１１から発射し
たＸ線はコリータ１３を介してハウジング１５の下部位
置において通過移動している試料Ｓ（本実施例ではメッ
キ鋼板）に照射され、試１！ｌ′ｌＳから発生した螢光
Ｘ＃Ｒは、ハウジング１５内のＸ線検出器１４に到達す
る構成である。１０はハウジング１５の外壁に固着さ；
ｆｉた距離センサーでちゃ、試料Ｓとの距離Ｈに基づく
出力りを常時出力している。２ｏは距離出力りに対応し
た記憶テーブルを有する処理回路であり、距離センサー
１０からの出力りによシＸ線検出器１４と試料Ｓとの距
離りの変動を感知し、適宜の補正演算を行なうものであ
る。
そして、上記ハウジング１５を備えた本装置ｆは第３図
（ｂ）の通りであり、第６図（ｂ）において、６は架台
であり、試４＋ｓ′ｆ：またぐように構成されている。
（ｂ）の通りであり、第６図（ｂ）において、６は架台
であり、試４＋ｓ′ｆ：またぐように構成されている。
この架台６にヘッドキャリア７が取り付けられ、モータ
８によりチェーン９を介し試料Ｓの上を往復運動し、ヘ
ッドキャリア７にハウジング１５が固定され、試料Ｓの
上を往復運動しながら試料Ｓ上のメッキ厚みを測定する
。また、１０は試料高さ検出センサーであり、センサー
１゜からの出力すとＸ線検出器１４がらの出力ｎが共に
処理回路２０へ接続されている。
８によりチェーン９を介し試料Ｓの上を往復運動し、ヘ
ッドキャリア７にハウジング１５が固定され、試料Ｓの
上を往復運動しながら試料Ｓ上のメッキ厚みを測定する
。また、１０は試料高さ検出センサーであり、センサー
１゜からの出力すとＸ線検出器１４がらの出力ｎが共に
処理回路２０へ接続されている。
通常の測定において、試料Ｓのメッキの厚みｔと螢光Ｘ
線強１１ｊＮの関係は、第４図のようになっる。ここで
、μは吸１■係数、Ｎｃｏ＋’Ｎｏｒまそれぞれメッキ
が無限厚及び厚み０のときの螢光ｘ ｉ７） Ｒの割数
率（Ｘ線強度）を現わす。ところが、前述のように試料
Ｓと検出器１４との距ＭＬがかがると、Ｘ １７の検出
効率ηが変わってぐる。この距離りと検出効率ηとの関
係は、センサー１ｏと試料Ｓ間の距離Ｈと検出効率ηと
の関係を考えても、何ら不合理は生じない。これらＨと
ηとの関係は、おおよそ第５図のような関係で現わされ
る。そこで距離Ｈ１がセンサー１０にょシ測定でき、そ
のときの検出効率ηｌが推定できることになる。そし゛
Ｃ１実側さゴｔた検出強度がＮ、であるとすれば、補正
後の検出強度Ｎ／ｌよ、Ｎ′＝ＮＩ／η１で現ゎさｒＬ
るので、最終的な測定結果は 以上のように、本発明によれば、ハウジングに距離セン
サーを設け、このセンサー出力に基づいて記憶テーブル
に従った厚み計算の補正演算を行なう構成としたので、
試料と検出器との距離が何らかの原因で変化したとして
も、その影響を補正することが可能になり、ラインの品
質管理上極めて大きな効果が期待できる。
線強１１ｊＮの関係は、第４図のようになっる。ここで
、μは吸１■係数、Ｎｃｏ＋’Ｎｏｒまそれぞれメッキ
が無限厚及び厚み０のときの螢光ｘ ｉ７） Ｒの割数
率（Ｘ線強度）を現わす。ところが、前述のように試料
Ｓと検出器１４との距ＭＬがかがると、Ｘ １７の検出
効率ηが変わってぐる。この距離りと検出効率ηとの関
係は、センサー１ｏと試料Ｓ間の距離Ｈと検出効率ηと
の関係を考えても、何ら不合理は生じない。これらＨと
ηとの関係は、おおよそ第５図のような関係で現わされ
る。そこで距離Ｈ１がセンサー１０にょシ測定でき、そ
のときの検出効率ηｌが推定できることになる。そし゛
Ｃ１実側さゴｔた検出強度がＮ、であるとすれば、補正
後の検出強度Ｎ／ｌよ、Ｎ′＝ＮＩ／η１で現ゎさｒＬ
るので、最終的な測定結果は 以上のように、本発明によれば、ハウジングに距離セン
サーを設け、このセンサー出力に基づいて記憶テーブル
に従った厚み計算の補正演算を行なう構成としたので、
試料と検出器との距離が何らかの原因で変化したとして
も、その影響を補正することが可能になり、ラインの品
質管理上極めて大きな効果が期待できる。
第１図は、通常の螢光Ｘ線１換厚計の構成要素の配置図
、第２図の（ａ）、（ｂ）は、通常の膜厚計において試
料Ｓの位置が変化することによるＸ線検出強度変化の状
況を表わす説明図、第３図（ａ）。 （ｂ） は、本発明によるハウジング断面図および代
表的な螢光Ｘ線膜厚計の構成配置図、第４図は、試料上
のメッキの厚みｔとＸ線強度にとの関係を示すＩ特性図
、第５図は、試料と位置センサとの距離Ｈの変動がＸ線
の検出効率ηに与える影響を示す特性図でめる。 １１・・・Ｘ線Ｗ １２・・・ンヤツター１
３・・・コリメータ １４・・・検出器１５・・・
ハウジング ６・・・架 台７・・・ヘッドキャ
リア ８・・・駆動モータ９・・・チェーン
１０・・・距離センサーＦ３・・・試料 を現わ−１−、。 以上 出願人 株式会社 第二、楕工舎 代理人 弁理士 最上 務 第１図 第３図（υ）
、第２図の（ａ）、（ｂ）は、通常の膜厚計において試
料Ｓの位置が変化することによるＸ線検出強度変化の状
況を表わす説明図、第３図（ａ）。 （ｂ） は、本発明によるハウジング断面図および代
表的な螢光Ｘ線膜厚計の構成配置図、第４図は、試料上
のメッキの厚みｔとＸ線強度にとの関係を示すＩ特性図
、第５図は、試料と位置センサとの距離Ｈの変動がＸ線
の検出効率ηに与える影響を示す特性図でめる。 １１・・・Ｘ線Ｗ １２・・・ンヤツター１
３・・・コリメータ １４・・・検出器１５・・・
ハウジング ６・・・架 台７・・・ヘッドキャ
リア ８・・・駆動モータ９・・・チェーン
１０・・・距離センサーＦ３・・・試料 を現わ−１−、。 以上 出願人 株式会社 第二、楕工舎 代理人 弁理士 最上 務 第１図 第３図（υ）
Claims (1)
- Ｘ線を発生する線源と、このＸ線を試料に案内照射する
ためのコリメータと、この試料からの螢光Ｘ線を検出す
るためのＸ線検出器と、前記線源コリメータおよびＸ線
検出器とを内蔵したハウジングと、このハウジングを固
定し左右方間に往復移動できるヘッドキャリアと、前記
ハウジングに設けられた距離検出センサとを備え、この
距離検出センサからの信号にもとすいて試料の上下位置
変化のデータ補正を行なうように構成したことを特徴と
する螢光Ｘ線膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18719682A JPS5977308A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | 螢光ｘ線膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18719682A JPS5977308A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | 螢光ｘ線膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5977308A true JPS5977308A (ja) | 1984-05-02 |
Family
ID=16201777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18719682A Pending JPS5977308A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | 螢光ｘ線膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5977308A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62177405A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Nec Corp | 薄膜厚さの計測方法 |
| JP2004251906A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Sikora Ag | 導電路領域の平形リボンケーブルの絶縁体厚さの測定方法および装置 |
| JP2015079011A (ja) * | 2015-01-26 | 2015-04-23 | 株式会社リガク | Ｘ線測定装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5342762A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-18 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Radiation measuring apparatus |
-
1982
- 1982-10-25 JP JP18719682A patent/JPS5977308A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5342762A (en) * | 1976-09-29 | 1978-04-18 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Radiation measuring apparatus |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62177405A (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-04 | Nec Corp | 薄膜厚さの計測方法 |
| JP2004251906A (ja) * | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Sikora Ag | 導電路領域の平形リボンケーブルの絶縁体厚さの測定方法および装置 |
| JP2015079011A (ja) * | 2015-01-26 | 2015-04-23 | 株式会社リガク | Ｘ線測定装置 |
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